JP5581972B2 - 電子部品、及び電子装置 - Google Patents

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Description

本発明は、電子部品、及び電子装置に関する。
従来、基板に電子部品を実装するためのはんだ付用銅箔(以下、「ランド」)が、基板及び電子部品に設けられている。特に近年では、基板上における電子部品の占有面積を低減するため、BGA(Ball Grid Array)やLGA(Land Grid Array)といったパッケージにより、電子部品の直下にランドを設けることが行われている。
このようにランドを介して基板にはんだ付される電子部品において、接続ランド部における接続信頼性を向上させるため、モジュール基板の裏面に格子状に形成された接続ランドの最外周近傍に、接続ランド1ケの面積の3倍以上の面積を持つ補強ランドを設けたモジュール部品が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特許第2859143号公報
ところで、はんだの表面張力や、リフロー中における電子部品や基材からの発生ガス等に起因して、はんだ接合部中にボイドが発生する可能性がある。特に、上述の如き従来の部品のように面積の大きいランドを設けた場合、ボイドが発生する頻度が増大すると共に、発生するボイドの大きさが増大する可能性があった。このようにはんだ接合部中に過度にボイドが発生し、そのボイドが残存した場合、電子部品と基板との間のはんだによる接合面積が減少し、電気的特性や熱伝導性の低下を招く可能性があった。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、はんだ接合部におけるボイドの残存を防止し、電子部品と基板との間のはんだによる接合面積を安定して確保することができる、電子部品、及び電子装置を提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、請求項1に記載の電子部品は、基板に実装される電子部品であって、前記基板への実装時に当該基板上の基板側ランドに対向する電子部品側ランドを複数備え、前記基板側ランドの形状と、当該基板側ランドに対向する前記電子部品側ランドの形状とが異なるように、当該電子部品側ランドにおける前記基板側ランドとの対向面にはんだ非着領域を設け、複数の前記電子部品側ランドのうち、面積が最大の電子部品側ランドに前記はんだ非着領域を設けた。
また、請求項2に記載の電子部品は、請求項1に記載の電子部品において、当該電子部品における前記基板との対向面の外周近傍に前記複数の電子部品側ランドを備え、当該電子部品における前記基板との対向面の外周近傍に設けられた前記複数の電子部品側ランドのうち、面積が最大の電子部品側ランドに前記はんだ非着領域を設けた。
また、請求項3に記載の電子部品は、基板に実装される電子部品であって、前記基板への実装時に当該基板上の基板側ランドに対向する電子部品側ランドを備え、前記基板側ランドの形状と、当該基板側ランドに対向する前記電子部品側ランドの形状とが異なるように、当該電子部品側ランドにおける前記基板側ランドとの対向面にはんだ非着領域を設け、前記はんだ非着領域として、前記電子部品側ランドにおける前記基板側ランドとの対向面に溝を設け、前記溝の位置における前記電子部品側ランドの厚さが、当該溝に対向する位置の前記基板側ランドの厚さと異なる。
また、請求項4に記載の電子部品は、基板に実装される電子部品であって、前記基板への実装時に当該基板上の基板側ランドに対向する電子部品側ランドを備え、前記基板側ランドの形状と、当該基板側ランドに対向する前記電子部品側ランドの形状とが異なるように、当該電子部品側ランドにおける前記基板側ランドとの対向面にはんだ非着領域を設け、前記はんだ非着領域として、前記電子部品側ランドにおける前記基板側ランドとの対向面にはんだ絶縁層を設けた。
また、請求項5に記載の電子部品は、請求項1から4のいずれか一項に記載の電子部品において、前記電子部品側ランドを前記はんだ非着領域で分割し、前記はんだ非着領域により分割された前記電子部品側ランドの平面形状が、当該電子部品側ランドに対向する位置の前記基板側ランドの平面形状と異なる。
