JPH0440780B2

JPH0440780B2 -

Info

Publication number: JPH0440780B2
Application number: JP56085689A
Authority: JP
Inventors: Yukihiro Isobe; Kazuyuki Tanaka; Masaharu Nishimatsu; Osamu Shinora; Juichi Kubota
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1981-06-05
Filing date: 1981-06-05
Publication date: 1992-07-06
Also published as: US4451531A; JPS57200938A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、電子線架橋あるいは重合により硬化
されたバツク層を具備する磁気記録媒体に関する
ものであり、特にはバツク層が25〜300Kg／cm²の
100％モジユラスを有する弾性体でありそしてモ
ース硬度４以上の研磨剤を少くとも含有している
ような磁気記録媒体に関係する。現在、磁気テープは、オーデイオ、ビデオ、コ
ンピユータ等の分野で広範囲に使用されるように
なつている。それに伴い、磁気記録媒体に記録す
る情報量も年々増加の一途をたどり、そのため磁
気記録媒体に対しては情報記録密度の高いことが
益々要求されるようになつてきている。高密度記
録のためには短波長記録方式が採られるが、これ
はドロツプアウトの問題を生じやすい。ドロツプ
アウトとは磁気テープに書込まれている情報を読
みだす際存在すべきパルスを見落す誤りであり、
これは磁気テープと磁気ヘツドとの間のスペーシ
ング損失が瞬時的に増加することが主因となつて
いる。磁気テープと磁気ヘツドとの間のスペーシ
ング損失は54.6ｄ／λ〔dB〕（ｄ：テープとヘツドとの間の距離、λ：記録波長）で表わされる。こ
の式からわかるように、記録密度の高い短波長記
録においては、スペーシング損失が長波長のそれ
よりも著しく大きくなり、従つてごく小さな異物
がテープ表面上にあつてもスペーシング損失が大
きくなつて、それがドロツプアウトとなるのであ
る。ドロツプアウトは、磁気テープ製造過程あるい
は使用過程から由来する異物がテープ面に存在
し、これら異物がヘツド−テープ間のスペーシン
グを拡げる作用をすることによつて起るのがある
が、これら異物の発生原因として考えられるの
は、繰返し応力がかかることによる塗膜の劣化か
ら生ずる磁気テープ塗膜表面の磁性粉脱落、ある
いは磁気テープの走行中にベース材から削れ落ち
たものやホコリ等が静電的にベース面に付着しそ
してそれらが塗膜面に転移すること等である。こ
れらを防止する為に、特に後者の原因の排除の為
に、磁気テープの磁性面とは反対側のベース面に
カーボンブラツクあるいはグラフアイト等をを有
機結合剤とともに混錬した塗料を塗布したり、帯
電防止剤を塗布する等によりベースの帯電現象を
少なくする方法、酸化珪素等を有機結合剤ととも
に混錬した塗料を塗布することによりベースの強
靭化を計つてベースの削れを少くする方法等が提
案されてきた。これら処理により、繰返し走行に
対するドロツプアウト増加の傾向はかなり抑える
ことができる。しかし、その抑制水準は現状では
まだ満足すべきものではなく、更に一段と少くす
る必要がある。殊に、このようなバツク層を設け
ることによつても走行回転数の少い早期段階にお
いてのドロツプアウトがそれ程に低くないという
予想外の現象が認められた。バツク層形成においては、バツク層を磁性面よ
り先に形成すると、磁性面を形成した後そのカレ
ンダー処理による表面平滑化の際にバツク層の凹
凸が磁性面に転写して磁性塗膜の平滑化が十分に
為されないから、バツク層は磁性塗膜をベース上
に形成した後その反対側のベース裏面に形成され
るのが普通であつた。バツク層は、充填剤として
カーボンブラツク、グラフアイト、あるいは他の
無機材いずれが使用されようとも、走行回数を増
してもドロツプアウトが増加しないよう強靭であ
ることが要求されるから、熱硬化性樹脂が結合剤
