JPH0312720B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、放射線像変換パネルに関するもので
ある。さらに詳しくは、本発明は、防傷性が改良
された放射線像変換パネルに関するものである。 従来において、放射線像を画像として得る方法
としては、銀塩感光材料からなる乳剤層を有する
放射線写真フイルムと増感紙（増感スクリーン）
とを組合わせた、いわゆる放射線写真法が利用さ
れている。上記従来の放射線写真法にかわる方法
の一つとして、たとえば、米国特許第3859527号
明細書および特開昭55−12145号公報等に記載さ
れているように、輝尽性蛍光体を用いた放射線像
変換方法が知られている。この放射線像変換方法
は、輝尽性蛍光体を有する放射線像変換パネル
（蓄積性蛍光体シート）を利用するもので、被写
体を透過した放射線エネルギーあるいは被検体か
ら発せられた放射線エネルギーを上記パネルの輝
尽性蛍光体に吸収させ、そののちに輝尽性蛍光体
を可視光線および赤外線から選ばれる電磁波（以
下「励起光」と称する）で時系列的に励起するこ
とにより、輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射
線エネルギーを蛍光（輝尽蛍光）として放出さ
せ、この蛍光を光電的に読取つて電気信号を得、
得られた電気信号を画像化するものである。 この方法で使用される放射線像変換パネル自体
は、放射線による照射、および励起光の照射によ
つても殆ど変質することがないため、長期間にわ
たつて繰り返し使用することができる。ただし、
実際の使用においては励起光による走査だけでは
パネルに蓄積していた放射線エネルギーが充分に
放出し尽されないので、残存する放射線エネルギ
ーを消去するために励起光による走査の後に（次
に使用する前に）、用いる蛍光体の輝尽蛍光の励
起波長領域の光または熱をパネルに加えることが
行なわれる。 上述の放射線像変換方法によれば、従来の放射
線写真法を利用した場合に比較して、はるかに少
ない被曝線量で情報量の豊富なＸ線画像を得るこ
とができるという利点がある。従つて、この放射
線像変換方法は、特に医療診断を目的とするＸ線
撮影等の直接医療用放射線撮影において利用価値
の非常に高いものである。 上記の放射線像変換方法に用いる放射線像変換
パネルは、基本構造として、支持体と、その片面
に設けられた蛍光体層とからなるものである。た
だし、この蛍光体層の支持体とは反対側の表面
（支持体に面していない側の表面）には一般に、
透明な保護膜が設けられていて、蛍光体層を化学
的な変質あるいは物理的な衝撃から保護してい
る。さらに、本出願人による特願昭56−168141号
明細書に記載されているように、機械的強度を向
上させるためにパネルの端面がポリマー被膜によ
り被覆され、縁貼りがなされる場合がある。 上述のように放射線像変換パネルは、残存エネ
ルギーの消去・放射線の照射・励起光による走査
（読み出し）という順からなるサイクルで繰り返
し使用されるが、各ステツプへの放射線像変換パ
ネルの移動は搬送系により行なわれる。放射線像
変換パネルは一サイクル終了した後は通常は積層
して保存される。 従つて、放射線像変換方法において使用するパ
ネルは、従来の放射線写真法においてカセツテ内
に固定して使用する増感紙とは使用状況が全く異
なるため、そのパネルに関しては、増感紙を用い
た場合には起こりえなかつた種々の問題が発生す
る。 たとえば、放射線像変換パネルにあつてはこの
ような搬送と積層状態との繰返しの使用におい
て、パネルが積層される際もしくは積層状態から
搬送系に移る際に、一枚のパネルの表面と他のパ
ネルの裏面との擦れ、およびパネルの端縁と他の
パネルの表面（あるいは裏面）との擦れなどの物
理的接触により、パネル表面および裏面が損傷を
受けやすい、このうち、パネル表面に生じた物理
的損傷は、読み出しの際に励起光の散乱などを生
じさせる原因となつて、放射線撮影により得られ
る情報量の低下および情報の不明瞭化が発生する
ことになる。すなわち、この情報を画像化した場
