JPH0215414A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- JPH0215414A JPH0215414A JP16259088A JP16259088A JPH0215414A JP H0215414 A JPH0215414 A JP H0215414A JP 16259088 A JP16259088 A JP 16259088A JP 16259088 A JP16259088 A JP 16259088A JP H0215414 A JPH0215414 A JP H0215414A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は磁気記録媒体に関し、特に、樹脂を主成分とす
る接着補強層を介して基体と磁性層の接着強度を向上さ
せるに当たり、接着補強層と磁性層間の接着強度を向上
させた磁気記録媒体に関する。
る接着補強層を介して基体と磁性層の接着強度を向上さ
せるに当たり、接着補強層と磁性層間の接着強度を向上
させた磁気記録媒体に関する。
(従来技術とその問題点)
従来、ポリエステル等の基体に、樹脂バインダー中に強
磁性粉末を分散した磁性塗料を塗布した型の磁気記録媒
体において、磁性層と基体の間の接着強度は磁気記録媒
体の機械的強度、電気的特性のいずれの面にも重大な影
響があり、接着強度の向上に種々の方策が種々検討され
ている。
磁性粉末を分散した磁性塗料を塗布した型の磁気記録媒
体において、磁性層と基体の間の接着強度は磁気記録媒
体の機械的強度、電気的特性のいずれの面にも重大な影
響があり、接着強度の向上に種々の方策が種々検討され
ている。
これらの方策の一つとして、従来接着補強層として樹脂
膜を基体上に塗布し基体と磁性層の間の接着強度を向上
させることはよく知られている。
膜を基体上に塗布し基体と磁性層の間の接着強度を向上
させることはよく知られている。
(従来技術の問題点)
しかし、磁性塗料は一般に有機溶剤を大量に含有してお
り、このため補強接着層を塗布した後、引き続いて磁性
塗料をその上に塗布すると、補強接着層の樹脂は硬化出
来ていないため、樹脂は有機溶剤により膨潤しあるいは
部分溶解し、磁性塗料の暦の塗布性が阻害され均一な塗
布厚さの磁性層が得られない欠点を有していた。この問
題は接着補強層の樹脂を充分に硬化した後、磁性塗料を
塗布することにより解決されるが、その場合接着補強層
の接着作用が低下する傾向にあるだけでなく、硬化に時
間を要し作業性を阻害する。
り、このため補強接着層を塗布した後、引き続いて磁性
塗料をその上に塗布すると、補強接着層の樹脂は硬化出
来ていないため、樹脂は有機溶剤により膨潤しあるいは
部分溶解し、磁性塗料の暦の塗布性が阻害され均一な塗
布厚さの磁性層が得られない欠点を有していた。この問
題は接着補強層の樹脂を充分に硬化した後、磁性塗料を
塗布することにより解決されるが、その場合接着補強層
の接着作用が低下する傾向にあるだけでなく、硬化に時
間を要し作業性を阻害する。
(発明の目的)
本発明は、磁性塗料の接着補強層への上記の塗布性を阻
害することなく、磁性層の基体に対する接着強度を上げ
ることを目的とする。
害することなく、磁性層の基体に対する接着強度を上げ
ることを目的とする。
(発明の概要)
本発明者は、磁性塗料の接着補強層への塗布性を阻害す
ることなく、磁性層の基体に対する接着強度を上げる方
策を種々検討した結果、接着補強層を放射線硬化性樹脂
を主成分として構成し、更にイソシアネート化合物を含
有させ、磁性層の樹脂にはイソシアネートと反応性のあ
る基を導入し、接着補強層を塗布後に放射線硬化した後
磁性層を塗布し、両層間をイソシアネート化合物とそれ
と反応性の基による架橋反応によって化学的に結合させ
ることで2N間の接着強度を飛躍的に向上させることに
成功した。
ることなく、磁性層の基体に対する接着強度を上げる方
策を種々検討した結果、接着補強層を放射線硬化性樹脂
を主成分として構成し、更にイソシアネート化合物を含
有させ、磁性層の樹脂にはイソシアネートと反応性のあ
る基を導入し、接着補強層を塗布後に放射線硬化した後
磁性層を塗布し、両層間をイソシアネート化合物とそれ
と反応性の基による架橋反応によって化学的に結合させ
ることで2N間の接着強度を飛躍的に向上させることに
成功した。
放射線硬化性樹脂は硬化速度が早いため、接着補強層は
