JPH04176691A - 鏡面ブランケット及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は鏡面ブランケット及びその製造方法に関し、詳
述すれば高精度ＩＣ基板のパターニング。

フレキシブル基板、フォトマスク、シャドーマスク、リ
ードマスク、液晶印刷、液晶テレビのカラーフィルター
などを印刷法によってガラス板、フィルム、金属板等に
微細なパターンを転写するために使用する鏡面ブランケ
ットに関わるものである。

［従来の技術と課題］ 周知の如く、ガラス板への印刷は、通常校正機タイプの
専用機を用いる。また、製版としては、樹脂凸版、ＰＳ
平板、水なし平版グラビア凹板から選択できる。

ブランケットは、現状では従来技術に基づいたＮＢＲを
表面ゴムに使用したオフセット印刷用ブランケットが用
いられている。これらのブランケットの表面粗さは、Ｒ
ｚ（１０点平均粗さ）で５〜８μｍのものが多用されて
おり、微細パターン印刷用に特別に微細研磨を施したブ
ランケットも一部使用されている。しかし、Ｒｚで２μ
ｍ程度が限度であり、中程度の再現性をもった製品しが
作れない。

研磨方法による表面仕上げでは、微細パターンの印刷に
際して１００μｍレベルの細線が切れたり、細くなった
りして不良品となってしまう。

また、無研磨タイプのブランケットは、成型時にタルク
、デンプン、炭酸カルシウムなどのダスティングを施す
ので、これがピンホールとなって細線が切れてしまう。

更に、従来の表面ゴムではイオウ、亜鉛華、チタン白、
シリカ粉末等を練り込んでおり、これらの分散不良物が
脱落してピンホールの原因となることが多い。微細なピ
ンホールの発生は画像の細線切れとなって電流が流れな
くなったり、マスク効果がなくなって、−光が漏れる原
因となる。

未加硫のゴム層とフィルムを抱き合わせて加硫する方法
は、特開昭８３−１７０９３号公報に提案されているが
、基本的に充填剤を混合したゴム層を持っていない表面
層はピンホールを発生する。また、この提案は２μｍ以
上の粗さを有するフィルムを用いており、鏡面とはなら
ず、この程度では研磨方式で達成できる内容であり、微
細パターン用には適さない。

表面にウレタン樹脂を塗布する方法は特開昭５６−７５
８９６号公報に提案されているが、これは樹脂にＡＩ粉
末を混合するもので、上記理由からこれら微細パターン
用には適さない。

他に感脂性ポリマーを表面に塗布することも特開昭５６
−１４４１９６号公報に提案されているが、これらはロ
ールツーターその他の方法により塗布し乾燥工程を必要
としている。ここで、乾燥には熱風が用いられているこ
とが多く、表面に２０μｍ程度の粉塵が付くことは避け
られず、微細パターン形成用には適さない。また、基本
的にナイフなりロールなりによって塗布工程を有するこ
とはナイフ及びロールの傷が再現したり、全体的なムラ
を発生したり塗布物中の異物が塗布面に長いスジを与え
て不良となる。

本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、従来のブラ
ンケットのもつ圧縮性１強度、厚み精度を維持しつつ、
表面を鏡面にすることにより１０μｍレベルの細線の再
現性を保持しえる鏡面ブランケット及びその製造方法を
提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段と作用］ 本願節１の発明は、オフセット印刷用として用いられる
鏡面ブランケットにおいて、表面の最上層に鏡面の微細
パターン転移層を設け、この転移層の材料として粉末充
填剤を含まない液状室温硬化型樹脂又はゴムを用いるこ
とを特徴とする鏡面ブランケットである。

本願節２の発明は、オフセット印刷用ブランケットと表
面粗さＲｚ　Ｏ，５μｍ以下の鏡面をもった樹脂フィル
ムとを、室温硬化型樹脂又はゴムをカレンダー法により
強圧で貼合せる工程と、これらを硬化した後、前記鏡面
フィルムを剥がして鏡面を得る工程とを具備することを
特徴とする鏡面ブランケットの製造方法である。

