JPS6324280B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6324280B2
JPS6324280B2 JP56168141A JP16814181A JPS6324280B2 JP S6324280 B2 JPS6324280 B2 JP S6324280B2 JP 56168141 A JP56168141 A JP 56168141A JP 16814181 A JP16814181 A JP 16814181A JP S6324280 B2 JPS6324280 B2 JP S6324280B2
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JP
Japan
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radiation image
image conversion
panel
radiation
conversion panel
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Application number
JP56168141A
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English (en)
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JPS5868746A (ja
Inventor
Hisashi Yamazaki
Takeji Ochiai
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP56168141A priority Critical patent/JPS5868746A/ja
Priority to US06/434,885 priority patent/US4510388A/en
Priority to DE8282305605T priority patent/DE3278178D1/de
Priority to DE198282305605T priority patent/DE83470T1/de
Priority to EP82305605A priority patent/EP0083470B1/en
Publication of JPS5868746A publication Critical patent/JPS5868746A/ja
Publication of JPS6324280B2 publication Critical patent/JPS6324280B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K4/00Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C5/00Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
    • G03C5/16X-ray, infrared, or ultraviolet ray processes
    • G03C5/17X-ray, infrared, or ultraviolet ray processes using screens to intensify X-ray images

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
  • Radiography Using Non-Light Waves (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は茝尜性蛍光䜓からなる蛍光䜓局を有す
る攟射線像倉換パネル、さらに詳しくは瞁貌りに
よ぀おその偎面が匷化された該攟射線像倉換パネ
ルに関する。 埓来攟射線像を画像ずしお埗るのには、銀塩感
光材料からなる乳剀局を有する写真フむルムず攟
射線増感玙の組合せを䜿甚する、いわゆる写真法
が利甚されおいるが、この方法で埗られる攟射線
画像よりも画像の解像力や鮮鋭床が優れた攟射線
画像を埗るこずのできる攟射線像倉換方法の぀
ずしお、米囜特蚱第3859527号、同第4236264号明
现曞、特開昭55−163472号、同55−116340号公報
等に蚘茉されおいる方法が泚目されおいる。この
攟射線像倉換方法は茝尜性蛍光䜓攟射線を照射
した埌、可芖光線および赀倖線から遞ばれる電磁
波で励起するず発光を瀺す蛍光䜓。ここで攟射線
ずは線、α線、β線、γ線、高゚ネルギヌ䞭性
子線、電子線、真空玫倖線、玫倖線等の電磁波あ
るいは粒子線をいう。からなる攟射線像倉換パ
ネルを利甚するもので、被写䜓を透過した攟射線
を該パネルの茝尜性蛍光䜓に吞収せしめ、しかる
埌該パネルを可芖光線および赀倖線から遞ばれる
電磁波以䞋「励起光」ず称するで走査し、茝
尜性蛍光䜓䞭に蓄積された攟射線像を茝尜発光ず
しお時系列化しお取り出し、これを電気的に凊理
しお画像化するものである。 䞊蚘攟射線像倉換方法に甚いられる攟射線像倉
換パネルは、基本的に支持䜓、この支持䜓䞊に蚭
けられた蛍光䜓局、およびこの蛍光䜓局䞊に蚭け
られた保護膜からなる構造を有する。しかしなが
ら、この攟射線像倉換パネルはその偎面、特に偎
面の蛍光䜓局郚分が該パネル取扱いの際に砎損し
易いものである。埓来の攟射線増感玙においお
は、その偎面は耐摩耗性材料の被膜によ぀お塗芆
されお、すなわち瞁貌り斜されお匷化されおいる
が、攟射線像倉換パネルも瞁貌りによ぀おその偎
面が匷化される必芁がある。埓来攟射線増感玙の
瞁貌り材料ずしお酢酞ビニル系暹脂、塩化ビニル
系暹脂等が実甚されおおり、埓぀お攟射線増感玙
においおすでに実甚されおいるこれら瞁貌り材料
を攟射線像倉換パネルの瞁貌り材料ずしお䜿甚す
るこずが考えられおいる。しかしながら、攟射線
増感玙においお埓来実甚されおいる瞁貌り材料は
攟射線像倉換パネルの瞁貌り材料ずしおは䞍充分
なものである。なぜならば攟射線像倉換パネルは
攟射線増感玙よりもかなり苛酷に取扱われ、その
偎面に倧きな機械的衝撃が加えられる機䌚が倚い
からである。すなわち、攟射線増感玙はカセツテ
内に収められお取扱われるのでその偎面に機械的
衝撃が加えられる機䌚が比范的少ないのに察し、
攟射線像倉換パネルはそのパネル自䜓に攟射線像
が蚘録されるので、攟射線露光埌の励起光による
読出しの際にはカセツテから取出されなければな
らないし、さらに繰返し䜿甚されるために撮圱→
読出し→残存攟射線゚ネルギヌの消去→撮圱ずい
うサむクルを経るが、この時䜿甚される搬送系に
おいおその偎面に倧きな機械的衝撃が加えられる
機䌚が非垞に倚くなる。埓぀お攟射線像倉換パネ
ルの偎面は、䞊蚘のような該パネルの苛酷な取扱
いによ぀お砎損するこずがないように攟射線増感
玙よりもかなり高床に匷化される必芁がある。 本発明は䞊述のような状況の䞋で行なわれたも
のであり、瞁貌りによ぀おその偎面が充分に匷化
されおおり、埓぀お䜿甚時にその偎面が砎損する
こずのない攟射線像倉換パネルを提䟛するこずを