また、請求項に記載の電子部品は、基板に実装される電子部品であって、前記基板への実装時に当該基板上の基板側ランドに対向する電子部品側ランドを複数備え、前記電子部品側ランドは、当該電子部品における前記基板との対向面の略中央に設けられたアース用ランドと、前記アース用ランドの周囲に設けられた入出力用ランドと、を有し、前記入出力用ランドは、当該電子部品における前記基板との対向面の外周近傍に設けられた補強用ランドを有し、前記補強用ランドは、他の前記入出力用ランドよりも面積が大きく形成され、前記基板側ランドの形状と、当該基板側ランドに対向する前記補強用ランドの形状とが異なるように、当該補強用ランドにおける前記基板側ランドとの対向面にはんだ非着領域を設け、複数の前記電子部品側ランドのうち、面積が最大の電子部品側ランドに前記はんだ非着領域を設けた。
また、請求項に記載の電子装置は、基板と、当該基板に実装される電子部品と、を備える電子装置であって、前記基板は、基板側ランドを複数備え、前記電子部品は、前記基板への実装時に前記基板側ランドに対向する電子部品側ランドを備え、前記基板側ランドの形状と、当該基板側ランドに対向する前記電子部品側ランドの形状とが異なるように、当該基板側ランドにおける当該電子部品側ランドとの対向面、及び/又は、当該電子部品側ランドにおける当該基板側ランドとの対向面にはんだ非着領域を設け、複数の前記電子部品側ランドのうち、面積が最大の電子部品側ランドに前記はんだ非着領域を設けた。
請求項1に記載の電子部品によれば、基板側ランドの形状と、当該基板側ランドに対向する電子部品側ランドの形状とが異なるように、電子部品側ランドにおける基板側ランドとの対向面にはんだ非着領域を設けたので、発生したボイド内の気体を、はんだ非着領域と基板側ランドとの間に形成された空隙を介してはんだ接合部の外部に排出することができる。これにより、はんだ接合部におけるボイドの残存を防止し、電子部品と基板との間のはんだによる接合面積を安定して確保することができる。
また、複数の電子部品側ランドのうち、面積が最大の電子部品側ランドにはんだ非着領域を設けたので、特にボイドが発生し易い電子部品側ランドと基板側ランドとの間のはんだ接合部におけるボイドの残存を防止し、電子部品と基板との間のはんだによる接合面積を安定して確保することができる。
また、請求項2に記載の電子部品によれば、電子部品における基板との対向面の外周近傍に設けられた複数の電子部品側ランドのうち、面積が最大の電子部品側ランドにはんだ非着領域を設けたので、特にボイドが発生し易い電子部品側ランドと基板側ランドとの間のはんだ接合部におけるボイドの残存を防止し、電子部品と基板との間のはんだによる接合面積を安定して確保することができる。
また、請求項3に記載の電子部品によれば、基板側ランドの形状と、当該基板側ランドに対向する電子部品側ランドの形状とが異なるように、電子部品側ランドにおける基板側ランドとの対向面にはんだ非着領域を設けたので、発生したボイド内の気体を、はんだ非着領域と基板側ランドとの間に形成された空隙を介してはんだ接合部の外部に排出することができる。これにより、はんだ接合部におけるボイドの残存を防止し、電子部品と基板との間のはんだによる接合面積を安定して確保することができる。また、はんだ非着領域として、電子部品側ランドにおける基板側ランドとの対向面に溝を設けたので、発生したボイド内の気体を、当該溝と基板側ランドとの間に形成された空隙を介してはんだ接合部の外部に排出することができる。また、溝の位置における電子部品側ランドの厚さが、当該溝に対向する位置の基板側ランドの厚さと異なるようにしたので、電子部品側ランドの溝と基板側ランドとの間には、V字型の空隙が形成される。これにより、上記の基本的な効果に加えて、電子部品側ランドの溝と基板側ランドの溝との間に矩形断面の空隙が形成された状態と比較して、電子部品と基板との間のはんだによる接合面積を十分に確保することができる。
また、請求項4に記載の電子部品によれば、基板側ランドの形状と、当該基板側ランドに対向する電子部品側ランドの形状とが異なるように、電子部品側ランドにおける基板側ランドとの対向面にはんだ非着領域を設けたので、発生したボイド内の気体を、はんだ非着領域と基板側ランドとの間に形成された空隙を介してはんだ接合部の外部に排出することができる。これにより、はんだ接合部におけるボイドの残存を防止し、電子部品と基板との間のはんだによる接合面積を安定して確保することができる。
また、はんだ非着領域として、電子部品側ランドにおける基板側ランドとの対向面にはんだ絶縁層を設けたので、容易にはんだ非着領域を形成することができ、発生したボイド内の気体を、はんだ絶縁層と基板側ランドとの間に形成された空隙を介してはんだ接合部の外部に排出することができる。
