JPH0376709A - α―オレフィン重合用触媒成分 - Google Patents

α―オレフィン重合用触媒成分

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JPH0376709A
JPH0376709A JP21144289A JP21144289A JPH0376709A JP H0376709 A JPH0376709 A JP H0376709A JP 21144289 A JP21144289 A JP 21144289A JP 21144289 A JP21144289 A JP 21144289A JP H0376709 A JPH0376709 A JP H0376709A
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古橋 裕之
Miyuki Usui
碓氷 幸
Naomi Koyama
小山 直美
Tomoko Okano
岡野 倫子
Akira Nakano
晶 中野
Satoshi Ueki
聰 植木
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  • Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、α−オレフィン重合用触媒成分に関する。
従来の技術 金属酸化物、マグネシウム、チタン、ハロゲン及び電子
供与性化合物を含有すα−オレフィン重合用触媒成分は
知られている。この金属酸化物担持型触媒は、高活性及
び高立体規則性といった良好な重合性能と共に、得られ
るポリマーが狭い粒度分布と球形等の揃った粒形を持つ
等の優れた粒子特性を兼ね備えている。
触媒成分の粒子強度が低いと、重合により生成するポリ
マーは破壊され、微粉化する。これを防ぐ典型的な手法
として、触媒成分を予めオレフィンと接触させ、そこで
生成するポリマーを触媒成分内に取り込ませて、触媒成
分粒子の強度を高める、いわゆる予備重合がある。この
予備重合時に、シラン化合物等の電子供与性化合物を添
加することにより、粒子強度の向上と共に、最終ポリα
−オレフィンの立体規則性をも高めようとする試みがな
されている。
しかし、通常予備重合時の電子供与性化合物の添加は、
触媒活性の低下、或いは触媒の保存中の性能劣化を引き
起す等の影響をもたらす。
又、予備重合時に用いられるシラン化合物としては、そ
の性能の点から、芳香族基を持つ化合物が一般に用いら
れているが、ポリマーの使用目的によっては芳香族基を
有するシラン化合物が有害になることがある。
発明が解決しようとする課題 本発明は、触媒粒子強度の増大、得られるポリマーの立
体規則性の向上、触媒高活性の維持、触媒の保存中の性
能劣化防止等を計ることを目的とする。
課題を解決するための手段 本発明者らは鋭意研究を行った結果、予備重合時に添加
するシラン化合物として170〜500A’の体積を持
ち、かつメトキシ基の酸素の電子密度が0.690〜o
、 g o o^4+、のジメトキシ基含有シラン化合
物を用いれば、芳香族基を有する有機珪素化合物と同等
又はそれ以上の性能でポリα−オレフィンが得られ、か
つ本発明の目的が遠戚できることを見出して本発明を完
成した。
発明の要旨 すなわち、本発明の要旨は、 (A)金属酸化物、マグネシウム、チタン、ハロゲン及
び電子供与性化合物を必須成分とする固体成分を、 (B)トリアルキルアルミニウム及び (C)一般式R’R’5i(OCR−)2[但し、R1
及びR2は夫々間−又は異なる炭素数1〜10個の脂肪
族炭化水素基である。〕で表わされ、量子化学計算で算
出した体積が170〜500A’同じくメトキシ基の酸
素原子の電子密度が0、690〜0.800^、U、(
アトミックユニット)又は該体積が200〜500Å3
、、該電子密度力0.685〜0.80 OA、U、(
7)ジメトキシ基含有シラン化合物の存在下、 (口〉オレフィン と接触させてなるα−オレフィン重合用触媒成分にある
固体成分 本発明で用いられる固体成分(以下、成分Aという)は
、金属酸化物、マグネシウム、チタン、ハロゲン及び電
子供与性化合物を必須成分とするが、このような成分は
通常金属酸化物、マグネシウム化合物、チタン化合物及
び電子供与性化合物、更に前記各化合物がハロゲンを有
しない化合物の場合は、ハロゲン含有化合物を、それぞ
れ接触することにより調製される。
(1)金属酸化物 本発明で用いられる金属酸化物は、元素の周期表第■族
〜第■族の元素の群から選ばれる元素の酸化物であり、
それらを例示すると、B2O3、MgO1AI2a、5
iOz、Can   TlO2、ZnO1ZrL、5n
o2、Ban   Thaw等が挙げられる。これらの
中でもB20.3、Mg0、^1203.5102、T
lO2、ZrO2が望ましく、特に5I02が望ましい
。更に、これら金属酸化物を含む複合酸化物、例えばS
i[12−MgD、5iD2−八1203.5102 
TlO2,510a−V2ns   3102 [:r
z[]3.5iO2−TI[12−Mg口等も使用し得
る。
これら金属酸化物の形状は通常粉末状のものが用いられ
る。粉末の大きさ及び形状等の形体は、得られるオレフ
ィン重合体の形体に影響を及ぼすことが多いので、適宜
調節することが望ましい。金属酸化物は、使用に当って
被毒物質を除去する目的等から、可能な限り高温で焼成
し、更に大気と直接接触しないように取扱うのが望まし
い。
(2)マグネシウム化合物 マグネシウム化合物は、一般式MgR’R’で表わされ
る。式において、R’及びR2は同一か異なる炭化水素
基、OR基(Rは炭化水素基) ハロゲン原子を示す。
より詳細には、R1及びR2の炭化水素基としては、炭
素数1〜20個のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基ミアルアルキル基が、OR基としては、Rが炭素
数l〜12個のアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、アルアルキル基が、ハロゲン原子としては塩素、
臭素、ヨウ素、弗素等である。
それら化合物の具体例を下記に示すが、化学式において
、Me=メチル、Bt:エチル、Pr:プロピル、Bu
ニブチル、He:ヘキシル、Oct :オクチル、Ph
:フェニル、cyHeニジクロヘキシルをそれぞれ示す
MgMe2. MgBtz 、 Mg1−Prz 、 
MgBu2. MgHez 。
Mg[1ct2. MgBtBu 、 MgPhz 、
 MgcyHe2゜Mg(OMe)z 、 Mg(OB
t)2. Mg(OBu)z、 Mg(OHe)2゜M
g(00ct)z 、 Mg(OPh)s+ 、 Mg
(OcyHe)2゜FltMg[:1 、 BuMgC
I 、 HeMgC1、i−BuMg[’l 、 t−
BuMg(:I 、 PhMgCl 、 PhCHJg
Cl 、 BtMgBr 。
BuMgBr 、 PhMgBr 、 BuMgl 、
 BtOMgCI 。
OuOMgCI 、 He0MgCl 、 Ph0Mg
Cl 、  BtOMgBr 。
[1uOMg[”l  、  BtOMgCI  、 
 MgC1z、、  MgBr2 、  Mg12上記
マグネシウム化合物は、成分Aを調製する際に、金属マ
グネシウム又はその他のマグネシウム化合物から調製す
ることも可能である。
その−例として、金属マグネシウム、ハロゲン化炭化水
素及び一般式X、、M (OR) m+、のアルコキシ
基含有化合物〔式において、Xは水素原子、ハロゲン原
子又は炭素数1〜20個の炭化水素基、Mは硼素、炭素
、アルミニウム、珪素又は燐原子、Rは炭素数1〜20
個の炭化水素基、mはMの原子価、m > n≧0を示
す。〕を接触させる方法が挙げられる。該アルコキシ基
含有化合物の一般式のX及びRの炭化水素基としては、
メチル(Me)  エチル(Bt)  プロピル(P「
)、i−プロピル(1−Pr)  ブチル(Bu)i−
ブチル(i−Bu) 、ヘキシル(He) 、オクチル
(Oct)等のアルキル基、シクロヘキシル(cyHe
)  メチルシクロヘキシル等のシクロアルキル基、ア
リル、プロペニル、ブテニル等のアルケニル基、フェニ
ル(Ph)   トリル、キシリル基のアリール基、フ
ェネチル、3−7エニルブロピル等のアルアルキル等が
挙げられる。
これらの中でも、特に炭素数1〜10個のアルキル基が
望ましい。以下、アルコキシ基含有化合物の具体例を挙
げる。
■Mが炭素の場合の化合物 式C(OR) 、に含まれるC(OMe) s 、 C
(OBt) 4 。
C(OPr)< 、 C(OBu)n 、 C(Oi−
Bu)< 、 C(OHe)n 。
C((l[1ct)s ’  式 XC([lR) 3
に含まれるIC([]Me) 3゜IIc(OBt)s
 、 IIc(OPr)3.、 tlc(OBu)3.
