JPH02500843A - 3‐エキソメチレンセファム誘導体の製造方法 - Google Patents

3‐エキソメチレンセファム誘導体の製造方法

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JPH02500843A JP63506023A JP50602388A JPH02500843A JP H02500843 A JPH02500843 A JP H02500843A JP 63506023 A JP63506023 A JP 63506023A JP 50602388 A JP50602388 A JP 50602388A JP H02500843 A JPH02500843 A JP H02500843A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3−エキソメチレンセファム誘導体の製造方法本発明は3−エキソメチレンおよ び3−エキソハロメチレンセファム誘導体の新規製造法に関する。 これらの3−エキソメチレンセファム化合物(また以下に3−メチレンセファム 化合物として示される)は種々の治療に存用な抗生物質の半合成製造に存用な中 間体である。例えば3−メチレンセファムスルホキシド(また3−メチレン−1 −オキソセファム化合物と称される)は?−ADCAおよびその誘導体、7−A CAおよび他の3−アシルオキシメチルセファロスポリン、並びに3−へテロア リールチオメチルセファロスポリンに転化できる。これらの化合物の若干はその まま薬学的調製物中に使用することができ、他はそれらが治療使用に適する前に さらに転化されねばならない。 3−メチレンセファム化合物の製造にこれまで若干の経路が知られたが、しかし これらの経路はほとんですべて3−メチレンセファムスルフィドの製造に限定さ れる。 米国特許第4,354,022号には、中でも、3−ハロメチル−3−セフェム スルフィドと金属(亜鉛、スズまたは鉄)および一定のアンモニウム塩(ハロゲ ン化アンモニウム、炭酸アンモニウムおよび酢酸アンモニウム)の組合せとの反 応による3−メチレンセファムスルフィドの製法が開示されている。3−ハロメ チル−3−セフェム化合物の中でクロロメチルのみが文献中に例示されているこ とが認められる。 ケミカル・アンド・ファルマシューティカル・ビュレチン(Chew、 Pha r、m、 Bull、)36 (2) 、528〜591 (1988)中に、 相当する3−(5−メチル−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チオメチ ル−3−セフェム化合物を水性酸または無水中性媒質中で亜鉛で還元することに よる7−アミノ−3−メチレンセファム−4−カルボン酸の製造が記載されてい る。 3−メチレンセファムスルフィドの他の公知の製法には3−アセトキシメチル、 3−チオメチルおよび3−カルバモイルオキシセフエトスルフィドの転化が含ま れる。 シンセチック・コミュニケーションズ(Synth、 Comm、) 、16( G)、649〜652 (1986)中には、相当する3−アセトキシメチルセ フェム化合物を活性亜鉛末および塩化アンモニウムで還元することによる3−メ チレン−1−オキソセファム化合物の製造が記載されている。 本発明は今回窩純度の3−メチレンおよび3−ハロメチレンセファム化合物を良 好な収率で製造する新規方法を促供する。 今回意外にも、そのような3−メチレンセファム化合物を相当する3−ホスホニ オメチル−3−セフェム化合物から有利に得ることができることが見出された。 従って本発明の1観点によれば、Aはアミノ基または保護されたアミノ基であり 、Bはカルボキシ基または保護されたカルボキシ基あるいはその塩であり、 Xは水素またはハロゲンであり、 nは0.1または2である) の3−メチレンまたは3−ハロメチレンセファム誘導体の製法であって、式2: A、B、Xおよびnはそれぞれ前記の通りであり、Yはハロゲンであり、 ZはYまたは水素であり、 R,、R,およびR1は同一かまたは異なるアルキル、了り−ルまたはアラルキ ル基を示す) の3−ホスホニオメチル−3−セフェム誘導体を式Iの化合物に転化させること を含む方法が提される。 本明細書に用いた適当に「保護されたアミノ基」には位置7および位置6のそれ ぞれにおける保護基としてセファロスポリンおよびペニシリン化学に普通に使用 される適当な保護基で置換されたアミノ基、アシルアミノ、フェニル(低級)ア ルキルアミノ、(シクロ)アルキルアミノ、(シクロ)アルキリデンアミノなど が包含される。 アシルアミノ基が包含され、アシル基は例えばホルミル、アセチル、プロピオニ ル、ブチリル、バレリル、ヘキサノイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボ ニル、t−ブトキシカルボニル、ベンゾイル、トルイル、フェニルアセチル、フ ェニルプロピオニル、フェノキシカルボニルなどである。基本的には、ここに参 照される米国特許第4,354,022号に挙げられたと同様の基、およびセフ ァロスポリンおよびペニシリン化学当業者に知られた他の基が本発明の範囲内に 包含される。 本明細書に用いた適当な「保護されたカルボキシ基」にはセファロスポリンおよ びペニシリン化学において位置4および位W3のそれぞれにカルボキシ保護基と して普通に使用される適当な保護基で置換されたカルボキシ基が含まれる。 そのような保護されたカルボキシ基の適当な例にはエステル、例えばメチルエス テル、エチルエステル、プロピルエステル、ブチルエステル、殊にt−ブチルエ ステル、場合により置換されたベンジルエステル例えば4−ニトロベンジルエス テル、ジフェニルメチルエステルなどが含まれる。また前記米国特許第4.35 4.022号が参照される。 式1の化合物、およびこれらの化合物の製造のための出発化合物(および中間体 )の適当な「塩」には普通の非毒性塩例えば前記米国特許第4 、354 、0 22号に挙げられたものが含まれる。 本発明による方法により製造できる式1の好ましい化合物は3−メチレンセファ ム誘導体であり、殊に3−メチレン1−オキソセファム(最も好ましい)および 3−メチレン1,1−ジオキソセファム化合物である。 上記反応は、pHを7以上に調整される水中の無機塩の予め調製された懸濁液ま たは溶液を式2のホスホニウム塩に添加することにより適当に行なわれる。 適当な無機塩にはスズ塩例えばハロゲン化第−スズまたは第二スズ;亜スズ酸塩 例えば亜スズ酸ナトリウム;、ナトリウム、カリウム、アルミニウム、ホウ素、 リン、亜鉛およびテルル塩、殊にハロゲン化物;並びにそれらの組合せが含まれ る。これらの中で、第一スズ塩化物および臭化物、並びに亜スズ酸塩が好ましく 、塩化第一スズが最も好ましい。 無機塩は好ましくは少量の水中に懸濁または溶解される0次いでpHが強水酸化 物溶液の添加により好ましくは9以上の値に調整される0次いでP!濁液または 溶液が、好ましくは溶液中にあるホスホニウムセフェム化合物に添加される。適 当な溶媒は、例えばテトラヒドロフラン(好ましい)、塩化メチレンおよびアセ トニトリルである0反応は無機塩なく強塩基を添加したときにもまた生ずる。 反応条件はあまり臨界的でなく、実験的に最適化することができる。適当な温度 は通常、0℃と反応混合物の沸点との間の範囲内、好ましくは約40℃である0 反応時間は非常に広範に変化できるが、しかし数分〜数時間の範囲内、通常1〜 2時間が適当である0分離および精製は常法により、例えばpHの中性への調整 、水とわずかに混和性である有機溶媒中への反応混合物の江別、抽出、分離、洗 浄、蒸発、再溶解などにより適当に行なわれる。 塩基の存在下のホスホニウム塩のエキソメチレン基への転化はホスホラン基の形 成が予想されたので意外であった。 式2のホスホニウムセフェム化合物(スルフィド、スルホキシドおよびスルホン )は新規であると思われ、本発明の観点を形成する。これらの化合物は一般式3 : (式中、A、B、X、Y、’Z#よびnはそれぞれ前記のとおりである) の相当する(2−ハロ)−3−ハロメチル−3−セフェム化合物をホスフィン化 合物と適当な溶媒中で反応させることにより便宜に製造することができる。適当 なホスフィンは、中でも、トリアルキル(C1〜6vA状または枝分れ)、トリ アリールまたはトリアラルキル(ともに非置換あるいは1個またはそれ以上の基 により置換された)ホスフィンであり、その中でトリフェニルホスフィンが好ま しい、好ましくは、位1f!4におけるカルボキシ基は適当な保護基により保護 される。適当な溶媒にはテトラヒドロフランが包含され、それが好ましい0反応 条件はあまり臨界的ではないけれども、反応は便宜には不活性雰囲気中で多少高 い温度(40℃)で数時間(通常約3時間)行なわれる。 所望のホスホニウムセフェム化合物はまた他のホスホニウムセフェム化合物から 、分子の1個またはそれ以上の基を転化させることにより製造できる0例えば、 3−ホスホニオメチル−3−セフェムス、ルフィド誘導体は相当する3−ホスホ ニオメチル−3−セフェムスルホキシド誘導体から、例えばスルホキシドとpc z。 との反応により製造することができる。 生じたホスホニウムセフェム化合物の分離および精製は常法(例えば遠心分離、 洗浄および乾燥)により行なうことができる。 好ましいホスホニウムセフェム化合物はXおよびZが水素であり、Yが臭素であ る式2の化合物である。さらにnが1であり、R1、R1およびR1がフェニル である化合物が最も好ましい。 出発(2−ハロ)−3−ハロメチル−3−セフェム誘導体(スルフィド、スルホ キシドおよびスルホン)は公知化合物であり、または類縁化合物の製造に知られ た方法により製造することができる1例えば、EP−A−0,015,629号 およびEP−A−0,034,394号参照、好ましくは3−ブロモメチル−3 −セフェム=i体が出発勧賞として使用される。そのような3−ブロモメチル− 3−セフェム誘導体は、例えば相当する3−メチル−3−セフェム化合物の臭素 化により適当に製造される。 臭素化はN−ブロモスクシンイミド(NBS)で非加水分解性溶媒例えば塩化メ チレンまたは塩化メチレン/酢酸中で、好ましくは開始剤、最も好ましくは光( 照射)を用いて適当に行なわれる。好ましくは、NEISおよび光による臭素化 反応は低温(約0℃)で通常数分〜数時間、例えば約1〜4時間、の時間行なわ れるや望むならば、臭素化反応中に形成されることができる副生物例えば2−ブ ロモ−3−ブロモメチル−3−セフェム誘導体を適当な脱臭素剤、例えば亜リン 酸エステル例えば亜リン酸トリブチル、の添加により2位において脱臭素するこ とができる。臭゛素化後、反応混合物を常法により分離し、精製すると所望の3 −ブロモー3−セフェム化合物が得られる。 同様の方法を他の(2−ハロ)−3〜ハロー3−セフェム化合物の製造に適用す ることができ、それらはすべて平均的専門家の技術内にある。 本発明の他の好ましい態様によれば、式3の3−メチレンおよび3−ハロメチレ ン化合物はまた式3の3−ハロメチルー3−セフェム誘導体から式2の中間体ホ スホニウムセフェム化合物を経て、しかし前記中間体を分離することなく直接製 造することができる。反応条件は、式2の3−ホスホニオメチル−3−セフェム 誘導体からの式1の化合物の分離製造に、および3−ハロメチル−3−セフェム 誘導体からの式2の化合物の製造にそれぞれ前記した条件に実質的に等しい。 本発明の他の好ましい聾様によれば、式1の3−メチレンおよび3−ハロメチレ ン誘導体、殊にnが1または2であるもの、は式3の(2−ハロ)−3−ハロメ チル−3−セフェム誘導体を活性金属、例えば亜鉛またはマグネシウム、好まし くは活性亜鉛で、アンモニウム塩またはアミンの存在下に還元することにより良 好な品質および高い収率で製造することができる。この方法で得られた収率が、 マクンエーンほか(McShane and Dunigan)によりシンセテ ック・コミュニケーションズ(Synth、 Comm、) 、16(6)、6 49〜652 (1986)、前掲、に報告された収率より実質的に高いことが 認められた。 反応は好ましくは活性金属粉を、予め水中のアンモニウム塩の溶液を加えた3− ハロメチル、好ましくは3−ブロモメチル−3−セフェム誘導体に加えることに より行なわれる。望むならば、セフェム誘導体は適当な溶媒例えばアセトンまた はジメチルホルムアミドあるいはそれらの混合物に溶解される。適当には、強ア ンモニア溶液を活性金属の添加前に反応混合物に添加することができる。反応の 温度は通常0℃以下、−20℃〜+5℃の範囲内で保持される。所望の化合物は 公知方法により分離し、精製することができる。 この方法は、1987年7月10日に提出された欧州特許出願第8720131 .6.4号に記載された新7β−(シクロ)−アルキリデンアンモニオ−3−ハ ロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸誘導体からの7−アミノ−3−メチレ ンセファム−4−力ルボン酸並びにその塩およびエステルの製造に非常に適する 。 