また、請求項5に記載の電子部品によれば、はんだ非着領域により分割された電子部品側ランドの平面形状が、当該電子部品側ランドに対向する位置の基板側ランドの平面形状と異なるので、電子部品側ランドのはんだ非着領域と基板側ランドとの間には、V字型の空隙が形成される。これにより、上記の基本的な効果に加えて、電子部品側ランドと基板側ランドとの間に矩形断面の空隙が形成された状態と比較して、電子部品と基板との間のはんだによる接合面積を十分に確保することができる。
また、請求項に記載の電子部品によれば、基板側ランドの形状と、当該基板側ランドに対向する補強用ランドの形状とが異なるように、補強用ランドにおける基板側ランドとの対向面にはんだ非着領域を設けたので、発生したボイド内の気体をはんだ非着領域と基板側ランドとの間に形成された空隙を介してはんだ接合部の外部に排出することができる。これにより、特にボイドが発生し易い補強用ランドと基板側ランドとの間のはんだ接合部におけるボイドの残存を防止し、電子部品と基板との間のはんだによる接合面積を安定して確保することができる。
また、複数の電子部品側ランドのうち、面積が最大の電子部品側ランドにはんだ非着領域を設けたので、特にボイドが発生し易い電子部品側ランドと基板側ランドとの間のはんだ接合部におけるボイドの残存を防止し、電子部品と基板との間のはんだによる接合面積を安定して確保することができる。
また、請求項に記載の電子装置によれば、基板側ランドの形状と、当該基板側ランドに対向する電子部品側ランドの形状とが異なるように、基板側ランドにおける電子部品側ランドとの対向面、及び/又は、電子部品側ランドにおける基板側ランドとの対向面にはんだ非着領域を設けたので、発生したボイド内の気体をはんだ非着領域と基板側ランドとの間に形成された空隙を介してはんだ接合部の外部に排出することができる。これにより、はんだ接合部におけるボイドの残存を防止し、電子部品と基板との間のはんだによる接合面積を安定して確保することができる。
また、複数の電子部品側ランドのうち、面積が最大の電子部品側ランドにはんだ非着領域を設けたので、特にボイドが発生し易い電子部品側ランドと基板側ランドとの間のはんだ接合部におけるボイドの残存を防止し、電子部品と基板との間のはんだによる接合面積を安定して確保することができる。
電子部品を例示する図であり、図1(a)は電子部品の側面図、図1(b)は電子部品の平面図である。 基板を例示する図であり、図2(a)は基板の平面図、図2(b)は基板の側面図である。 電子部品の基板への実装状態を示す図であり、図3(a)は各電子部品側ランドと各基板側ランドとの間にはんだを供給した状態を例示した側断面図、図3(b)は基板への電子部品の実装後の状態を例示した側断面図である。 変形例における電子部品の基板への実装状態を示す図であり、図4(a)は各電子部品側ランドと各基板側ランドとの間にはんだを供給した状態を例示した側断面図、図4(b)は基板への電子部品の実装後の状態を例示した側断面図である。 基板側ランドも溝で分割した場合の電子部品の平面図である。 基板側ランドも溝で分割した場合の基板の平面図である。 基板側ランドも溝で分割した場合を例示した図であり、図7(a)は各電子部品側ランドと各基板側ランドとの間にはんだを供給した状態を例示した側断面図、図7(b)は基板への電子部品の実装後の状態を例示した側断面図である。 基板への電子部品の実装後の状態を例示した側断面図である。
以下、本発明に係る電子部品、及び電子装置の実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。ただし、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。
(構成)
最初に、実施の形態に係る電子装置の構成について説明する。電子装置は、基板と、当該基板に実装される電子部品とを備えている。図1は電子部品を例示する図であり、図1(a)は電子部品の側面図、図1(b)は電子部品の平面図である。また、図2は基板を例示する図であり、図2(a)は基板の平面図、図2(b)は基板の側面図である。
(構成−電子部品)