合には、得られる画像に画質の著しい低下が認め
られる。 従つて、放射線像変換パネルは、前述のように
蛍光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃か
ら保護するための保護膜を付設した形態が一般的
とされているが、このような放射線像変換パネル
については、搬送あるいは積層の際にパネル表面
（すなわち、保護膜表面）に生じる損傷を極力防
ぐことが望まれている。 本発明は、上記のような理由から、パネル表面
の防傷性が向上した放射線像変換パネルを提供す
ることをその目的とするものである。 上記の目的は、支持体、該支持体上に設けられ
た輝尽性蛍光体を分散状態で含有支持する結合剤
からなる蛍光体層、および該蛍光体層上に設けら
れた保護膜から実質的に構成されている放射線像
変換パネルにおいて、上記支持体の表面硬度が、
上記保護膜の表面硬度よりも低い値であることを
特徴とする放射線像変換パネルにからなる本発明
により達成することができる。 あるいは、上記のように支持体の表面硬度を保
護膜の表面硬度よりも低い値であるようにする代
りに、支持体の表面で、蛍光体層が設けられてい
る側と反対側の表面にプラスチツクフイルム層を
付設し、このプラスチツクフイルム層の表面硬度
が、保護膜の表面硬度よりも低い値であるように
することによつても前記の目的を達成することが
でき、これも本発明に含まれる。 なお、本明細書の記載において、パネル表面と
は、保護膜の表面で、蛍光体層とは接していない
側の表面を意味し、そして、パネル裏面とは、支
持体の表面で、蛍光体層とは接していない側の表
面、もしくはその表面にプラスチツクフイルム層
が設けている場合には、プラスチツクフイルム層
の表面で、支持体とは接していない側の表面を意
味する。 また、本発明において、表面硬度とは、
ASTM規格による引掻硬度試験（ASTM D1526
−58T、Brierbaumの引掻硬度）により決定さ
れ、物体表面に引つかくような移動荷重を加えた
ときの材料の破壊抵抗を尺度とした硬さ（単位：
Kg／mm²）で表わされる。 次に本発明を詳しく説明する。 本発明は、放射線像変換パネルにおいて、パネ
ル裏面の表面硬度をパネル表面の表面硬度よりも
低くすることにより、すなわち、支持体の表面硬
度を保護膜の表面硬度より低くすることによつ
て、あるいは支持体上に保護膜よりも表面硬度の
低いプラスチツクフイルム層を設けることによつ
て、パネル表面の防傷性を改良したものである。
この改良により、従来、パネルを搬送系から積層
状態に移す場合（あるいはその逆の場合）に、パ
ネルの表面と別のパネルの裏面との擦れなどによ
つてパネルの表面に生じやすかつた損傷を効果的
に防止することができ、従つて本発明の放射線像
変換パネルを用いた場合には画質が向上した画像
を得ることができる。 以上述べたような好ましい特性を持つた本発明
の放射線像変換パネルを、先ず、支持体にプラス
チツクフイルム層が付設されている放射線像変換
パネルを例にとつて、説明する。 本発明の支持体の表面にプラスチツクフイルム
層が設けられた放射線像変換パネルにおいて、プ
ラスチツクフイルム層に使用される材料として
は、たとえば、ポリプロピレン、ナイロン、発泡
ポリエチレン、セルロースアセテート、ポリイミ
ド、トリアセテート、ポリカーボネート、ポリ塩
化ビニリデン、ポリ酢酸ビニルなど、フイルムに
成型した場合において相対的に低い表面硬度を示
すプラスチツクを挙げることができる。 ただし、各種のプラスチツクからなるフイルム
の表面硬度は、そのプラスチツクの重合度、分子
構造などによつて、またフイルム成形の条件によ
つても変動するものである。従つて、本発明に使
用するプラスチツクフイルム層は、その表面硬度
が、保護膜の表面硬度よりも低くなければならな
いとの条件のもとで、プラスチツクフイルム層に
用いることのできる材料およびフイルム成形条件
などを、保護膜の表面硬度との関係において選択
する必要がある。 第１表に、上に例示した材料から成形したプラ
スチツクフイルムの例についての前述のASTM
規格による引掻硬度試験による測定値を示す。