電子線等の放射線による照射により迅速に硬化する。こ
のためその上に直ちに磁性層を塗布しても従来のような
接着補強層の膨潤や部分的な溶解といった問題は完全に
防止される。しかも本発明の磁性層の樹脂成分にはイン
シアネートと反応して硬化し得る熱硬化型の基も含有さ
れているから、熱硬化により磁性層との間に強力な結合
を形成することができる。
電子線等の放射線による照射により迅速に硬化する。こ
のためその上に直ちに磁性層を塗布しても従来のような
接着補強層の膨潤や部分的な溶解といった問題は完全に
防止される。しかも本発明の磁性層の樹脂成分にはイン
シアネートと反応して硬化し得る熱硬化型の基も含有さ
れているから、熱硬化により磁性層との間に強力な結合
を形成することができる。
磁性層の樹脂は、放射線硬化性樹脂でなくても良いが、
イソシアネートと反応性を有する樹脂の場合は、それと
インシアネート化合物の反応が起る為若干効果が低下す
る。
イソシアネートと反応性を有する樹脂の場合は、それと
インシアネート化合物の反応が起る為若干効果が低下す
る。
(発明の詳細な説明)
本発明において基体はポリエステル樹脂、その他従来か
ら使用されているプラスチックフィルム、ディスク等で
ある。
ら使用されているプラスチックフィルム、ディスク等で
ある。
本発明において使用される中間層すなわち接着補強層は
、従来から知られている放射線硬化性樹脂を主体としイ
ソシアネート化合物を含有させたものである。放射線硬
化性樹脂は、放射線特に電子照射によりラジカルを発生
し、架橋あるいは重合することにより硬化するような、
分子鎖中に不飽和二重結合を有する樹脂である。例えば
、アクリル酸、メタクリル酸、それらのエステル等のア
クリル系二重結合、マレイン酸、フマル酸、マレイン酸
誘導体等の不飽和二重結合、アリル系2型結合を有する
樹脂である。
、従来から知られている放射線硬化性樹脂を主体としイ
ソシアネート化合物を含有させたものである。放射線硬
化性樹脂は、放射線特に電子照射によりラジカルを発生
し、架橋あるいは重合することにより硬化するような、
分子鎖中に不飽和二重結合を有する樹脂である。例えば
、アクリル酸、メタクリル酸、それらのエステル等のア
クリル系二重結合、マレイン酸、フマル酸、マレイン酸
誘導体等の不飽和二重結合、アリル系2型結合を有する
樹脂である。
一方、磁性層に含有されるイソシアネートと反応し得る
基は水酸基、酸基、エポキシ基、アミノ基等の活性な水
素基を有するものなどである。イソシアネートとの反応
性から、水酸基、アミノ基が望ましい。
基は水酸基、酸基、エポキシ基、アミノ基等の活性な水
素基を有するものなどである。イソシアネートとの反応
性から、水酸基、アミノ基が望ましい。
接着補強層に用いる樹脂は磁性層の基本樹脂としても用
いて良く、以下は両者に使用可能である。
いて良く、以下は両者に使用可能である。
(I)塩化ビニル−酢酸ビニル系
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、
塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−
ビニルアルコール−プロピオン酸ビニル共重合体、塩化
ビニル−酢酸ビニル−末端OH側鎖アルキル基共重合体
の水酸基を、アクリル酸系二重結合、マレイン酸系二重
結合、アリル系二重結合を導入することにより放射線硬
化性に変性したもの。
塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−
ビニルアルコール−プロピオン酸ビニル共重合体、塩化
ビニル−酢酸ビニル−末端OH側鎖アルキル基共重合体
の水酸基を、アクリル酸系二重結合、マレイン酸系二重
結合、アリル系二重結合を導入することにより放射線硬
化性に変性したもの。
(H)飽和ポリエステル樹脂
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、
マレイン酸誘導体、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸
のような飽和多塩基酸とエチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、
1.2プロピレングリコール、1.3ブタンジオール、
ジプロピレングリコール、1.4ブタンジオール、1.
6ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソルビトー
ル、グリセリン、ネオペンチルグリコール、1.4シク
ロヘキサンジメタツールのような多価アルコールなエス
テル結合して得られる飽和ポリエステル樹脂を放射線硬
化性に変性したもの。
マレイン酸誘導体、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸
のような飽和多塩基酸とエチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、
1.2プロピレングリコール、1.3ブタンジオール、
ジプロピレングリコール、1.4ブタンジオール、1.
6ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソルビトー
ル、グリセリン、ネオペンチルグリコール、1.4シク
ロヘキサンジメタツールのような多価アルコールなエス
テル結合して得られる飽和ポリエステル樹脂を放射線硬
化性に変性したもの。
(III)不飽和ポリエステル樹脂
分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物。例えば第(TI)項の熱可塑性樹脂と
して記載の多塩基酸と多価アルコールのエステル結合か
ら成る飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部をマレイ
ン酸とした放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽
和ポリエステル樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げ
ることができる。
エステル化合物。例えば第(TI)項の熱可塑性樹脂と
して記載の多塩基酸と多価アルコールのエステル結合か
ら成る飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部をマレイ
ン酸とした放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽
和ポリエステル樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げ
ることができる。
飽和ポリエステル樹脂の多塩基酸および多価アルコール
成分は第(I)項に記載した各化合物を挙げることがで
き、放射線硬化性不飽和二重結合としてはマレイン酸、
フマル酸等を挙げることができる。
成分は第(I)項に記載した各化合物を挙げることがで
き、放射線硬化性不飽和二重結合としてはマレイン酸、
フマル酸等を挙げることができる。
放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂の製法は、多塩基
酸成分1種以上と多価アルコール成分1種以上にマレイ
ン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒存在下18
0〜200℃窒素雰囲気下脱水あるいは脱アルコール反
応の後、240〜280℃まで昇温し、0.5〜lmm
Hgの減圧下縮合反応によりポリエステル樹脂を得るこ
とができる。マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製造
時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中1〜40モル%
で好ましくは10〜30モル%である。
酸成分1種以上と多価アルコール成分1種以上にマレイ
ン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒存在下18
0〜200℃窒素雰囲気下脱水あるいは脱アルコール反
応の後、240〜280℃まで昇温し、0.5〜lmm
Hgの減圧下縮合反応によりポリエステル樹脂を得るこ
とができる。マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製造
時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中1〜40モル%
で好ましくは10〜30モル%である。
(Iv)ポリビニルアルコール系樹脂
ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体の水酸
基を後に述べる手法により放射線感応硬化性に変性した
もの。
脂、ホルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体の水酸
基を後に述べる手法により放射線感応硬化性に変性した
もの。
(V)エポキシ系樹脂、フェノキシ樹脂ビスフェノール
Aとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリンの
反応によるエポキシ樹脂−シエル化学製(エピコート1
52.154.828.1001.10o4.1007