図1に示すように、電子部品3は、電子部品側ランド30を備えている。この電子部品側ランド30は、基板への実装時に当該基板上の基板側ランドに対向する。この電子部品側ランド30は、電子部品3が基板と対向する面において、例えばエッチングやアディティブ法等の公知の方法により、所望の形状の銅等の金属薄膜として形成されている。図1では、四角形の平面形状を有する電子部品側ランド30が複数設けられている場合を例示している。
(構成−電子部品側ランド)
電子部品側ランド30は、アース用ランド31、及び入出力用ランド32を備えている。アース用ランド31は、電子部品3を設置させるためのランドであり、電子部品3における基板との対向面の略中央に設けられている。入出力用ランド32は、電子部品3と基板との間での信号の入出力を行うためのランドであり、アース用ランド31の周囲に設けられている。また、入出力用ランド32は、補強用ランド33を備えている。補強用ランド33は、電子部品3と基板との間での信号の入出力を行うと共に、電子部品3と基板との接続を補強するためのランドであり、電子部品3における基板との対向面の外周近傍(本実施の形態では各隅部)に設けられている。この補強用ランド33は、他の入出力用ランド32よりも面積が大きく形成されている。なお、各補強用ランド33の面積は等しく形成されている。このように、他の入出力用ランド32よりも面積が大きい補強用ランド33を電子部品3の各隅部(図1(b)では4隅)に設けることにより、電子部品3と基板との間のはんだ接合部におけるはんだの疲労断線を防止し、接続信頼性を高めることができる。これらの電子部品側ランド30の形状の詳細については後述する。
(構成−基板)
図2に示すように、基板2は、基板側ランド20を備えている。この基板側ランド20は、基板2が電子部品3と対向する面において、例えばエッチングやアディティブ法等の公知の方法により、所望の形状の銅等の金属薄膜として形成されている。図2では、四角形の平面形状を有する基板側ランド20が複数設けられている場合を例示している。これらの各基板側ランド20と、当該各基板側ランド20に対向する各電子部品側ランド30とは、それぞれの配置位置において、対を成して設置されている。この基板側ランド20の形状の詳細については後述する。
(電子部品側ランド及び基板側ランドの形状)
次に、電子部品側ランド30及び基板側ランド20の形状について説明する。補強用ランド33を除く電子部品側ランド30(すなわち、アース用ランド31、及び補強用ランド33以外の入出力用ランド32)の形状は、各電子部品側ランド30に対向する基板側ランド20(すなわち、各電子部品側ランド30と対になる基板側ランド20)の形状と略同一となるように形成されている。
一方、補強用ランド33においては、基板側ランド20の形状と、当該基板側ランド20に対向する補強用ランド33の形状とが異なるように、補強用ランド33における基板側ランド20との対向面にはんだ非着領域として溝34が設けられている。ここで、「はんだ非着領域」とは、ランド上においてはんだが付着しない領域を意味するものであり、例えばランドに溝を設けることで物理的にはんだ非着領域を形成したり、あるいはランド上にはんだ絶縁層(例えばソルダーレジスト)を設けることではんだ非着領域を形成する。本実施の形態では、補強用ランド33を溝34で分割し、この溝34により分割された補強用ランド33の平面形状が、当該補強用ランド33に対向する位置の基板側ランド20の平面形状と異なるようにしている。
例えば、電子部品3を基板2に実装する際、図1(b)において点線Pで囲まれている補強用ランド33は、図2(a)において点線Rで囲まれている基板側ランド20に対向する。この場合、図1(b)において点線Pで囲まれている補強用ランド33は溝34で分割されているが、当該補強用ランド33に対向する位置の基板側ランド20(図2(a)において点線Rで囲まれている基板側ランド20)は溝で分割されていないため、補強用ランド33の平面形状が、当該補強用ランド33に対向する基板側ランド20の平面形状と異なっている。同様に、図1(b)において点線Qで囲まれている補強用ランド33は溝34で分割されているが、当該補強用ランド33に対向する位置の基板側ランド20(図2(a)において点線Sで囲まれている基板側ランド20)は溝で分割されていないため、補強用ランド33の平面形状が、当該補強用ランド33に対向する基板側ランド20の平面形状と異なっている。
(作用)