【表】 ただし、本発明のプラスチツクフイルム層に用
いられる材料は、上記の材料に限られるものでは
なく、フイルム状に成形後の表面硬度が保護膜の
表面硬度よりも低く、かつパネル裏面のプラスチ
ツクフイルム層としての機能を有するものであれ
ばいかなるものであつてもよい。 また、本発明において蛍光体層の上に設けられ
る保護膜の材料の例としては、酢酸セルロース、
ニトロセルロースなどのセルロース誘導体；ある
いはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポ
リビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポ
リカーボネート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリ
マーなどのような透明性の高いプラスチツクを挙
げることができる。 第２表は、これらの材料から成形したフイルム
の例についての表面硬度を示す。

【表】 上記のうちで透明性、保護膜としての機能など
の点から、好ましい保護膜材料はポリエチレンテ
レフタレートである。 ただし、各種のプラスチツクからなるフイルム
の表面硬度は、前述ように、そのプラスチツクの
重合度、分子構造などによつて、またフイルム成
形の条件によつても変動するものである。従つ
て、本発明に使用する保護膜は、蛍光体層の保護
膜としての機能を備え、かつ、その表面硬度が、
プラスチツクフイルム層の表面硬度よりも高くな
ければならないとの条件のもとで、保護膜に用い
ることのできる材料および膜成形条件などを、プ
ラスチツクフイルム層の表面硬度との関係におい
て選択する必要がある。 上記のような支持体の表面にプラスチツクフイ
ルム層が設けられた放射線像変換パネルは、たと
えば、次のようにして製造することができる。 まず、支持体の表面にプラスチツクフイルム層
を形成する。プラスチツクフイルム層は、たとえ
ば、前記の物質を適当な溶媒に溶解して調整した
溶液を支持体の表面にに塗布する方法により形成
することができる。あるいは、予め用意した前記
の材料からなる薄膜を支持体の表面に適当な接着
剤を用いて接着するなどの方法により形成すこと
がでできる。このようにして形成するプラスチツ
クフイルム層の層厚は、約５ないし500μmとする
のが望ましい。 支持体に使用される材料は、従来の放射線写真
法における増感紙の支持体として用いられている
各種の材料から任意に選ぶことができる。そのよ
うな材料の例としては、セルロースアセテート、
ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リアミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリカ
ーボネートなどのプラスチツク物質のフイルム、
アルミニウム箔、アルミニウム合金箔などの金属
シート、通常の紙、バライタ紙、レジンコート
紙、二酸化チタンなどの顔料を含有するピグメン
ト紙、ポリビニルアルコールなどをサイジングし
た紙などを挙げることができる。すなわち、プラ
スチツクフイルム層の付設が可能である限り、支
持体の材料に特に限定はない。ただし、本発明で
規定したプラスチツクフイルム層の付設、放射線
像変換パネルの情報記録材料としての特性および
取扱いなどを考慮した場合、本発明において特に
好ましい支持体の材料はプラスチツクフイルムで
ある。このプラスチツクフイルムにはカーボンブ
ラツクなどの光吸収性物質が練り込まれていても
よく、あるいは二酸化チタンなどの光反射性物質
が練り込まれていてもよい。前者は高鮮鋭度タイ
プの放射線像変換パネルに適した支持体であり、
後者は高感度タイプの放射線像変換パネルに適し
た支持体である。 公知の放射線像変換パネルにおいて、支持体と
蛍光体層の結合を強化するため、あるいは放射線
像変換パネルとしての感度もしくは画質（鮮鋭
度、粒状性）を向上させるために、蛍光体層が設
けられる側の支持体表面にゼラチンなどの高分子
物質を塗布して接着性付与層としたり、あるいは