)ダウケミカル製(DEN431SDER732、DE
R511、DER331)、大日本インキ製(エビクロ
ン400、エビクロン−8oo)、更に上記エポキシの
高重合度樹脂であるUcc社製フェノキシ樹脂(PKH
A、PKHC,PKHH)臭素化ビスフェノールAとエ
ピクロルヒドリンとの共重合体、大日本インキ化学工業
製(エビクロン145.152.153.1120)等
のエポキシ基を放射線硬化性に変性したもの。
Aとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリンの
反応によるエポキシ樹脂−シエル化学製(エピコート1
52.154.828.1001.10o4.1007
)ダウケミカル製(DEN431SDER732、DE
R511、DER331)、大日本インキ製(エビクロ
ン400、エビクロン−8oo)、更に上記エポキシの
高重合度樹脂であるUcc社製フェノキシ樹脂(PKH
A、PKHC,PKHH)臭素化ビスフェノールAとエ
ピクロルヒドリンとの共重合体、大日本インキ化学工業
製(エビクロン145.152.153.1120)等
のエポキシ基を放射線硬化性に変性したもの。
(Vl)繊維素誘導体
各種分子量の繊維素系誘導体も、また熱可塑性プラスチ
ック成分として効果的である。その中でも、特に効果的
なものは硝化綿、セルローズアセトブチレート、エチル
セルローズ、ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等
が好適である。
ック成分として効果的である。その中でも、特に効果的
なものは硝化綿、セルローズアセトブチレート、エチル
セルローズ、ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等
が好適である。
これらも、樹脂中の水酸基を放射線硬化性に変性したも
の。
の。
さらに、接着補強層には、インシアネート化合物を含有
する。このものは硬化剤として知られる任意のものが使
用できる。一方、磁性層が放射線硬化性樹脂を含む場合
には、このものはイソシアネート化合物と反応性の基を
導入する。その場合には上記の各種樹脂が利用でき、そ
れに0H2NH2等の基を導入する。例えば上記樹脂で
すでにOH等を有するものを出発原料として放射線硬化
型に変性する場合にはOH等の過剰な条件で変性すれば
良い。
する。このものは硬化剤として知られる任意のものが使
用できる。一方、磁性層が放射線硬化性樹脂を含む場合
には、このものはイソシアネート化合物と反応性の基を
導入する。その場合には上記の各種樹脂が利用でき、そ
れに0H2NH2等の基を導入する。例えば上記樹脂で
すでにOH等を有するものを出発原料として放射線硬化
型に変性する場合にはOH等の過剰な条件で変性すれば
良い。
接着補強層及び磁性層は放射線照射により磁化される使
用しつる活性エネルギー線としては、放射線加速器を線
源とした電子線、C060を線源としたγ−線、5r9
6を線源としたβ−線、X線発生器を線源としたX−線
等が使用される。
用しつる活性エネルギー線としては、放射線加速器を線
源とした電子線、C060を線源としたγ−線、5r9
6を線源としたβ−線、X線発生器を線源としたX−線
等が使用される。
特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加速器
による電子線を使用する方法が有利である。
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加速器
による電子線を使用する方法が有利である。
放射線特性としては、透過力の面から加速電圧100〜
750Kv好ましくは150〜300KVの放射線加速
器を用い、吸収線量を0.5〜20メガラツトになる様
に照射するのが好都合である。特に、米国エナージーサ
イエンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加
速器(エレクトロカーテンシステム)等がテープコーテ
ィング加エラインへの導入、加速器内部の2次X線の遮
蔽等に極めて有利である。
750Kv好ましくは150〜300KVの放射線加速
器を用い、吸収線量を0.5〜20メガラツトになる様
に照射するのが好都合である。特に、米国エナージーサ
イエンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加
速器(エレクトロカーテンシステム)等がテープコーテ
ィング加エラインへの導入、加速器内部の2次X線の遮
蔽等に極めて有利である。
勿論、従来より電子線加速器として広く活用されている
ところのファンデグラフ型加速器を使用しても良い。ま
た、バック層においては、塗布厚が薄いので紫外線によ
っても十分硬化反応が行われ、必要とする特性を得るこ
とが可能である。
ところのファンデグラフ型加速器を使用しても良い。ま
た、バック層においては、塗布厚が薄いので紫外線によ
っても十分硬化反応が行われ、必要とする特性を得るこ
とが可能である。
以下、本発明の実施例を示すが、最初に放射線硬化性樹
脂の合成例を呈示しておく。