本発明は、従来のブランケットのもつ圧縮性。

強度、厚み精度を維持して表面を鏡面にすることで１０
μｍレベルの細線の再現性を保持するものである。

第１図は、本発明に係る鏡面ブランケットの断面図の一
例である。図中の１はオフセット印刷用ブランケットで
あり、複数の補強布２ａ、２ｂ。

２ｃ、　２ｄ、スポンジ層３、表面ゴム層４及び接着層
５を適宜積層して構成されている。前記ブランケット１
上に、微細パターンインク転移層６が形成されている。

ここで、前記転移層６を形成するエラストマーは、充填
剤脱落によるピンホールを防ぐために充填剤を含まない
液状樹脂及びゴムであることが不可欠である。また、粉
塵の付着を防ぐために、工程は極力少ない事が望ましく
、熱硬化型であっても製造は可能であるが、室温硬化型
であることが望ましい。

以上の要件を満たす材料としては無溶剤のエポキシ樹脂
、ＲＴＶシリコーンゴム、液状ポリサルファイドゴム、
ポリブタジェンゴム、液状カルボキシル化ＮＢＲ，エポ
キシ−ウレタン共重合体。

エポキシ−シリコン共重合体、液状クロロプレンゴム、
液状ポリイソプレンゴムの単体及びこれらの誘導体、及
び２種以上の混合品が用いられる。

第２図は、本発明によるブランケットの製造方法を示す
説明図である。図中の１１はベースブランケット、１２
ａ、　１２ｂは金属ロール、１３はブランケットフィル
ム巻取ロール、１４は鏡面樹脂フィルム（ポリエステル
）、１５は転移層用材料である。以下に、ブランケット
の製造方法について説明する。

まず、ベースブランケット１１と鏡面樹脂フィルム１４
とを２本の金属ロール１２ａ　、　１２ｂで圧着し、転
移層用材料■５としては前記のエラストマーを用いる。

ここで、転移層用材料１５の厚みは、２本の金属ロール
１２ａ、　１２ｂの距離を調整することで得られ、ＪＩ
ＳＡ高度で３０〜８０度のエラストマーであれば１０〜
２０μｍ程度が望ましい。また、乾燥工程がないことか
らエラストマーは無溶剤でなければならない。更に、溶
剤タイプでは溶剤によるピンホール発生を妨げない。

上記製法の最大の利点はブランケットとフィルムをエラ
ストマーと共に貼合せ、直後に巻きとってしまうことに
より、粉塵、異物の混入するチャンスを与えずに、鏡面
を形成しうろことである。

貼合剤バンクにおける気泡巻込み対策としては、金属ロ
ール−ゴムロールの系になる貼合機ではこの貼合の際に
この気泡も一緒に巻込んでしまうことになり、脱泡をし
ながら貼合する為には圧力として使用する転移層用材料
の粘度にもよるが、線圧１００　Ｋ　ｇ　／　ａｍ以上
を要し、金属ロール−金属ロールの系になるカレンダ一
方式が有効である。転移層用材料の膜厚は粘度、スピー
ド、圧力により左右されるが、１００Ｋｇ／ｃ■以上の
圧力をもっていれば、制御しやすいことも見出だされて
いる。

これだけの強圧をかけることが鏡面を形成する層の緻密
度を高めて品質的安定性を保証することができる。この
方法は、緻密度の点で溶剤タイプのコーティング剤やナ
イフコーター、ロールコータ−１その他のコーティング
方法より数段優れるものである。