として使用されるのが一般である。その場合、バ
ツク層が塗布された後のテープは巻取られ熱硬化
処理が施されることになる。しかし、バツク層の
塗布が終つた時点においては、バツク層中ではい
まだ硬化反応が始つておらず、その塗膜は強固で
ない。その状態でテープを巻取ると、バツク面と
磁性面とは密着状態にあるため、バツク層塗膜中
に充填されているカーボンブラツク、グラフアイ
トあるいは他の無機充填剤は、それが接触してい
る磁性面に転移しやすく、これら転移したものが
ドロツプアウトやヘツドの目づまりの原因となつ
ていることを発生原因を詳細に調べた結果本発明
者等は知見した。これまで、バツク層を設けるこ
とにより繰返し走行によるドロツプアウトの増加
をかなり抑えることはできたのにもかかわらず、
走行回数の少い段階においてドロツプアウトがそ
れ程低くないのは実はこの理由のためである。即
ち、磁気テープ製造終了時に、バツク層から磁性
面への転移物が既に存在しているため、走行初期
からかなりのドロツプアウトが発生したのであ
る。走行回数が増えた場合には、バツク層による
補強および帯電防止効果によつてバツク層が無い
場合に較べてドロツプアウトの増加をかなり低く
抑えることができたものと思われる。結合剤とし
て熱可塑性樹脂が使用された場合でも同様な現象
が起るものと考えられる。そこで、バツク層形成工程での上記の不都合を
解消することによつて、即ちベース層から磁性面
への転移物を排除することによつて、磁気テープ
はテープ面に異物が無い状態で使用者に供され、
その使用初期段階から繰返し使用時までドロツプ
アウトの発生を抑止することができるはずであ
る。このような考慮の下で、本発明者は、バツク層
において使用する結合剤として放射線感応樹脂を
用い、前記モース硬度４以上の研磨材と結合剤と
を混錬した塗料でバツク層を形成した後、活性エ
ネルギー線源により電子線を照射して硬化処理を
施すか、あるいは表面処理を行つた後硬化処理を
施すことによつてバツク層中に三次元架橋を生じ
させて強靭な塗膜とし、その後テープを巻取るこ
とによつてドロツプアウトの減少に成功した。こ
の方法によれば、テープが巻取られるのは塗膜の
架橋反応が終了した後であるから、巻取りにより
バツク層が磁性面に密着してもバツク層から磁性
面への転移は起きない。更に、バツク層の硬さや腰の強さが適切でない
と、磁気テープの製造中あるいは使用中の巻取り
に際してバツク層による磁性面へのすり傷等によ
るドロツプアウトの性能上の重欠陥を与えること
が認められた。本発明においては、バツク層は、
モース硬度４以上の研磨材粒子を含ませることに
よりモジユラスが調整される。弾性体として100
％モジユラスが25Kg／cm²以上であれば、バツク層
による弾性面へのすり傷の発生は皆無となり、巻
きしまりの防止にきわめて役立つことがわかつ
た。25Kg／cm²未満では、テープの腰が弱くなりす
ぎるので、リールに巻きつけるに際して操作上好
ましくなく、すり傷防止上からも柔らかすぎて好
ましくない。他方、100％モジユラスが300Kg／cm²
を越えると、硬くなり過ぎてしまい、バツク層の
凹凸が磁性層に影響を与えることが判明した。斯
くして、バツク層は100％モジユラス25〜300Kg／
cm²の弾性体とされる。研磨剤粒子をバツク層に混合することによりバ
ツク層の耐磨耗性が向上し、バツク層の磨耗、削
れ等が更に一層確実に防止されうる。このように、本発明においては、磁気テープ製
造工程におけるバツク層から磁性面への転移物を
排除すると共に、バツク層にモース硬度４以上の
研磨剤粒子を含入させることによりそのモジユラ
ス調整を為すことによつて、磁気テープの使用初
期はもちろんのこと、繰返し使用中にもきわめて
有効にドロツプアウトの発生が抑制される。バツ
ク層はテープに適正な腰の強さを与え、テープの
巻き状態も長期間安定して良好な状態に維持され
る。本発明で用いる放射線感応樹脂とは、電子線照
射によりラジカルを発生し、架橋あるいは重合す
ることにより硬化するような、分子鎖中に不飽和
二重結合を２個以上含む樹脂である。高分子物質
には、電子線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起すものが知られているが、後者の例とし
