JPH0444718B2 - - Google Patents

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JPH0444718B2
JPH0444718B2 JP57186674A JP18667482A JPH0444718B2 JP H0444718 B2 JPH0444718 B2 JP H0444718B2 JP 57186674 A JP57186674 A JP 57186674A JP 18667482 A JP18667482 A JP 18667482A JP H0444718 B2 JPH0444718 B2 JP H0444718B2
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JP
Japan
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support
panel
radiation image
layer
phosphor
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JP57186674A
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English (en)
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JPS5977400A (ja
Inventor
Masanori Teraoka
Terumi Matsuda
Hisashi Yamazaki
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Priority to DE8383110652T priority patent/DE3377245D1/de
Priority to CA000439611A priority patent/CA1246399A/en
Priority to EP83110652A priority patent/EP0107207B1/en
Priority to US06/545,163 priority patent/US4572955A/en
Publication of JPS5977400A publication Critical patent/JPS5977400A/ja
Priority to JP41069690A priority patent/JPH0631920B2/ja
Publication of JPH0444718B2 publication Critical patent/JPH0444718B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K4/00Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C5/00Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
    • G03C5/16X-ray, infrared, or ultraviolet ray processes

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、放射線像変換パネルに関するもので
ある。さらに詳しくは、本発明は、防傷性が改良
された放射線像変換パネルに関するものである。 従来において、放射線像を画像として得る方法
としては、銀塩感光材料からなる乳剤層を有する
放射線写真フイルムと増感紙(増感スクリーン)
とを組合わせた、いわゆる放射線写真法が利用さ
れている。上記従来の放射線写真法にかわる方法
の一つとして、たとえば、米国特許第3859527号
明細書および特開昭55−12145号公報等に記載さ
れているように、輝尽性蛍光体を用いた放射線像
変換方法が知られている。この放射線像変換方法
は、輝尽性蛍光体を有する放射線像変換パネル
(蓄積性蛍光体シート)を利用するもので、被写
体を透過した放射線エネルギーあるいは被検体か
ら発せられた放射線エネルギーを上記パネルの輝
尽性蛍光体に吸収させ、そののちに輝尽性蛍光体
を可視光線および赤外線から選ばれる電磁波(以