二酸化チタンなどの光反射性物質からなる光反射
層もしくはカーボンブラツクなどの光吸収性物質
からなる光吸収層を設けることも行なわれてい
る。本発明において用いられる支持体について
も、これらの各種の層を設けることができ、それ
らの構成は所望の放射線像変換パネルの目的、用
途などに応じて任意に選択することができる。 さらに、本出願人による特願昭57−82431号明
細書に記載されているように、得られる画像の鮮
鋭度を向上させる目的で、支持体の蛍光体層が設
けられる側の表面（支持体のその側の表面に接着
性付与層、光反射層、あるいは光吸収層などが設
けられている場合には、その表面）に微小の凹凸
が形成されていてもよい。 次に、支持体のもう一方の表面（プラスチツク
フイルム層が設けられている側とは反対側の表
面）に蛍光体層を形成する。蛍光体層は、基本的
には輝尽性蛍光体粒子を分散状態で含有支持する
結合剤からなる層である。 輝尽性蛍光体は、先に述べたように放射線を照
射した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍
光体であるが、実用的な面からは400〜800nmの
波長範囲にある励起光によつて300〜500nmの波
長範囲の輝尽発光を示す蛍光体であることが望ま
しい。本発明の放射線像変換パネルに用いられる
輝尽性蛍光体の例としては、 米国特許第3859527号明細書に記載されている
SrS：Ce，Sm、SrS：Eu，Sm、ThO₂：Er、お
よびLa₂O₂S：Eu，Sm、 特開昭55−12142号公報に記載されている
ZnS：Cu，Pb、BaO・xAl₂O₃：Eu（ただし、0.8
≦ｘ≦10）、および、M〓Ｏ・xSiO₂：Ａ（ただし、
M〓はMg、Ca、Tb、Eu、Tm、Pb、Tl、Bi、
またはM_oであり、ｘは、0.5≦ｘ≦2.5である）、 特開昭55−12143号公報に記載されている
（Ba₁−ｘ−ｙ，Mgx，Cay）FX：aEu₂ ⁺（ただ
し、ＸはClおよびBrのうちの少なくとも一つで
あり、ｘおよびｙは、０＜ｘ＋ｙ≦0.6、かつxy
≠０であり、ａは、10^-6≦ａ≦５×10^-2である）、 特開昭55−12144号公報に記載されている
LnOX：xA（ただし、LnはLa、Ｙ、Gd、および
Luのうちの少なくとも一つ、ＸはClおよびBrの
うちの少なくとも一つ、ＡはCeおよびTbのうち
の少なくとも一つ、そして、ｘは、０＜ｘ＜0.1
である）、 特開昭55−12145号公報に記載されている
（Ba_1-x，M²⁺x）FX：yA（ただし、M²⁺はMg、
Ca、Sr、Zn、およびCdのうちの少なくとも一
つ、ＸはCl、Br、およびＩのうちの少なくとも
一つ、ＡはEu、Tb、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、
Nd、Yb、およびErのうちの少なくとも一つ、そ
してｘは、０≦ｘ≦0.6、ｙは、０≦ｙ≦0.2であ
る）、 などを挙げることができる。 ただし、本発明に用いられる輝尽性蛍光体は上
述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を照
射したのちに励起光を照射した場合に、輝尽発光
を示す蛍光体であればいかなるものであつてもよ
い。 また蛍光体層の結合剤の例としては、ゼラチン
等の蛋白質、デキストラン等のポリサツカライ
ド、またはアラビアゴムのような天然高分子物
質；および、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビ
ニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩
化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、ポリメチ
ルメタクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポ
リマー、ポリウレタン、セルロースアセテートブ
チレート、ポリビニルアルコール、線状ポリエス
テルなどような合成高分子物質などにより代表さ