ては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチ
レン、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルア
ミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリビニ
ルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポリ
アクロレイン等が挙げられ、このような架橋型ポ
リマーがそのままバツク層結合剤として使用しう
る。更に、本発明で用いる放射線感応樹脂は熱可塑
性樹脂を放射線感応変性することによつても調製
され、この方が硬化速度等の面から好ましい。放
射線感応変性の具体例としては、ラジカル重合性
を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタ
クリル酸あるいはそれらのエステル化合物のよう
なアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのよ
うなアリル型二重結合、マレイン酸、マレイン酸
誘導体等の不飽和結合等の放射線照射による架橋
あるいは重合乾燥する基を分子中に導入すること
である。その他放射線照射により架橋重合する不
飽和二重結合であれば用いる事が出来る。放射線感応樹脂に変性できる熱可塑性樹脂を以
下に示す。 () 塩化ビニール系共重合体塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアル
コール共重合体、塩化ビニール−ビニルアルコ
ール共重合体、塩化ビニール−ビニルアルコー
ル−プロピオン酸ビニール共重合体、塩化ビニ
ール−酢酸ビニール−マレイン酸共重合体、塩
化ビニール−酢酸ビニール−末端OH側鎖アル
キル基共重合体。商品名としては、たとえば
UCC社VROH、VYNC、VYEGX等またUCC
社VERR等が挙げられる。上記共重合体は、後に述べる手法により、ア
クリル系二重結合、マレイン酸系二重結合、ア
リル系二重結合を導入することにより放射線感
応変性が行われる。 () 飽和ポリエステル樹脂フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マ
レイン酸、マレイン酸誘導体、コハク酸、アジ
ピン酸、セバシン酸、のような飽和多塩基酸と
エチレングリコール、ジエチレングリコール、
グリセリン、トリメチロールプロパン、１，２
プロピレングリコール、１，３ブタンジオー
ル、ジプロピレングリコール、１，４ブタンジ
オール、１，６ヘキサンジオール、ペンタエリ
スリツト、ソルビトール、グリセリン、ネオペ
ンチルグリコール、１，４シクロヘキサンジメ
タノールのような多価アルコールとのエステル
結合により得られる飽和ポリエステル樹脂又は
これらのポリエステル樹脂をSO₃Na等で変性
した樹脂（バイロン53S）。これらも後に述べる手法により放射線感応変
性が行なわれる。 () 不飽和ポリエステル樹脂分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含
有するポリエステル化合物。例えば第（）項
の熱可塑性樹脂として記載の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエス
テル樹脂で多塩基酸の一部をマレイン酸とした
放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽和
ポリエステル樹脂、プリポリマー、オリゴマー
を挙げることができる。飽和ポリエステル樹脂の多塩基酸および多価
アルコール成分は第（）項に記載した各化合
物を挙げることができ、放射線硬化性不飽和二
重結合としてはマレイン酸、フラル酸等を挙げ
ることができる。放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂の製法
は、多塩基酸成分１種以上と多価アルコール成
分１種以上にマレイン酸、フマル酸等を加え常
法、すなわち触媒存在下180〜200℃窒素雰囲気