 HC(OHe)3゜HC(OPh)3; MeC(O
Me)3. MeC(OBt)3. BtC(OMe)
3゜BtC(OBt)a 、 cyt(eC(OBt)
:+ 、 PhC(OMe)i 。
PhC(OBt)3. CIIzCIC([]Bt)3
. MeCLBrC(OBtL 。
MeCH2CIC(OBt)、+ ; CIC(OMe
)3. CIC(Oat)a 。
CIC(旧−Bud3. BrC(OBt)s ;式X
2C(OR)、に含まれるMeCH(Due)2. (
’H3CI([1Bt)z 、 C1lzC11z(D
Ctlz (Oat) 2 、 CILCICH(OB
t) 2 、 C)IcI□CH(OBt)2゜CCl
5CH(OBt)2. CCl5CH(OBt)2. 
PhCl1(OBt)2■Mが珪素の場合の化合物 式5i(OR)=に含まれる St(OMe)a 、 
5i(OBt)4゜5i(OBu)n 、  5i(O
i−Bu)4.3i(OHe)4゜St (00ct)
 4 、 St (OPh) 4 :  式XS i 
(OR)3に含まれる1si(DBt)s 、 tls
i(DBu)s 、 tlsi(OHe)* 。
ll5i(OPh)+ ; MeS+(OMe)s 、
 MeSi(OBt)3゜MeSi(OBu)3 、B
tSi(OBt)a  、Ph5i(Out)s  。
RtSi(OPh)s  ;  Cl5i(口Me)、
  、  Cl5i(OBt)3 。
Cl5i(OBu)s  、  Cl5i(OPh)a
  、  ロrs+(OBt)3 ;式%式%) ) ): ■Mが硼素の場合の化合物 弐〇(OR)3に含まれるB(OBt)a 、 B(O
Bu)* 。
B(Olle)−、B(口Ph)3  。
■Mがアルミニウムの場合の化合物 式AI ((]R) 、に含まれるAI(OMe)s 
、 ^+(oBtL 。
^1(OPrL 、AI(Ot−Pr)a 、 AI(
OBu)s 。
^+(ot−Bu)s 、 AI(OHe)+ 、 A
I(OPh)s。
■Mが燐の場合の化合物 弐P (OR) sに含まれるP(Due)a 、 P
(OBt)s 。
1’ (OBll) 3 、 P (Olle) 3 
、 P (OPh) 3゜更に、前記マグネシウム化合
物は、周期表第■族又は第ma族金属(M)の有機化合
物との錯体も使用することができる。該錯体は一般式M
gR’R” ・n(MR’、)で表わされる。該金属と
しては、アルミニウム、亜鉛、カルシウム等であり、R
″は炭素数1−12個のアルキル基、シクロアルキル基
、アリール基、アルアルキル基である。
又、mは金属Mの原子価を、nは0.1〜10の数を示
す。MR’、で表わされる化合物の具体例としては、A
IMe= 、 A]Bta 、 A11−Buz l 
^IPh、 。
ZnMez 、 ZnBtz 、 ZnBuz 、 Z
nPh2. CaBt2゜CaPh2等が挙げられる。
(3)チタン化合物 チタン化合物は、二価、三価及び四価のチタンの化合物
であり、それらを例示すると、四塩化チタン、四臭化チ
タン、トリクロルエトキシチタン、トリクロルブトキシ
チタン、ジクロルジェトキシチタン、ジクロルジブトキ
シチタン、ジクロルジフェノキシチタン、クロルトリエ
トキシチタン、クロルトリブトキシチタン、テトラブト
キシチタン、三塩化チタン等を挙げることができる。こ
れらの中でも、四塩化チタン、トリク【】ルエトキシチ
タン、ジクロルジブトキシチタン、ジクロルジフェノキ
シチタン等の四価のチタンハロゲン化物が望ましく、特
に四塩化チタンが望ましい。
(4)電子供与性化合物 電子供与性化合物としては、カルボン酸類、カルボン酸
無水物、カルボン酸エステル類、カルホン酸ハロゲン化
物、アルコール類、エーテル類、ケトン類、アミン類、
アミド類、ニトリル類、アルデヒド類、アルコレート類
、有機基と炭素もしくは酸素を介して結合した燐、ヒ素
およびアンチモン化合物、ホスホアミド類、チオエーテ
ル類、チオエステル類、炭酸エステル等が挙げられる゛
。これのうちカルボン酸類、カルボン酸無水物、カルボ
ン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化物、アルコール
類、エーテル類が好ましく用いられる。
カルボン酸の具体例としては、ギ酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、ピバリン酸
、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の脂肪族モ
ノカルボン酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸等の脂肪族
ジカルボン酸、酒石酸等の脂肪族オキシカルボン酸、シ
クロヘキサンモノカルボン酸、シクロヘキセンモノカル
ボン酸、シス−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、
シス−4−メチルシクロヘキセン−1,2−ジカルボン
酸等の脂環式カルボン酸、安息香酸、トルイル酸、アニ
ス酸、p−第三級ブチル安息香酸、ナフトエ酸、ケイ皮
酸等の芳香族モノカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸
、テレフタル酸、ナフタル酸、トリメリド酸、ヘミメリ
ト酸、トリメシン酸、ビロメIJ )酸、メIJ )酸
等の芳香族多価カルボン酸等が挙げられる。
カルボン酸無水物としては、上記のカルボン酸類の酸無
水物が使用し得る。
カルボン酸エステルとしては、上記のカルボン酸類のモ
ノ又は多価エステルが使用することができ、その具体例
として、ギ酸ブチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、イソ醋
酸イソブチル、ピバリン酸プロピル、ピバリン酸イソブ
チル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、メタクリル酸イソブチル、マロン酸ジエ
チル、マロン酸ジイソブチル、二1ハク酸ジエチル、コ
ハク酸ジブチル、コハク酸ジイソブチル、グルタル酸ジ
エチル、グルタル酸ジブチル、グルタル酸ジイソブチル
、アジピン酸ジイソブチル、セバシン酸ジブチル、セバ
シン酸ジイソブチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸
ジブチル、マレイン酸ジイソブチル、フマル酸モノメチ
ル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイソブチル、酒石酸
ジエチル、酒石酸ジブチル、酒石酸ジイソブチル、シク
ロヘキサンカルボン酸エチル、安息香酸メチル、安息香
酸エチル、p−)ルイル酸メチル、p−第三級ブチル安
息香酸エチル、p−アニス酸エチル、α−ナフトエ酸エ
チル、α−ナフトエ酸イソブチル、ケイ皮酸エチル、フ
タル酸モノメチル、フタル酸モノブチル、フタル酸ジブ
チル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジヘキシル、フ
タル酸ジオクチル、フタル酸ジ2−エチルヘキシル、フ
タル酸ジアリル、フタル酸ジフェニル、イソフタル酸ジ
エチル、イソフタル酸ジイソブチル、テレフタル酸ジエ
チル、テレフタル酸ジブチル、ナフタル酸ジエチル、ナ