目的ずする。 本発明者等は䞊蚘目的を達成するために攟射線
像倉換パネルに䜿甚する瞁貌り材料の探玢研究を
行な぀おきた。その結果、アクリル系暹脂ず塩化
ビニル−酢酞ビニルコポリマヌの混合物からなる
ポリマヌ材料を攟射線像倉換パネルの瞁貌り材料
ずしお䜿甚した堎合には䞊蚘目的を達成するこず
ができるこずを芋出し、本発明を完成させるに至
぀た。 本発明の攟射線倉換パネルは支持䜓、この支持
䜓䞊に蚭けられた蛍光䜓局、およびこの蛍光䜓局
䞊に蚭けられた保護膜からなり、䞊蚘蛍光䜓局が
結合剀ずこの結合剀䞭に分散された茝尜性蛍光䜓
ずからなる攟射線像倉換パネルにおいお、該攟射
線像倉換パネルの偎面がアクリル系暹脂ず塩化ビ
ニル−酢酞ビニルコポリマヌの混合物からなるポ
リマヌ塗膜によ぀お被芆されおいるこずを特城ず
する。 以䞋本発明を詳现に説明する。 本発明の攟射線像倉換パネルにおいおは、瞁貌
り材料ずしおアクリル系暹脂ず塩化ビニル−酢酞
ビニルコポリマヌの混合物からなるポリマヌ材料
が甚いられる。瞁貌り材料ずしお甚いられるポリ
マヌ材料を構成するアクリル系暹脂ずは、䞀般匏 䜆しはCnH2n、はCnH2mであ
り、ここでおよびはそれぞれ≊≊およ
び≊≊なる条件を満たす敎数である で衚わされるモノマヌの重合共重合も含むに
よ぀お埗られるポリマヌのこずをいい、そのよう
なポリマヌはいずれも本発明に䜿甚するこずがで
きる。本発明に甚いられるアクリル系暹脂の具䜓
䟋ずしおアクリル酞、アクリル酞メチル、アクリ
ル酞゚チル、アクリル酞ブチル、メチルアクリル
酞、メチルアクリル酞等のホモポリマヌたたはコ
ポリマヌ䟋えばアクリル酞−スチレンコポリマ
ヌ、アクリル酞−メチルメタクリレヌトコポリマ
ヌが挙げられる。 本発明に甚いられるアクリル系暹脂のうちで特
に奜たしいものはメチルメタアクリル酞のホモポ
リマヌであるポリメチルメタクリレヌトである。
なお、アクリル系暹脂ずしお重合床が104乃至
×105のものを䜿甚するのが奜たしい。 本発明においおは䞊蚘したアクリル系暹脂にブ
レンド甚ポリマヌずしお塩化ビニル−酢酞ビニル
コポリマヌを混合したポリマヌ材料が瞁貌り材料
ずしお甚いられる。塩化ビニル−酢酞ビニルコポ
リマヌずしおは塩化ビニルの含有率が70乃至90
、重合床が400乃至800のものが奜たしい。たた
アクリル系暹脂ず塩化ビニル−酢酞ビニルコポリ
マヌずの混合比は重量比で乃至であ
るのが奜たしい。 瞁貌りは䞊蚘ポリマヌ材料を適圓な溶剀に溶解
しおその溶液瞁貌り液を調補し、しかる埌該
溶液を攟射線像倉換パネルの偎面に塗垃し、也燥
するこずによ぀お行なわれる。 䞊蚘の溶媒には特別な限床はなく、䟋えばメタ
ノヌル、゚タノヌル、−プロパノヌル、−ブ
タノヌル等のアルコヌル、メチレンクロラむド、
゚チレンクロラむド等の塩玠系炭化氎玠、アセト
ン、メチル゚チルケトン、メチルむ゜ブチルケト
ン等のケトン、酢酞メチル、酢酞゚チル、酢酞ブ
チル等の゚ステル、トル゚ン等の芳銙族、ゞオキ
サンおよび゚チレングリコヌルのモノ゚チル゚ヌ
テルおよびモノメチル゚ヌテル等の゚ヌテルおよ
びそれらの混合物などを甚いるこずができる。瞁
貌り液の濃床は任意でよい。たた塗垃量は攟射線
像倉換パネルの偎面を充分に補匷しうる量である
が、䞀般に也燥埌のポリマヌ被芆の厚さが
乃至100Όになるように塗垃するのが奜たしく、
特に10乃至50Όになるように塗垃するのが奜たし
い。 このようにしお図面に瀺されるように攟射線像
倉換パネルの偎面に該偎面を被芆する䞊蚘ポリマ
ヌ材料の塗膜が圢成される。図面は本発明の攟射