本発明中に開示される3−ハロメチレンセファム化合物は新規であると思われ、 本発明のなお他の観点を形成する。 い。収率を最適化する試みは行なわなかった。 実施例1〜6は一定の新規3−ブロモメチルセフェム誘導体の製造を示す、実施 例7〜13は3−ホスホニオメチルセフェム化合物の製造を例示し、実施例14 〜23はそのようなホスホニウム化合物からの3−エキソメチレンセファムの製 造の例示である。 実施例24〜30はホスホニウム塩を経由するが、しかしこれらの中間体を分離 しない3−エキソメチレンセファムの「ワンポット」合成を示す。最後に実施例 31〜45は3−ブロモメチルセフェム誘導体の一定金属による直接転化の例示 である。 実施例1 (6R,7R)−3−メチル−1,1−ジオキソ−7−フェニルアセトアミド− 3−セフェム−4−カルボン1ltert−ブチルから(6R,7R)−3−ブ ロモメチル−1,1−ジオキソ−7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4 −カルボン酸tert−ブ±匹ffl二一−−一−−−−−−−−−−−−−− −−一−−=(6R,7R)−3−メチル−1,1−ジオキソ−7−フェニルア セトアミド−3−セフェム−4−カルボンfitert−ブチル6g(14,2 7ミリモル)の塩化メチレン90mji中の溶液をN−ブロモスクシンイミド3 .5g(19,66ミリモル)とともに乾燥窒素下に0℃でかくはんし、26蛍 光管〔フィリフプス(Philips)03T、20W)で60分間照射した。 溶液を水(pH−7)で洗浄し、水相の塩化メチレン逆洗液と合わせて乾燥し、 低容積に蒸発させた。残留物を調製用ヨビンーイワン(Yobin −Yvon )カラムでキーゼルゲル(Kieselgel) Hタイプ60上でクロマトグ ラフにかけた。トルエン/酢酸エチル(5: 1)で溶出させ、エーテルで摩砕 後に94%の純度で表題の化合物1.43 gが得られた。 IRスペクトル (KBr−ディスク;値、cIn−’ ) : 3420.3 000゜1790.1?20.1680,1600,1500,1260,12 30,1040,1020.990゜820、700および680゜ PMR−スペクトル(360MHz; CDfl、;内部基準としてテトラメチ ルシラン;δ−価、ppm ) : 1.54 (s、 9H); 3.64( s、 2B); 3.72および4.08 (ABq、 2H; J=19.0  Hz); 4.19および4.48 (ABq、 2H; J=10.8 H z); 4.81 (d、 IH; J=4.6 )1z); 6.13(dd 、 IH; J=4.6および10.2 Hz); 6.7B (d、 IH;  J=10.2 Hz);7.3 (a+、 5H)。 実施例2 (Is、6R,7R)−3−メチル−1−オキソ−7−フェニルアセトアミド− 3−セフェム−4−カルボン酸4−ニトロベンジルから(Is、6R,7R)  −3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェニルアセト了ミドセフェム−4−カ ルボン酸4−ニトロ丘之2沙91に一一一−−−−−−−−−−−−−一−−− −−(Is、6R,7R)−3−メチル−1−オキソ−7−フェニルアセトアミ ド−3−セフェム−4−カルボン酸4−ニトロベンジルIg(2,1ミリモル) の塩化メチレン100+nj!および酢酸100ml中の溶液をN−ブロモスク シンイミド620mg(3,4ミリモル)とともに乾燥窒素下に4℃でかくはん し、150Wタングステン電球で90分間照射した。若干のトルエンを添加しな がら溶媒を蒸発させた後、残留物を冷亜硫酸水素ナトリウム溶液で洗浄すると表 題の生成物1.0gが得られた。 PMR−スペクトル(360M)12; CFsCOOD ;内部基準としてテ トラメチルシラン;δ−価、ppvb ) : 3.59および4.05(AB q、 2H: J−19Hz): 3.65 (s、 2B) ; 4.22  (s、 2H) ; 4.84(d、 IH; J=4.5ン ; 5.31.  5.38 (ABq、 2H; J=15.6 Hz); 6.05(d、I FI; J=4.5 Hz); 7.0−8.2 (+s、9)1)。 実施例3 (Is、6R,7R)−3−メチル−1−オキソ−7−フェノキシアセトアミド −3−セフェム−4−カルボン酸4−ニトロベンジルから(Is、6R,7R) −3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェノキシアセトアミド−3−セフェム −4−カルボン酸にとユタ< 7 ; JL/ (7) H’@−−−−−−− −−−−−−−−一(Is、6R,7R)−3−メチル−1−オキソ−7−フェ ノキシアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸4−ニトロベンジル2.6 g<純度82%;4.27ミリモル)の塩化メチレン150mlおよび酢酸15 0ml1中の溶液をN−ブロモスクシンイミド1.85 g (10,39ll モル)とともに乾燥窒素下に0℃でかくはんし、150Wタングステン電球で2 00分間照射した。 溶媒を蒸発させた後、残留物を塩化メチレンに溶解し、塩化メチレン溶液を水お よびリン酸塩緩衝液で洗浄し、蒸発させた。エーテル/石油エーテル40〜60 ℃で摩砕すると67%の純度で表題の化合物2.17 gで得られた(収率48 %)。 PMR−スペクトル(360MHz; DMSO−d、;内部基準テトラメチル シラン: 3.81および4.02 (ABq、 2)1; J=18.5 H z);3.53および4.59 (ABq、 2H; J=9.81(z);  4.67 (s、 2H) ; 5.06 (d。 II(; J=4.4 Hz); 5.48 (s、 2)1): 6.H(d 、 IL J=4.4および9.8 Hz): 6.96および7.16 C( 5’H); 7.73および8.25 (ABq、 4)1.;J=8.3 H z); 8.19 (d、 18; J=9.8 Hz)’。 実施例4 (15,6R,7R)−3−メチル−1−オキソ−7−フェノキシアセトアミド −3−セフェム−4−カルボン酸メチルから(Is、6R,7R)−3−ブロモ メチル−1−オキソ−7−フェノキシアセトアミド−3−セフェム−4−カルボ ン酸メチルの製造 (IS、6R,7R)−3−メチル−1−オキソ−7−フェノキシアセトアミド −3−セフェム−4−カルボン酸メチル2.3g(6,1IIIモル)の塩化メ チレン50nj!および酢酸50mjt中の溶液をN−ブロモスクシンイミド1 .5gとともに乾燥窒素下に0℃でかくはんし、150Wタングステン電球で6 0分間照射した。 亜リン酸トリブチル0.3mj2を加え、−5℃で4時間かくはんした後、反応 混合物を塩化メチレン500mj2および水100m1’中へ往動した。層を分 離した後、有機層を水<4 X 100mA’)で洗浄し、水相の塩化メチレン 逆洗液(100mA)と合せて乾燥し、蒸発させた。残留物をエーテルで摩砕す ると58%の純度で表題の化合物2.55 gが得られた。収率53%。 IRスペクトル (にBr−ディスク;値、Cl1l−’) :3380.29 55゜1790、172B、 1697,1599.1522.1495.14 35.1375.1305゜1240、11?4.1098.1065.102 0.735および690゜゛PMR−スペクトル(360MIIz; CDCj 2−/DMSO−ds(3:1);内部基準としてテトラメチルシラン;δ−値 、ppm): 3.81および3.90 (ABq、 211; J=18.0 11z); 3.91 (s、 3)1); 4.41および4.59 (Al lq、 211; J=10.111z): 4.60 (s、 211);  4.99 (d、 18;J=4.511z); 6.10 (dd、 II( ; J=4.5および10.1 Hz); 6.9−7.3 (m。 5H); 8.04 (d、 III; J=10.1 )1z)。 実施例5 (Is、6R,7R)−7−ホルムアミド−3−メチル−1〜オキソ−3−セフ ェム−4−カルボン酸4−ニトロベンジルから(Is、6R,7R)−3−ブロ モメチル−7−ホルムアミド−1−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸4− ニトロベンジルΩ1!+1 ’=−−−−−−−−−−−−−−−−−−−一一 −−−−〜−一−(Is、6R,7R)−7−ホルムアミド−3−メチル−1− オキソ−3−セフェム−4〜カルボン酸4−ニトロベンジル2g(5,84ミリ モル)の塩化メチレン150mAおよび酢酸150餉l中の溶液をN−ブロモス クシンイミド1.4g(7,8llモル)とともに乾燥窒素下に0℃でかくはん し、150Wタングステン電球で90分間照射した。亜リン酸トリブチル0.2 wI!(0,7ミリモル)を添加し、−5℃で15分間かくはんした後、溶媒を 蒸発させた。残留物を塩化メチレンと酢酸エチルとの混合物に溶解し、水で洗浄 した後溶液を濃縮した。結晶を濾過し、エーテルおよび石油エーテル40〜60 ℃で洗浄し、乾燥すると79%の純度で表題の化合物1.6gが得られた。収率 61%。 IRスペクトル (KBr−ディスク;値、cm−’ ) : 32B0.17 80゜1?30.1720.1665.1522.1386.1350.126 0.1242.1172..1030、852.739. 696および620 ゜PMR−スペクトル(360MHz ; DMSO−dh i内部基準として テトラメチルシラン;δ−値、ppm ) : 3.82および3.99(AB q、 2H; J=18.6 Hz); 4.52および4.62 (ABq、  21; J=10.2 Hz);5.03 (d、 IH; J=4.9 H z); 5.46および5.50 (ABq、 28; J=13.6Hz);  6.04 (dd、 11; J−4,9および9.8 H2>: 7.73 および8.25(ABq、 4)1; J−8,7Hz);8.16 (s、  1)1); 8.44 (d、 1)1; J=9.882)。 実施例6 (Is、6R,7R)−3−メチル−7−ホルムアミド−1−オキソ−3−セフ ェム−4−カルボンatert−ブチルから(IS。 6R,7R)−3−ジブロモメチル−7−ホルムアミド−1−オキソ−3−セフ ェム−4−カルボン tert−フ゛チルの1゛告(Is、6R,7R)−3− メチル−7−ホルムアミド−1−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸ter t77テル6.3g(20ミリモル)の塩化メチレン150mj2中の懸濁液を 乾燥窒素下に4℃でかくはんしてN−ブロモスクシンイミド9.8g(55ミリ モル)を徐々に加え、150Wタングステン電球で 、5.5時間照射した。反 応混合物を水で洗浄し、脱色炭で処理し、乾燥した後、臭素化生成物の粗混合物 6゜7gを石油エーテル40〜60℃で沈殿させた。沈殿をヨビンーイワン力ラ ムでキーザルゲルトl上で塩化メチレン/酢酸エチル(7: 3)中でクロマト グラフにかけた。適当な両分を合せて蒸発させ、残留物をエーテルで摩砕すると 表題の生成物2.4gが得られた。 IRスペクトル (KBr−ディスク;値、cm−’) : 3320.309 2゜1798、1?18.1678.1610.1500.1397.1373 .1152.1000.646、PMR−スペクトル(60MHz; DMSO ds;内部基準としてテトラメチルシラン;δ−値、pprtr ) : 1. 51 (s、 9H); 3.7?。 407、4.17および4.47 (ABq、 211; J=18 Hz);  5.14 (d、 III; J=5 fiz);6.08 (dd、 II I; J、5および9,5 fiz): 7.32 (s、 1ll); 8, 26 (s、1ll):8.65 (d、 III; J=9.511z)。 実施例7 (6R,7R)−3−ブロモメチル−1,1−ジオキソ−7−フェニルアセトア ミド−3−七フェ云−4−カルボン酸tert−ブチルから(6R,7R)−4 −tert−ブトキシカルボニル−1,1−ジオキソ−7−フェニルアセトアミ ド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェムプロミドの製造(6R, 7R)−3−ブロモメチル−1,1−ジオキソ−7−フェニルアセトアミド−3 −セフェム−4−カルボン酸tert−ブチル(実施例1参照)Ig、(2ミリ モル)、テトラヒドロフラン20m1およびトリフェニルホスフィン800mg  (3,1llモル)の混合物を窒素下に40℃で3時間かくはんした。