下脱水あるいは脱アルコール反応の後、240〜
280℃まで昇温し、0.5〜１mmHgの減圧下縮合
反応によりポリエステル樹脂を得ることができ
る。マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製造
時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中１〜40
モル％で好ましくは10〜30モル％である。 () ポリビニルアルコール系樹脂ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、ア
セタール樹脂、ホルマール樹脂及びこれらの成
分の共重合体。これら樹脂もそこに含まれる水酸基を後に述
べる手法により放射線感応化変性される。 () エポキシ系樹脂、フエノキシ樹脂ビスフエノールＡとエピクロルヒドリン、メ
チルエピクロルヒドリン反応によるエポキシ樹
脂−シエル化学製（エピコート152、154、828、
1001、1004、1007）ダウケミカル製
（DEN431、DER732、DER511、DER331）大
日本インキ製（エピクロン400、エピクロン−
800）、更に上記エポキシの高重合度樹脂である
UCC社製フエノキシ樹脂（PKHA、PKHC、
PKHH）臭素化ビスフエノールＡとエピクロ
ルヒドリンとの共重合体、大日本インキ化学工
業製（エピクロン145、152、153、1120）等。これら樹脂も、そこに含まれるエポキシ基を
利用して、放射線感応変性が行われる。 () 繊維素誘導体各種分子量の繊維素系誘導体も、また熱可塑
性プラスチツク成分として効果的である。その
中でも、特に効果的なものは硝化綿、セルロー
ズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブチ
ルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適で
ある。これらも、樹脂中の水酸基を活用して後に述
べる手法により放射線感応変性が行われる。その他、放射線感応変性に用いることのでき
る樹脂としては、多官能ポリエステル樹脂、ポ
リエーテルエステル樹脂、ポリビニルピロリド
ン樹脂及び誘導体（PVPオレフイン共重合体）
ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、フエノール
樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を含有す
るアクリルエステル及びメタクリルエステルを
少くとも一種以上重合成分として含むアクリル
系樹脂等も有効である。更に、上記放射線感応変性熱可塑性樹脂に熱
可塑性エラストマー又はプレポリマーをブレン
ドすることにより一層強靭な塗膜とすることが
できる。加えて、これらエラストマーあるいは
プレポリマーが同様に放射線感応性に変性され
た場合にはより一層効果的である。上記放射線
感応変性熱可塑性樹脂と組合せることのできる
エラストマーあるいはプレポリマーの例につい
ては後にまとめて示す。更に、この方法によれば、溶剤を使用しない
無溶剤型の樹脂であつても短時間で硬化するこ
とができるのでこの様な樹脂をバツク層におい
て用いることもできる。以上説明したような放射線感応樹脂は、モース
硬度４以上の研磨剤と混合され、ボールミル等で
十分に混錬分散される。ボールミル以外にも、サ
ンドグラインドミル、ロールミル、高速インペラ
ー分散機、ホモジナイザー、超音波分散機等各種
の装置が使用されうる。モース硬度４以上の研磨材粒子としては市販の
研磨微粒粉末、例えばカーボランダム（炭化珪
素）（モース硬度９〜10）、アルミナ（モース硬度
９）、酸化クロム（同８）、酸化珪素（同７）、ガ
ーネツト（同6.5〜7.5）、酸化亜鉛（同4.5）、酸化
チタン（同６）等が利用されうる。バツク層においては、モース硬度４以上の研磨
剤と非磁性無機又は有機充填剤との併用も可能で
ある。非磁性無機又は有機充填剤としてはタル
ク、カオリン、CaSO₄、CaCO₃、四フツ化エチ
レン樹脂粉末、フツ化黒鉛、二硫化モリブデン、
グラフアイト、カーボンブラツク等が挙げられ
る。研磨材の使用量は、使用する物質の硬度、粒寸