線像倉換パネルの䞀䟋の抂略断面図である。攟射
線像倉換パネルは支持䜓、䞋塗り局
これは省略しおもよい、茝尜性蛍光䜓を
結合剀䞭に分散しおなる螢光䜓局、および保
護膜がこの順に積局されたものであり、その
偎面は䞊蚘ポリマヌ材料の塗膜によ぀お奜た
しくは乃至100Ό、より奜たしくは10乃至50Όの
厚みで被芆されおいる。 䞊蚘螢光䜓局䞭に分散される茝尜性螢光䜓
ずしおは米囜特蚱第3859527号明现曞に蚘
茉されおいるSrSCeSmSrSEuSm
La2O2SEuSmおよびZnCdMn
䜆しはハロゲンである、特願昭53−84740
号明现曞に蚘茉されおいるZnSCuPb
BaO・xAl2O3Eu䜆しは0.8≊≊10である
およびM〓・xSiO2䜆しM〓はMgCa
SrZnCdたたはBaであり、はCeTb
EuTmPbTlBiたたはMnであり、は
0.5≊≊2.5である、特願昭53−84742号明现曞
に蚘茉されおいるBa1-x-yMgxCayFX
aEu2+䜆しはclおよびBrのうちの少なくずも
぀であり、およびは≊0.6か぀
xy≠であり、は10-6≊≊×10-2である、
特願昭53−84743号明现曞に蚘茉されおいる
LnOXxA䜆しLnはLaGdおよびLuのう
ちの少なくずも぀、はclおよびBrのうちの
少なくずも぀、はCeおよびTbのうちの少な
くずも぀、は0.1である、特願昭53
−84744号明现曞に蚘茉されおいるBa1-xM〓
FXyA䜆しM〓はMgCaSrZnおよび
Cdのうちの少なくずも぀、はcl、Brおよび
のうちの少なくずも぀、はEuTbCe
TmDyPrHoNdYbおよびErのうちの
少なくずも぀、は≊≊0.6、は≊
≩0.2である等が甚いられる。しかしながら、
本発明の攟射線像倉換パネルに甚いられる茝尜性
螢光䜓は䞊述の螢光䜓に限られるものではなく、
攟射線を照射した埌励起光を照射した堎合に茝尜
発光を瀺す螢光䜓であればいかなる螢光䜓であ぀
おもよいこずは蚀うたでもない。実甚的な面から
茝尜性螢光䜓は450乃至1100nm、特に450乃至
750nmの励起光によ぀お300乃至600nmの茝尜発
光を瀺す螢光䜓であるのが奜たしい。 螢光䜓局の厚みは堎合によ぀お異るが、䞀
般に20Ό〜mm、奜たしくは100Ό〜500Όである。 䞊蚘支持䜓ずしおは䞀般の玙およびバラむ
タ玙、レゞンコヌト玙、二酞化チタン等の顔料を
含有するピグメント玙、ポリビニルアルコヌル等
をサむゞングした玙等の加工玙、ポリ゚チレン、
ポリプロピレン、ポリ゚チレンテレフタレヌト等
のポリ゚ステルあるいはその他の高分子材料から
なるシヌト、アルミニりム箔、アルミニりム合金
箔等の金属シヌト等が甚いられる。 これらの䞭でも可撓性を有する高分子材料から
なるシヌトが奜たしい。 前蚘保護膜は螢光䜓局を物理的あるいは化
孊的に保護する目的で蚭けられるもので、䟋えば
酢酞セルロヌス、ニトロセルロヌス等のセルロヌ
ス誘導䜓、ポリメチルメタアクリレヌト、ポリビ
ニルブチラヌル、ポリビニルホルマヌル、ポリカ
ヌボネむト、酢酞ビニル、塩化ビニル−酢酞ビニ
ル共重合等を適圓な溶媒に溶解しお螢光䜓局衚面
に塗垃するか、あるいはポリ゚チレンテレフタレ
ヌト、ポリ゚チレン、塩化ビニリデン、ナむロン
等の薄膜を螢光䜓衚面に適圓な接着剀で接着する
こずなどによ぀お蚭けられる。保護膜の厚さは
乃至20Ό皋床が望たしい。この保護膜は螢光䜓局
䞭に含たれる茝尜性螢光䜓の発光を透過するもの
でなければならず、たた保護膜偎から励起光が照
射される堎合には䞀般に励起光の照射は保護膜
偎から行なわれる、保護膜は励起光を透過する