遠心分 離し、エーテルで洗浄し、乾繰すると85%の純度で表題の化合物1.54gが 得られた。収率91%。 I Rスペクトル (K[lr−ディスク;値、cm−’) : 3400.2 980゜2855、1800.1?10.1690.1500.1440.13 70.1335.1300.1155゜1135、1110.1000.840 .750.720.692,540および500゜PMR−スペクトル<360 MHz; CDC7!z;内部基準としてテテトラメチルシラン:δ−値、pp rn ) : 1.24 (s、 9H); 3.29 (d。 Ill; J=19 fiz); 3.62 (s、 211); 5.13お よび5.75 (2xt、 211; J=14.4および14.4 )1z) ; 5.14 (d、 1)1; J=4.511z): 5.49 dd、  IH;J=19.0および5.411z): 6.12 (dd、 III;  J=4.5および10.1 Hz) ;実施例8 (13,6R,7R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェニルアセトア ミド−3−セフェム−4−カルボン酸4−ニトロベンジルから(Is、6R,7 R)−4−ニトロベンジルオキシカルボニル−1−オキソ−7−フェニルアセト アミド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェムプロミドの製造(I s、6R,7R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェニルアセトアミド −3−セフェム−4−カルボン酸4−ニトロヘンシル(実施例2参照)447m g、)リフェニルホスフィン600mgおよびテトラヒドロフラン15+nI2 の混合物を40℃で3時間かくはんした。溶媒を蒸発させてエーテルを加えた後 、生じた沈殿を濾過すると57%の純度で表題の生成物600mgが得られた。 IRスペクトル (KBr−ディスク:値、cm−’) : 3400.179 5゜1724、16g0.1520.1438.1349.1255.1170 .1111. 1030.853゜739、720.690および500゜PM R−スペクトル(36(1MHz; CDC7!z;内部基準としてテトラメチ ルシラン:δ−値、ppm ) : 3.50 (d、 1)1; J=19. 4 Hz);3.60 (s、 2H); 4.84 (dd、 IH; J= 19.4および4.5 Hz); 4.98および5.11 (ABq、 2H ,J=13.3 )1z); 5.10 (d、 ltl; J=4.4 Hz ); 5.11および5.45 (2xt、 2H,J=14.4および14. 4 Hz); 6.06 (dd、 IH;J=4.4および10.1 Hz) ; 6.94 (d、 IH; J=10゜I Hz); 7.2−8.3 ( m。 24H)。 実施例9 (Is、6R,7R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェノキシアセト アミド−3−セフェム−4−カルボン酸4−ニトロベンジルから(Is、6R1 7R)−4−ニトロベンジルオキシカルボニル−1−オキソ−7−フェノキシア セトアミド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェムプロミドのす浩 (Is、6R17R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェノキシアセト アミド−3−セフェム−4−カルボン酸4−二トロベンジル1.73g(純度6 7%:2ミリモル)のテトラヒドロフラン55nf中の溶液にトリフェニルホス フィン1.58g(6ミリモル)を加え、混合物を40℃で窒素下に3時間かく はんした。−夜装置した後エーテルで沈殿させると59%の純度で表題の生成物 2.29 gが得られた。収率80%。 IR−スペクトル(KBr−ディスク;値、ell−’) :34oo。 1800、1725.1700.1605.1592.1524.1495.1 442.1390.1350゜1300、1245.1175.1114.10 70.1035.755.695および 510゜PMR−スペクトル(360 M、Hz ; CDCA x ;内部基準としてテトラメチルシラン;δ−(直 、ppm ) : 3.51 (d、 IH; J・19.5 Hz); 4. 54 (s、 28); 4.97 (dd、 18; J= 19.5および 5.9 Hz);5.00および5.14 (ABq、 21; J=13.2  Hz); 5.13および5.51 (2xtr。 2H; J=14.6および17.1 Hz); 5.2Hd、 IH; J− 4,9Hz); 6.16 (dd。 IH; J=4.9および10.7 Hz); 6.94.7.(12および7 .29 (+s、 5B);7.44および8.18 (ABq、 4H; J −8,8tlz); 7.5−7.9 (+11.15H)。 実施例10 (Is、6R,7R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェノキシアセト アミド−3−セフェム−4−カルボン酸メチルから(Is、6R,7R)−4− メトキシカルボニル−1−オキソ−7−フェノキシアセトアミド−3−トリフェ ニルホスホニオメチル−3−セフェムプロミドのL告 (Is、6R,7R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェノキシアセト アミド−3−セフェム−4−カルボン酸メチル(実施例4参照)1.37g(純 度58%;1.74ミリモル)、トリフェニルホスフィン1.18g(4,5ミ リモル)およびテトラヒドロフラン15mfの混合物を40℃で3時間かくはん した。エーテルを加えた後、生じた沈殿を遠心分離により分離すると64%の純 度で表題の生成物1.93gが得られた。収率99%。 IR−7,ベクトル(KBr−ディスク;値、am−’) :3390゜179 5、1720.1691.1530.1490.1438.1370.1297 .1260.1240゜1170、1’l10.1028.750.720.6 90および500゜PMR−スペクトル(360MHz ;CDC1,;内部基 準としてテトラメチルシラン;δ−値、ppm ) : 3.56 (s、 3 H); 3.57(d、 18; J=19.0 Hz); 4.54 (s、  2H); 4.8B (dd、 IH; J=19.0および5.9 Hz) ; 5.09および5.52 (2xt、 28; J=14.6および17. I H2);5.20 (d、 IH; J=4.9 Hz); 6.13 ( dd、 IH; J=4.9および10.3 Hz);6.93.7.02およ び7.29 (m、 5H); 7.6−8.0 (m、 15H)。 実施例11 (Is、6R17R)−3−ブロモメチル−7−ホルムアミド−1−オキソ−3 −セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルがら(Is、6R,7R)−4− ジフェニルメチルオキシカルボニル−1−オキソ−7−ホルムアミド−3−トリ フェニルホスホニ主ノ%、+1ニョレ二11五左ブ」」」」(社)叱@−−−− −−−−−−−−(Is、6R17R)−3−ブロモメチル−7−ホルムアミド −1−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル(米国特許第3 ,769,277号参照)2g(純度74%、2.94ミリモル)、トリフェニ ルホスフィン3gおよびテトラヒドロフラン50mAの混合物を窒素下に40℃ で16時間かくはんし、エーテルで処理すると73%の純度で表題の生成物2. 97gが得られた。収率96%。 IR−スペクトル(KBr−ディスク;値、am−’) :34oo。 3060、2970.2860.1795.1690.1500.1460.1 370.1250.1160゜1110、745.690および500゜PMR −スペクトル(360MHz ;CDCAs ;内部基準としてテトラメチルシ ラン;δ−値、ppIa ) : 3.60 (d、 IH; Jd9.1)1 z); 4.97 (dd、 IH; J=19.1および5.4 Hz);  5.17および5.49(2xt、 2H; J=14.7および14.1 H z); 5.2Hd、 IH; J=4.9 Hz);6.14 (c16.1 8; J=4.9および10.3 Hz); 6.48(s、 01); 7. 02 (d。 18; J=10.3 Hz); 7.1−7.9 (m、 25B); 8. 17 (s、 LH)。 実施例12 (Is、6R,7R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェニルアセトア ミド−3−セフェム−4−カルボン1fitert−ブチルから(Is、6R1 7R) 4−tert−ブトキシカルボニル−1−オキソ−7−フェニルアセト アミド−3−トリフェニルホスホニオメチルー3−セフェムプロミドの1(IS 、6R17R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェニルアセトアミド− 3−セフェム−4−カルボン1dtert−ブチル24.2g(純度89%;4 4.6ミリモル)をテトラヒドロフラン250*J中で40℃で加熱した。トリ フェニルホスフィン14.4g(55ミリモル)を加えた後、かくはんを2時間 続け、次いでジエチルエーテル250+ej!を加えた。沈殿を濾過し、ジエチ ルエーテルで洗浄し、乾燥すると84%の純度で表題の化合物37.3 gが得 られた。収率94%。 IR−スペクトル(KBr−ディスク;値、ell−’) :1795゜171 0、1690.1620.1505.1445.1365.1310.1280 .1265.1160゜1115、1040.1005.840.745.72 5及び700゜PMR−スペクトル(360MHz ;CDCJi ;δ−値、 ppl”;内部基準としてテトラメチルフラン) : 1.23 (s、 9H ); 3.41 (dd。 IH; J=18.7および2.0 Hz); 3.5B (s、 2H);  4.8? (dd、 IH; J−18,7および5.482>; 4.95  (6,18; J=5.0 Hz); 5.14 (dd、 18;J−14, 4および17.6 Hz); 5.48 (dd、 IH; J=14.4およ び13.7 Hz);6.06 (dd、 IH; J=s、oおよび10.1  Hz); 6.76 (d、 IH; J=10.1Hz”): 7.2−7 .9 (+e、 20H)。 実施例13 (Is、6R,7R) 4−tert−ブトキシカルボニル−1−オキソ−7− フェニルアセトアミド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェムプロ ミドから(6R,7R) −4−tert −ブトキシカルボニル−1−オキソ −7−フェニルアセトアミド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェ ムプロミドの製′告 (IS、6 R,7R) −4−tert−ブトキシカルボニル−1−オキソー 7−フェニルアセトアミドー3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェム プロミド(実施例12参照)1.85g(2,23ミリモル)のテトラヒドロフ ラン25−l中の懸濁液に三塩化リン0.35mff1(4ミリモル)を0℃で 加えた。30分後、水20−lを透明反応混合物に加え、pHを4N水酸化ナト リウム溶液で5に調整し、pHを5に維持してかくはんを45分間続けた。 酢酸エチル20*Jを加え、層を分離し、水層を酢酸エチル2×10talで抽 出した後、有機層を合せて乾燥(酢酸マグネシウム)し、蒸発乾固した0g砕に より分離し、乾燥すると表題の生成物1.73gが得られた。純度82%。収率 87%。 IR−スペクトル(KBr−ディスク;値、3−’) :1786゜1710、 1676、1630.1540.’ 1445.1380.1310.1280 .1160.1115゜1010、845.730および700゜PMR−スペ クトル(360MHz HCDC#s ;δ−値、ppm:内部基準としてテト ラメチルシラン) : 1.22 (s、 9)1); 3.10 (dd。 18; J−18,9および2.1 Bり; 3.98 (dd、 IH; J −18,9および5.9 Hz);3!63および3.70 、(ABq、 2 H; J=14.7 Hz); 4.79 (d、 IH; J=4.6 Hz );5.01および51.29 (2xtr、 2H; J−14,6および1 4.7および13.9 Hz);5.62 (dd、 IH,J=4.6および 8.8 Hz); 7.1−7.8 (w、 20B)。 