に依存するが、一般に結合剤100重量部に対して
５〜350重量部の範囲で選択される。充填剤の使
用量もその種類に依存するが、結合剤100重量部
に対して、25〜300部が適当である。充填量があ
まり多くなると、塗膜が脆くなり、かえつてドロ
ツプアウトが多くなるという欠点が生じる。研磨
剤と充填剤とが併用される場合、その総計量が多
過ぎないよう配慮が必要である。次いで、塗布バツク層を硬化するべく、放射線
照射が行われる。使用しうる活性エネルギー線と
しては、放射線加速器を線源とした電子線、Co⁶⁰
を線源としたγ−線、Sr⁹⁰を線源としたβ−線、
Ｘ線発生器を線源としたＸ−線等が使用される。特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工
程ラインへの導入、電離放射線のしや閉等の見地
から放射線加速器による放射線を使用する方法が
有利である。バツク層を硬化する際に使用する放射線特性と
しては、透過力の面から加速電圧100〜750KV好
ましくは150〜300KVの放射線加速器を用い、吸
収線量を0.5〜20メガラツドになる様に照射する
のが好都合である。特に、バツク層硬化目的に
は、米国エナージーサイエンス社にて製造されて
いる低線量タイプの放射線加速器（エレクトロカ
ーテンシステム）等がテープコーテイング加工ラ
インへの導入、加速器内部の２次Ｘ線の遮閉等に
極めて有利である。勿論、従来より電子線加速材として広く活用さ
れているところのフアンデグラフ型加速器を使用
しても良い。また、放射線架橋に際しては、N₂ガス、CO₂
ガス、Heガス等の不活性ガス気流中で放射線を
バツク層に照射することが重要であり、空気中で
放射線を照射することは、結合剤成分の架橋に際
し放射線照射により生じたO₃等の影響でポリマ
ー中に生じたラジカルが有効に架橋反応に働く事
を阻害するのできわめて不利である。従つて、活性エネルギー線を照射する部分の雰
囲気は、特に酸素濃度が最大で５％のN₂、He、
CO₂等の不活性ガス雰囲気に保つことが重要とな
る。こうして、バツク層の硬化処理の終つた磁気テ
ープは巻取られ、〓後工程に供される。本発明に従つてバツク層を設けるべき磁気テー
プとしては、オーデイオテープ、ビデオテープ、
コンピユータテープ、エンドレステープ等がある
が、なかでもドロツプアウトの排除がもつとも重
要な特性の一つであるビデオテープやコンピユー
タテープ用途に用いることが有益である。ここで、前述した放射線感応樹脂と組合わせる
ことのできるエラストマーあるいはプレポリマー
の例を挙げる： () ポリウレタンエラストマー及びプレポリマ
ー及びテロマーポリウレタンエラストマーは、耐摩耗性、
PETフイルムへの接着性の点で特に有効であ
る。このようなウレタン化合物の例としては、イ
ソシアネートとして、２，４−トルエンジイソ
シアネート、２，６−トルエンジイソシアネー
ト、１，３−キシレンジイソシアネート、１，
４−キシレンジイソシアネート、１，５−ナフ
タレンジイソシアネート、ｍ−フエニレンジイ
ソシアネート、ｐ−フエニレンジイソシアネー
ト、３，3′−ジメチル−４，4′−ジフエニルメ
タンジイソシアネート、４，4′−ジフエニルメ
タンジイソシアネート、３，3′−ジメチルビフ
エニレンジイソシアネート、４，4′−ビフエニ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、イソフオロンジイソシアネート、
ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デ
スモジユールＬ、デイモジユールＮ等の各種多
価イソシアネートと、線状飽和ポリエステル
（エチレングレコール、ジエチレングリコール、
グリセリン、トリメチロールプロパン、１，４
−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオー
ル、ペンタエリスリツト、ソルビトール、ネオ
ペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサン
ジメタノールの様な多価アルコールと、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン
酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、の様
な飽和多塩基酸との縮重合によるもの）線状飽
和ポリエーテル（ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコール、ポリテトラエチレン
グリコール）やカプロラクタム、ヒドロキシン
含有アクリル酸エステル、ヒドロキシ含有メタ
クリル酸エステル等の各種ポリエステル類の縮
重合物より成るポリウレタンエラストマー、プ
レポリマー、テロマーが有効である。これらのエラストマーを放射線感応変性の各
種熱可塑性プラスチツクスとそのまゝ組合せて
も良いが、更にウレタンエラストマーの末端の
イソシアネート基又は水酸基と反応するアクリ
ル系二重結合又はアリル系二重結合等を有する
単量体と反応させることにより、放射線感応性
に変性することは非常に効果的である。 () アクリルニトリル−ブタジエン共重合エラ
ストマーシンクレアペトロケミカル社製ポリBDリク
イツドレジンとして市販されている末端水酸基
のあるアクリルニトリルブタジエン共重体合プ
レポリマー、あるいは日本ゼオン社製ハイカー
1432J等のエラストマーは、特にブタジエン中
の二重結合が放射線によりラジカルを生じ架橋
及び重合させるエラストマー成分として適す
る。 () ポリブタジエンエラストマーシンクレアペトロケミカル社製ポリBDリク
イツドレジンＲ−15等の低分子量末端水酸基を
有するプレポリマーが特に熱可塑性プラスチツ
クとの相溶性、の点で好適である。Ｒ−15プレ
ポリマーにおいては分子末端が水酸基となつて
いる為分子末端をアクリル系不飽和二重結合を
付加することにより放射線感応性を高めること
が可能であり、結合剤として更に有利となる。また、ポリブタジエンの環化物日本合成ゴム
製CBR−M901も熱可塑性プラスチツクスとの
組合せによりすぐれた性能を発揮する。特に、
環化されたポリブタジエンは、ポリブタジエン
本来の有する不飽和結合のラジカルによる放射
線による架橋重合の効率が良く、結合剤として
優れた性能を有している。その他熱可塑性エラストマー及びそのプレポ
リマーの系で好適なものとしては、スチレン−
ブタジエンゴム、塩化ゴム、アクリルゴム、イ
ソプレンゴム及びその環化物（日本合成ゴム製
CIR701）、エポキシ変性ゴム、内物可塑化飽和
線状ポリエステル（東洋紡バイロン＃300）。等
のエラストマーも下記に述べる放射線感応変性
処理をほどこすことにより有効に利用できる。以下、本発明の実施例を示すが、最初に放射線
感応性結合剤の合成例を呈示しておく。放射線感応性結合剤の合成例 (a) 塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂（放
射線感応変性樹脂）のアクリル変性体の合成ビニライトVAGH750部とトルエン1250部、
シクロヘキサノン500部を５４つ口フラスコ
に仕込み加熱溶解し80℃昇温後、トリレンジイ
ソシアネートの２−ヒドロキシエチルメタクリ
レートアダクト（製法は注参照）を6.14部加
え、更にオクチル酸スズ0.012部、ハイドロキ
ノン0.012部加え80℃でN₂気流中NCO反応率が
90％以上となるまで反応せしめる。反応終了後
冷却し、メチルエチルケトン1250部を加え希釈
する。 (注) トリレンジイソシアネート（TDI）の２
−ヒドロキシエチルメタクリレート
（2HEMA）アダクトの製法トリレンジイソシアネート348部をN₂気流
中１の４つ口フラスコ内で80℃に加熱後、
２−ヘキサエチレンメタアクリレート260部、
オクチル酸スズ0.07部、ハイドロキノン0.05
部を反応缶内の温度が80〜85℃となるように
冷却コントロールしながら滴下終了後80℃で
３時間撹拌し反応を完結させる。反応終了後
取り出して冷却後白色ペースト状のTDIの
2HEMAを得た。 (b) ブチラール樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂）ブチラール樹脂積水化学製BM−S100部をト
ルエン191.2部シクロヘキサノン71.4部に５