下「励起光」と称する)で時系列的に励起するこ
とにより、輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射
線エネルギーを蛍光(輝尽発光)として放出さ
せ、この蛍光を光電的に読取つて電気信号を得、
得られた電気信号を画像化するものである。 この方法で使用される放射線像変換パネル自体
は、放射線による照射、および励起光の照射によ
つても殆ど変質することがないため、長期間にわ
たつて繰り返し使用することができる。ただし、
実際の使用においては励起光の走査だけではパネ
ルに蓄積していた放射線エネルギーが充分に放出
し尽されないので、残存する放射線エネルギーを
消却するために走査後に(次に使用する前に)、
用いる蛍光体の輝尽発光の励起波長領域の光また
は熱をパネルに加えることが行なわれる。 上述の放射線像変換方法によれば、従来の放射
線写真法を利用した場合に比較して、はるかに少
ない被曝線量で情報量の豊富なX線画像を得るこ
とができるとの利点がある。従つて、この放射線
像変換方法は、特に医療診断を目的とするX線撮
影等の直接医療用放射線撮影において利用価値の
非常に高いものである。 上記の放射線像変換方法に用いる放射線像変換
パネルは、基本構造として、支持体と、その片面
に設けられた蛍光体層とからなるものである。な
お、この蛍光体層の支持体とは反対側の表面(支
持体に面していない側の表面)には一般に、透明
な保護膜が設けられていて、蛍光体層を化学的な
変質あるいは物理的な衝撃から保護している。さ
らに、特願昭56−168141号明細書に記載されてい
るように、機械的強度を向上させるためにパネル
の端面がポリマー被膜により被覆され、縁貼りが
なされる場合がある。 上述のように放射線像変換パネルは、残存エネ
ルギーの消去・放射線の照射・励起光の走査(読
み出し)という順からなるサイクルで繰り返し使
用されるが、各ステツプへの放射線像変換パネル
の移動は搬送系により行なわれる。放射線像変換
パネルは一サイクル終了した後は通常は積層して
保存される。 従つて、放射線像変換方法において使用するパ
ネルは、従来の放射線写真法においてカセツテ内
に固定して使用する増感紙とは使用状況が全く異
なるため、そのパネルに対しては、増感紙を用い
た場合には起こりえなかつた種々の問題が発生す
る。 たとえば、放射線像変換パネルにあつてはこの
ような搬送と積層状態との繰返しの使用におい
て、パネルが積層される際もしくは積層状態から
搬送系に移る際に、一枚のパネルの表面(支持体
側表面)と他のパネルの表面(蛍光体層側表面)
との擦れ、およびパネルの端縁と他のパネルの表
面との擦れなどの物理的接触により、パネルの両
表面が損傷を受けるという問題が生じる。特に、
蛍光体層側表面に生じた物理的損傷は、励起光の
散乱などを生じさせる原因となつて、放射線撮影
により得られる情報量の低下および情報の不明瞭
化が発生することになる。すなわち、この情報を
画像化した場合には、得られる画像に画質の著し
い低下が認められる。 従つて、従来の支持体とその上に設けられた蛍
光体層とからなる基本構造を有する放射線像変換
パネルについては、搬送あるいは積層の際にパネ
ル表面、特に蛍光体側表面に生じる損傷を極力防
ぐことが望まれている。 本発明は、上記のような理由から、パネル表面
の防傷性が向上した放射線像変換パネルを提供す
ることを目的とするものである。 上記の目的は、支持体と、この支持体上に設け
られた輝尽性蛍光体を分散状態で含有支持する結
合剤からなる蛍光体層とから実質的に構成されて
いる放射線像変換パネルにおいて、該パネルの支
持体側表面に、摩擦係数が0.6以下の摩擦低減層
が設けられていることを特徴とする本発明の放射
線像変換パネルより達成することができる。 なお、本発明において、支持体側表面とは、支
持体の蛍光体層と接している側とは反対側のパネ
ル表面を意味し、蛍光体層側表面とは、蛍光体層
の支持体と接している側とは反対側のパネル表面
(蛍光体層のその側の表面に保護膜などが設けら
れている場合には、その表面)を意味する。 また、本発明において摩擦係数とは、ある速度
で運動している物体にかかわる運動摩擦の大きさ
を表わす数値、すなわち動摩擦係数を意味し、以
下に述べるような測定方法によつて決定されるも
のである。 ポリエチレンテレフレートシートの上に、放射