実施例14 (6R17R) 4−tert−ブトキシカルボニル−1,1−ジオキソ−7− フェニルアセトアミド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェムプロ ミドから(Is、4R,6R,7R)−3−メチレン−1,1−ジオキソ−7− フェニルアセトアミドセファム−4−カルボン tert−フ゛チルの製゛告塩 化第−スズニ水和物385mgの水5−l中の、pHを4N水酸化ナトリウム溶 液で9に調製した懸濁液を、(6R,7R)−4−tert−ブトキシカルボニ ル−1,1−ジオキソ−7−フェニルアセトアミド−3−トリフェニルホスホニ オメチル−3−セフェムプロミド(実施例7参照)765+ag(純度85%;  0.85ミリモル)のテトラヒドロフラン15mA中の懸濁液に加えた0反応 混合物を40℃で90分間かくはんしてその間P)Iを9に維持し、反応が終っ たときにpHを7に調整し、酢酸エチルに注加した。有機層をブラインで洗浄し た後溶媒を蒸発させた。残留物をアセトンに溶解し、エーテルおよび石油エーテ ル40〜60℃を加えると、PMR分光法により確認して表題化合物(収率45 %)および出発物質(25%)の混合物510叶が得られた。 実施例15 (Is、6R,7R)−4−二トロペンジルオキシカルボニル−1−オキソ−7 −フェニルアセトアミド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェムプ ロミドから(Is、4R16R。 7R)−3−メチレン−1−オキソ−7−フェニルアセトアミドセフ ニー4− カルボン 4−ニトロベンジルの釦1゛告塩化第−スズニ水和物265mgの水 5IIe中の、pjlを4N水酸化ナトリウム溶液で9.5に調整した懸濁液を 、(Is、6R17R)−ニトロベンジルオキシカルボニル−1−オキソ−7− フェニルアセトアミド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェムプロ ミド(実施例8参照)548+ng(純度57%、0.38ミリモル)のテトラ ヒドロフラン15mf中の懸濁液に加えた。 反応混合物を40℃で90分間かくはんしてその間pHを9に維持し、反応が終 ったときにpHを7に調整し、酢酸エチルに注加した。 有機層を水(4X)およびブラインで洗浄し、水相の酢酸エチル逆洗液と合せて 蒸発させた。残留物をアセトンに溶解し、エーテルおよび石油エーテル40〜6 0℃を加え、遠心分離後に表題生成物が得られた。構造はPMR分光法により確 認された。 PMR−スペクトル(3jOMHz ; DMSO−di i内部基準としてテ トラメ±ルシラン;δ−値、I)Pelt ) : 3.51および3.64( ABq、 2H; J=15.6 Hz); 3.71および3.89 (AB q、 2H; J−14,4)1z);5.01 (d、 IH; J=4.5  Hz); 5.32.5.39および5.72 (3xs、 3H);5.4 7 (s、28); 7.1−8.3 軸、108)。 実施例16 (Is、6R,7R)−4−ニトロベンジルオキシカルボニル−1−オキソ−7 −フェノキシアセトアミド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェム プロミドから(Is、4R,6R。 7R)−7−フェノキシアセトアミド−3−メチレン−1−オキソセフ ニー4 −カルボン 4−ニトロベンジルの ゛含塩化第−スズニ水和物385mgの水 5−l中の、pjlを4N水酸化ナトリウム溶液で9に調整した懸濁液を、(I s、6R17R)−4−ニトロベンジルオキシカルボニル−1−オキソ−7−フ ェノキシアセトアミド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェムプロ ミド(実施例9参照)840mg(純度50%; 0.59ミリモル)のテトラ ヒドロフラン15val中の懸濁液に40℃で加え、paを9に維持して90分 間かくはんした後、混合物を酢酸エチルに注加した。溶媒を蒸発させた後、残留 物をアセトンに溶解した。エーテルおよび石油エーテル40〜60℃を加えた後 、生じた沈殿を遠心分離した(330+ng) 、構造はPMR分光法により確 認された。 PMR−スペクトル(360MHz ; DMSOds ;内部基準としてテト ラメチルシラン;δ−値、pp蒙):3.77および3.97(ABq、 2H ; J=14.4 Hz); 、4.67 (s、、2H); 5.12 (d 、 IH; J−4,4Hz);5.34.5.53および5.67 (3xs 、 3H); 5.42 (s、 2H); 5.84 (dd、 18;J= 4.4および10.2 )1z); 6.9−8.3 (m、 10Hz)、実 施例17 (Is、6R17R)−4−メトキシカルボニル−1−オキソ−7ニフエノキシ アセトアミドー3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェムプロミドがら (IS、4R16R,7R)−7−フェノキシアセトアミド−3−メチレン−1 −オキソセファム−塩化第一スズニ水和物385+agの水5IllA中の、p Hを4N水酸化ナトリウム溶液で9.5に調整した懸濁液を、(IS、6R17 R)−4−メトキシカルボニル−1−・オキソ−7−フェノキシアセトアミド− 3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェムプロミド(実施例1o参照) 720mg(純度64%;0.64ミリモル)のテトラヒドロフラン15+sj !中の懸濁液に加えた0反応混合物を40℃で90分間がくはんしてその間pH を9に維持し、反応が終ったときにpoを7に調整し、酢酸エチル中へ注加した 。 有機層を水(4X)およびブラインで洗浄し、水相の酢酸エチル逆洗液と合せて 蒸発させた。残留物をアセトンに溶解し、エーテルおよび石油エーテル40〜6 0℃を加え、遠心分離後に表題の生成物が得られた。構造はPMR分光法により 確認された。 PMR−スペクト)L’ (360MHz ; DMSOdi ;内部基準とし てテトラメチルシラン;δ−値、ppm ) :3.70 (s、 3)1); 3.79および3.93 (ABq、 2 H; Jd4.2 Hz) 4.6 2 (s、 2H); 5.11(d、 1)1; J−4,4Hz); 5. 34.5.41および5.71 (3xs、 3H); 5.80(dd、 1 )1; J=4.4および10.2 Hz); 6.9−7.6 (m、 5  Hz); 8.27 (d。 IH; J−10,2Hz)。 実施例18 (Is、6R,7R)−4−ジフェニルメチルオキシカルボニル−1−オキソ− 7−ホルムアミドル3−トリフェニルホスホニオメチル3 +フエLプロミドか ら(Is、4R16R17R)−7−ホルムアミド−3−メチレン−1−オキソ セファム−4=カルボン ジフェニルメチルの11′告塩化第−スズニ水和物3 85+ngの水5mR中の、pHを4N水酸化ナトリウム溶液で9.5に調整し た懸濁液を、 (Is、6R17R)−4−ジフェニルメチルオキシカルボニル −1−オキソ−7−ホルムアミド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セ フェムプロミド(実施例11参照)765mg(純度73%:0.73ミリモル )のテトラヒドロフラン15mji中の懸濁液に加えた。 反応混合物を40℃で90分間かくはんしてその間p)lを9に維持し、反応が 終ったときにpHを7に調整し、酢酸エチル(10いi)中へ注加した。有機層 を水で洗浄し、水相の酢酸エチル逆洗液と合せて蒸発させた。残留物をアセトン に溶解し、エーテルおよび石油エーテル40〜60℃を加え、遠心分離後に表題 の生成物53.4%を含む表題生成物とトリフェニルホスフィンオキシトとの混 合物260mgが得られた。収率45%。 実施例19 (I S、6R,7R) 4−tert−ブトキシカルボニル−1−オキソ−7 −フェニルアセトアミド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェムプ ロミドから塩化第一スズニ水和物存在下の(Is、4R16R,7R)−3−メ チレン−1−オキソ−7−フェニルアセトアミドセファム−4−カルボン[dt ert−ブチルの制′告 (Is、6R17R) −4−tert−ブトキシカルボニル−1−オキソ−7 −フェニルアセトアミド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェムプ ロミド(実施例12参照)750mg(純度84%;0.84ミリモル)のテト ラヒドロフラン15+sj!中の懸濁液、水5+sji中の塩化第一スズニ水和 物385mgに4N水酸化ナトリウム溶液を加えることにより調整した9のpn を存する懸濁液を加えた0反応混合物を60℃に加熱し、IN水酸化ナトリウム 溶液でpHを9に維持した後、反応混合物を20分間かくはんし、室温に冷却さ せた。 pHを7に調整し、反応混合物を酢酸エチル60+aff中へ注加した 後層を分離し、水層を酢酸エチル3X 30+a#で抽出し、有機層を合せてプ ラインで洗浄した。HPLC分析により測定して表題の化合物96%を含む酢酸 エチル溶液を濃縮乾固した。次いで残留物をアセトンに溶解し、ジエチルエーテ ルおよび石油エーテル40〜60℃で沈殿させた。遠心分離により分離し、洗浄 し、乾燥すると68%の純度で表題の化合物470mgが得られた。収率94% 。 実施例20 (Is、6R,7R) 4−tert−ブトキシカルボニル−1−オキソ−7− フェニルアセトアミド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェムプロ ミドから(Is、4R16R17R)−3−メチレン−1−オキソ−7−フェニ ルアセトアミドセファム−4−カルボン tert−ブチルの―Lj告A、実施 例19に記載の方法を塩化第一スズ三水和物の添加なく繰返した0反応はpHを 9に維持しながら35℃で2時間行なった。溶液中の収率は39%であった。分 離後表題の化合物200+ngが20%の純度で得られた。分離された収率:1 2%。 B、実施例19に記載の方法を繰返したが、しかし塩化第一スズ二水和物の代り に臭化第二スズ400mgを用いた0反応は35℃で90分間行なった。溶液中 の収率は92%であった0分離後表題の化合物540mgが55%の純度で得ら れた。分離された収率:87%。 C0実施例19に記載の方法を繰返したが、しかし塩化第一スズ三水和物の代り に塩化第二スズ0.2+s6を用いた。反応は35℃で2時間行なった。溶液中 の収率は82%であった0分離後表題の化合物370mgが70%の純度で得ら れた。分離された収率ニア6%。 D、実施例19に記載の方法を繰返したが、しかし塩化第一スズ二水和物の代り にリン酸水素二ナトリム250mgを用いた。反応は35℃で2時間行なった。 溶液中の収率は88%であった。 分gII後表題の化合物360mgが77%の純度で得られた。分離された収率 :82%。 E、実施例19に記載の方法を繰返したが、しかし塩化第一スズ二水和物の代り に、次のように調製した亜スズ酸ナトリウムを含む固体残留物680mgを用い た:塩化第−スズニ水和物450I!Igの0. I N水酸化ナトリウム溶液 8 (lad中の溶液を濃縮乾固して前記残留物800mgを得た。出発物質の テトラヒドロフラン中の懸濁液をこの残留物680mgで40℃で1時間処理し た後表題の化合物570mgが分離後48%の純度で得られた。分離された収率 :80%。 F、実施例19に記載の方法を繰返したが、しかし塩化第一スズの代りに、セフ ェムプロミド化合物(750mg)のテトラヒドロフラン15翔l中の懸濁液に 塩化第一スズニ水和物385鎮gおよび塩化ナトリウム100mgの水5ml中 の、pHを4N水酸化ナトリウム溶液で9に調整した溶液加えることによりその 場に形成された亜スズ酸ナトリウムを用いた0反応混合物を40℃まで加熱し、 pHをIN水酸化ナトリウム溶液で9に維持した後、反応混合物を90分間かく はんし、室温に冷却させた。pHを7に調整し、反応混合物を酢酸エチル60m jj中へ注加した後層を分離し、水層を酢酸エチル3 X 30II1.で抽出 し、有機層を合せてブラインで洗浄した。HPLC分析により測定して表題化合 物92%を含む酢酸エチル溶液を濃縮乾固した。次いで残留物をアセトンに溶解 し、ジエチルエーテルおよび石油エーテル40〜60℃で沈殿させた。遠心分離 により分離し、洗浄し、乾燥すると61%の純度で表題の化谷物490mgが得 られた。収率:88%。 G、実施例19に記載の方法を繰返したが、しかし塩化第一スズ二水和物の代り に臭化ナトリム175+wgを用いた0反応は35℃で2時間行なった。