４つ口フラスコに仕込み加熱溶解し80℃昇温後
トリレンジイソシアネートの２−ヒドロキシエ
チルメタアクリレートアダクトを7.4部加え、
更にオクチル酸スズ0.015部、ハイドロキノン
0.015部を加え、80℃でN₂気流中NCO反応率が
90％以上となるまで反応せしめる。反応終了後
冷却しメチルエチルケトンにて希釈する。 (c) 飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成
（放射線感応変性樹脂）東洋紡製バイロンRV−200 100部をトルエ
ン116部、メチルエチルケトン116部に加熱溶解
し80℃昇温後TDIの2HEMAアダクトを3.55部
加え、オクチル酸酸スズ0.007部、ハイドロキ
ノン0.007部を添加し、N₂気流中80℃でNCO反
応率90％以上となるまで反応せしめる。 (d) エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線
感応変性樹脂）シエル化学製エピコート1007 400部をトルエ
ン50部 MEK50部に加熱溶解後NN−ジメチ
ルベンジルアミン0.006部、ハイドロキノン
0.003部を添加し80℃とし、アクリル酸69部を
滴下し80℃で酸化５以下となるまで反応せしめ
る。 (e) ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線感応エラストマー）末端イソシアネートのジフエニルメタンジイ
ソシアネート（MDI）系ウレタンプレポリマ
ー（日本ポリウレタン製ニツポラン4040）250
部、2HEMA32.5部、ハイドロキノン0.07部、
オクチル酸スズ0.009部を反応缶に入れ、80℃
に加熱溶解後TDI 43.5部を反応缶内の温度が
80〜90℃となる様に冷却しながら滴下し、滴下
終了後80℃でNCO反応率95％以上となるまで
反応せしめる。 (f) ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマ
ーアクリル変性体の合成（放射線感応エラスト
マー）日本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG−
500 250部、2HEMA32.5部、ハイドロキノン
0.007部、オクチル酸スズ0.009部を反応缶に入
れ80℃に加熱溶解後TDI 43.5部を反応缶の温
度が80〜90℃となるように冷却しながら滴下
し、滴下終了後80℃でNCO反応率95％以上と
なるまで反応せしめる。 (g) ポリブタエンエラストマーアクリル変性体の
合成（放射線感応エラストマー）シンクレアペトロケミカル社製低分子量末端
水酸基ポリブタジエンポリBDリクイツトレジ
ンＲ−15 250部、2HEMA 32.5部、ハイドロ
キノン0.007部、オクチル酸スズ0.009部を反応
缶に入れ80℃に加熱溶解後TDI43.5部を反応缶
内の温度が80〜90℃となる様に冷却しながら滴
下し、滴下終了後80℃でNCO反応率95％以上
となるまで反応せしめる。実施例１以下の混合物をボールミル中で５時間分散せし
めた。アクリル変性ポリエステル樹脂（試作品Ｃ）
30重量部混合溶剤 200 〃酸化珪素（粒径2μ）後述酸素珪素は結合剤に対して０、２、５、10、
25、50、100、300、400重量部計９種添加された。
この添加順に、サンプルNo.１−１、１−２、１−
３、１−４、１−５、１−６、１−７、１−８及
び１−９と名づける。これら９種の混合物のサンプルを磁性面が形成
ずみのポリエステルフイルムベースの裏面に乾燥
層3μになるように塗布し、その後エレクトロカ
ーテンタイプ電子線加速装置を用いて加速電圧
150KeV、電極電流10ｍＡ、吸収線量10Mradの
作動条件の下で、N₂ガス囲気において電子線を
バツク層に照射し、硬化を行わせた。その後、テ
ープを巻取りそして1/2″ビデオ巾に切断しそして
VHSデツキにて出力変動及びドロツプアウトを
測定した。No.１−３から１−８までについては
100回繰返し後もいずれもドロツプアウトの増加
はなく、良好なテープであつた。次いで、これらサンプルのテープを直径９ｍ／
ｍ直径の真鍮筒にバツク層を内側にして滑車方式