れる結合剤を挙げることができる。このような結
合剤のなかで特に好ましいものは、ニトロセルロ
ース、線状ポリエステル、およびニトロセルロー
スと線状ポリエステルとの混合物である。 蛍光体層は、たとえば、次のような方法により
支持体上に形成することができる。 まず上記の輝尽性蛍光体粒子と結合剤とを適当
な溶剤に加え、これを充分に混合して、結合剤溶
液中に輝尽性蛍光体粒子が均一に分散した塗布液
を調整する。 塗布液調整用の溶剤の例としては、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノ
ールなどの低級アルコール；メチレンクロライ
ド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化
水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アル
コールとのエステル；ジオキサン、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコール
モノメチルエーテルなどのエーテル；そして、そ
れらの混合物を挙げることができる。 塗布液における結合剤と輝尽性蛍光体との混合
比は、目的ととする放射線像変換パネルの特性、
蛍光体の種類などによつて異なるが、一般には結
合剤と蛍光体との混合比は、１：１ないし１：
100（重量比）の範囲から選ばれ、そして特に１：
８ないし１：40（重量比）の範囲から選ぶことが
好ましい。 なお、塗布液には、上記塗布液中における蛍光
体の分散性を向上させるための分散剤、また、形
成後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体との間
の結合力を向上させるための可塑剤などの種々の
添加剤が混合されていてもよい。そのような目的
に用いられる分散剤の例としては、フタル酸、ス
テアリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤など
を挙げることができる。そして可塑剤の例として
は、燐酸トリフエニル、燐酸トリクレジル、燐酸
ジフエニルなどの燐酸エステル；フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジメトキシエチルなどのフタル酸エ
ステル；グリコール酸エチルフタリルエチル、グ
リコール酸ブチルフタリルブチルなどのグリコー
ル酸エステル；そして、トリエチングリコールと
アジピン酸とのポリエステル；ジエチングリコー
ルとコハク酸とのポリエステルなどのポリエチン
グリコールと脂肪族二塩基酸とのポリエステルな
どを挙げることができる。 上記のようにして調
整された蛍光体と結合剤を含有する塗布液を、次
に、支持体の表面に均一に塗布することにより塗
布液の塗膜を形成する。この塗布操作は、通常の
塗布手段、たとえばドクターブレード、ロールコ
ーター、ナイフコーターなどを用いることにより
行なうことができる。 ついで、形成された塗膜を徐々に加熱すること
により乾燥して、支持体上への蛍光体層の形成を
完了する。蛍光体層の層厚は、目的とする放射線
像変換パネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍
光体との混合比などによつて異なるが、通常は
20μmないし1mmとする。ただし、この層厚は、
50ないし500μmとするのが好ましい なお、蛍光体層は、必ずしも上記のように支持
体上に塗布液を直接塗布して形成する必要はな
く、たとえば、別に、ガラス板、金属板、プラス
チツクシートなどのシート上に塗布液を塗布し乾
燥することにより蛍光体層を形成した後、これ
を、支持体上に押圧するか、あるいは接着剤を用
いるなどして支持体と蛍光体層とを接合してもよ
い。 次いで、蛍光体層の支持体に接する側とは反対
側の表面に、蛍光体層を物理的および化学的に保
護するために前述のような材料からなる透明な保
護膜を設ける。 透明な保護膜は、たとえば、前述の高分子物質
を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層