フタル酸ジブチル、トリメリ ト酸トリエチル、トリメ
リド酸トリブチル、ピロメリト酸テトラメチル、ピロメ
リト酸テトラエチル、ピロメリト酸テトラブチル等が挙
げられる。
カルボン酸ハロゲン化物としては、上記のカルボン酸類
の酸ハロゲン化物を使用することができ、その具体例と
して、酢酸クロリド、酢酸プロミド、酢酸アイオダイド
、プロピオン酸クロリド、醋酸クロリド、醋酸プロミド
、醋酸アイオダイド、ピバリン酸クロリド、ピバリン酸
プロミド、アクリル酸クロリド、アクリル酸プロミド、
アクリル酸アイオダイド、メタクリル酸クロリド、メタ
クリル酸プロミド、メタクリル酸アイオダイド、クロト
ン酸クロリド、マロン酸クロリド、マロン酸プロミド、
コハタ酸クロリド、コハク酸プロミド、グルタル酸クロ
リド、グルタル酸プロミド、アジピン酸クロリド、アジ
ピン酸プロミド、セバシン酸クロリド、セバシン酸プロ
ミド、マレイン酸クロリド、マレイン酸プロミド、フマ
ル酸クロリド、フマル酸プロミド、酒石酸クロリド、酒
石酸プロミド、シクロヘキサンカルボン酸クロリド、シ
クロヘキサンカルボン酸プロミド、■−シクロヘキセン
カルボン酸クロリド、シス−4,−メチルシクロヘキセ
ンカルボン酸クロリド、シス−4−メチルシクロヘキセ
ンカルボン酸プロミド、塩化ベンゾイル、臭化ベンゾイ
ル、p−)ルイル酸クロリド、p−トルイル酸プロミド
、p−アニス酸クロリド、p−アニス酸プロミド、α−
ナフトエ酸クロリド、ケイ皮酸クロリド、ケイ皮酸プロ
ミド、フタル酸ジクロリド、フタル酸ジブロミド、イソ
フタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジブロミド、テレフ
タル酸ジクロリド、ナフタル酸ジクロリドが挙げられる
。又、アジピン酸モノメチルクロリド、マレイン酸モノ
エチルクロリド、マレイン酸モノメチルクロリド、フタ
ル酸ブチルクロリドのようなジカルボン酸のモノアルキ
ルハロゲン化物も使用し得る。
アルコール類は、一般式R011で表わされる。
式においてRは炭素数1〜12個のアルキル、rルケニ
ル、シクロアルキル、アリール、アルアルキルである。
その具体例としては、メタノール、エタノール、プロパ
ツール、イソプロパツール、ブタノール、イソブタノー
ル、ペンタノール、ヘキサノール、オクタツール、2−
エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルア
ルコール、アリルアルコール、フェノール、クレゾール
、キシレノール、エチルフェノール、イソプロピルフェ
ノール、p ’7−シャリ−ブチルフェノール、n−オ
クチルフ4ノール等である。エーテル類は、一般式RO
R’で表オーされる。式においてR,R’は炭素数1−
12個のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリ
ール、アルアルキルであり、RとR1はは同じでも異っ
てもよい。その具体例としては、ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチ
ルエーテル、ジイソアミルエーテル、ジー2−エチルヘ
キシルエーテル、ジアリルエーテル、エチル了りルエー
テル、ブチルアリルエーテル、ジフェニルエーテル、ア
ニソール、エチルフェニルエーテル等テアル。
成分Aの調製法としては、■金属酸化物(成分1)、マ
グネシウム化合物(成分2)、チタン化合物(成分3)
及び電子供与性化合物(成分4)をその順序に接触させ
る。■成分1と成分2を接触させた後、成分4と成分3
をその順序に接触させる。■成分l、成分2を接触させ
た後、成分3と成分4を同時に用いて接触させる、■成
分2と成分3を接触させた後、成分4と成分lをその順
序に接触させる、■成分2と成分4を接触させた後、成
分3と成分1をその:・・ユ序に接触させる、■成分2
.戊分3及び成分4を9時に接触させた後、成分1を接
触させる等の方法が採用し得る。又、成分3を用いて接
触させる前にハロゲン含有化合物と接触させることもで
きる。
ハロゲン含有化合物としては、ハロゲン化炭化水素、ハ
ロゲン含有アルコール、水素−珪素結合を有するハロゲ
ン化珪素化合物、周期表第1I a族、rVa族、Va
族元素のハロゲン化物(以下、金属ハライドという。)
等が挙げられる。
ハロゲン化炭化水素としては、炭素数1〜12個の飽和
又は不飽和の脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素のモノ
及びポリハロゲン置換体である。それら化合物の具体的
な例は、脂肪族化合物では、メチルクロライド、メチル
ブロマイド、メチルアイオダイド、メチレンクロライド
、メチレンブロマイド、メチレンアイオダイド、クロロ
ホルム、ブロモホルム、ヨー゛ドホルム、四塩化炭素、
四臭化炭素、四沃化炭素、エチルクロライド、エチルブ
ロマイド、エチルアイオダイド、1.2−ジクロルエタ
ン、1.2−ジブロムエタン、1.2−ショートエタン
、メチルクロロホルム、メチルブロモホルム、メチルヨ
ードホルム、1.1.2−)リクロルエチレン、1.1
.2−)リブロモエチレン、1.1.2゜2−テトラク
ロルエチレン、ペンタクロルエタン、ヘキサクロルエタ
ン、ヘキサブロモエタン、n−プロピルクロライド、1
2−ジクロルプロパン、ヘキサクロロプロピレン、オク
タクロロプロパン、デカブロモブタン、塩素化パラフィ
ンが、脂環式化合物ではクロロシクロプロパン、テトラ
クロルシクロペンタン、ヘキサクロロシクロペンタジェ
ン、ヘキサクロルシクロヘキサンが、芳香族化合物では
クロルベンゼン、ブロモベンゼン、0−ジクロルベンゼ
ン、pジクロルベンゼン、ヘキサクロロベンゼン、ヘキ
サブロモベンゼン、ペンシトリクロライド、p−クロロ
ベンシトリクロライド等が挙げられる。これらの化合物
は、一種のみならず二種量ヒ用いてもよい。
ハロゲン含有アルコールとしては、−分子中に一個又は
二個以上の水酸基を有するモノ又は多価アルコール中の
、水酸基以外の任意の一個又は二個以上の水素原子がハ
ロゲン原子で置換された化合物を意味する。ハロゲン原
子としては、塩素、臭素、ヨウ素、弗素原子が挙げられ
るが、塩素原子が望ましい。
それら化合物を例示すると、2−クロルエタノール、1
−クロル−2−プロパツール、3−クロル−1−プロパ
ツール、1−クロル−2=メチル−2−プロパツール、
4−クロル−1ブタノール、5−クロル−1−ペンタノ
ール、6−クロル−1−ヘキサノール、3−クロル−1
,2−プロパンジオール、2−クロルシクロヘキサノー
ル、4−クロルベンズヒドロール、(m、 0. p)
−クロルベンジルアルコール、4−クロルカテコール、
4−クロル−(m、o)−クレゾール、6−クロル−(
m、o)−クレゾール、4−クロル−3,5−ジメチル
フェノール、クロルハイドロキノン、2−ベンジル−4
−クロルフェノール、4−クロル−l−ナフトール、(
m、o、p)−クロルフェノール、p−クロル−α−メ
チルベンジルアルコール、2−クロル−4−フェニルフ
ェノール、6−クロルチモール、4−クロルレゾルシン
、2−ブロムエタノール、3−ブロム−1−プロパツー
ル、1−ブルムー2−プロパツール、l−ブロム−2−
ブタノール、2−ブロム−p−クレゾール、lブロム−