で掛渡し、各垂下端に200ｇの錘りをつけ、繰返
し上下運動を100回行つた。その後、真鍮面の傷
の発生具合を目視で５ランクづけした。傷の発生
の軽い方から重い方へと５、４、３、２、１とし
て表わした結果を以下に示す。

【表】これから、酸化珪素研磨剤が400重量部もの多
量を含むサンプル１−９からのテープはすり傷を
発生しやすいことがわかる。逆に、酸化珪素量が
少ないNo.１−１と１−２についてはバツク層に傷
が発生する。結合剤に対し酸化珪素を５〜300重
量部含むサンプルからのテープはきわめてすり傷
を生じ難いものであり、長期走行においてドロツ
プアウトの一層の抑止効果を生むものを思われ
る。以上のサンプル１−３〜１−８の100％モジ
ユラスは25〜300Kg／cm²の範囲にある。実施例２カーボンブラツク 50重量部 Al₂O₃（粒径0.5μ、不二見研磨(株)製）20 〃アクリル変性塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニ
ール共重合体（試作品ａ） 30 〃アクリル変性ポリウレタンエラストマー（試作品
(e) 60 〃混合溶剤（MIBK／トルエン（１：１））
300重量部上記混合物を実施例１と同様にしてビデオテー
プとして作製した。テープを前記すり傷試験した
ところ、ランクは５であり、きわめてすり傷を生
じ難いものであつた。100回繰返しドロツプアウ
トの増加もなく良好なテープであることが確認さ
れた。本例のバツク層100％モジユラスは220Kg／
cm²である。実施例３炭化珪素（不二見研磨(株)製、粒径2μ） 50重量部アクリル変性ポリウレタンエラストマー（試作品
ｆ） 50 〃塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルアルコール
共重合体（UCC社VAGH） 50 〃混合溶剤（MEK／トルエン（１：１））
400 〃上記混合物を実施例１と同様にしてビデオテー
プとして作製した。テープを前記すり傷試験した
ところ、ランクは５であり、きわめてすり傷を生
じ難いものであつた。100回繰返しドロツプアウ
トの増加もなく良好なテープであることが確認さ
れた。本例のバツク層100％モジユラスは180Kg／
cm²である。実施例４酸化チタン 50重量部アクリル変性塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルア
ルコール共重合体（試作品ａ） 40 〃アクリル変性ポリウレタンエラストマー（試作品
ｅ） 30 〃混合溶剤（MIBK／トルエン） 300 〃上記混合物を実施例１と同様にしてビデオテー
プとして作製した。テープを前記すり傷試験した
ところ、ランクは５であり、きわめてすり傷を生
じ難いものであつた。100回繰返しドロツプアウ
トの増加もなく良好なテープであることが確認さ
れた。本例のバツク層100％モジユラスは40Kg／
cm²である。

Claims

【特許請求の範囲】１ベースの一面に磁性層をそして他方の面にバ
ツク層を設けた磁気記録媒体において、前記バツ
ク層が、モース硬度４以上の研磨剤と電子線感応
樹脂からなる樹脂成分を有する結合剤とを含む塗
層を電子線硬化によつて硬化することにより形成
された電子線硬化層であり、そして該バツク層の
100％モジユラスが25〜300Kg／cm²の範囲にあるこ
とを特徴とする磁気記録媒体。２電子線照射が活性エネルギー線源として100
〜750kVの電子線加速器を用いそして吸収線量が
0.5〜20Mradになるようにして不活性基体雰囲気
中で成される特許請求範囲第１項記載の磁気記録
媒体。３研磨剤が、カーボランダム、アルミナ、酸化
クロム、酸化珪素、ガーネツト、酸化亜鉛、酸化
チタン、αFe₂O₃、窒化硼素及びジルコンの群か
ら選択される少なくとも１種である特許請求の範
囲第１項記載の磁気記録媒体。４電子線感応性の結合剤が、電子線感応変性し
た熱可塑性樹脂あるいは該電子線感応変性熱可塑
性樹脂と熱可塑性エラストマーまたはプレポリマ
ーのブレンドからなる特許請求の範囲第１項記載
の磁気記録媒体。５熱可塑性エラストマーまたはプレポリマーの
が電子線感応変性されている特許請求の範囲第４
項記載の磁気記録媒体。