の表面に塗布する方法により形成することができ
る。あるいは、予め別に形成した透明な薄膜を蛍
光体層の表面に適当な接着剤を用いて接着するな
どの方法によつても形成することができる。この
ようにして形成する透明保護膜の膜厚は、約３な
いし20μmとするのが望ましい。 このようにして、順にプラスチツクフイルム
層、支持体、蛍光体層および保護膜からなる放射
線像変換パネルを製造する。なお、プラスチツク
フイルム層の形成は、支持体、蛍光体層および保
護膜からなるパネルを製造したのち、支持体の蛍
光体層とは反対側の表面に塗布液を塗布する、あ
るいは接着剤を用いて接着するなどしてプラスチ
ツクフイルム層を設けることも可能である。 また、本発明の別の態様である支持体、該支持
体上に設けられた輝尽性蛍光体を分散状態で含有
支持する結合剤からなる蛍光体層、および該蛍光
体層上に設けられた保護膜から実質的に構成され
ている放射線像変換パネルにおいて、上記支持体
の表面硬度が、上記保護膜の表面硬度よりも低い
値であることを特徴とする放射線像変換パネル
は、上記のように支持体上にプラスチツクフイル
ム層を付設しないで、支持体自体を、保護膜の表
面硬度よりも低い表面硬度を有するように調製す
ることにより製造するとができる。 支持体に使用される材料としては、たとえば、
前記のプラスチツクフイルム層に用いられる材料
の中から選ぶことができる。これらのプラスチツ
クフイルムには、所望によりカーボンブラツクな
どの光吸収性物質または二酸化チタンなどの光反
射性物質が練り込まれていてもよい。ただし、こ
の場合においても、支持体の表面硬度が保護膜の
表面硬度より低く、かつ支持体としての機能を有
するものでなければならない。 また、支持体の蛍光体層が設けられる側の表面
には、前述のように、接着性付与層、光反射層、
あるいは光吸収層などが設けられていてもよい
し、さらにその表面に微小の凹凸が形成されてい
てもよい。 このような支持体の表面に、前記の方法と同様
にして蛍光体層および透明保護膜を形成すること
により、順に支持体、蛍光体層および保護膜から
なる放射線像変換パネルを製造する。 本発明の放射線像変換パネルにおいては、パネ
ルの搬送性を高め、かつ、本発明の目的であるパ
ネルの防傷性を一層高めるために、上記の製造法
により製造されたパネルの端縁のエツジを面取り
したのち、この面取りされたエツジを含む該パネ
ルの端面がポリマー被膜によつて被覆（縁貼り）
されているのが好ましい。 放射線像変換パネルの面取りおよび縁貼りは、
本出願人による特願昭57−87799号明細書に記載
されているような方法を用いて行なうことができ
る。 すなわち、パネルの面取りは、搬送性を向上さ
せるためには、パネルの進行方向の支持体側（支
持体表面にプラスチツクフイルム層が設けられて
いる場合には、プラスチツクフイルム層側）の端
縁のエツジに施されればよいが、パネル表面の損
傷を防止するためには、パネルの支持体側のすべ
ての端縁のエツジが面取りされるのが好ましい。
また、保護膜側の端縁のエツジも面取りされるこ
とが、パネルの搬送性および防傷性をより一層向
上させるのには好ましい。 本発明において、面取りとは、面取りされた部
分が平面である場合および湾曲した面である場合
の両方を含むものとする。 なお、支持体側（支持体表面にプラスチツクフ
イルム層が設けられている場合には、プラスチツ
クフイルム層を含む）の面取りは、パネルの垂直
方向に測定した場合支持体の厚さに対し1/50〜１
の範囲の比率であるのが好ましい。保護膜側（蛍
光体層を含む）が面取りされる場合も同様に、蛍
光体層の厚さに対し1/50〜１の範囲の比率である
のが好ましい。また、支持体側の端縁のエツジと
このエツジに対向する保護膜側の端縁のエツジの
両方が面取りされる場合においては、新たな角が
形成されないように、支持体側および保護膜側の
うちの少なくとも一方の面取りの範囲が比率で１
未満であるのが望ましい。 次に、上記のように面取りされた放射線像変換
パネルの端面にポリマー被膜からなる縁貼りを形