溶液中 の収率は86%であった0分離後表題の化合物360mgが51%の純度で得ら れた。分離された収率ニア9%。 H0実施例19に記載の方法を繰返したが、しかし塩化第一スズ二水和物の代り に塩化ナトリム10(1++gを用いた0反応は35℃で90分間行なった。溶 液中の収率は86%であった0分離後表題の化合物610mgが44%の純度で 得られた0分離された収率ニア9%。 !、実施例19に記載の方法を繰返したが、しかし塩化第一スズ二水和物の代り に塩化アルミニウム230mgを用いた9反応は40℃で90分間行なった。溶 液中の収率は83%であった。 分離後表題の化合物600+agが46%の純度で得られた。分離された収率: 81%。 J、実施例19に記載の方法を繰返したが、しかし塩化第一スズ二水和物の代り に三塩化ホウ素0.14m1を用いた0反応は35℃で2時間行なった。溶液中 の収率は77%であった0分離後表題の化合物370mgが65%の純度で得ら れた0分離された収率:67%。 K、実施例19に記載の方法を繰返したが、しかし塩化第一スズ二水和物の代り に三塩化リン0.14mAを用いた。反応は35℃で2時間行なった。溶液中の 収率は84%であった。分離後表題の化合物380+ngが73%の純度で得ら れた。分離された収率:82%。 L、実施例19に記載の方法を繰返したが、しかし塩化第一スズ二水和物の代り に塩化亜鉛250mgを用いた0反応は40℃で90分間行なった。HPLCに より測定して溶液中の収率は88%であった。分離後表題の化合物531mgが 53%の純度で得られた0分離された収率:82%。 M、実施例19に記載の方法を繰返したが、しかし塩化第一スズ二水和物の代り に四塩化テルル435mgを用いた。反応は30℃で2時間行なった0分離後表 題の化合物302mgが48%の収率で得られた。収率:57%。 N、実施例19に記載の方法を繰返したが、しかし塩化第一スズ゛二水和物の添 加@濁液は、水5IIN中の塩化第一スズニ水和物385mgに4N水酸化ナト リウム溶液を加えこの混合物を15分間かくはんすることによりpHを12に調 整した。反応混合物を40℃に加熱し、IN水酸化ナトリウム溶液でpHを10 .5に維持した後反応混合物を45分間かくはんし、酢酸エチルに注加した。  pHを7に調製し、層を分離し、有機溶媒を蒸発乾固した後、残留物をアセトン 、ジエチルエーテルおよび石油エーテル40〜60℃で処理した。固体を捕集し 、乾燥した後68%の純度で表題の化合物500mgが得られた。収率:100 %。 実施例21 (I S、 6 R,7R) −4−tert−ブトキシカルボニル−1−オキ ソ−7−フェニルアセトアミド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフ ァムプロミドから(Is、4R,6R,7R)−3−メチレン−1−オキソ−7 −フェニルアセトアミドセフ1ム−4−力Jレポン tert−フ゛チルのl゛ 告A(Is、6R,7R)−4−tert−ブトキシカルボニル−1−オキソ− 7−フェニルアセトアミド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェム プロミド(実施例12参照)750B (純度84%;0.84ミリモル)のア セトニトリル15II11中の溶液に、水5■l中の塩化第一スズニ水和物38 5mgに4N水酸化ナトリウム溶液を加えることにより調製した9のpHを有す る懸濁液を加えた0反応混合物を40℃に加熱し、IN水酸化ナトリウム溶液で pHを9に維持した後、反応混合物を90分間かくはんし、室温に冷却した。遠 心分離し、残留物を酢酸エチル(2X)で抽出した後、HPLC分析により測定 して表題の化合物66%を含む有機溶液をブラインで洗浄し、乾燥し、濃縮乾固 した0次いで残留物をアセトン、ジエチルエーテルおよび石油エーテル40〜6 0℃で処理しした。固体を捕集し、乾燥した後35%の純度で表題の化合物54 0mgが得られた。 収率56%。 B、(Is、6R,7R) 4−tert−ブトキシカルボニル−1=オキソ− 7−フェニルアセトアミド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェム プロミド(実施例12参照)1.5g(純度84%;1.68ミリモル)の塩化 メチレン30+sIl中の溶液に、水10+A中の塩化第一スズニ水和物770 mgに4N水酸化ナトリウム溶液を加えることにより調整した9のpHを有する 懸濁液を加えた。反応混合物を40℃に加熱し、IN水酸化ナトリウム溶液でp Hを9に維持した後反応混合物を90分間かくはんし、酢酸エチル中へ注加した 0層を分離した後、有機層をブラインで洗浄し、濃縮乾固した。次いで残留物を アセトンに溶解し、石油エーテルを加えた。固体を捕集し、乾燥した後21%の 純度で表題の化合物1.08gが得られた。収率実施例22 (6R,7R) 4−tert−ブトキシカルボニル−7−フェニルアセトアミ ド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セフェムプロミドから(4R,6 R,7R)−3−メチレン−7−フェニルアセトアミドセフ ムー4−カル°ポ ンーtert−フ゛チルの゛告(6R,7R) 4 tert−ブトキシカルボ ニル−7−フェニルアセトアミド−3−トリフェニルホスホニオメチル−3−セ フェムプロミド729B(純度79%、0.79ミリモル)のテトラヒドロフラ ン15−!中のかくはん混合物に窒素下に、水15ml中の塩化第一スズニ水和 物385mgのpHを9に調整した溶液を加えた。温度を40℃にあげた後pH を9〜9.5に90分間維持した。 反応混合物を酢酸エチルに注加し、層を分離し、形成された表題生成物の量を有 機層中で測定した。収率95%。 実施例23 (IS、6R,7R) −3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェニルアセト アミド−3−セフェム−4−カルボン酸tert−ブチルから(4R,6R,7 R)−3−メチレン−7−フェニルアセトアミドセフ ムー4−カルボン te rt−フ゛チルの夏゛告(Is、6R,7R)−3−ブロモメチル−1−オキソ −7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン1ltert−ブチ ル5g(純度89%;9.2ミリモル)のテトラヒドロフラン15011Il中 の溶液にトリフェニルホスフィン4g(15,3ミリモル)を40℃でかくはん 下に加えた。 40℃で連続的にかくはんする間に徐々に白色沈殿、ホスホニウム塩、が形成さ れた。2時間後に懸濁液を2℃に冷却し、三塩化リン1.3g(14,9ミリモ ル)を加えた。2℃で90分間かくはんし、透明溶液のpHを4N水酸化ナトリ ウム溶液で9.5に調整した後、反応混合物を30℃で60分間かくはんした。 1N塩酸溶液でpHを6.8に調整した後、反応混合物を2回、全量400mf の酢酸エチルで抽出した。乾燥(硫酸マグネシウム)した有機層を蒸発させ、有 機残留物をシリカゲルクロマトグラフィー〔トルエン/酢酸ブチル4 : 1  (V/V) )により精製すると2画分が得られた。ア発乾固し、ジエチルエー テルで摩砕した後第2画分が表題生成物1.81g(50%収率)を与えた。 IR−スペクトル(KBr−ディスク;値、CI!−’) :53oo。 1780、17.42.1670.1550.1382.1340.1280. 1160.940.735および710゜ PMR−スペクト)Ii (360MHz ;CDC1,;δ−値、ppm;内 部基準としてテトラメチルシラン) : 1.45 (s、 9H); 3.1 5および3.63 (2xd、 2H,J=13.2 Hz); 3.61 ( s、 IH); 4.92および5.17(3s、 3H;); 5.36 ( d、 18; J=4.3 Hz); 5.64 (d、 IH; J=4.3  Hz);6.34 (d、 IH; J=9.6 Hz); 7.30 (m 、 5H)。 実施例24 (Is、6R17R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェニルアセトア ミド−3−セフェム−4−カルボン1dtert−ブチルから(Is、4R16 R17R)−3−メチレン−1−オキソ・ −7−フェニルアセトアミドセファ ム−4−カルボンfitert−ブ天酉皇l這−一一一一一一一一一一一一一一 一一一一一一一一一(Is、6R17R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−フ ェニルアセトアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸tert−ブチル3 .85g(純度88%、7.0149モル)のテトラヒドロフラン150+of 中の透明溶液トリフェニルホスフィン3.9g(15ミリモル)を窒素下に加え た。40℃で3時間かくはんした後、水50a+[中の塩化第−スズ3.85  gに4N水酸化ナトリウムを加えることにより調整した9、5のp)lを有する 懸濁液を加え、かくはんを90分間続け、pHを9.5で、温度を40℃で維持 した。 反応混合物を酢酸エチル200a+j!に江刺し、層を分離し、水層を酢酸エチ ルで抽出(3X)した後、有機層を合せてブラインで洗浄した。定量HPLC分 析によると酢酸エチル溶液中の表題化合物の収率は98%であった。溶液を減圧 で濃縮し、脱色炭および濾過助剤で処理し、溶媒を蒸発させた後残留物を塩化メ チレンに溶解した。ジエチルエーテルおよび石油エーテル40〜60”Cで沈殿 させ、沈殿を濾過し、洗浄し、乾燥すると41.5%の純度で表題の生成物6. 31gが得られた0表題生成物の収率ば93%であった。 実施例25 (Is、6R17R)−3−ブロモメチル−7−((2−ブロモ−2−フェニル )アセトアミドツー1−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸tert−ブチ ルから(Is、4R,6R17R)=3−メチレン−1−オキソ−7−フェニル アセトアミドセファム−4−カルボン−tert−フ゛チルの刺゛告(Is、6 R17R)−3−ブロモメチル−7−((2−ブロモ−2−フェニル)アセトア ミドツー1−オキソ−3−セフェム−4−カルボン1dtert−ブチル565 mgのテトラヒドロフラン15mji中の懸濁液にトリフェニルホスフィン72 0mgを窒素下に加えた。40℃で2時間かくはんした後、水5ml中の塩化第 一スズニ水和物385mgに4N水酸化ナトリウム溶液を加えることにより調整 した9、5のpHを有する懸濁液を加え、かくはんを90分間続け、pHを9. 5で、反応温度を60℃で維持した0反応混合物を酢酸エチルに江刺し、層を分 離し、水層を酢酸エチルで抽出(3X)した後、有機層を合せてブラインで洗浄 した。定量HPLC分析によると酢酸エチル溶液中の表題化合物の収率は30% であった。溶液を濃縮乾固した後残留物をアセトンに溶解した。ジエチルエーテ ルおよび石油エーテル40〜60℃で沈殿させ、沈殿を濾過し、洗浄し、乾燥す ると15%の純度で表題の生成物750a+gが得られた0表題生成物の収率は 27%であった。 実施例26 (6R,7R) −3−ブロモメチル−1,1−ジオキソ−7−フェニルアセト アミド−3−セフェム−4−カルボン酸tert−ブチルから(Is、4R16 R,7R)−3−メチレン−1,1−ジオキソ−7−フェニルアセトアミドセフ ァム−4−カルボン酸tert−ブチルのLj告 (6R17R)−3−ブロモメチル−1,1−ジオキソ−7−フェニルアセトア ミド−3−セフェム−4−カルボン酸tert−ブチル(実施例1参照) 24 0+ag (0,48ミリモル)のテトラヒドロフラン15mA中の溶液にトリ フェニルホスフィン262mg(1ミリモル)を加えた0反応混合物を40℃で 16時間かくはんし、次いで水5mf中の塩化第一スズニ水和物185mgの、 4N水酸化ナトリウム溶液でpHを9に調整した懸濁液を加えた。lN水酸化ナ トリウム溶液でpHを9に維持して90分間かくはんした後p)Iを7に調整し た0反応混合物を酢酸エチルに江刺した。有機層を水およびブラインで洗浄した 後溶媒を蒸発させた。残留物をアセトンおよびエーテルに溶解し、石油エーテル 40〜60℃を加え、遠心分離し、乾燥した後表題の化合物190mgが59% の純度で得られた。収率60%。 実施例27 (Is、6R17R)−3−ブロモメチル−7−ホルムアミド−1−オキソ−3 −セフェム−4−カルボンfitert−ブチルがら(Is、4R16R17R )−7−ホルムアミド−3−メチレンニュニノ]二仕慰乙しムニに!巨(へ)札 杓i組ロニブフ」ゴバ彩りm−(Is、6R,7R)−3−ブロモメチル−7− ホルムアミド−1−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸tert−ブチル2 00+ng(0,5ミリモル)のテトラヒドロフラン15m1中のかくはん溶液 にトリフェニルホスフィン400mgを加えた。