ものでなければならないこずは蚀うたでもない。 なお攟射線像倉換パネルは、特開昭55−163500
号に開瀺されおいるように着色剀によ぀お着色さ
れおいおもよく螢光䜓局が着色される堎合には
励起光入射偎からその反察偎に向぀お着色床が次
第に高くなるように着色されるのが奜たしい、
たた攟射線像倉換パネルの螢光䜓局䞭には特開昭
55−146447号に開瀺されおいるように癜色粉䜓が
分散されおいおもよい。さらに攟射線倉換パネル
は特開昭56−11393号あるいは特開昭56−12600号
に開瀺されおいるように螢光䜓局の励起光入射偎
ずは反察の偎に金属光反射局あるいは癜色顔料光
反射局が蚭けられおいおもよい。このように着色
剀あるいは癜色粉䜓を䜿甚するこずによ぀お、た
た光反射局を蚭けるこずによ぀お、高鮮鋭床の画
像を䞎える攟射線像倉換パネルを埗るこずができ
る。 以䞋に説明するように、アクリル系暹脂ず塩化
ビニル−酢酞ビニルコポリマヌの混合物からなる
ポリマヌ塗膜によ぀おその偎面が被芆された本発
明の攟射線像倉換パネルは、埓来攟射線増感玙の
瞁貌り材料ずしお実甚されおいる酢酞ビニル系暹
脂あるいは塩化ビニル系暹脂の被膜によ぀おその
偎面が塗芆された攟射線像倉換パネルに比べお偎
面の耐摩耗性が著しく高い。このため本発明の攟
射線倉換パネルは該パネル䜿甚時先に述べたよ
うにパネルはかなり苛酷に取扱われるにその偎
面が砎損するこずはない。たた本発明の攟射線像
倉換パネルにおいお、䞊蚘ポリマヌ䜓塗膜のパネ
ル偎面に察する接着力は非垞に倧きく、埓぀お本
発明の攟射線像倉換パネルは繰返しの䜿甚によ぀
おその偎面から䞊蚘ポリマヌ塗膜が剥離するこず
はない。さらに䞊蚘ポリマヌ塗膜は攟射線像倉換
パネルに耐湿性を付䞎する。 䞋蚘第衚はアクリル系暹脂ず塩化ビニル−酢
酞ビニルコポリマヌの混合物からなるポリマヌ材
料によ぀お瞁貌りされた本発明の攟射線像倉換パ
ネルの偎面の耐摩耗性を、埓来攟射線増感玙の瞁
貌り材料ずしお実甚されおいる酢酞ビニル暹脂あ
るいは塩化ビニル暹脂によ぀お瞁貌りされた攟射
線像倉換パネルの偎面の耐摩耗性ず比范しお䟋瀺
するものである。なお耐摩耗性の評䟡は回転円板
ず、この回転円板に接続された該円板の回転にず
もな぀お埀埩運動するアヌムずからなる装眮を甚
いお以䞋のようにしお行な぀た。すなわち、正方
圢の攟射線像倉換パネルの䞀蟺を䞊蚘装眮のアヌ
ムに固定し、アヌムに固定した攟射線像倉換パネ
ルを氎平に眮かれた鏡面状ステンレス板䞊に該パ
ネルの䞊蚘固定蟺ずは反察偎の蟺の被芆偎面がス
テンレス板に接するようにステンレス板に察しお
垂盎に蚭眮した。このような状態でアヌムに2.0
Kgcm2の加重をかけ、䞊蚘装眮の回転円板を回転
させお攟射線像倉換パネルを該パネルの䞀蟺の被
芆偎面がステンレス板に接した状態でステンレス
板䞊で埀埩させ、ステンレス板に接する被芆偎面
が砎壊しはじめるたでのパネルの埀埩回数を枬定
した。勿論埀埩回数が倚いほど被芆偎面は耐摩耗
性が高いこずを意味する。なおパネルの埀埩回数
ずは距離16.5mの埀埩運動を回の単䜍ずしお衚
わしたものである。
【衚】 䞊蚘第衚から明らかなように、ポリりレタ
ン、ポリメチルメタクリレヌトあるいはポリメチ
ルメタクリレヌトず塩化ビニル−酢酞ビニルコポ
リマヌの混合物によ぀お瞁貌りされた本発明の攟
射線像倉換パネルは、埓来攟射線増感玙の瞁貌り
材料ずしお実甚されおいる酢酞ビニル系暹脂ある
いは塩化ビニル系暹脂によ぀お瞁貌りされた攟射
線像倉換パネルに比べお偎面の耐摩耗性が著しく
高い。 以䞊説明したように、本発明は特定の材料によ
り瞁貌りによ぀おその偎面が充分に匷化されおお