成する。 縁貼り材料としては、ポリマー被膜材料として
一般に知られているものを使用することができる
が、例えば本出願人による特願昭56−168141号明
細書に記載されているように、次のようなポリウ
レタン、アクリル系樹脂が挙げられる。 ポリウレタンとしては、分子鎖中にウレタン基
（NH−COO）を有するポリマーが好ましく、４，
4′−ジフエニルメタンジイソシアネートと２，
2′−ジエチル−１，３−プロパンジオールとの重
付加反応生成物、ヘキサメチレンジイソシアネー
トと２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロ
バンジオールとの重付加反応生成物、４，4′−ジ
フエニルメタンジイソシアネートとビスフエノー
ルＡとの重付加反応生成物、およびヘキサメチレ
ンジイソシアネートとレゾルシノールとの重付加
反応生成物などが挙げられる。 アクリル系樹脂としては、アクリル酸、アクリ
ル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチ
ル、メチルアクリル酸、メチルメタアクリル酸な
どのホモポリマーまたはコポリマー（たとえば、
アクリル酸・スチレンコポリマー、アクリル酸・
メチルメタクリレートコポリマー）が挙げられ
る。縁貼り材料として特に好ましいものはメチル
メタアクリル酸のホモポリマーであるポリメチル
メタクリレートである。なお、アクリル系樹脂と
して重合度が10⁴〜５×10⁵のものを使用するのが
好ましい。 また、上記ポリウレタンあるいはアクリル系樹
脂（特にアクリル系樹脂）と種々のほかのポリマ
ー材料（ブレンド用ポリマー）とを組み合わせた
ものも縁貼り材料として使用することができる。
ブレンド用ポリマーとして最も好ましいものは、
塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマーである。その
ような例としては、塩化ビニルの含有率が70〜90
％、重合度が400〜800の塩化ビニル・酢酸ビニル
コポリマーを用いたアクリル系樹脂と塩化ビニ
ル・酢酸ビニルコポリマーとの混合物（混合比が
１：１〜４：１（重量比）である）が挙げられる 次に本発明の実施例および比較例を記載する。
ただし、これらの各例は本発明を制限するもので
はない。 ［実施例 １］ 輝尽性のユーロピウム賦活弗化臭化バリウム蛍
光体（BaFBr：Eu）の粒子と線状ポリエステル
樹脂との混合物にメチルエチルケトンを添加し、
さらに硝化度11.5％のニトロセルロースを添加し
て蛍光体粒子を分散状態で含有する分散液を調製
した。次に、この分散液に燐酸トリクレジル、ｎ
−ブタノール、そしてメチルエチルケトンを添加
したのち、プロペラミキサーを用いて充分に撹拌
混合して、蛍光体粒子が均一に分散し、かつ粘度
が25〜35PS（25℃）の塗布液を調製した。 次に、ガラス板上に水平に置いた発泡ポリエチ
レンフイルム（支持体、表面硬度：８Kg／mm²、厚
み：250μm）の上に塗布液をドクターブレードを
用いて均一に塗布した。そして塗布後に、塗膜が
形成された支持体を乾燥器内に入れ、この乾燥器
の内部の温度を25℃から100℃に徐々に上昇させ
て、塗膜の乾燥を行なつた。このようにして、支
持体上に層厚が300μmの蛍光体層を形成した。次
いで、この蛍光体層の上にポリエチレンテフタレ
ートの透明フイルム（表面硬度：22Kg／mm²、厚
み：12μm、ポリエステル系接着剤が付与されて
いるもの）を接着剤層側を下に向けて置いて接着
することにより、透明保護膜を形成した。 このようにして順に、支持体、蛍光体層、およ
び透明保護膜から構成された放射線像変換パネル
を製造した。 ［比較例 １］ 支持体として発泡ポリエチレンフイルムの代り
に、同じ厚さのポリエチレンテレフタレートフイ
ルム（表面硬度：22Kg／mm²）を用いること以外
は、実施例１の方法と同様な処理を行なうことに
より、順に支持体、蛍光体層、および透明保護膜
から構成された放射線像変換パネルを製造した。 上記のようにして製造した各放射線像変換パネ