線像変換パネルを2cm×2cmの正方形に切断した
試料を、摩擦係数の測定対象表面を下側にして置
き、この試料の上に100gの荷重(試料の荷重も
含める)をかける。次に、この荷重がかけられて
いる試料を、引張り速度4cm/分にて引張り、テ
ンシロン(TUM−11−20;東洋ボールドウイン
社製)を用いて、温度25℃、湿度69%の条件下
で、速度4cm/分の運動状態にある試料の引張力
Fgを測定する。この引張力Fと上記の荷重(100
g)とから、測定対象表面の摩擦係数が、引張
力/荷重の値として決定される。 次に本発明を詳しく説明する。 本発明は、放射線像変換パネルの支持体側表
面、摩擦係数が0.6以下の摩擦低減層を設けるこ
とにより、それらのパネル表面の防傷性を改良し
たものである。この改良により、従来、パネルの
搬送および積層の際にパネル表面とパネル表面と
の擦れなどによつて、パネル表面に生じやすかつ
た損傷を効果的に防止することができる。特に、
パネルが積層される際にパネルの蛍光体層側表面
に生じやすかつた損傷を効果的に防止することが
でき、従つて本発明の放射線像変換パネルを用い
た場合には、摩擦低減層が付設されていないパネ
ルを用いた場合に比較して特に画質が向上した画
像を得ることができる。 以上述べたような好ましい特性を持つた本発明
の放射線像変換パネルは、たとえば、次に述べる
ような方法により製造することができる。 本発明において使用する支持体は、従来の放射
線写真法における増感紙の支持体として用いられ
ている各種の材料から任意に選ぶことができる。
そのような材料の例としては、セルロースアセテ
ート、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、
ポリカーボネートなどのプラスチツク物質のフイ
ルム、アルミニウム箔、アルミニウム合金箔など
の金属シート、通常の紙、バライタ紙、レジンコ
ート紙、二酸化チタンなどの原料を含有するピグ
メント紙、ポリビニルアルコールなどをサイジン
グした紙などを挙げることができる。ただし、の
ちに述べる支持体上への摩擦低減層の形成、放射
線像変換パネルの情報記録材料としての特性およ
び取扱いなどを考慮した場合、本発明において特
に好ましい支持体の材料はプラスチツクフイルム
である。このプラスチツクフイルムにはカーボン
ブラツクなどの光吸収性物質が練り込まれていて
もよく、あるいは二酸化チタンなどの光感謝性物
質が練り込まれていてもよい。前者は高鮮鋭度タ
イプの放射線像変換パネルに適した支持体であ
り、後者は高感度タイプの放射線像変換パネルに
適した支持体である。 公知の放射線像変換パネルにおいて、支持体と
蛍光体層の結合を強化するため、あるいは放射線
像変換パネルとしての感度もしくは画質(鮮鋭
度、粒状性)を向上させるために、蛍光体層が設
けられる側の支持体表面にゼラチンなどの高分子
物質を塗布して接着性付与層としたり、あるいは
二酸化チタンなどの光反射性物質からなる光反射
層、もしくはカーボンブラツクなどの光吸収性物
質からなる光吸収層を設けることも行なわれてい
る。本発明において用いられる支持体について
も、これらの各種の層を設けることができ、それ
らの構成は所望の放射線像変換パネルの目的、用
途などに応じて任意に選択することができる。 さらに、本出願人による特願昭57−82431号明
細書に記載されているように、得られる画像の鮮
鋭度を向上させる目的で、支持体の蛍光体層が設
けられる側の表面(支持体のその側の表面に接着
性付与層、光反射層、あるいは光吸収層などが設
けられている場合には、その表面)に微小の凹凸
が形成されていてもよい。 次に、支持体の表面に蛍光体層を形成する。蛍
光体層は、基本的には輝尽性蛍光体の粒子を分散
状態で含有支持する結合剤からなる層である。 輝尽性蛍光体は、先に述べたように放射線を照
射した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍
光体であるが、実用的な面からは波長が450〜
800nmの範囲にある励起光によつて輝尽発光を示
す蛍光体であることが望ましい。本発明の放射線
像変換パネルに用いられる輝尽性蛍光体の例とし
ては、 米国特許第3859527号明細書に記載されている
SrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、ThO2:Er、お
よびLa2O2S:Eu,Sm、 特開昭55−12142号公報に記載されている
ZnS:Cu,Pb、BaO・xAl2O3:Eu(ただし、0.8
≦x≦10)、および、M〓O・XSiO2:A(ただし、
M〓はMg、Ca、Sr、Zn、Cd、またはBaであり、
AはCe、Tb、Eu、Tm、Pb、Tl、Bi、または
Mnであり、xは、0.5≦x≦2.5である)、 特開昭55−12143号公報に記載されている
(Ba1-x−y、Mgx、Cay)FX:aEu2+(ただし、
XはClおよびBrのうちの少なくとも一つであり、
xおよびyは、0<x+y≦0.6、かつxy≠0で
あり、aは、10-6≦a≦5×10-2である)、 特開昭55−12144号公報に記載されている
LnOX:xA(ただし、LnはLa、Y、Gd、および
Luのうちの少なくとも一つ、XはClおよびBrの
うちの少なくとも一つ、AはCeおよびTbのうち
の少なくとも一つ、そしてxは、0<x<0.1で
ある)、 特開昭55−12145号公報に記載されている
(Ba1-x、M2+x)FX:yA(ただし、M2+はMg、
Ca、Sr、Zn、およびCdのうちの少なくとも一
つ、XはCl、Br、およびIのうちの少なくとも
一つ、AはEu、Tb、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、
Nd、Yb、およびErのうちの少なくとも一つ、そ
してxは0≦x≦0.6、yは0≦y≦0.2である)、 などを挙げることができる。 ただし、本発明に用いられる輝尽性蛍光体は上
述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を照
射したのちに励起光を照射した場合に、輝尽発光
を示す蛍光体であればいかなるものであつてもよ
い。 また蛍光体層の結合剤の例としては、ゼラチン
等の蛋白質、デキストラン等のポリサツカライ
ド、またはアラビアゴムのような天然高分子物
質;および、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビ
ニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩
化ビニリデン・塩化ニビルコポリマー、ポリメチ
ルメタクレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリ
マー、ポリウレタン、セルロースアセテートブチ
レート、ポリビニルアルコール、線状ポリエステ
ルなどような合成高分子物質などにより代表され
る結合剤を挙げることができる。このような結合
剤のなかで特に好ましいものは、ニトロセルロー
ス、線状ポリエステル、およびニトロセルロース
と線状ポリエステルとの混合物である。 蛍光体層は、たとえば、次のような方法により
支持体上に形成することができる。 まず上記の輝尽性蛍光体粒子と結合剤とを適当
な溶剤に加え、これを充分に混合して、結合剤溶
液中に輝尽性蛍光体粒子が均一に分散した塗布液
を調製する。 塗布液調製用の溶剤の例としては、メタノー
ル、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノ
ールなどの低級アルコール;メチレンクロライ
ド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化
水素;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン;酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アル
コールとのエステル;ジオキサン、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコール
モノメチルエーテルなどのテーテル;そして、そ
れらの混合物を挙げることができる。 塗布液における結合剤と輝尽性蛍光体との混合
比は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍
光体の種類などによつて異なるが、一般には結合
剤と蛍光体との混合比は、1:1ないし1:100
(重量比)の範囲から選ばれ、そして特に1:8