次に、上述のように構成された電子部品3及び電子装置の作用について説明する。図3は電子部品3の基板2への実装状態を示す図であり、図3(a)は各電子部品側ランド30と各基板側ランド20との間にはんだを供給した状態を例示した側断面図、図3(b)は基板2への電子部品3の実装後の状態を例示した側断面図である。なお図3は、図1(b)に例示した電子部品3におけるA−A’断面、及び図2(a)に例示した基板2におけるB−B’断面を示している。
例えばリフロー方式等の公知のはんだ付方法により、各電子部品側ランド30と各基板側ランド20との間にはんだを供給すると、図3(a)に例示したように、各電子部品側ランド30のうち、比較的面積が大きい電子部品側ランド30(例えば、電子部品3における基板2との対向面の外周近傍に設けられた複数の電子部品側ランド30のうち、面積が最大である各補強用ランド33や、全ての電子部品側ランド30の中で面積が最大の電子部品側ランド30)と基板側ランド20との間のはんだにボイドが発生する場合がある。従来の電子部品の場合には、このボイドは、補強用ランド、基板側ランド、及び周囲のはんだにより閉囲されてしまい、はんだの冷却後もはんだ接合部内に残存するため、電子部品と基板との間のはんだによる接合面積が減少してしまう。
一方、本実施の形態では、補強用ランド33における基板側ランド20との対向面に溝34が設けられているため、発生したボイド内の気体は溝34と基板側ランド20との間に形成された空隙を介してはんだ接合部の外部に排出される。その結果、図3(b)に示したように、補強用ランド33と基板側ランド20との間は、補強用ランド33の溝34の位置と基板側ランド20との間に形成されるV字型の空隙部分を除き、はんだによって充填される。これにより、はんだ接合部内にボイドが残存した場合と比較して、電子部品3と基板2との間のはんだによる接合面積を十分に確保することができる。
また、基板側ランド20の形状と、当該基板側ランド20に対向する電子部品側ランド30の形状とが同じになるように、電子部品側ランド30における基板側ランド20との対向面、及び基板側ランド20における電子部品側ランド30との対向面の双方に溝を設け、これらの電子部品側ランド30と基板側ランド20との各々を溝で完全に分割した場合には、例えば図3(b)におけるCの部分のように、電子部品側ランド30の溝と基板側ランド20の溝との間にはんだが流れない。従って、電子部品側ランド30の溝と基板側ランド20の溝との間には矩形断面の空隙が形成されることとなる。このため、電子部品3と基板2との間のはんだによる接合面積が減少してしまう。
一方、本実施の形態では、基板側ランド20には溝を設けず、補強用ランド33のみを溝34で分割することで、補強用ランド33の平面形状が当該電子部品側ランド30に対向する位置の基板側ランド20の平面形状と異なるようにしているので、補強用ランド33の溝34の位置にははんだが流れないものの、基板側ランド20の表面にははんだが流れる。これにより、図3(b)に示したように、補強用ランド33の溝34と基板側ランド20との間には、V字型の空隙が形成される。従って、補強用ランド33の溝と基板側ランド20の溝との間に矩形断面の空隙が形成された状態と比較して、電子部品3と基板2との間のはんだによる接合面積を十分に確保することができる。
(効果)
このように本実施の形態によれば、基板側ランド20の形状と、当該基板側ランド20に対向する補強用ランド33の形状とが異なるように、補強用ランド33における基板側ランド20との対向面に溝34を設けたので、発生したボイド内の気体を溝34と基板側ランド20との間に形成された空隙を介してはんだ接合部の外部に排出することができる。これにより、はんだ接合部におけるボイドの残存を防止し、電子部品3と基板2との間のはんだによる接合面積を安定して確保することができる。
特に、複数の電子部品側ランド30のうち、面積が最大の電子部品側ランド30(本実施の形態では補強用ランド33)に溝34を設けたので、特にボイドが発生し易い補強用ランド33と基板側ランド20との間のはんだ接合部におけるボイドの残存を防止し、電子部品3と基板2との間のはんだによる接合面積を安定して確保することができる。
また、電子部品3における基板2との対向面の外周近傍に設けられた複数の電子部品側ランド30のうち、面積が最大の電子部品側ランド30(本実施の形態では補強用ランド33)に溝34を設けたので、特にボイドが発生し易い補強用ランド33と基板側ランド20との間のはんだ接合部におけるボイドの残存を防止し、電子部品3と基板2との間のはんだによる接合面積を安定して確保することができる。