脂の合成例を呈示しておく。
実施例1
A接着補強層塗料調整
アクリル性二重結合を有するポリエステルポリウレタン
樹脂(a) (Mn=20,000.セバシン酸、イソフタル酸、ブ
タンジオールを主成分とするポリエステルポリウレタン
樹脂の両末端の水酸基とトリレンジイソシアネートの2
−ヒドロキシエチルメタアクリレート(2HEMA)を
反応させた樹脂)を用いて次の通り配合した。
樹脂(a) (Mn=20,000.セバシン酸、イソフタル酸、ブ
タンジオールを主成分とするポリエステルポリウレタン
樹脂の両末端の水酸基とトリレンジイソシアネートの2
−ヒドロキシエチルメタアクリレート(2HEMA)を
反応させた樹脂)を用いて次の通り配合した。
樹脂a 60重量部イソシ
アネート化合物 5重量部(日本ポリウレ
タン社製コロネートし)メチルエチルケトン
200iflトルエン 200
重旦部上記組成物を混合溶解した。
アネート化合物 5重量部(日本ポリウレ
タン社製コロネートし)メチルエチルケトン
200iflトルエン 200
重旦部上記組成物を混合溶解した。
B磁性塗料
b 樹脂aの水酸基を含む樹脂(−0H=平均5個/分
子) c VAGHの2HEMAアダクト体Co−γ酸化鉄
系磁性粉 100重量部(粒子径= 0.2 u
/ Hc = 7400 e )AI203微粉末
1o重士部(粒子径=0.2μ) カーボン粉末 ゛ 5重量部(コロ
ンビアカーボン コンダクテックス5c)(粒子径間2
0mμ) 樹脂b 10重量部樹脂0
20重量部潤滑剤
3重量部メチルエチルケトン
200重量部トルエン
150重量部上記組成物を混合分散した。
子) c VAGHの2HEMAアダクト体Co−γ酸化鉄
系磁性粉 100重量部(粒子径= 0.2 u
/ Hc = 7400 e )AI203微粉末
1o重士部(粒子径=0.2μ) カーボン粉末 ゛ 5重量部(コロ
ンビアカーボン コンダクテックス5c)(粒子径間2
0mμ) 樹脂b 10重量部樹脂0
20重量部潤滑剤
3重量部メチルエチルケトン
200重量部トルエン
150重量部上記組成物を混合分散した。
組成物Aを75μmPETフィルム上に0.3μm厚に
塗布し、4 Mradの電子線を照射して硬化した。次
に組成物Bを1μm厚に塗布し、5 Mradの電子線
を照射して硬化した。出来上がったシートを70℃で2
4時間熱処理した。
塗布し、4 Mradの電子線を照射して硬化した。次
に組成物Bを1μm厚に塗布し、5 Mradの電子線
を照射して硬化した。出来上がったシートを70℃で2
4時間熱処理した。
実施例2
実施例1の樹脂aを
d アジピン酸−ブタンジオールを主成分とするポリエ
ステル樹脂(Mn=3,000゜2HEMAアダクト体
)に変更した。
ステル樹脂(Mn=3,000゜2HEMAアダクト体
)に変更した。
実施例3
実施例1の樹脂すの水酸基をアミノ基に変更する。
比較例1
接着補強層を設けないで、実施例1と同様にシートを作
成した。
成した。
比較例2
実施例1と同様にシートを作成し、熱処理を行わなかっ
た。
た。
比較例3
接着補強層の電子線硬化を行わないこと以外は実施例1
と同様にシートを作成した。
と同様にシートを作成した。
比較例4
接着補強層にインシアネート化合物を添加しないこと以
外は実施何重と同様にシートを作成した。
外は実施何重と同様にシートを作成した。
比較例5
実施例1の樹脂すの水酸基を除外した樹脂を使用したこ
と以外は実施例1と同様にシートを作成した。
と以外は実施例1と同様にシートを作成した。
以上の各シートについて緒特性を測定し下表の結果を得
た。
た。
上表における緒特性は次の方法で測定した。
1付着性
基盤目試験:媒体の磁性膜を貫通し非磁性支持体は貫通
しない1mm間隔の スリットを基盤目状に設け、接 着テープにて剥離試験を行い、 残った升目の数を表示する。
しない1mm間隔の スリットを基盤目状に設け、接 着テープにて剥離試験を行い、 残った升目の数を表示する。
表面光沢:60°入射光の反射率
(60°)を、比較例1を基準
として相対表示
再生出カニMF2HDドライブ(1,6MBMFD)に
て2f再生出力 (250kl(z)を測定し、Ref DISにの値と比較する。
て2f再生出力 (250kl(z)を測定し、Ref DISにの値と比較する。
4タップテスト:媒体上の同一箇所でヘッドのくロード
〉−くアンロード〉動 作を繰り返し、再生出力が初期 の80%以下となる回数を測定 する。
〉−くアンロード〉動 作を繰り返し、再生出力が初期 の80%以下となる回数を測定 する。
(作用効果)
以上のように、本発明は中間接着補強層に放射線硬化性
樹脂とイソシアネート化合物を含有させ、一方磁性屡の
結合剤にはイソシアネートと反応性の基を導入したから
、すぐれた付着性、光沢、 出力及び耐久性を有する磁気記録媒体が提供できる。
樹脂とイソシアネート化合物を含有させ、一方磁性屡の
結合剤にはイソシアネートと反応性の基を導入したから
、すぐれた付着性、光沢、 出力及び耐久性を有する磁気記録媒体が提供できる。
Claims (2)