ないし1:40(重量比)の範囲から選ぶことが好
ましい。 なお、塗布液には、上記塗布液中における蛍光
体の分散性を向上させるための分散剤、また、形
成後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体との間
の結合力を向上させるための可塑剤などの種々の
添加剤が混合されていてもよい。そのような目的
に用いられる分散剤の例としては、フタル酸、ス
テアリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤など
を挙げることができる。そして可塑剤の例として
は、燐酸トリフエニル、燐酸トリクレジル、燐酸
ジフエニルなどの燐酸エルテル;フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジメトキシエチルなどのフタル酸エ
ステル;グリコール酸エチルフタリルエチル、グ
リコール酸フチルフタリルブチルなどのグリコー
ル酸エステル;そして、トリエチレングリコール
とアジピン酸とのポリエステル、ジエチレングリ
コールとコハク酸とのポリエステルなどのポリエ
チレングリコールと脂肪族二塩基酸とのポリエス
テルなどを挙げることができる。 上記のようにして調整された蛍光体と結合剤を
含有する塗布液を、次に、支持体の表面に均一に
塗布することにより塗布液の塗膜を形成する。こ
の塗布操作は、通常の塗布手段、たとえばドクタ
ーブレード、ロールコーター、ナイフコーターな
どを用いることにより行なうことができる。 ついで、形成された塗膜を徐々に加熱すること
により乾燥して、支持体上への蛍光体層の形成を
完了する。蛍光体層の層厚は、目的とする放射線
像変換パネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍
光体との混合比などによつて異なるが、通常は
20μmないし1mmとする。ただし、この層厚は、
50ないし500μmとするのが好ましい。 なお、蛍光体層は、必ずしも上記のように支持
体上に塗布液を直接塗布して形成する必要はな
く、たとえば、別に、ガラス板、金属板、プラス
チツクシートなどのシート上に塗布液を塗布し乾
燥することにより蛍光体層を形成した後、これ
を、支持体上に押圧するか、あるいは接着剤を用
いるなどして支持体と蛍光体層とを接合してもよ
い。 通常の放射線像変換パネルにおいては、支持体
に接する側とは反対側の蛍光体層の表面に、蛍光
体層を物理的および化学的に保護するための透明
な保護膜が設けられている。このような透明保護
膜は、本発明の放射線像変換パネルについても設
置することが好ましい。 透明保護膜は、たとえば、酢酸セルロース、ニ
トロセルロースなどのセルロース誘導体;あるい
はポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネー
ト、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコ
ポリマーなどの合成高分子物質のような透明な高
分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を
蛍光体層の表面に塗布する方法により形成するこ
とができる。あるいはポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリア
ミドなどから別に形成した透明な薄膜を蛍光体層
の表面に適当な接着剤を用いて接着するなどの方
法によつても形成することができる。上記のうち
で特に好ましい保護膜材料はポリエチレンテレフ
タレートである。このようにして形成する透明保
護膜の膜厚は、約3ないし20μmとするのが望ま
しい。 次に、支持体とこの上に設けられた蛍光体層
(あるいはさらに保護膜)とから実質的に構成さ
れたパネルの支持体表面の上に、摩擦低減層を形
成する。 本発明の特徴的な要件である摩擦低減層の形成
は、たとえば、摩擦係数が小さい材料からなるシ
ート、あるいは物理的もしくは化学的方法により
表面の摩擦係数を小さくしたシートなどを適当な
接着剤を用いて上記パネルの支持体表面の上に接
着することにより行なわれる。摩擦係数の小さい
材料の代表的な例としては、テフロンフイルムを
挙げることができる。また、物理的もしくは化学