2−ナフトール、6−ブロム−2ナフトール、(m、o
、p)−ブロムフェノール、4−ブロムレゾルシン、(
m、o、p)フロロフェノール、p−イオドフェノール
=2゜2−ジクロルエタノール、2.3−ジクロル−1
−プロパツール、1,3−ジクロル−2−プロパツール
、3−クロル−1−(α−クロルメチル)−1−プロパ
ツール、2.3−ジブロム−1−プロパツール、1.3
−ジブロム−2プロパツール、2,4−ジブロムフェノ
ール、2.4−ジブロム−■−ナフトール:2.2゜2
−トリクロルエタノール、1.1、■−トリクロルー2
−プロパツール、β、β、β−トリクロ・ルーtert
−ブタノール、2.3.4−)リクロルフェノール、2
,4.5−)リクロルフェノール、2,4.6−)リク
ロルフェノール、2.4.6−)リブロムフェノール、
2,3゜5−トリブロム−2−ヒドロキシトルエン、2
゜3.5−トリブロム−4−ヒドロキシトルエン、2.
2.2−)リフルオロエタノール、α、α。
α−トリフルオロ−m−クレゾール、2,4゜6−ドリ
イオドフエノール:2,3.4.6テトラクロルフエノ
ール、テトラクロルハイドロキノン、テトラクロルビス
フェノールA1テトラブロムビスフエノールA、2.2
,3.3−テトラフルオロ−1−プロパツール、2,3
゜5.6−テトラフルオロフエノール、テトラフルオロ
レゾルシン等が挙げられる。
水素−珪素結合を有するハロゲン化珪素化合物としては
、)lsjcls 、 )+2slc12 、 LSi
CI 。
11cHssich 、 lIC2HsSiC12,1
1(t−CJs)SiCIz 。
11cJ、5iC1゜、 H(C)i3)2sic1 
、 H(i−C31(、)、5iCILc2115si
cl  L(n−CJs)SICI  L(CeLCL
)SiCI 、 H3iC1(CeHs) 2等が挙げ
られる。
金属ハライドとしては、日、 AI 、 Ga、 In
TI 、 Si 、 Ge、 Sn、 Pb、 As、
 Sb、 Biの塩化物、弗化物、臭化物、ヨウ化物が
挙げられ、特にBCI、 、 BBra 、 813 
、 AICIa 、 AlBr3゜GaC1a  、 
 GaBra  、  InC15t  TIC]3 
 、 5ICI4  。
5nC1a 、 5bC1s 、 5bFs  等が好
適である。
成分1.成分2.成分3及び成分4、更に必要に応じて
接触させることのできるハロゲン含有化合物との接触は
、不活性媒体の存在下、又は不存在下、混合攪拌するが
、機械的に共粉砕することによりなされる。接触は40
〜150℃の加熱下で行うことができる。
不活性媒体としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等
の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロへ牛サ
ン等の飽和脂環式炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素が使用し得る。
本発明における成分Aの調製法の具体例としては、特開
昭58−162607号、同5594909号、同55
−115405号、同57−108107号、同61−
21109号、同61−174204号、同61−17
4205号、同61−174206号、同62−770
6号公報等に開示されている方法等が挙げられる。より
詳細には、 ■ 金属酸化物とマグネシウムジアルコキシドとの反応
生成物を、電子供与性化合物及び4価のハロゲン化チタ
ンと接触させる方法(特開昭58−162607号公報
〉 ■ 無機酸化物とマグネシウムヒドロカルビルハライド
化合物との反応生成物を、ルイス塩基化合物及び四塩化
チタンと接触させる方法〈特開昭55−94909号公
報〉 ■ シリカ等の多孔質担体とアルキルマグネシウム化合
物との反応生成物を、チタン化合物と接触させる前に電
子供与性化合物及びハロゲン化珪素化合物と接触させる
方法(特開昭55−115405号、同57−1081
07号公報)■ 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネ
シウム化合物、オルト位にカルボキシル基を持つ芳香族
多価カルボン酸若しくはその誘導体及びチタン化合物を
接触させる方法(特開昭61−1771204号公報) ■ 金属酸化物、アルコキシ含有マグネシウム化合゛物
、水素−珪素結合を有する珪素化合物、電子供与性化合
物及びチタン化合物を接触させる方法(特開昭61−1
74205号公報)■ 金属酸化物、アルコキシ含有マ
グネシウム化合物、ハロゲン元素若しくはハロゲン含有
化合物、電子供与性化合物及びチタン化合物を接触させ
る方法(特開昭61−174206号公報) ■ 金属酸化物、ジヒドロカルビルマグネシウム及びハ
ロゲン含有アルコールを接触させることによって得られ
る反応生成物を、電子供与性化合物及びチタン化合物と
接触させる方法(特開昭61−21109号公報) ■ 金属酸化物、ヒドロカルビルマグネシウム及びヒド
ロカルビルオキシ基含有化合物(前記アルコキシ基含有
化合物に相当)を接触させることによって得られる固体
を、ハロゲン含有アルコールと接触させ、更に電子供与
性化合物及びチタン化合物と接触させる方法(特開昭6
2−7706号公報)である。これらの内でも■〜■の
方法が、特に■、■の方法が望ましい。
上記のようにして成分Aは調製されるが、成分Aは必要
に応じて前記の不活性媒体で洗浄してもよく、更に乾燥
してもよい。
トリアルキルアルミニウム トリアルキルアルミニウム(以下、成分Bという。〉は
、一般式AlR3(:但し、Rは炭素数1〜12個のア
ルキル基を示す。〕で表わされる。その具体例としては
、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、
トリプロピルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニ
ウム、トリブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミ
ニウム、トリヘキシルアルミニウム等が挙げられる。
本発明で用いられるジメトキシ基含有シラン化合物(以
下、成分Cという。〉は、一般式R’ R2S i (
OCH3) 2で表わされ、量子化学計算で算出した分
子の体積が170〜500Å3、 メトキシ基の酸素原
子の電子密度が0.690〜0.80 OA、tl、(
アトミックユニット)のものか、該体積が200〜50
0Å3、、該電子密度が0、685〜0.800^、u
、のものである。
量子化学計算は、以下の方法による。分子の体積は、分
子軌道法プログラムであるMUP八Cへアメリカ、イン
デイアナ大学内にある化学用の各種プログラムの普及を
目的とする非営利機関であるQCPB (量子化学プロ
グラム交換機構)から購入〕のMNDO法(半経験的分
子軌道法式の一種)〔J、八m、 Chem、Soc、
 、ジャーナル オブアメリカン ケミカル ソサイテ
ィ)99巻。
4899頁、4907頁(1977年);同100巻、
3607頁、(1978年)〕及びVan der W
aals半径[J、Phys、 Chem、、 (ジャ
ーナル オブ フィジカル ケミストリー)68巻。
441〜452頁(1964年)〕から求めたものであ