40℃で5時間かくはんした後 、水5+++j!中の塩化第一スズ三水和物200mgに4N水酸化ナトリウム 溶液を加えることにより調整した9のp)lを存する懸濁液を加えた。lN水酸 化ナトリウム溶液でp)lを9に維持して反応混合物を40℃で90分間かくは んし、室温に冷却した。pHを7に調整し、反応混合物を酢酸エチルに江刺した 後層を分離し、水層を酢酸エチル(3X)で抽出し、を機層を合せてブラインで 洗浄した。酢酸エチル溶液を濃縮乾固すると46%の純度で47%のトリフェニ ルホスフィンオキシトを含有する表題の生成物242+mgが得られた。収率は 52%であった。 実施例28 (Is’、6R17R)−3−ブロモメチル−7−ホルムアミド−1−オキソ− 3−セフェム−4−カルボン酸4−ニトロベンジルから(Is、4R16R,7 R)−7−ホルムアミド−3−メチレン−1−オキソ−3−セファム−4−カル ボン酸4−ニトロベンジルの卸゛告 テトラヒドロフラン15tal中の(Is、6R,7R)−3−ブロモメチル− 7−ホルムアミド−1−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸4−ニトロベン ジル(実施例5参照)475+ag(純度79%、0.79ミリモル)にトリフ エルホスフィン530mg’(2,0ミリモル)を加えることにより調製し、4 0℃に6時間かくはんした懸濁液に、水5affi中の塩化第一スズニ水和物3 85Bの、4N水酸化ナトリウム溶液でpHを9.5に調整した懸濁液を加えた 。反応混合物を40℃で90分間か(はんしてその間pHを9に維持した0次い でpHを7に調整した後反応混合物を酢酸エチルに注加した。f機層を水(4X )およびプラインで洗浄し、水層の酢酸エチル逆洗液と合せて蒸発させた。残留 物をアセトンに溶解し、エーテルおよび石油エーテル40〜60℃で処理し、遠 心分離後に表題の生成物が得られた。その構造はPMR分光法により確認された 。 PMR−スペクトル(360MHz;DM S O−d 6 ;内部基準として テトラメチルシラン;δ−値、ppm ) :3.82および3.95(ABq 、 2H; J−14,4Hz); 5.09 (d、 IE; J=4.4  Bz): 5.34.5.49および5.74 (3XS、 3H); 5.4 2 (s、 2B); 5.73 (dd、 IH; J−4,4および10. 2 Hz)。 実施例29 (Is、6R,7R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェノキシアセト アミド−3−セフェム−4−カルボン酸メチルから(Is、4R,6R,7R) −7−フェノキシアセトアミド−3−メチレン−1−オキソセファム−4−カル ボン酸メチルの製盈−−−−−−−−−−−−−−−−一一−−−−−−−−− −−テトラヒドロフラン15−l中の(Is、6R,7R)−3−ブロモメチル −1−オキソ−7−フェノキシアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸メ チル(実施例4参照)460+wgにトリフエルホスフィン390mg (1, 5ミリモル)を加えることにより調製した懸濁液に、水5鴎l中の塩化第一スズ ニ水和物385Bの、4N水酸化ナトリウム溶液でpHを9.5に調整した懸濁 液を加えた0反応混合物を40℃で90分間かくはんしてその間p)lを9に維 持した0次いでpnを9に調整した後反応混合物を酢酸エチルに注加した。を機 層を水(4X)およびブラインで洗浄し、水相の酢酸エチル逆洗液と合せて蒸発 させた。残留物をアセトンに溶解し、エーテルおよび石油エーテル40〜60℃ で処理し、遠心分離後に表題の生成物が得られた。その構造はPMR分光法によ り確認された。 PMR−スペクトル(360MHz;DMSOda ;内部基準としてテトラメ チルシラン;δ−値、pp調) :3.70 (s、 3H’):3.79およ び3.93 (ABq、 2H; J−14,2Hz); 4.62 (s、  2H); 5.11(d、 IH; J−4,4Hz); 5.34.5.41 および5.71 (3xs、 3H); 5.80(dd、 IH; J−4, 4および10.2 Hz); 6.9−7.6 (aI、 5B); 8.27  (d、 IHHJ≠10.2 H2)。 実施例30 (Is、6R17R)−3−ブロモメチル−7−ホルムアミド−1−オキソ−3 −セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルから(Is、4R,6R,7R) −7−ホルムアミド−3−メチレン−1−オキソセファム−4−カルボン酸ジフ ェニルメチルの製這−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−一一一一一一− −−(Is、6R,7R)−3−ブロモメチル−7−ホルムアミド−1−オキソ −3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル(米国特許第3.769,2 77号参照)50(1+g(純度74%、0.74ミリモル)、トリフエルホス フィン780mgおよびテトラヒドロフラン15mgの混合物に、水5Ill中 の塩化第一スズニ水和物385mgの、p)lを4N水酸化ナトリウム溶液で9 .5に調整した懸濁液を加えた0反応混合物を40℃で90分間かくはんしてそ の間PHを9に維持した0次いでpnを7に調整した後反応混合物を酢酸エチル (100mmりに注加した。有機層を水で洗浄し、水相の酢酸エチル逆洗液と合 せて蒸発させた。残留物をアセトンに溶解し、エーテルおよび石油エーテル40 〜60℃で処理し、遠心分離後に表題の生成物とトリフェニルホスフィンオキシ トとの、表題生成物37%を含む混合物550mgが得られた。収率64%。 実施例31 7−フェニルアセトアミド−3−ブロモメチル−3−セフェム−4−カルボン酸 tert−ブチルから7−フェニルアセトアミド−3二工土ヱL至とヱ皇ヱL五 二土二互土ヱZ離旦旦二ズ±土坐翌遺7−フェニルアセトアミド−3−ブロモメ チル−3−セフェム−4−カルボンfatert−ブチル4.7g(純度92% ;9.2ミリモル)、ジメチルホルムアミド75■l、イソブタノール’2al および塩化アンモニウム10gのかくはん混合物に活性亜鉛粉5gを0℃で加え た。0℃で2時間かくはんし、濾過し、酢酸エチルで希釈した後反応混合物を水 300val、IN塩酸溶液50mj!、炭酸水素ナトリウム溶液および2回プ ラインで引続き洗浄した。 硫酸マグネシウムで乾燥した後酢酸エチル層を濃縮し、ジエチルエーテルおよび 少量の石油エーテル(40〜60℃)で摩砕した。 沈殿を濾過し、石油エーテルで洗浄すると表題化合物3.49 gが得られた。 純度95.3%、収率96.2%。 IR−スペクトル(KBr−ディスク;価、Cm−’) :3320゜2990 、1770.1?23.1660.1500.1390.1375.1345. 1260.1212゜1157、1032.934.860.800.750. 736.700.575および547゜PMR−スペクトル(360M HzH CDCl x ;δ−値、pp細 :内部基準としてテトラメチルシラン) :  1.45(S、 9B): 3.15および3.63 (2xd、 2H;  J−13,2)1z); 3.61 (s、 2H); 4.92および5.1 7(2xs、 3)1); 5.36 (d、 18; J−13,2Hz);  5.64 (dd、 18;J−4,3および9.6 Hz); 6.34  (d、 18; J=9.6 Hz); 7.30 (+e、 5H)。 実施例32 (Is、6R,7R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−フェニルアセトアミド −3−セフェム−4−カルボン9tert−ブチルから(Is、4R16R,7 R)−3−メチレン−1−オキソ−7−フェニルアセトアミドセファム−4−カ ルボンfitert−ブチル企里’@−一一−−−−−−−−−−−−−−−− −一−−−−−−(IS、6R,7R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−7− フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸tert−ブチル(相当 する7−フェニルブロモアセトアミドセフェム化合物7.5%を含む)20.0 g(純度90%、37.2ミリモル)、塩化アンモニウム42g、ジメチルホル ムアミド450mj!および水90s+j!のか(はん混合物に活性亜鉛粉末6 2.5mg (0,96ミリモル)を−60℃で窒素下に加えた。−5℃で10 0分間かくはんした後酢酸エチルを加えた。濾過し、残留物を酢酸エチル300 w1lおよび100mj!で洗浄した後有機層を0.5N塩酸溶液400mmお よび2回塩化ナトリウム溶液(10%)200aJでそれぞれ洗浄した。水層を 酢酸エチル2 X 250valで抽出した。 @酸マグネシウムで乾燥した後、酢酸エチル層を合せて濃厚ペースト状物質が形 成されるまで濃縮した。n−ヘキサンを徐々に加え、混合物を再び濃縮し、3℃ で2時間保持し、濾過した。 沈殿をn−ヘキサンで洗浄し、真空で乾燥した後(1’ S、4R26R,7R )−3−メチレン−1−オキソ−7−フェニルアセトアミドセファム−4−カル ボン酸tert−ブチル15.75 gが得られた、母液からさらに0.36m gが得られた。定量HPLC検定により生成物は表題の化合物92.2%および 相当するデアセトキシ化合物6%を含有した0表題化合物の実収率は、フェニル ブロモアセトアミド化合物もまた表題化合物に転化されたことを考慮して92% であった。 実施例33 (Is、6R,7R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェニルアセトア ミド−3−セフェム−4−カルボンfitert−ブチルから(Is、4R16 R27R)−3−メチレン−1−オキソ−フェニルアセトアミドセファム−4− カルボンatert−ブチル企里盪−一一一一−−−−−−−−−−−−−−− −−−−−m−アセトン2.512中の(Is、6R17R)−3−ブロモメチ ル−1−オキソ−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸ter  t−ブチル250g (純度88%、490ミリモル、相当するα−ブロモフ ェニルアセトアミド化合物8%を含む)に−17℃で、水450mj!中の塩化 アンモニウム200gの溶液および8Nアンモニウム100mAを窒素下に加え た0次いで反応温度を一5℃に維持しながら活性亜鉛粉末250g (3820 ミリモル)を加え、かくはんを30分間続けた。温度を25℃にあげた後、水5 00s+1および4N塩酸435mJを加え、反応混合物を濾過し、残留物をア セトンと水との混合物(v/v=3:1)で十分に洗浄した。濾液(全量510 0m1)に60℃の温度を有する水400mfを加え、混合物を冷却し、2℃で 16時間貯蔵した。沈殿を濾過し、水とアセトンとの混合物(2X250vlR ; v/v−3: 1)で洗浄し、真空で45℃で乾燥すると97%の純度で表 題の化合物174.68gが得られた。収率は85.4%であった。 IR−スペクトル(KBr−ディスク;値、3−’) :3330゜2980、  1762. 1713. 1646. 1512. 1368. 1340.  1250. 1208. 1153゜1038、931.873.800.7 29および699゜PMR−スペクトル(360M Hz; CDC15と若干 のDMSO−d、:内部基準としてテトラメチルシラン;δ−値、ppm):1 .45 (s、 9H); 3.59 (s、 2B); 3.61および3. 73 (ABq、 2H; J=14)1z); 4.91 (d、 IH;  J=4.3 Hz); 5.02.5.37および5.64 (−重線。 3H)、 5.86 (dd、 IH; J・4.3および9.8 )+2); 7.26 (d、 IL J・9.8Hz); 7.26 (m、 5H)。 実施例34 (Is、6R17R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−マーフェニルアセトア ミド−3−セフェム−4−カルボン酸tert−ブチルから(Is、4R,6R 17R)−3−メチレン−1−オキソ−フェニルアセトアミドセファム−4−カ ルボン1dtert−ブチル0:) ””@−−−−−−−−−−−−−−−− −−−−一一一−−−−−−ジメチルホルムアミドif中の(Is、6R17R )−3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェニルアセトアミド−3−セフェム −4−カルボン酸tert−ブチル100g (純度88%、196ミリモル、 相当するα−ブロモフェニルアセトアミド化合物8%を含む)に−3℃で、水1 80ml中の塩化アンモニウム80gの温(45℃)溶液を加えた。