的方法により表面の摩擦係数を小さくした材料の
例としては、粗面化処理を施したポリエチレンテ
レフタレートフイルム、ポリオレフインフイルム
(ポリエチレンフイルム、ポリプロピレンフイル
ム等)などのような粗面化処理を施したプラスチ
ツクフイルムを挙げることができる。ただし、本
発明において摩擦低減層として用いられる材料は
上記の材料に限定されるものではなく、表面の摩
擦係数が小さく、かつ接着などにより上記パネル
上に設けることのできるものであればいかなるも
のであつてもよい。 また、たとえば、摩擦低減層は、支持体および
蛍光体層とからなる上記パネルの支持体の表面に
潤滑剤を塗布することにより形成されてもよい。
本発明において使用することのできる潤滑剤は、
たとえば、公知の各種の潤滑剤から選ぶことがで
きるが、そのような潤滑剤の例としては、シリコ
ンオイル、オレイン酸、ミルスチン酸、ステアリ
ン酸などの高級脂肪酸、高級脂肪酸のエステル、
高級脂肪酸の塩、およびフツ素系界面活性剤など
を挙げることができる。 このほかに、摩擦低減層は上記パネルの支持体
表面の上にマツト剤を塗布するなどにより形成す
ることも可能である。 本発明において、摩擦低減層はパネルの支持体
側表面、あるいは支持体側表面と蛍光体層側表面
の両面上に付設される。なお、支持体側表面は光
学的な制約を受けないので、安定した防傷効果が
得られる粗面化したプラスチツクフイルムからな
る摩擦低減層が形成されているのが好ましい。 なお、支持体側表面および/または蛍光体層側
表面への摩擦低減層の形成は、必ずしも上記のよ
うに支持体とこの上に設けられた蛍光体層(ある
いはさらに保護膜)とから実質的に構成されたパ
ネル上に直接行なう必要はなく、支持体、予め別
に形成された蛍光体層、あるいは保護膜のそれぞ
れの表面に上記摩擦低減層を形成した後、これら
を接着剤を用いるなどして接合してもよい。 本発明においては、上記のようにして摩擦低減
層を設け、その摩擦低減層の設けられたパネル表
面の摩擦係数(前述の測定方法により決定される
動摩擦係数)が0.6以下となるようにする。より
好ましくは0.5以下である。 本発明の放射線像変換パネルにおいては、パネ
ルの搬送性を高め、かつ、本発明の目的であるパ
ネルの防傷性を一層高めるために、上記のように
して形成されたパネルの端縁のエツジを面取りし
たのち、この面取りされたエツジを含む該パネル
の端面がポリマー被膜によつて被覆(縁貼り)さ
れているのが好ましい。 放射線像変換パネルの面取りおよび縁貼りは、
本出願人による特願昭57−87799号明細書に記載
されているような方法を用いて行なうことができ
る。 すなわち、パネルの面取りは、搬送性を向上さ
せるためには、パネルの進行方向の支持体側の端
縁のエツジに施されればよいが、パネル表面の損
傷を防止するためには、パネルの支持体側のすべ
ての端縁のエツジが面取りされるのが好ましい。
また、蛍光体層側の端縁のエツジも面取りされる
ことが、パネルの搬送性および防傷性をより一層
向上させるのには好ましい。 本発明において、支持体側の端縁のエツジと
は、前述のように支持体の表面に摩擦低減層が形
成されている場合には、摩擦低減層を含めた支持
体の端縁のエツジを意味する。また、蛍光体層側
の端縁のエツジにおいても、蛍光体層表面(ある
いは保護膜表面)に摩擦低減層が形成されている
場合には同様の意味を有する。また、面取りと
は、面取りされた部分が平面である場合および湾
曲した面である場合の両方を含むものとする。 なお、支持体側の面取りは、パネルの垂直方向
に測定した場合支持体の厚さに対し1/50〜1の
範囲の比率であるので好ましい。蛍光体層側が面
取りされる場合も同様に蛍光体層の厚さに対し
1/50〜1の範囲の比率であるのが好ましい。ま
た、支持体側の端縁のエツジとこのエツジに対向
する蛍光体層側の端縁のエツジの両方が面取りさ
れる場合においては、新たな角が形成されないよ
うに、支持体側および蛍光体層側のうちの少なく
とも一方の面取りの範囲が比率で1未満であるの
が望ましい。 次に、上記のような面取りされた放射線像変換
パネルの端面にポリマー被膜からなる縁貼りを形
成する。 縁貼り材料としては、ポリマー被膜材料として
一般に知られているものを使用することができ
る、たとえば、特願昭56−168141号明細書に記載