本発明において、樹脂フィルムとしては、通常表面粗さ
（Ｒｚ）０．５μｍ以下の鏡面をもったポリエステル、
ポリエチレンフィルムが用いられる。

第３図は、後述する実施例１−４に供する校正機の原理
を説明する図である。図中の７はガラス板又は樹脂板、
８は５板又は平板又は凹版、９はインキ装置、ｌＯはブ
ランケット胴である。

以下、本発明の実施例について説明する。

［実施例１］ 第２図において、ベースブランケット１１としては、厚
さ１．９ｍｍ　、表面粗さＲｚ４μｍのオフセット印刷
用ブランケット（商品名；　５７０００、金陽社製）を
用いた。また、軟質のエポキシ樹脂として商品名；アラ
ダイトＡＷ１０Ｂ　　（日本チバガイキー製）１００重
量部と商品名；ノー−ドナーＨＶ９５３　Ｕ　（日本チ
バガイキー製）８０重量部、粘度調製剤としてＤ　Ｂ　
Ｐ　８０重量部の液を作った。更に、ポリエステルフィ
ルム１４として商品名；ルミラー０．１８８ａ＋ｍ　　
（東し製）表面粗さＲｚＯＪμｍ。

Ｒ，、、，１，２μｍを使って貼合した。

１週間放置室温硬化後、フィルムを剥がして鏡面ブラン
ケットを得た。その結果、インキ転移層は１０μｍであ
り、粗さＲｚは０．７μｍであった。

これを校正機にかけ、ガラスの微細パターン印刷に供し
たところ、線幅８０μｍの細線群を精密に再現した。た
だ、樹脂が硬いので、ブランケットの取扱いにはシワが
入らないように注意を要した。

このように上記実施例１によれば、最上層に鏡面の微細
パターンインキ転位層を設けることにより、従来のブラ
ンケットのもつ圧縮性１強度、厚み精度を維持しつつ、
３０μｍレベルの細線の再現性を保持しえる鏡面ブラン
ケットを得ることができた。

［実施例２］ まず、上記印刷用ブランケット（商品名；８７０００）
１．９ｍ−の表面に、接着剤として商品名、ＮＵＣシリ
コンＡ１８７　　（日本ユニカー製）のトルエン１０％
液をロールコータ法により表面に塗布した。乾燥後、エ
ポキシ−ウレタン共重合、体（商品名Ｆ　Ｅ　Ｘ　１４
１３、横浜ゴム製）　１００重量部、硬化剤１．３８Ａ
Ｃ５重量部をバンク位置に投入し、鏡面ポリエステルフ
ィルムと共に巻取゛った。

１週間放置後フィルムを剥がし、鏡面ブランケットを得
た。その結果、インキ転移層は２０μｍであり、表面粗
さＲｚは１．２μｍであった。柔軟性に富むブランケッ
トであり、これによりガラスの微細パターンに供したと
ころ、線幅５０μｍのパターンを忠実に再現できた。特
に、線のエツジにギザギザが全くなく、シャープなエツ
ジを印刷できることが確認できた。

［実施例３］ ブランケット（商品名；Ｓ−１１００、金陽社製）厚さ
１．９■飄と鏡面ポリエステルの貼合剤として、エポキ
シ−シリコン共重合体（商品名；ＥＳＮＯＸ−ＩＡ、ス
リーボンド社製）を使用し、実施例１と同様の操作をし
て１週間放置後フィルムを剥して鏡面ブランケットを得
た。その結果、インキ転移層の厚みは２５μｍで、表面
粗さＲｚは１３μｍであった。これを、ＵＶインキを使
用する微細パターン印刷に供したところ、４０μｍの細
線を再現することができた。

［実施例４］ ベースブランケットとして実施例３と同様なものを用い
、転移層用材料としては商品名；室温硬化型Ｋ　Ｅ　４
５ＲＴ　Ｖシリコン（信越化学制）、鏡面フィルムとし
ては市販の鏡面ポリエチレンフィルムを用いて、第２図
の方法で貼合１巻取りを行い、２週間放置し、フィルム
を剥して粗さＲｚ　Ｏ，４μｍ、　　Ｒ，１１，１１，
４μｍの鏡面ブランケットを得た。