また、溝34により分割された補強用ランド33の平面形状が、当該補強用ランド33に対向する位置の基板側ランド20の平面形状と異なるので、補強用ランド33の溝34と基板側ランド20との間には、V字型の空隙が形成される。これにより、上記の基本的な効果に加えて、補強用ランド33の溝と基板側ランド20の溝との間に矩形断面の空隙が形成された状態と比較して、電子部品3と基板2との間のはんだによる接合面積を十分に確保することができる。
また、はんだ非着領域として、補強用ランド33における基板側ランド20との対向面に溝34を設けたので、発生したボイド内の気体を、当該溝34と基板側ランド20との間に形成された空隙を介してはんだ接合部の外部に排出することができる。
〔実施の形態に対する変形例〕
以上、本発明に係る実施の形態について説明したが、本発明の具体的な構成及び手段は、特許請求の範囲に記載した各発明の技術的思想の範囲内において、任意に改変及び改良することができる。以下、このような変形例について説明する。
(解決しようとする課題や発明の効果について)
まず、発明が解決しようとする課題や発明の効果は、上述の内容に限定されるものではなく、発明の実施環境や構成の細部に応じて異なる可能性があり、上述した課題の一部のみを解決したり、上述した効果の一部のみを奏することがある。
(電子部品側ランド及び基板側ランドの形状について)
上述の実施の形態では、補強用ランド33を溝34で分割し、この溝34により分割された補強用ランド33の平面形状が、当該補強用ランド33に対向する位置の基板側ランド20の平面形状と異なるようにした場合を例として説明したが、溝34の位置における補強用ランド33の厚さが、当該溝34に対向する位置の基板側ランド20の厚さと異なるようにしてもよい。図4は変形例における電子部品3の基板2への実装状態を示す図であり、図4(a)は各電子部品側ランド30と各基板側ランド20との間にはんだを供給した状態を例示した側断面図、図4(b)は基板2への電子部品3の実装後の状態を例示した側断面図である。この図4の例では、上述の実施の形態と同様に補強用ランド33が溝34で分割されており、さらに基板側ランド20にも、補強用ランド33の溝34に対向する位置に溝21が設けられている。但し、補強用ランド33の溝34の位置における当該補強用ランド33の厚さが0、すなわち補強用ランド33が溝34で完全に分割されているのに対し、当該溝34に対向する位置(すなわち基板側ランド20の溝21の位置)の基板側ランド20の厚さは、0よりも大きい所定の厚さとなっている。なお、基板側ランド20の溝21は、当該基板側ランド20が補強用ランド33に対向する面に向かって開放されるように設けられている。このように構成した補強用ランド33と基板側ランド20との間にはんだを供給すると、完全に分割されている補強用ランド33の溝34の位置にははんだが流れないものの、完全に分割されていない基板側ランド20の表面には溝21の位置を含めてはんだが流れる。これにより、図4(b)に示したように、補強用ランド33の溝34と基板側ランド20の溝21との間には、V字型の空隙が形成される。従って、補強用ランド33の溝と基板側ランド20の溝との間に矩形断面の空隙が形成された状態と比較して、電子部品3と基板2との間のはんだによる接合面積を十分に確保することができる。
また、上述の実施の形態では、基板側ランド20には溝を設けず、補強用ランド33のみを溝34で分割した場合を例として説明したが、基板側ランド20も溝21で分割するようにしてもよい。図5は、基板側ランド20も溝21で分割した場合の電子部品3の平面図である。図6は、基板側ランド20も溝21で分割した場合の基板2の平面図である。図7は基板側ランド20も溝21で分割した場合を例示した図であり、図7(a)は各電子部品側ランド30と各基板側ランド20との間にはんだを供給した状態を例示した側断面図、図7(b)は基板2への電子部品3の実装後の状態を例示した側断面図である。なお、図7(a)は、図5に例示した電子部品3におけるD−D’断面及び図6に例示した基板2におけるE−E’断面を示しており、図7(b)は、図5に例示した電子部品3におけるF−F’断面及び図6に例示した基板2におけるG−G’断面を示している。