り、メトキシ基の酸素原子の電子密度は、上記MOPA
C’のMlli[l[l法により算出したものである。
なお、計算にはDEC社(DIGITAL 801PM
BNT C0RPOR八Tl0N)製(7)VへX 1
1/785を用いた。
成分Cの前記一般式におけるR1とR2は、炭素数1〜
10個の脂肪族炭化水素基、すなわちアルキル基及びア
ルケニル基であるが、望ましくはアルキル基である。
成分Cは170〜500Å3、の体積で0.690〜0
.800 八、U、の酸素原子の電子密度、又は200
〜500Å3、の体積で0.685〜0、800 八、
U、の酸素原子の電子密度を持つものであるが、共に2
00〜400Å3、の体積で0、690〜0.760A
、υ、の電子密度、特に230〜350Å3、の体積で
0.690〜0、740 八、U、の電子密度をもつも
のが望ましい。
上記のようI、(体積と電子密度を満たす成分Cとして
は、R1とR2の炭素数の合計が5個以−ヒ、望ましく
は7個以上、特に望ましくは9個以上のものである。
以下、成分Cの具体例を化学式にて列挙する。
式において、Me : CHs 、 Bt : C2t
ls 、 Pr :CpH1,Bu : Cs1ls 
、  Pt : CsL+、  He : C6HI3
を示す。
(t−Bu)(Me)Si(OMe)z 、  (i−
Pr)2si(UMe)2゜(t−Bu)’(Bt)S
i(OMe)z 、  (t−Bu)(i−Pr)Si
(OMe)2゜(n−11c)(Me)Si(OMe)
z 、  (t−Bu)(Et)Si(OMe)2゜[
(n−Pr)(Me)2c] (Me)Si(OMe)
z 、  (n−Bu)2si([]UMe2.  (
i−Bu)2si(OMe)2.  (s−Bu)2S
i(OMe)、。
(t−Ru)2si(OMe)2 、  (t−Pt)
(i−Pr)Si(OMe>2 。
[(n−Pr)(Me)JIBt−3+(OMe)z、
  I:(Bt)+C](Me) S i (口Me)
2 、(t−Bu)(s−Bu)Si(OMe)z  
、(t−Bu)(L−Pt)Si(OMe)2.  [
:(n−Pr)(Me)2c] (i−Pr)Si(O
Ale)2. E (Bt)J〕(Bt)Si(DMe
)z 、 (L−Bu)[(n Pr)(Me)CHI
 S+ (OMe)z 、  (t Pt)2si(O
Me)2. [(n−Pr)(Me)CH:l 、5i
(Ole)z 。
[(Me)3cmCH2:] 2si(OMe)z 、
  [:(at)(Me)zC・C11z〕zsi(O
Me)z 、  (n−tle)zsi(OMe)2゜
[(Me)3(’−C2H4] 2Si(OMe)2 
、  [(Bt)(Me)2C’C)Iz〕 *Si(
[]Me)z、    [(n−Pr)(Me)2c]
zsi(OMe) 2  等が挙げられる。
予備重合 固体成分(成分A)の予備重合は、トリアルキルアルミ
ニウム化合物(成分B)及びジメトキシ基含有シラン化
合物(成分C)の存在下、オレフィンと接触させること
によりなされる。
オレフィンとしては、エチレンの他、プロピレン、1−
1fン、1−ヘキセン、4−メチルl−ペンテン等のα
−オレフィンが使用し得る。
予備重合は、前記の不活性媒体の存在下で行うのが望ま
しい。予備重合は、通常100℃以ドの温度、望ましく
は一30℃〜+30℃、更に望ましくは一20℃〜+1
5℃の温度で行なわれる。重合方式としては、バッチ式
、連続式のいずれでもよく、又二段以上の多投で行って
もよい。多投で行う場合、重合条件をそれぞれ変え得る
ことは当然である。
成分Bは、予備重合系での濃度が50〜500ミリモル
/Il、望ましくは80〜200ミリモル/lになるよ
うに用いられ、又成分A中のチタンlグラム原子当り、
4〜50.000モル、望ましくは6〜t、oooモル
となるように用いられる。
成分Cは、予備重合系での濃度が1〜lOOミリモル/
It、望ましくは5〜50ミリモル/lになるように用
いられる。
予備重合により成分A中にオレフィンポリマーが取り込
まれるが、そのポリマー量を成分Atg当り001〜2
00g、特に0.5〜50gとするのが望ましい。
上記のようにして調製された本発明の触媒成分は、前記
の不活性媒体で希釈或いは洗浄することができるが、触
媒成分の保存劣化を防止する観点からは、特に洗浄する
のが望ましい。洗浄後、必要に応じて乾燥してもよい。
又、触媒成分を保存する場合は、出来る丈低温で保存す
るのが望ましく、−50℃〜+30℃、特に=20℃〜
+5℃の温度範囲が推奨される。
α−オレフィンの重合 上記のようにして得られた本発明の触媒成分は、有機金
属化合物、更には必要に応じて電子供与性化合物と組み
合せて炭素数3〜10個のα−オレフィンの単独重合又
は他のモノオレフィン若しくは炭素数3〜10個のジオ
レフィンとの共重合の触媒として有用であるが、特に炭
素数3ないし6個のα−オレフィン、例えばプロピレン
、■−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、l−ヘキセ
ン等の単独重合又は上記のαオレフイン相互及び/又は
エチレンとのランダム及びブロック共重合の触媒として
極めて優れた性能を示す。
用い得る有機金属化合物は、周期表第■族ないし第■族
金属の有機化合物である。該化合物としては、リチウム
、マグネシウム、カルシウム、亜鉛及びアルミニウムの
有機化合物が使用し得る。これらの中でも特に、有機ア
ルミニウム化合物が好適である。用い得る有機アルミニ
ウム化合物としては、一般式RnAlX3.....(
但し、し>Rはアルキル基又はアリール基、Xはハロゲ
ン原子、アルコキシ基又は水素原子をir、 シ、nは
l≦n≦3の範囲の任意の数である。)で示されるもの
であり、例えばトリアルキルアルミニウム、ジアルキル
アルミニウムモノハライド、モノアルキルアルミニウム
シバライド、アルキルアルミニウムセスキハライド、ジ
°γルキルアルミニウムモノアルコキシド及びジアルキ
ルアルミニウムモノハイドライドなどの炭素数1ないし
18個、好ましくは炭素数2ないし6個のアルキルアル
ミニウム化合物又はその混合物もしくは錯化合物が特に
好ましい。具体的には、トリメチルアルミニウム、トリ
エチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリ
イソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウムな
どのトリアルキルアルミニウム、ジメチルアルミニウム
クロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジエチルア
ルミニウムプロミド、ジエチルアルミニウムアイオダイ
ド、ジイソブチル°rルミニウムクロリドなどのジアル
キルアルミニウムモノハライド、メチルアルミニウムジ
クロリド、エチルアルミニウムジクロリド、メチルアル
ミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、
エチルアルミニウムジアイオダイド、イソブチルアルミ
ニウムジクロリドなどのモノアルキルアルミニウムシバ
ライド、エチルアルミニウムセスキクロリドなどのアル
キル°fルミニウムセスキハライド、ジメチルアルミニ
ウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジ
エチルアルミニウムフェノキシド、ジプロピルアルミニ
ウムエトキシド、ジイソブチルアルミニウムエトキシド
、ジイソブチルアルミニウムフェノキシドなどのジアル
キル゛rルミニウムモノアルコキシド、ジメチルアルミ
ニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライ
ド、ジアルキルアルミニウムハイドライド、ジアルキル
アルミニウムハイドライドなどのジアルキルアルミニウ
ムハイドライドが挙げられる。これらの中でも、トリア
ルキルアルミニウムが、特にトリエチルアルミニウム、
トリイソブチルアルミニウムが望ましい。又、これらト
リアルキルアルミニウムは、その他の有機アルミニウム
化合物、例えば、工業的に入手し易いジエチルアルミニ
ウムクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、エチル
アルミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムエ
トキシド、ジエチルアルミニウムハイドライド又はこれ
らの混合物若しくは錯化合物等と併用することができる
又、酸素原子や窒素原子を介して2個以上のアルミニウ
ムが結合した有機アルミニウム化合物も使用可能である
。そのような化合物としては、例えば(C−11s) 
2^10^1 (CJs) a 。
(C4L)2^lO^+(C,H9)2  、   (
C2H5)2AIN八I ([:2H5)2C2II 
S 等を例示できる。
アルミニウム金属以外の金属の有機化合物としては、ジ
エチルマグネシウム、エチルマグネシウムクロリド、ジ
エチル亜鉛等の他 LiA1(CJs)1. LiA1(CtH+s)4 
 等の化合物が挙げられる。
本発明の触媒成分及び有機金属化合物と必要に応じて組
み合せることができる電子供与性化合物としては、前記
成分Δを調製する際に用いられる化合物及び前記予備重
合の際に用いられるシラン化合物(成分C)の中から適
宜選ばれる他、前記シラン化合物以外の有機珪素化合物
からなる電子供与性化合物や、窒素、イオウ、酸素、リ
ン等のへテロ原子を含む電子供与性化合物も使用可能で
ある。
有機珪素化合物の具体例としては、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テ
トライソブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テ
トラ(p−メチルフェノキシ)シラン、テトラベンジル
オキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルト
リフエノキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチ
ルトリイソブトキシシラン、エチルトリフエノキシシラ
ン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシ
ラン、ブチルトリブトキシシラン、ブチルトリフエノキ
シシラン、イソブチルトリイソブトキシシラン、ビニル
トリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ジメ
チルジイソプロポキシシラン、ジメチルジブトキシシラ
ン、ジメチルジへキシルオキシシラン、ジメチルジフェ
ノキシシラン、ジエチルジェトキシシラン、ジエチルジ
イソブトキシシラン、ジエチルジフェノキシシラン、ジ
ブチルジイソプロポキシシラン、ジブチルジブトキシシ
ラン、ジブチルジフェノキシシラン、ジイソブチルジェ
トキシシラン、ジイソブチルジイソブトキシシラン、ジ
フェニルジメトキシシラン、ジフェニルジェトキシシラ
ン、ジフェニルジブトキシシラン、ジベンジルジェトキ
シシラン、ジビニルジフェノキシシラン、ジアリルジプ
ロポキシシラン、ジフェニルジアリルオキシシラン、メ
チルフエニルジメトキシシラン、りロロフェニルジエト
キシシラン等が挙げられる。
ヘテロ原子を含む電子供与性化合物の具体例としては、
窒素原子を含む化合物として、2゜2.6.6−テトラ
メチルピベリジン、2.6ジメチルピペリジン、2,6
−シエチルビペリジン、2,6−ジイソプロピルピロリ
ジン、2.6−ジイツブチルー4−メチルピペリジン、
1.2.2.6.6−ペンタメチルピペリジン、2.2
.5.5−テトラメチルピロリジン、2゜5−ジメチル
ピロリジン、2.5−ジエチルピロリジン、2.5−ジ
イソプロピルピロリジン、1.2.2,5.5−ペンタ
メチルピロリジン、2.2.5−)ジメチルピロリジン
、2−メチルピリジン、3−メチルピリジン、4−メチ
ルピリジン、2.6−ジイツブロビルビリジン、2.6
−シイツブチルピリジン、1.2.4−トリメチルピペ
リジン、2.5−ジメチルピペリジン、ニコチン酸メチ
ル、ニコチン酸エチル、ニコチン酸アミド、安息香酸ア
ミド、2−メチルピロール、2,5−ジメチルビロール
、イミダゾール、トルイル酸アミド、ベンゾニトリル、
アセトニトリル、アニリン、パラトルイジン、オルトト
ルイジン、メタトルイジン、トリエチルアミン、ジエチ
ルアミン、ジブチルアミン、テトラメチレンジアミン、
トリブチルアミン等が、イオウ原子を含む化合物として
、チオフェノール、チオフェン、2−チオフェンカルボ
ン酸エチル、3−チオフェンカルボン酸エチル、2−メ
チルチオフェン、メチルメルカプタン、エチルメルカプ
タン、イソプロピルメルカプタン、ブチルメルカプタン
、ジエチルチオエーテル、ジフェニルチオエーテル、ベ
ンゼンスルフオン酸メチル、メチルサルファイド、エチ
ルサルファイド等が、酸素原子を含む化合物として、テ
トラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、3
−メチルテトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロ
フラン、2.2.5.5テトラエチルテトラヒドロフラ
ン、2.2,5゜5−テトラメチルテトラヒドロフラン
、2,2゜6.6−テトラエチルテトラヒドロピラン、
2゜2.6.6−テトラヒドロピラン、ジオキサン、ジ
メチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル
、ジイソアミルエーテル、ジフェニルエーテル、アニソ
ール、アセトフェノン、アセトン、メチルエチルケトン
、アセチルアセ□トン、o−トリル−t−ブチルケトン
、メチル2.6−ジt−ブチルフェニルケトン、2−フ
ラル酸エチル、2−フラル酸イソアミル、2−フラル酸
メチル、2−フラル酸プロピル等が、リン原子を含む化
合物として、トリフェニルホスフィン、トリブチルホス
フィン、トリフェニルホスファイト、トリベンジルホス
ファイト、ジエチルホスフェート、ジフェニルホスフェ
ート等が挙げられる。
これら電子供与性化合物は、二種以上用いてもよい。又
、これら電子供与性化合物は、有機金属化合物を触媒成
分と組合せて用いる際に用いてもよく、予め有機金属化
合物と接触させた上で用いてもよい。
本発明の触媒成分に対する有機金属化合物の使用量は、
該触媒成分中のチタン1グラム原子当り、通常1〜2.