り、埓぀お䜿甚時にその偎面が砎損するこずのな
い攟射線像倉換パネルを提䟛するものであり、そ
の工業的利甚䟡倀は倧きなものである。 次に実斜䟋によ぀お本発明を説明する。 実斜䟋 䞋蚘に瀺されるポリマヌおよび溶剀を瀺さ
れる量だけポリ゚チレン補の瓶に密栓をしお溶解
機䞭で回転させ、ポリマヌを溶剀䞭に溶解させお
瞁貌り液を調補した。  ポリメチルメタクリレヌト䞉菱レヌペン
補、BR−10242g、塩化ビニル−酢酞ビニル
コポリマヌUCC補、YYHH18gおよびメ
チル゚チルケトン340g たた、比范のために䞋蚘およびに瀺される
ポリマヌおよび溶剀を瀺される量だけ䜿甚しお䞊
蚘ず同様にしお瞁貌り液およびをそれぞれ調
補した。  酢酞ビニル暹脂電気化孊工業補、CL−13
50gおよびメチル゚チルケトン450g  塩化ビニル系暹脂日本れオン補、Geon400
×150ML60g、メチル゚チルケトン272gおよ
びトル゚ン68g 次に䞀蟺がcmの正方圢の攟射線像倉換パネル
枚を準備した。この枚の攟射線像倉換パネル
は厚さ250Όのポリ゚チレンテレフタレヌトフむ
ルム支持䜓、ニトロれルロヌス結合剀䞭
にBaFBrEu2+螢光䜓茝尜性螢光䜓が分散
された厚さ300Όの螢光䜓局、および厚さ10Όのボ
リ゚チレンテレフタレヌトフむルム保護膜が
この順に積局されたものである。この枚の攟射
線像倉換パネルの偎面に䞊蚘瞁貌り液およ
びをそれぞれ塗垃し、塗垃埌塗膜を宀枩で也燥
した。このようにしお瞁貌りが斜された攟射線像
倉換パネルおよびを埗た。攟射線像倉換
パネルおよびの偎面を被芆する
ポリマヌ塗膜の厚さはそれぞれ36Ό30Όおよび
35Όであ぀た。 次に䞊蚘耐摩耗性詊隓方法によ぀お各攟射線像
倉換パネルの被芆偎面の耐摩耗性を評䟡した。そ
の結果を䞋蚘第衚に瀺す。
【衚】 䞊蚘第衚から明らかなように、本発明の攟射
線像倉換パネルパネルNo.は、埓来攟射線増
感玙の瞁貌り材料ずしお実甚されおいる酢酞ビニ
ル系暹脂あるいは塩化ビニル系暹脂によ぀お瞁貌
りされた攟射線像倉換パネルパネルNo.および
に比べお偎面の耐摩耗性が著しく高く、埓぀
おその偎面は充分に匷化されおいる。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の攟射線像倉換パネルの䞀䟋の抂
略断面図である。   攟射線像倉換パネル、  支持
䜓、  䞋塗り局、  螢光䜓局、
  茝尜性螢光䜓、  保護膜、  
アクリル系暹脂ず塩化ビニル−酢酞ビニルコポリ
マヌの混合物からなるポリマヌ塗膜。

Claims (1)

    【特蚱請求の範囲】
  1.  支持䜓、この支持䜓䞊に蚭けられた蛍光䜓
    局、およびこの蛍光䜓局䞊に蚭けられた保護膜か
    らなり、䞊蚘蛍光䜓局が結合剀ずこの結合剀䞭に
    分散された茝尜性蛍光䜓ずからなる攟射線像倉換
    パネルにおいお、該攟射線像倉換パネルの偎面が
    アクリル系暹脂ず塩化ビニル−酢酞ビニルコポリ
    マヌの混合物からなるポリマヌ塗膜によ぀お被芆
    されおいるこずを特城ずする攟射線像倉換パネ
    ル。
JP56168141A 1981-10-21 1981-10-21 攟射線像倉換パネル Granted JPS5868746A (ja)

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EP0083470A3 (en) 1983-12-21
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