図5から7に示した例では、電子部品3を基板2に実装した場合、補強用ランド33の溝34と当該補強用ランド33に対向する基板側ランド20の溝21とが交差するように、補強用ランド33及び基板側ランド20が形成されている。この場合、図7に示すように、補強用ランド33と基板側ランド20との間は、補強用ランド33の溝34の位置と基板側ランド20との間に形成されるV字型の空隙部分、及び補強用ランド33と基板側ランド20の溝21の位置との間に形成されるV字型の空隙部分を除き、はんだによって充填される。これにより、発生したボイド内の気体を、補強用ランド33の溝34と基板側ランド20との間に形成された空隙、及び基板側ランド20の溝21と電子部品側ランド30との間に形成された空隙を介してはんだ接合部の外部に排出することができ、電子部品3と基板2との間のはんだによる接合面積を安定して確保しつつ、一層確実にボイドの残存を防止することができる。
また、上述の実施の形態では、基板側ランド20には溝を設けず、補強用ランド33のみを溝34で分割した場合を例として説明したが、補強用ランド33に対向する基板側ランド20のみを溝で分割し、補強用ランド33には溝を設けないようにしてもよい。この場合においても、発生したボイド内の気体を基板側ランド20の溝と電子部品側ランド30との間に形成された空隙を介してはんだ接合部の外部に排出することができる。これにより、はんだ接合部におけるボイドの残存を防止し、電子部品3と基板2との間のはんだによる接合面積を安定して確保することができる。
また、上述の実施の形態では、補強用ランド33に溝34を設ける場合を例として説明したが、補強用ランド33に限らず、他の電子部品側ランド30に溝を設けるようにしてよい。この場合、全ての電子部品側ランド30に溝を設けてもよく、一部の電子部品側ランド30にのみ溝を設けるようにしてもよい。
また、上述の実施の形態では、1つの補強用ランド33に1本の溝34を設ける場合を例として説明したが、1つの補強用ランド33に複数本の溝34を設けるようにしてもよい。例えば、1つの補強用ランド33において2本の溝34が交差するように溝34を設けるようにしてもよい。これにより、はんだ接合部におけるボイドの残存を一層効果的に防止することができる。
また、上述の実施の形態では、補強用ランド33の溝34と基板側ランド20との間に、V字型の空隙が形成されると説明したが、形成される空隙の形状はV字型に限られず、U字型等の他の形状にもなり得る。
また、上述の実施の形態では、補強用ランド33が電子部品3における基板との対向面の各隅部に設けられている場合を例として説明したが、補強用ランド33を電子部品3における基板との対向面の外周近傍の任意の位置に(例えば外周の全周にわたって所定間隔に)設けるようにしてもよい。
また、上述の実施の形態では、電子部品側ランド30における基板側ランド20との対向面にはんだ非着領域として溝34を設けた場合を例として説明したが、はんだ非着領域として、電子部品側ランド30における基板側ランド20との対向面にはんだ絶縁層を設けてもよい。このように電子部品側ランド30にはんだ絶縁層を設けることで、基板側ランド20におけるはんだ接合部の形状と、当該基板側ランド20に対向する電子部品側ランド30におけるはんだ接合部の形状とが異なることとなる。すなわち、はんだにより接合されるというランドの機能面において、基板側ランド20の形状と、当該基板側ランド20に対向する電子部品側ランド30の形状とが異なることとなる。
例えば、補強用ランド33における基板側ランド20との対向面にはんだ絶縁層を帯状に形成することにより、補強用ランド33をはんだ絶縁層で分割し、このはんだ絶縁層により分割された補強用ランド33の平面形状が、当該補強用ランド33に対向する位置の基板側ランド20の平面形状と異なるようにする。図8は、基板2への電子部品3の実装後の状態を例示した側断面図である。この場合において、各電子部品側ランド30と各基板側ランド20との間にはんだを供給すると、はんだ絶縁層にははんだが付着しないため、図8に示すように、補強用ランド33のはんだ絶縁層の位置と基板側ランド20との間にV字型の空隙部分が形成される。このように、はんだ非着領域として、電子部品側ランド30における基板側ランド20との対向面にはんだ絶縁層を設けることで、電子部品側ランド30に容易にはんだ非着領域を形成することができ、発生したボイド内の気体を、はんだ絶縁層と基板側ランド20との間に形成された空隙を介してはんだ接合部の外部に排出することができる。