次いで反応 温度を−5〜−10℃に維持しながら活性亜鉛粉末100gを加え、かくはんを 60分間続けた。酢酸エチル500w1pおよび水150vaI!を加えた後、 残留物を濾過し、水100mA’および酢酸エチル250mIVで洗浄した。濾 液の層を分離し、有機層を酢酸エチル400mAで洗浄し、プライン(3X 1 00mjりで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、石油エーテル40〜60℃を 徐々に加えながら濃縮した。 −夜装置した後結晶沈殿を濾過し、石油エーテル40〜60℃で洗浄し、真空で 40℃で乾燥すると表題の生成物68.06 gが得られた。収率86%。 実施例35 (6R,7R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェニルアセトアミド− 3−セフェム−4−カルボン酸2−ブロモエチルから(Is、4R16R,7R )−7−フェニルアセトアミド−3−メチレン−1−オキソセファム−4−カル ボン酸2−ブロモエチルのり告 (6R,7R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェニルアセトアミド− 3−セフェム−4−カルボン酸2−ブロモエチル135+++g(純度79%; 199ミクロモル)に水0.18mf中の塩化アンモニウム100+ng (1 ,87ミリモル)の溶液および4N水酸化アンモニウム溶液0.10mj!、次 いで活性亜鉛粉末125mg(1,91ミリモル)を加えた。超音波浴中で5℃ で45分間かくはんした後4N塩酸溶液0.3mAを加えた1反応混合物を濾過 し、温度を透明溶液が得られるまであげた。水3.5mAで沈殿させ表題の生成 物63.4g(61%)が得られた。 IR−スペクトlしくKBr−ディスク;イ直、3−’) :3335゜297 5、1776、1?36.1652.1530.1379.1342.1200 .1161.1031゜942、868.729.697および580゜PMR −スペクトル(300MHz ;CDC15;内部基準としてテトラメチルシラ ン;δ−イ直、ppm ) : 3.53 (t、 2H; J−5,5Hz) ;3.58および3.63 (ABq、 2H; Jd5.5 HE); 3. 61および3.72 (ABq。 28; J=14.6 Hz); 4.47 (t、 2H; J=5.5 H z); 4.87 (d、 1lll: J=4.4Hz); 5.22.5. 43および5.73 (3XS、 3H); 5.96 (dd、 IH; J =4.4および10.1 Hz); 6.96 (d、 IH; J=10.1  Hz); 7.3 (m、 5)1)。 実施例36 (Is、6R,7R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェニルアセトア ミド−3−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルから(Is、6R, 7R)−3−メチレン−1−オキソ−7−フェニルアセトアミドセフ7ムー4− カルボン酸4−メ上土上ご79 JLL12L−一一一一一一一一一一一一一一 一一一一塩化アンモニウム40mg (0,75ミリモル)、水70μiおよび 4N水酸化アンモニウム溶液40μlの溶液にアセトン1.0鋼j!および活性 亜鉛粉末somgを加えた。次いで(Is、6R17R)−3−ブロモメチル− 1−オキソ−7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸4−メ トキシベンジル50mg(純度81%=74ミクロモル)を加え、混合物を超音 波浴中で0℃で1.5時間かくはんした。水0.1mlおよび4N−HCA溶液 75μEを加えた後混合物を濾過した。濾液に水1.5mff1を加え、生じた 結晶を濾過した。洗浄し、乾燥した後、表題化合物36.7mgが76%の純度 で得られた。収率:81%。 IR−スペクトル(XBr−ディスク;値、(z−’) :3335゜2970 、1775.173B、 1648.1611.1518.1341.1257 .1196.988゜952、938.860.820.726および693゜ PMR−スペクトル(360MHz ;CDCf5;内部基準としてテトラメチ ルシラン;δ−値、ppm ) : 3.49および3.65 (ABq。 28; J=14.2 IQ); 3.56および3.62 (ABq、 2H ; J=15.0 Hz); 3.81(s、 3H); 4.80 (d、  IH; J−4,4Hz); 5.07および5.13 (ABq、 2H:J =11.9 Fiz); 5.16.5.37および5.67 (3xs、 3 H); 6.89 (d、 2)1;J=8 tlz); 7.3 (s、 8 )1)。 実施例37 (6R,7R)−3−ブロモメチル−1−オキソー7−フェニルアセトアミド− 3−セフェム−4−カルボン酸トリクロロエチルから(Is、4R16R,7R )−7−フェニルアセトアミド−3−メチレン−1−オキソセファム−4−カル ボン酸ジクロロエチルおよび(Is、4R,6R,7R)−7−フェニルアセト アミド−3−メチレン−1−オキソセファム−4−カルボン酸の製産−−−−− −−−−−−−−−−−−−一−−−−−−−−−水2.2+aA中の塩化アン モニラ・ム1.2g(22,4ミリモル)および4N水酸化物溶液1.2蒙pを 一10℃で(Is、4R,6R。 7R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェニルアセトアミドセファム− 4−カルボン酸トリクPロエチル1.68g(純度92%; 2.78ミリモル )のアセトン15mjlおよびジメチルホルムアミド2val中のかくはん溶液 に加えた。活性亜鉛粉末1.5g(15,3ミリモル)を加えた後、混合物を4 ℃で70分間かくはんした。次いで水31i1および4N塩酸溶液を加え、固体 物質を濾過した。濾液に温水50mkを加えた。0℃に冷却した後結晶を濾過し 、洗浄し、乾燥すると83%の純度で(Is、4R16R17R)−7−フェニ ルアセトアミド−3−メチレン−1−オキソ−セファム−4−カルボン酸ジクロ ロエチル153mgが得られた。収率lO%。 IR−スペクトルCKBr−ディスク;値、al−’) :3330゜2930 、2850.1780.1750. rs49.1s74.1521.1377 、1351.1340゜11B2.1155.1026.940.864.75 8.727.692.665.581および528゜ PMR−スペクトル(360M’ Hz ; C’DC7! sと若干のD?I SO−・ d、;内部基準としてテトラメチルシラン:δ−値、ppll):3 .58および3.73 (ABq、 2H; J=14.4 Hz): 3.5 9および3.63 (ABq。 2H; J=15.2 Hz); 4.53 (m、 2B); 4.84 ( d、 IH; J=4.4 Hz);5.26゜5.45および5.75 (3 xs、 3H); 5.86 (t、 IH; J=5.7 Hz); 5.9 8 (dd。 Ill; J=4.4および10.2 Hz); 6.91 (d、 1)1;  J=10.2 Hz); 7.33(w、5H)。 母液を塩化メチレンで数回抽出した。塩化メチレン溶液を濃縮・し、エーテルで 摩砕すると(Is、4R16裏、7R)−7−フェニルアセトアミド−3−メチ レン−1−オキソセファムー4−カルボン酸769mgが得られた。純度87% ;収率69%。全収率79%。 実施例38 (Is、6R,7R)−3−ブロモメチル−7−((2−ブロモ−2−フェニル )アセトアミド)−1−オキソ−5−セフェム−4−カルボン酸tert−ブチ ルから(Is、4R,6R,7R)−3−メチレン−1−オキソ−7−フェニル アセトアミドセファム−4−カルボン tert−ブチルのi゛告(15,6R ,7R)−3−ブロモメチル−7−((2−ブロモ−2−フェニル)アセトアミ ド〕−1−オキソー3−セフェム−4−カルボン酸tert−ブチル10g(1 7,78ミリモル)のジメチルホルムアミド125mfおよび水22.5m#中 の窒素雰囲気下に水浴中で冷却した溶液に、混合物をかくはんしながら塩化アン モニウム10gおよび活性亜鉛粉末12.5 gを加えた。45分後、酢酸エチ ル60111および水20+ej!を加え、反応混合物を濾過した。濾液を水3 0蒙pおよび酢酸エチル50valで洗浄し、層を分離した。10%塩化ナトリ ウム溶液(3X 50m#)で洗浄した後酢酸エチル溶液を乾燥(硫酸マグネシ ウム)し、濃縮した。 若干のn−ヘキサンおよび酢酸エチルを加え、溶液を再び小容積に濃縮した。沈 殿を濾過し、n−ヘキサンで洗浄し、真空で乾燥すると白色結晶性の表題の化合 物6.75g(94%)が得られた。 実施例39 (IS、6R,7R)−3−ブロモメチル−7−ホルムアミド−1−オキソ−3 −セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルから(Is、4R16R17R) −7−ホルムアミド−5−iチレンー1−オキソセファム−4−カルボン酸ジフ ェニルメチルの製這−−−−−−−−−−−−−−−一一−−−−−−−−−− −−(IS、6R,7R)−3−ブロモメチル−7−ホルムアミド−1−オキソ −3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル3g(純度74%:4.40 ミリモル)のジメチルホルムアミド25si!中の***液に一15℃で塩化アン モニウム2.’ 4’g (44,9ミリモル)、水4.2 m l!および4 N水酸化ナトリウム溶液2.411の溶液を加えた。活性亜鉛粉末3g(30, 6ミリモル)を0℃で加えた後、温度を0℃に保って反応混合物を35分間かく はんした。4N塩酸溶液7@1で反応混合物のpHを2にtIIl枯した後無機 残留物を濾過し、ジメチルホルムアミド25IIII!で洗浄した。濾液に水7 5@lを加え、−夜装置した後白色結晶が得られた(2.05g;純度86%: 収率94.5%)。 TR−スペクトル(KBr−ディスク;値、elm−’) :3360゜296 5、17B1.17コ3.1660.1527.1458.1352.1237 .1198.1091゜1031、988.967、940.866、741お よび701゜PMR−スペクトル(360MHz ;CDC1,;内部基準とし てテトラメチルシラン;δ−値、ppm’ ) : 3.44および3.69( ABq。 2H; J=14.2 Hz); 4.86 (d、 18; J−4,4Hz ); 5.35.5.47および5.82 (3xs、 3Fl); 5.99  (dd、 IH; J=4.4および10.2 Hz); 6.86(s、  LH); 7.11 (d、 18; J−10,2Hz); 7.3 (m、  10H); 8.23 (s。 IH)。 実施例40 (6R,7R)−3−ブロモメチル−4−カルボキシ−7−イソプロピリデンア ンモニオー3−セフェムプロミドから(4R16R,7R) −7−アミノ−3 −メチレンセファム−4−カルボン の °1 (6R,7R)−3−ブロモメチル−4−カルボキシ−7−イソプロビリデンア ンモニオ−3−セフェムプロミド7.79g(純度80.7%;15.18ミリ モル)、塩化アンモニウム4g、水10mj!およびN、N−ジメチルホルムア ミド50mj!のかくはん混合物に活性亜鉛粉末2.7g(19,8ミ′リモル )を−20℃で加えた。0℃で110分間かくはんし、4N塩酸溶液6.5 a h j!を加えた後(pHは1.8である)、反応混合物を濾過し、残留物をI N塩酸溶液10m’j!で洗浄した。濾液のp)Iを4N水酸化ナトリウム溶液 6.7+aj!の添加により4に調整し、生じた結晶を濾過し、水−アセトン( 1: 1) 10蒙pおよびアセトンでそれぞれ洗浄し、乾燥後に表題の化合物 1.8gが得られた。収率53%。 実施例41 3−ブロモメチル−4−カルボキシ−7β−イソプロピリデンアンモニオ−3− セフェムプロミドから7−アミノ−3−エキソメチレンセファム−4−カルボン  のLi告富窒素雰囲気下、3−ブロモメチル−4−カルボキシ−7β−イソプ ロピリデンアンモニオ−3−セフェムプロミド3g(5,7ミリモル)を、塩化 アンモニウム4g、水1 (lej!、ジメチルホルムアミド4 C1+*1お よび活性亜鉛粉末5gの混合物にかくはん下に加えた。30分後にpHを4N、 −HCl13.5ealで1.8に調整した。