ルを以下に記載する擦り傷試験により評価した。 まず、放射線像変換パネルを25.2cm×30.3cmの
長方形に切断して擦り傷試験用試料とした。次
に、放射線像変換パネルの保護膜に使用されてい
る材料と同一の材料（本実施例においては、ポリ
エチレンテレフタレートフイルム）からなる基材
シートの上に、試料の支持体を下側にして置き、
この試料を10cmの幅で1000回擦つたのち、基材シ
ートの表面を目視により判定した。すなわち、こ
の試験では、基材シートのポリエチレンテレフタ
レートフイルムは、放射線像変換パネルの保護膜
のモデルとも想定されることから、このような評
価方法を採用した。 その結果を次のような三段階で表示した。 Ａ：擦り傷は殆ど生じていない Ｂ：擦り傷が多少は生じているが実用上問題の
ない程度である Ｃ：擦り傷が非常に多い 各放射線像変換パネルについて得られた結果を
第３表に示す。

【表】 ［実施例 ２］ 支持体としてポリエチレンテレフタレートフイ
ルム（厚み：250μm）を用いること以外は、実施
例１の方法と同様な処理を行なうことにより、順
に支持体、蛍光体層、および透明保護膜から構成
された放射線像変換パネルを製造した。 次に、支持体の蛍光体層とは反対側の表面に、
ポリプロピレンフイルム（プラスチツクフイルム
層、表面硬度：10Kg／mm²、厚み：25μm）を接着
剤を用いて接着することにより、プラスチツクフ
イルム層を形成した。 このようにして順に、プラスチツクフイルム
層、支持体、蛍光体層、および透明保護膜から構
成された放射線像変換パネルを製造した。 上記のようにして製造し放射線像変換パネル
を、前記の擦り傷試験により評価した。得られた
結果を第４表に示す。なお、比較例１についての
結果も併記する。

【表】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 支持体、該支持体上に設けられた輝尽性蛍光
   体を分散状態で含有支持する結合剤からなる蛍光
   体層、および該蛍光体層上に設けられた保護膜か
   ら実質的に構成されている放射線像変換パネルに
   おいて、上記支持体の表面硬度が、上記保護膜の
   表面硬度よりも低い値であることを特徴とする放
   射線像変換パネル。 ２ 上記支持体が、プラスチツクフイルムからな
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   放射線像変換パネル。 ３ 上記保護膜が、ポリエチレンテレフタレート
   フイルムからなることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項もしくは第２項記載の放射線像変換パネ
   ル。 ４ 上記放射線像変換パネルが、上記支持体側の
   端縁のエツジの少なくとも一部が面取りされ、か
   つ、この面取りされたエツジを含む該パネルの端
   面がポリマー被膜によつて被覆されていることを
   特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第３項のい
   ずれかの項記載の放射線像変換パネル。 ５ 支持体、該支持体上に設けられた輝尽性蛍光
   体を分散状態で含有支持する結合剤からなる蛍光
   体層、および該蛍光体層上に設けられた保護膜か
   ら実質的に構成されている放射線像変換パネルに
   おいて、上記支持体の、蛍光体層が設けられてい
   る側と反対側の表面にプラスチツクフイルム層が
   付設されており、該プラスチツクフイルム層の表
   面硬度が、上記保護膜の表面硬度よりも低い値で
   あることを特徴とする放射線像変換パネル。 ６ 上記保護膜が、ポリエチレンテレフタレート
   フイルムからなることを特徴とする特許請求の範
   囲第５項記載の放射線像変換パネル。 ７ 上記放射線像変換パネルが、上記支持体側の
   端縁のエツジの少なくとも一部が面取りされ、か
   つ、この面取りされたエツジを含む該パネルの端
   面がポリマー被膜によつて被覆されていることを
   特徴とする特許請求の範囲第５項もしくは第６項
   記載の放射線像変換パネル。