- (1)基体上に磁性粉末と樹脂結合剤を含む磁性層を接
着補強層を介して設けてなる磁気記録媒体に於て、上記
磁性層の結合剤としてイソシアネートと反応性のある基
を有する樹脂を含み、接着補強層を放射線硬化性樹脂を
主体とし更にイソシアネート化合物を含有させて構成し
たことを特徴とする磁気記録媒体。 - (2)磁性層に使用する樹脂が、−OH・−NHより選
ばれる基を有する放射線硬化性ポリウレタン樹脂、放射
線硬化性ポリエステル樹脂より成る群より選択される前
記第1項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63162590A JP2839145B2 (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63162590A JP2839145B2 (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0215414A true JPH0215414A (ja) | 1990-01-19 |
JP2839145B2 JP2839145B2 (ja) | 1998-12-16 |
Family
ID=15757481
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63162590A Expired - Fee Related JP2839145B2 (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2839145B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015528405A (ja) * | 2012-08-31 | 2015-09-28 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | イソシアネートモノマー移行に対するフィルムバリヤ |
US11964802B2 (en) | 2020-06-22 | 2024-04-23 | Ricoh Company, Ltd. | Package |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4867330A (ja) * | 1971-12-20 | 1973-09-14 | ||
JPS59178618A (ja) * | 1983-03-30 | 1984-10-09 | Ricoh Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPS6093623A (ja) * | 1983-10-26 | 1985-05-25 | Ricoh Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPS60106026A (ja) * | 1983-11-14 | 1985-06-11 | Ricoh Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1988
- 1988-07-01 JP JP63162590A patent/JP2839145B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4867330A (ja) * | 1971-12-20 | 1973-09-14 | ||
JPS59178618A (ja) * | 1983-03-30 | 1984-10-09 | Ricoh Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPS6093623A (ja) * | 1983-10-26 | 1985-05-25 | Ricoh Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPS60106026A (ja) * | 1983-11-14 | 1985-06-11 | Ricoh Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015528405A (ja) * | 2012-08-31 | 2015-09-28 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | イソシアネートモノマー移行に対するフィルムバリヤ |
US11964802B2 (en) | 2020-06-22 | 2024-04-23 | Ricoh Company, Ltd. | Package |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2839145B2 (ja) | 1998-12-16 |
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Legal Events
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