されているように、次のようなポリウレタン、ア
クリル系樹脂が挙げられる。 ポリウレタンとしては、分子鎖中にウレタン基
−(NH−COO)−を有するポリマーが好ましく、
4,4′−ジフエニルメタンジイソシアネートと
2,2′−ジエチル−1,3−プロパンジオールと
の重付加反応生成物、ヘキサメチレンジイソシア
ネートと2−n−ブチル−2−エチル−1,3−
プロパンジオールとの重付加反応生成物、4,
4′−ジフエニルメタンジイソシアネートとビスフ
エノールAとの重付加反応生成物、およびヘキサ
メチレンジイソシアネートとレゾルシノルとの重
付加反応生成物などが挙げられる。 アクリル系樹脂としては、アクリル酸、アクリ
ル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリツ酸ブチ
ル、メチルアクリル酸、メチルメタアクリル酸な
どのホモポリマーまたはコポリマー(たとえば、
アクリル酸・スチレンコポリマー、アクリル酸・
メチルメタクレートコポリマー)が挙げられる。
縁貼り材料として特に好ましいものはメチルメタ
アクリル酸のホモポリマーであるポリメリルメタ
クレートである。なお、アクリル系樹脂として重
合度が104〜5×105のものを使用するのが好まし
い。 また、上記ポリウレタンあいるはアクリル系樹
脂(特にアクリル系樹脂)と種々のほかのポリマ
ー材料(ブレンド用ポリマー)とを組み合わせた
ものも縁貼り材料として使用することができる。
ブレンド用ポリマーとして最も好ましいものは、
塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマーである。その
ような例としては、塩化ビニルの含有率が70〜90
%、重合度が400〜800の塩化ビニル・酢酸ビニル
コポリマーを用いたアクリル系樹脂と塩化ビニ
ル・酢酸ビニルコポリマーとの混合物(混合比が
1:1〜4:1(重量比)である)が挙げられる。 次に本発明の実施例および比較例を記載する。
ただし、これらの各例は本発明を制限するもので
はない。 [実施例 1] 輝尽性のユーロピウム賦活弗化臭化ベリウム蛍
光体(BaFBr:Eu)の粒子と線状ポリエステル
樹脂との混合物にメチルエチルケトンを添加し、
さらに硝化度11.5%のニトロセルロースを添加し
て蛍光体粒子を分散状態で含有する分散液を調製
した。次に、この分際液に燐酸トリクレジル、n
−ブタノール、そしてメチルエチルケトンを添加
したのち、プロペラミキサーを用いて充分に攪拌
混合して、蛍光体粒子が均一に分散し、かつ粘度
が25〜35PS(25℃)の塗布液を調製した。 次に、ガラス板上に水平に置いたポリエチレン
テレフタレートフイルム(支持体,厚み:
250μm)の上に塗布液をドクターブレードを用い
て均一に塗布した。そして塗布後に、塗膜が形成
された支持体を乾燥器内に入れ、この乾燥器の内
部の温度を25℃から100℃に徐々に上昇させて、
塗膜の乾燥を行なつた。このようにして、支持板
上に層厚が300μmの蛍光体層を形成した。 次いで、この蛍光体層の上にポリエチレンテレ
フタレートの透明フイルム(厚み:12μm、ポリ
エステル系接着剤が付与されているもの)を接着
剤層側を下に向けて置いて接着することにより、
透明保護膜を形成した。 別に、ポリエチレンテレフタレートフイルム
(厚み:25μm)の片面に、サンドブラスト処理を
行なうことによつて、凹みの平均の深さが2μm、
最大深さが7μm、そして開口部の口径の平均が
20μmの多数の凹みを形成することにより、表面
を粗面化した。上記の支持体の表面に接着剤層を
介して、この粗面化されたポリエチレンテレフタ
レートフイルムを粗面化された側を上に向けて置
いて貼り付けることにより、支持体上に摩擦低減
層を形成した。 このようにして順に、摩擦低減層、支持体、蛍
光体層、および透明保護膜から構成された放射線
像変換パネルを製造した。 [実施例 2] 実施例1で用いた材料と同じものを用い、実施
例1の方法と同様な処理を行なうことにより、支
持体上に蛍光体層および透明保護膜を形成した。 別に、ポリエチレンテレフタレートフイルム
(厚み:25μm)の片面に、サンドブラスト処理を
行なうことによつて、凹みの平均の深さが
0.2μm、最大深さが0.8μm、そして開口部の口径
の平均が0.5μmの多数の凹みを形成することによ