000グラムモル、特に20〜500グラムモルが望ま
しい。
又、有機金属化合物と電子供与性化合物の比率は、電子
供与性化合物1モルに対して有機金属化合物がアルミニ
ウムとして0.1〜40、好ましくは1〜25グラム原
子の範囲で選ばれる。
α−オレフィンの重合反応は、気相、液相のいずれでも
よく、液相で重合させる場合は、ノルマルブタン、イソ
ブタン、ノルマルペンタン、イソペンタン、ヘキサン、
ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の不活性炭化゛水素中及び液状子ツマ
ー中で行うことができる。重合温度は、通常−80℃〜
+150℃、好ましくは40〜120℃の範囲である。
重合圧力は、例えば1〜60気圧でよい。又、得られる
重合体の分子量の調節は、水素若しくは他の公知の分子
量調節剤を存在せしめることにより行われる。又、共重
合においてα−オレフィンに共重合させる他のオレフィ
ンの量は、α−オレフィンに対して通常30重量%迄、
特に0.3〜15重量%の範囲で選ばれる。重合反応は
、連続又はバッチ式反応で行い、その条件は通常用いら
れる条件でよい。又、共重合反応は一段で行ってもよく
、二段以上で行ってもよい。
発明の効果 本発明は、上記の構成を採ることにより、触媒)成分の
強度を向上することができると共に、該触媒成分はα−
オレフィンの(共)重合において、高活性を維持しつつ
、高立体規則性を示し、かつ特に洗浄した触媒成分は、
触媒の保存において性、能の劣化を抑制できるという優
れた効果を発揮する。
実施例 本発明を実施例及び応用例により具体的に説明する。な
お、例におけるパーセント(%)は特に断らない限り重
量による。
ポリマー中の結晶性ポリマーの割合を示すヘプタン不溶
分(以下H1と略称する。)は、改良型ソックスレー抽
出器で沸11!n−ヘプタンにより6時間抽出した場合
の残量である。
実施例1 成分への調製 滴下ロート及び攪拌機を取付けた200m1のフラスコ
を窒素ガスで置換した。このフラスコに、酸化ケイ素(
口^VISON社製、商品名(、−952〉を窒素気流
中において200℃で2時間、更に700℃で5時間焼
成したものを5g及びn−へブタンを40−入れた。更
にn−ブチルエチルマグネシウム(以下、BBMという
。)の20%n−へブタン溶液(テキサスアルキルズ社
製、商品名MAGALA BBM) 20 rdを加え
、90℃で1時間攪拌した。
上記懸濁液を0℃に冷却した後、これにテトラエトキシ
シラン11.2 gを201nlのn−ヘプタンに溶解
した溶液を滴下ロートから30分掛けて滴下した。滴下
終了後、2時間掛けて50℃に昇温し、50℃で1時間
攪拌を続けた。反応終了後、デカンテーションにより上
澄液を除去し、生成した固体を60−のn−へブタンに
より室温で洗浄し、更にデカンテーションにより上澄液
を除去した。このn−へブタンによる洗浄処理を更に4
回行った。
上記の固体に、50m1のn−へブタンを加えて懸濁液
とし、これに2.2.2−トリクロルエタノール8.0
gを10m1のn−へブタンに溶解した溶液を、滴下ロ
ートから25℃において15分間掛けて滴下した。滴下
終了後25℃で30分間攪拌を続けた。反応終了後、室
温において、60mj!のn−へブタンにて2回、60
m1のトルエンにて3回それぞれ洗浄を行った。得られ
た固体(固体成分I)を分析したところ、810□36
.6%、マグネシウム5.1%、塩素38.5%を含ん
でいた。
上記で得られた固体成分Iに、n−ヘプタン10mj!
及び四塩化チタン40m1!を加え、90℃迄昇温し、
n−ヘプタン5−に溶解したフタル酸ジn−ブチル0.
6gを5分間掛けて添加した。
その後、115℃に昇温し、2時間反応させた。
90℃に降温した後、デカンテーションにより」二澄液
を除き、n−ヘプタン70rnlで2回洗浄を行った。
更に、n−へブタン15mjl!と四塩化チタン40−
を加え、115℃で2時間反応させた。反応終了後、得
られた固体物質を60−のn−ヘキサンにて室温で8回
洗浄を行った。
次いで、減圧下室部にて1時間乾燥を行い、8、 :3
 gの触媒成分(成分Δ)を得た。この成分Aには、3
.1%のチタンの他酸化ケイ素、マグネシウム、塩素及
びフタル酸ジn−ブチルが含まれていた。
予備重合 攪拌機を取付けた5 00dの反応器に、窒素ガス雰囲
気下、上記で得られた成分A 1.9 g及びn−ヘプ
タン280rnlを入れ、攪拌しながら5℃に冷却した
。次にトリエチルアルミニウム(以下TB八りと略称す
る。)のn−ヘプタン溶液(2,0モル/f)及びジn
−ヘキシルジメトキシシランのn−へブタン溶液(1,
0モル/ A’ )を、反応系におけるTEAL及びジ
n−ヘキシルジメトキシシランの濃度がそれぞれ80 
ミIJモル/l及び8ミリモル/1となるように添加し
、5分間攪拌した。次いで、系内を40mmHHに減圧
した後、プロピレンガスを供給し、プロピレンを30分
間重合させた。重合終了後、気相のプロピレンを窒素ガ
スでパージし、5℃のn−へブタンを添加し、5倍に希
釈した。このようにして触媒成分のスラリーを調製した
。スラリーの一部を取り出し、乾燥し、触媒成分中に含
まれるマグネシウム量を測定した結果、予備重合量は成
分1g当り3.0gであった。
又、ジn−ヘキシルジメトキシシランの体積及びメトキ
シ基の酸素原子の電子密度を前記に従い計算し、その結
果を第1表に示した。
実施例2〜6 実施例1の予備重合において、ジn−ヘキシルジメトキ
シシランの代りに、第1表に示すシラン化合物を、又T
EALの代りに第1表に示すトリアルキルアルミニウム
をそれぞれ第1表に示す濃度で用い、かつ予備重合条件
を第1表に示す通りにした以外は、実施例1と同様にし
て成分への予備重合を行い、触媒成分を調製した。
又、各シラン化合物の体積及びメトキシ基の酸素原子の
電子密度の計算値を第1表に示した。
比較例1 実施例1の予備重合において、ジn−ヘキシルジメトキ
シシランを用いず、かつ予備重合条件を第1表に示す通
りにした以外は、実施例1と同様にして成分Aの予備重
合を行い、触媒成分を調製した。
比較例2 実施例1の予備重合において、ジn−ヘキシルジメトキ
シシランの代りに、ジメトキシシランを用い、かつ予備
重合条件を第1表に示す通りにした以外は、実施例1と
同様にして成分Aの予備重合を行い、触媒成分を調製し
た。
比較例3 予備重合を行なわなかった以外は、実施例1と同様にし
て触媒成分(成分A〉を調製した。
実施例7 成分への調製 90℃における攪拌時間を2時間とした以外は、実施例