また、基板側ランド20における電子部品側ランド30との対向面にはんだ絶縁層を設けてもよい。この場合においても、発生したボイド内の気体を、はんだ絶縁層と電子部品側ランド30との間に形成された空隙を介してはんだ接合部の外部に排出することができる。
1 電子装置
2 基板
3 電子部品
20 基板側ランド
21、34 溝
30 電子部品側ランド
31 アース用ランド
32 入出力用ランド
33 補強用ランド

Claims (7)

  1. 基板に実装される電子部品であって、
    前記基板への実装時に当該基板上の基板側ランドに対向する電子部品側ランドを複数備え、
    前記基板側ランドの形状と、当該基板側ランドに対向する前記電子部品側ランドの形状とが異なるように、当該電子部品側ランドにおける前記基板側ランドとの対向面にはんだ非着領域を設け、
    複数の前記電子部品側ランドのうち、面積が最大の電子部品側ランドに前記はんだ非着領域を設けた、
    電子部品。
  2. 当該電子部品における前記基板との対向面の外周近傍に前記複数の電子部品側ランドを備え、
    当該電子部品における前記基板との対向面の外周近傍に設けられた前記複数の電子部品側ランドのうち、面積が最大の電子部品側ランドに前記はんだ非着領域を設けた、
    請求項1に記載の電子部品。
  3. 基板に実装される電子部品であって、
    前記基板への実装時に当該基板上の基板側ランドに対向する電子部品側ランドを備え、
    前記基板側ランドの形状と、当該基板側ランドに対向する前記電子部品側ランドの形状とが異なるように、当該電子部品側ランドにおける前記基板側ランドとの対向面にはんだ非着領域を設け、
    前記はんだ非着領域として、前記電子部品側ランドにおける前記基板側ランドとの対向面に溝を設け、
    前記溝の位置における前記電子部品側ランドの厚さが、当該溝に対向する位置の前記基板側ランドの厚さと異なる、
    電子部品。
  4. 基板に実装される電子部品であって、
    前記基板への実装時に当該基板上の基板側ランドに対向する電子部品側ランドを備え、
    前記基板側ランドの形状と、当該基板側ランドに対向する前記電子部品側ランドの形状とが異なるように、当該電子部品側ランドにおける前記基板側ランドとの対向面にはんだ非着領域を設け、
    前記はんだ非着領域として、前記電子部品側ランドにおける前記基板側ランドとの対向面にはんだ絶縁層を設けた、
    電子部品。
  5. 前記電子部品側ランドを前記はんだ非着領域で分割し、
    前記はんだ非着領域により分割された前記電子部品側ランドの平面形状が、当該電子部品側ランドに対向する位置の前記基板側ランドの平面形状と異なる、
    請求項1から4のいずれか一項に記載の電子部品。
  6. 基板に実装される電子部品であって、
    前記基板への実装時に当該基板上の基板側ランドに対向する電子部品側ランドを複数備え、
    前記電子部品側ランドは、当該電子部品における前記基板との対向面の略中央に設けられたアース用ランドと、前記アース用ランドの周囲に設けられた入出力用ランドと、を有し、
    前記入出力用ランドは、当該電子部品における前記基板との対向面の外周近傍に設けられた補強用ランドを有し、
    前記補強用ランドは、他の前記入出力用ランドよりも面積が大きく形成され、
    前記基板側ランドの形状と、当該基板側ランドに対向する前記補強用ランドの形状とが異なるように、当該補強用ランドにおける前記基板側ランドとの対向面にはんだ非着領域を設け、
    複数の前記電子部品側ランドのうち、面積が最大の電子部品側ランドに前記はんだ非着領域を設けた、
    電子部品。
  7. 基板と、当該基板に実装される電子部品と、を備える電子装置であって、
    前記基板は、基板側ランドを備え、
    前記電子部品は、前記基板への実装時に前記基板側ランドに対向する電子部品側ランドを複数備え、
    前記基板側ランドの形状と、当該基板側ランドに対向する前記電子部品側ランドの形状とが異なるように、当該基板側ランドにおける当該電子部品側ランドとの対向面、及び/又は、当該電子部品側ランドにおける当該基板側ランドとの対向面にはんだ非着領域を設け、
    複数の前記電子部品側ランドのうち、面積が最大の電子部品側ランドに前記はんだ非着領域を設けた、
    電子装置。
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