り、表面を粗面化した。上記の支持体の表面に接
着剤層を介して、この粗面化されたポリエチレン
テレフタレートフイルムを粗面化された側を上に
向けて置いて貼り付けることにより、支持体上に
摩擦低減層を形成した。 このようにして順に、摩擦低減層、支持体、蛍
光体層、および透明保護膜から構成された放射線
像変換パネルを製造した。 [比較例 1] 実施例1で用いた材料と同じものを用い、実施
例1の方法と同様な処理を行なうことにより、支
持体上に蛍光体層および透明保護膜を形成した。 このようして順に、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線像変換パネル
(摩擦低減層は付設されていない)を製造した。 上記のようにして製造した各々の放射線像変換
パネルの摩擦低減層表面(比較例1においては支
持体表面および保護膜表面)の摩擦係数を、前述
の方法により測定した。すなわち、ポリエチレン
テレフタレートシートの上に、放射線像変換パネ
ルを2cm×2cmの正方形に切断した試料を摩擦低
減層(あるいは、測定対象のパネル表面)を下側
にして置き、この試料の上に、試料の重量も含め
て100gとなるように荷重をかけた。次に、この
荷重がかけられている試料を、引張り速度4cm/
分にて引張り、テンシロン(UTM−1−20;東
洋ボールドウイン社製)を用いて温度25℃、湿度
60%の条件下で、速度4cm/分の運動状態にある
試料の引張力F(g)を測定した。この引張力F
と上記の荷重(100g)とから、パネルに設けら
れている摩擦低減層(あるいは、測定対象のパネ
ル表面)の摩擦係数を、引張力/荷重の値により
算出した。 次に、上記のようにして製造した各々の放射線
像変換パネルを、以下に記載する擦り傷試験によ
り評価した。 まず、放射線像変換パネルを25.2cm×30.3cmの
長方形に切断して擦り傷試験用試料とした。次
に、 放射線像変換パネルの支持体側表面に使用されて
いる材料と同一の材料(本実施例においては、ポ
リエチレンテレフタレートフイルム)からなる基
材シートの上に、試料の、摩擦低減層の下側にし
て置いた。次に、この試料を10cmの幅で1000回擦
つた。ただし、この擦り傷試験の結果は基材シー
トのポリエチレンテレフタレートフイルムの表面
を目視により判定して行なつた。すなわち、この
試料では、基材シートのポリエチレンテレフタレ
ートフイルムは、放射線像変換パネルの蛍光体層
側表面(保護膜)のモデルとも想定されることか
ら、このような評価方法を採用した。 ただし、比較例1の試料の場合には、試料の保
護膜および支持体を下側にして試験を行ない、上
記と同様にしてそれらの結果を評価した。 その結果を次のような三段階で表示した。 A:擦り傷は殆ど生じていない B:擦り傷が多少は生じているが実用上問題の
ない程度である C:擦り傷が非常に多い 各々の放射線像変換パネルについて得られた結果
を第1表に示す。 【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 支持体と、この支持体上に設けられた輝尽性
    蛍光体を分散状態で含有支持する結合剤からなる
    蛍光体層とから実質的に構成されている放射線像
    変換パネルにおいて、該パネルの支持体側表面
    に、摩擦係数が0.6以下の摩擦低減層が設けられ
    ていることを特徴とする放射線像変換パネル。 2 摩擦低減層が、更に蛍光体層側表面にも設け
    られている請求項第1項記載の放射線像変換パネ
    ル。 3 上記摩擦低減層が、潤滑剤からなる層である
    請求項第1項記載の放射線像変換パネル。 4 上記摩擦低減層が、プラスチツクフイルムか
    らなる層である請求項第1項記載の放射線像変換
    パネル。 5 上記放射線像変換パネルが、上記支持体側の
    端縁のエツジの少なくとも一部が面取りされ、か
    つ、この面取りされたエツジを含む該パネルの端
    面がポリマー被膜によつて被覆されている請求項
    第1項記載の放射線像変換パネル。
JP57186674A 1982-10-26 1982-10-26 放射線像変換パネル Granted JPS5977400A (ja)

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