1と同様にして酸化ケイ素とBEMを接触させた後、デ
カンテーションにより上澄液を除去し、生成した固体を
50m1のn−へブタンにより室温で洗浄し、更にデカ
ンテーションにより上澄液を除去した。このn−へブタ
ンによる洗浄処理を更に4回行った。
上記の固体に、20−のn−ヘプタンを加えて懸濁液と
し、これに2.2.2−)リクロルエタノール9.6g
を101nlのれ−へブタンに溶解した溶液を、滴下ロ
ートから0℃において30分間掛けて滴下した。0℃で
1時間攪拌を続けた後、1時間掛けて80℃に昇温し、
80℃で1時間攪拌を続けた。反応終了後、室温におい
て、50m1のn−へブタンにて2回、5〇−のトルエ
ンにて3回それぞれ洗浄を行い、固体(固体成分I)を
得た。
上記で得られた固体成分Iに、トルエン2〇−及びフタ
ル酸ジn−ブチル0.6 gを加え、50℃で2時間反
応を行った。次いで、四塩化チタン30m1を加え、9
0℃にて2時間反応させた後、得られた固体物質を50
m1のn−へキサンにて、室温で8回洗浄を行った。減
圧下、室温にて1時間乾燥を行ない、7.7gの成分A
を得た。この成分Aには、3.0%のチタンの他、酸化
ケイ素、マグネシウム、塩素、フタル酸ジnブチルが含
まれていた。
P備重合 上記で得られた成分Aを用い、かつ予(j市重合条件を
第1表に示す通りにした以外は、実1m例1と同様にし
て成分Aの予備重合を行い、触媒成分を調製した。
比較例4 実施例7の予備重合において、ビス(2,2ジメチルプ
ロピル)ジメトキシシランを用いず、予備重合条件を第
1表に示す通りにした以外は、実施例7と同様にして触
媒成分を調製した。
参考例 実施例7の予備重合において、ビス(2,2−ヅメ1チ
ルプロピル)ジメトキシシランの代りに、ジフェニルジ
メトキシシランを用い、かつ予備重合条件を第1表に示
す通りにした以外は、実施例7と同様にして成分Δの予
備重合を行い、触媒成分を調製した。
笈−上一息 (Å3、) (A、 Ll) (ミリモル/1) (n−He) asi (OMe) z((Et)(M
e)ic) 2si(OMe)a(n−Bu) as 
i (OMe) z(t−Bu) as i (OMe
) 2((n−Pr)(Me)CHI aSi(OMe
)z(([it)(Me)2C−CHa 〕zsi(O
Me)2((lie)sC’ CH2) asi(OM
e)z290、4 256、4 222、1 222、4 256、5 290、7 256、2 0、6941 0.7223 0、6892 0、7300 0、6980 0、6900 0、6934 TI!^L Tε^L TE。
I TIBAL EAL Tε^L 0 0 00 0 00 5 0 00 5 0 00 20 (Me)aSi(OMe)a 120、1 0、6802 EAL EAL ^L L 崖 1) TIBAL : トリイソブチルアルミニウム3
) loO+m!のn−ヘキサンで3回洗浄2)希:希
釈、洗:清浄、乾:乾燥 4ン 室温にて1時間減圧乾燥 希×5倍 洗×1回 洗×3回 乾 洗×3回 洗×3回 乾 洗×1回 希×3倍 洗×3回 乾 洗×1回 応用例1 プロピレンの重合 攪拌機を設けた1、 51のステンレス製オートクレー
ブに、窒素ガス雰囲気下、TEA lのnヘプタン溶液
(0,1モル/l)4ml及びジtアミルジメトキシシ
ランのn−へブタン溶液(0,01モル/Il〉2rn
lを混合し5分間保持したものを入れた。次いで、分子
量制御剤としての水素ガス11及び液体プロピレンIf
を圧入した後、反応系を70℃に昇温した。実施例1で
得られた触媒成分40■を反応系に装入した後、1時間
プロピレンの重合を行った。重合終了後、未反応のプロ
ピレンをパージし、HIは97.4%の白色ポリプロピ
レン粉末を得た。成分A 1”g・1時間当りのポリプ
ロピレン生成量(Cや)は23.4 kgであった。
又、実施例1で得られた触媒成分を、窒素ガスで置換し
たガラス容器に入れ、密封し、5℃で4日間、10日間
及び20日間保存した後、プロピレンの重合に供した。
プロピレンの重合は上記と同様にして行った。それらの
結果を第2表に示した。第2表の記載から保存劣化は僅
少であることが判る。又、これらの重合では150μm
以下の微粉ポリマーは全く観察されなかった。
応用例2〜7 実施例1で得られた触媒成分に代えて、実施例2〜6で
得られた触媒成分を用い、かつ応用例4と7ではジt−
アミルジメトキシシランの代りに第2表に示す電子供与
性化合物を用いる以外は、応用例1と同様にしてプロピ
レンの重合を行い、それらの結果を第2表に示した。
応用例8〜11 実施例1で得られた触媒成分に代えて、比較例1〜3で
得られた触媒成分を用い、かつ応用例IOではジt−ア
ミルジメトキシシランの代りに第3表に示す電子供与性
化合物を用いる以外は、応用例1と同様にしてプロピレ
ンの重合を行い、それらの結果を第3表に示した。
実施例1で得られた触媒成分に代りに、実施例7.比較
例4及び参考例で得られた触媒成分を、またTEALの
代りにトリイソブチルアルミニウムをそれぞれ用い、重
合温度を80℃とし、かつジt−アミルジメトキシシラ
ンの代りに第3表に示す電子供与性化合物を用いるか、
電子供与性化合物を用いない以外は、応用例1ど同様に
してプロピレンの重合を行い、それらの結果を第3表に
示した。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の触媒成分の調製工程を示すフローチ
ャート図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (A)金属酸化物、マグネシウム、チタン、ハロゲン及
    び電子供与性化合物を必須成分とする固体成分を、 (B)トリアルキルアルミニウム及び (C)一般式R^1R^2Si(OCH_3)_2〔但
    し、R^1及びR^2は夫々同一又は異なる炭素数1〜
    10個の脂肪族炭化水素基である。〕で表わされ、量子
    化学計算で算出した体積が170〜500Å^3、同じ
    くメトキシ基の酸素原子の電子密度が 0.690〜0.800A.U.(アトミックユニット
    )又は該体積が200〜500Å^3、該電子密度が0
    .685〜0.800A.U.のジメトキシ基含有シラ
    ン化合物の存在下、 (D)オレフィン と接触させてなるα−オレフィン重合用触媒成分。
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