その結果、インキ転移層は転移層用材料の粘度が高いた
め５０μｍの厚さになったが、表面粗さＲｚｌ、１μｍ
の鏡面を得た。これを、ＵＶインキを使用する微細パタ
ーン印刷に供したところ、５０μｍの細線を再現するこ
とができた。

［実施例５］ ピンホールレスのパターン印刷には液晶のガラスへのベ
タ印刷がある。これは凸版のゴム版を使って必要なパタ
ーンを彫刻し、これに液晶ポリマーを溶剤に溶して薄く
均一に版に与え、ガラスへ転写する。この時もゴム版の
中に練り込まれた亜鉛華、チタン白、シリカ等の分散不
良物が脱落してピンホールとなる。この場合は、ガラス
をカットして使うので、不良となった部分のガラスを捨
てれば良い。しかし、歩留りは７割程度で、手間のかか
る仕事にしては生産効率が極めて低い。

ＥＦＴゴムの硬度６ｏのものをポリエステルフィルム０
．１８１！−厘に加熱プレスにより接着させ、表面を研
磨して厚さ２，４１のゴムシートを得た。これに１２図
の方法で実施例３と同様なエポキシ−シリコン共重合体
を使用して、鏡面をもったポリエチレンフィルム０，２
腸層と貼り合わせた。これを１週間放置してフィルムを
剥がし、彫刻を行なってガラスへの転写をし、極めて均
一な塗膜面を得た。

Ｃ発明の効果］ 以上詳述した如く本発明によれば、従来のブランケット
のもつ圧縮性１強度、厚み精度を維持しつつ、表面を鏡
面にすることにより１０μｍレベルの細線の再現性を保
持しえる多種の分野で利用可能な高信頼性の鏡面ブラン
ケット及びその製造方法を提供できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る鏡面ブランケットの説明図、第２
図は本発明に係るカレンダー貼合機の説明図、第３図は
本発明に係る印刷機の説明図である。 １・・・オフセット印刷用ブランケット、２８〜２ｄ・
・・補強布、３・・・スポンジ層、４・・・表面ゴム層
、５・・・接着層、６・・・微細パターンインク転移層
、７・・・ガラス板、８・・・凸版または平板または凹
板、９・・・インキ装置、１０・・・ブランケット胴、
ｌｌ・・・ベースブランケット、１２・・・カレンダー
ニップ装置、１３・・・巻取装置、１４・・・鏡面樹脂
フィルム。 出願人代理人　弁理士　鈴江武彦

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、オフセット印刷用として用いられる鏡面ブランケッ
   トにおいて、表面の最上層に鏡面の微細パターン転移層
   を設け、この転移層の材料として粉末充填剤を含まない
   液状室温硬化型樹脂又はゴムを用いることを特徴とする
   鏡面ブランケット。 ２、液状室温硬化型樹脂が、エポキシ樹脂。 ＲＴＶシリコンゴム、ＲＴＶウレタンゴム、液状ポリサ
   ルファイドゴム、ポリブタジエンゴム、液状カルボキシ
   ル化ＮＢＲ、エポキシ−ウレタン共重合体、エポキシ−
   シリコン共重合体、液状クロロプレンゴム、液状ポリイ
   ソプレンゴムの単体あるいはこれらの２種以上の混合物
   である請求項１記載の鏡面ブランケット。 ３、オフセット印刷用ブランケットと表面粗さ０．５μ
   ｍ以下の鏡面をもった樹脂フィルムとを、室温硬化型樹
   脂又はゴムをカレンダー法により強圧で貼合せる工程と
   、これらを硬化した後、前記鏡面フィルムを剥がして鏡
   面を得る工程とを具備することを特徴とする鏡面ブラン
   ケットの製造方法。