濾過し、アセトン/水(1: 1  v/v)10蒙pで洗浄した後、溶液の+11)1を3.9に調整した。30 分後に沈殿を濾過し、アセトン/水およびアセトンで洗浄し、乾燥すると表題の 生成物0.5gが得られた。 1R−スペクトル(KBr−ディスク;値、Cff+−’) :3430゜29 10、1?80.1630.1550.1370.1220.1147.112 5.1010.938゜855′、 800.766、704.655.420 .400および3?’Ocm−’。 PMR−スペクトル(CF3GOOD ;δ−値、ppm ) : 3.24お よび3.55(2xd、 211; J=141lz); 4,99 (d、  1)I; J=4.111z): 5.17.5.24および5.27 (3x s、 311); 5.48 (d、 III; J−84,1Hz)。 実施例42 (IS、6R,7R)−2−ブロモ−3−ブロモメチル−7−ホルムアミド−1 −オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸tert−ブチルから(IS、4R, 6R,7R)−7−ホルムアミド−3−3−メチレン−1−オキソセファム−4 −カルボン酸Lert−ブチルの製造 (Is、6R,7R) −2−ブロモ−3−ブロモメチル−7−ホルムアミド− 1−オキソ−3−セフェム−4−カルボン酸tert−ブチル2.Og(純度8 6.3%、 3.66ミリモル)、塩化アンモニウム1.8g、水4mlおよび N、 N−ジメチルホルムアミド25mI2のかくはん混合物に活性亜鉛粉末1 .0g<15.3ミ!Jモル)を−8℃で加えた。10分間かくはんし、塩化メ チレン20m1lおよび水5ff+j!を加えた後残留物を睡過し、塩化メチレ ン(2X15mjりおよび水(5+++jりで洗浄した。層を分離し、水層を塩 化メチレン20nlで抽出した後、有機層を合せてブラインで洗浄し、硫酸マグ ネシウムで乾煙し、濃縮した。過剰の水を徐々に加えて、若干の時間水浴中で冷 却し、結晶性沈殿を濾過し、真空で乾燥すると87.7%の純度で表題の化合物 0.83 gが得られた。収率は63%であった。 IR−スペクトル(KBr−ディスク;値、0111−’) :3340゜29 92、 1774. 1720. 1658. 1510. 1391. 13 70. 1347. 12B9. 1238゜121L 1155.1094. 1037.947.870.839.800.732.620および583゜ PMR−スペクトル(360MHz ;CDCf5 と若干のD?’ISO−d 6 ;δ−値、ppm ;内部基準としてテトラメチルシラン):1.47 ( s、 9H); 3.74.3.84 (ABq、 2H; J=14.4 H z); 5.04.5.40゜5.65 (3g、 3H); 5.06 (d 、 11(; J=4.8 Hz); 5.81 (dd、 IH; J=4. 8および10.1 Hz); 8.08 (d、 IH; J=10.1 Hz ); 8.20 (s、 18)。 実施例43 (Is、6R,7R)−3−ジブロモメチル−7−ホルムアミド−1−オキソ− 3−セフェム−4−カルボンatert−ブチルから(Is、4R,6R,7R )−3−ブロモメチレン−7−ホルムアミド−1−オキソセファム−4−カルボ ンfitert−ブチルの製這−−−−−−−−−−−−−−−−一−−−−− −−−−−−−活性亜鉛粉末(0,7g)を(Is、6R,7R)−3−ジブロ モメチル−7−ホルムアミド−1−オキソ−3−セフェム−4−カルボンate rt−ブチル500mg、ジメチルホルムアミド7…11水]、25o+7!お よび塩化アンモニウム0.55 gの混合物に一5℃で加え、混合物を2℃で1 時間かくはんした。次いで、酢酸エチル4n1および水1m7!を加え、混合物 を濾過し、残留物を水2ta7!および酢酸エチル3mlで洗浄した。層を分離 した後lir機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、約り目に濃 縮した。−夜放置後白色沈殿を濾過し、ジエチルエーテルで洗浄し、乾燥すると 表題の生成物240mg(58%)が得られた。 IR−スペクトル(KBr−ディスク;値、3−’) :3330゜2994、 1778.1723.1673.151B、 1371.1345.1240. 1155.1040゜960、874.768.738.731および589゜ PMR−スペクトル(360MHz ;CDCf5;δ−値、ppIl;内部基 準としてテトラメチルシラン) : 1.4B (s、 9)1); 3.47 ゜4.54 (ABq、 2H; J=14.4 Hz); 5.00 (d、  IH; J=4.3 Hz); 5.17(s、 1N); 5.95 (d d、 18; J=4.3および10.4 Hz); 7.08 (s、IH) ;7.55 (d、 IH; J=10.4 Hz); 8.23 (s、’  IH)。 実施例44 (6R17R)−3−プロモメ缶ルー1,1−ジオキソ−7−フェニルアセトア ミド−3−セフェム−4−カルボンatert−ブチルから(Is、4R,6R ,7R)−3−メチレン−1,1−ジオキソ−7−フェニルアセトアミドセ、フ ァム−4−カルボン酸tert−フ゛チルのLi告 塩化アンモニウム40mg (0,75ミリモル)、水70μlおよび4N水酸 化アンモニウム溶液40μpの溶液にアセトン0.5mgおよび活性亜鉛粉末5 0mgを加えた0次いで(6R17R)−3−ブロモメチル−1,1−ジオキソ −7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸tert−ブチル 50領g(純度94%;94ミクロモル)を加え、混合物を超音波浴中で0℃で 35分間かくはんした。水0,1mj!、4N−HCf溶液0.2mgおよびメ タノール0.2+mfを加えた後混合物を濾過した。濾液に水1.5vn12を 加え、生じた結晶を濾過した。洗浄し、乾燥した後表題の化合物34mgが94 %の純度で得られた。収率:81%。 IR−スペクトル(KBr−ディスク;値、cm−’) :3400゜2975 、1777、1741.1703.1522.1372.1320.1257. 1150.1119゜938、868.831.702.569および513゜ PMR−スペクトル(360MHz ;CDCl!、と若干のDMSO’6;内 部基準としてテトラメチルシラン:δ−値、ppm):1.47 (s、 9B ); 3.63 (s、 28 ); 3.76および3.91 (ABq;J −14,2Hz); 4.99.5.40および5.48 (s、 3B);  5.14 (d、 IH; J= 4.4 Hz);6.05 (dd、 IH ; J=4.4および10.2 )12); 7.3 (囮、 68)。 実施例45 (Is、6R,7R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェニルアセトア ミド−3−セフェム−4−カルボンatert−ブチルから(Is、4R,6R 17R)−3−メチレン−1−オキソ−7−フェニルアセトアミドセファム−4 −カルボン酸tert−ブ±酉企l】二一一一−一一−−一一一一一一一一一一 −一一−一−(Is、6R17R)−3−ブロモメチル−1−オキソ−7−フェ ニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボンatert−ブチル480mg (1ミリモル)のジメチルホルムアミド12.5vAf中のかくはん溶液に水2 .5 m l、塩化アンモニウム1gおよびマグネシウム粉末500a+gを0 ℃で加えた。0℃で2時間かくはんした後、酢酸エチル100talを加えた。 濾過した後、希釈された反応混合物を水、IN塩酸、ブラインで引続き洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥溶液をジエチルエーテルおよびn −ヘキサ ンで処理した後表題の生成物を濾過し、n−ヘキサンで洗浄し、乾燥すると(I S、4R,6R,7R)−3−メチレン−1−オキソ−7−フエニルアセドアミ トーセフアムー4−カルボン酸tert−ブチル382+agが得られた。 本発明はもう十分に記載されたので、多くの変更を、請求の範囲の精神および範 囲から逸脱することなくそれに行なうことができることは当業者に明らかであろ う。 国際調査報告 国際調査報告 NL 28000;5 SA 2’310

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.一般式1: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、 Aはアミノ基または保護されたアミノ基であり、Bはカルボキシ基または保護さ れたカルボキシ基あるいはその塩であり、 Xは水素またはハロゲンであり、 nは0、1または2である) の3−メチレンまたは3−ハロメチレンセファム誘導体を製造する方法であって 、式2: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、 A,B,Xおよびnはそれぞれ前記のとおりであり、Yはハロゲンであり、 ZはYまたは水素であり、 R1、R2およびR3は同一かまたは異なるアルキル、アリールまたはアラル基 を示す) の3−ホスホニオメチル−3−セフェム誘導体を式1の化合物に転化させること を含む方法。
  2. 2.7以上のpHに調整された予め調製された無機塩の水中の懸濁液または溶液 を式2の3−ホスホニォメチル−3−セフェム誘導体に添加することを含む、請 求の範囲1記載の方法。
  3. 3.無機塩がナトリウム、カリウム、アルミニウム、ホウ素、リン、亜鉛、スズ またはテルル塩である、請求の範囲2記載の方法。
  4. 4.無機塩が第一スズ塩化物または臭化物、あるいは亜スズ酸塩である、請求の 範囲2または3記載の方法。
  5. 5.反応が9以上のpHで行なわれる、請求の範囲1〜4のいずれか一項に記載 の方法。
  6. 6.式2: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、 Aはアミノ基または保護されたアミノ基であり、Bはカルボキシ基または保護さ れたカルボキシ基あるいはその塩であり、 Xは水素またはハロゲンであり、 Yはハロゲンであり、 ZはYまたは水素であり、 R1、R2およびR3は同一かまたは異なるアルキル、アリールまたはアラルキ ルであり、 nは0、1または2である) の3−ホスホニオメチル−3−セフェム誘導体を製造する方法であって、式3: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A,B,X,Y,Zおよびnは前記のとおりである)の3−ハロメチル −3−セフェム化合物を式4:▲数式、化学式、表等があります▼(4)(式中 、R1,R2またはR3は前記のとおりである)のホスフィン化合物と反応させ 、次いで、望むならば、生じた化合物を式2の他の化合物に転化させることを含 む方法。
  7. 7.XおよびZが水素であり、Yが臭素である式2の3−ホスホニオメチル−3 −セフェム誘導体が製造される、請求の範囲6記載の方法。
  8. 8.請求の範囲6記載の式3の3−ハロメチル−3−セフェム化合物を、請求の 範囲6記載の式4のホスフィン化合物と反応させ、生じた生成物を式1の化合物 に転化させることを含む、請求の範囲1記載の式1の3−メチレンまたは3−ハ ロメチレンセファム誘導体を製造する方法。
  9. 9.ホスフィン化合物がトリフェニルホスフィンである、請求の範囲6〜8のい ずれか一項に記載の方法。
  10. 10.生じた生成物が、7以上のpHに調整された予め調製された無機塩の水中 の懸濁液または溶液を反応混合物に加えることにより転化される、請求の範囲8 記載の方法。
  11. 11.請求の範囲6記載の式3の化合物をアンモニウム塩またはアミンおよび、 場合により塩基の存在下に活性金属と反応させることを含む、請求の範囲1記載 の式1の3−メチレンまたは3−ハロメチレンセファム誘導体を製造する方法。
  12. 12.活性金属が亜鉛またはマグネシウムである、請求の範囲11記載の方法。
  13. 13.アンモニウム塩が塩化アンモニウムであり、場合による塩基が水醇化アン モニウムである、請求の範囲11または12記載の方法。
  14. 14.3−メチレン−1−オキソセファムまたは3−メチレン−1,1−ジオキ ソセファム化合物が製造される、請求の範囲11〜13のいずれか一項に記載の 方法。
  15. 15.A,Bおよびnが請求の範囲1記載のとおりであり、Xがハロゲンである 、式1の3−ハロメチレンセファム化合物。
  16. 16.請求の範囲1記載の式2の3−ホスホニオメチル−3−セフェム誘導体。
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