JP5321594B2 - ガラス基板の製造方法、および磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
ガラス基板の製造方法、および磁気記録媒体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5321594B2 JP5321594B2 JP2010533864A JP2010533864A JP5321594B2 JP 5321594 B2 JP5321594 B2 JP 5321594B2 JP 2010533864 A JP2010533864 A JP 2010533864A JP 2010533864 A JP2010533864 A JP 2010533864A JP 5321594 B2 JP5321594 B2 JP 5321594B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- polishing
- manufacturing
- glass
- heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
前記ガラス基板を加熱する加熱工程を有し、
前記第1研磨工程を行った後、前記第2研磨工程を行う前に、前記加熱工程を行うことを特徴とするガラス基板の製造方法。
ガラス基板の大きさに特に限定はない。例えば、外径が2.5インチ、1.8インチ、1インチ、0.8インチなど種々の大きさのガラス基板がある。また、ガラス基板の厚みにも限定はなく、2mm、1mm、0.63mmなど種々の厚みのガラス基板がある。
最初に、ガラス素材を溶融する。
溶融ガラスを下型に流し込み、上型によってプレス成形して円板状のガラス基板前駆体を得る。なお、円板状のガラス基板前駆体は、プレス成形によらず、例えばダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスを研削砥石で切り出して作製してもよい。
プレス成形したガラス基板前駆体は、カッター部にダイヤモンド砥石等を備えたコアドリル等で中心部に孔を開ける。
次に、ガラス基板の両表面をラッピング加工し、ガラス基板の全体形状、すなわちガラス基板の平行度、平坦度および厚みを予備調整する。
次に、ガラス基板の外周端面および内周端面を、例えば鼓状のダイヤモンド等の研削砥石により研削することで内・外径加工する。この内・外径加工により、ガラス基板の外径寸法および真円度、孔の内径寸法、並びにガラス基板と孔との同心度を微調整し、また、ガラス基板の内・外周角部を、例えば、0.1mmから0.2mm程度の45°の面取りをする。
この後、ガラス基板の内周端面を、研磨液を使用したブラシ研磨により面取り部の角部を曲面とし、また微細なキズ等を除去する。
次に、ガラス基板の両表面を再びラッピング加工して、ガラス基板の平行度、平坦度および厚みを微調整する。
そして、ガラス基板の外周端面を、研磨液を使用したブラシ研磨により面取り部の角部を曲面とし、また微細なキズ等を除去する。
第2ラッピング工程の次に、化学強化液にガラス基板を浸漬してガラス基板に化学強化層を形成する。化学強化層を形成することで耐衝撃性、耐振動性及び耐熱性等を向上させることができる。
次に、研磨工程に関して説明する。研磨工程では、ガラス基板の表面を精密に仕上げるとともに主表面の外周端部の形状を研磨する。
公知の超音波洗浄機を用いてガラス基板を洗浄し、研磨剤等を除去する。洗浄液には純水などを用いることができる。
洗浄後のガラス基板に、ゴミ、埃などが除去された乾燥した気体を吹き付けて乾燥させる。気体は、空気でも窒素ガスなどの不活性の高純度ガスでも良い。気体の温度は15℃〜200℃にすることが好ましい。より好ましい気体の温度は20℃〜200℃である。気体を吹き付ける時間は1分以上、好ましくは3分以上ガラス基板に付着した水分が完全に乾燥するまで気体を吹き付ける。
ガラス基板を加熱槽に入れて100℃〜300℃の温度で5〜30分間加熱する。
第2研磨工程は、第1研磨工程後のガラス基板の表面を更に精密に研磨する工程である。第2研磨工程で使用するパッドは、第1研磨工程で使用するパッドより柔らかい硬度65から80(Asker−C)程度の軟質パッドで、例えば発泡ウレタンやスウェードを使用するのが好ましい。研磨剤としては、第1研磨工程と同様の酸化セリウム、コロイダルシリカ、酸化ジルコニウム、酸化チタニウム、酸化マンガン等を用いることができるが、ガラス基板の表面をより滑らかにするため、粒径がより細かくバラツキが少ない研磨剤を用いるのが好ましい。粒径の平均粒子径が40nmから70nmの研磨剤を水に分散させてスラリー状にして研磨液として用い、水と研磨剤との混合比率は、1:9から3:7程度が好ましい。
(検査工程)
第2研磨工程の終了後、ガラス基板の洗浄及び検査を行い、ガラス基板が完成する。
次に、ガラス基板に設ける磁性膜2について説明する。以下、図2に基づき磁性膜2を設けた磁気記録媒体Dについて説明する。
実施例1〜4のガラス基板を以下のように作製した。
図3で説明した製造工程図に従って、実施例1〜4のガラス基板を各100枚作製した。実施例1〜4では、加熱温度T1(℃)を変えてガラス基板を作製した。
予熱槽でガラス基板を所定温度に加熱した後、300℃に加熱した化学強化処理液にガラス基板を浸漬した。化学強化処理液にはカリウムの硝酸塩を用いた。
ニッタ・ハース社製のウレタンパッドを用い、研磨剤としては、酸化セリウムを用いた。研磨条件は、パッドの硬度76(硬度A)、研磨剤の粒径0.6(μm)、回転数30(rpm)、加工圧力10787(Pa)とした。
超音波洗浄機で10分間洗浄を行った。
常温の清浄な空気をガラス基板の両面に1分間吹き付けて乾燥させた。
ガラス基板を加熱槽に入れて10分間加熱した。加熱温度T1は、実施例1では90℃とし、実施例2では100℃、実施例3では300℃、実施例4では310℃とした。
FILWEL社製のスウェードパッドを用い、研磨剤としては、酸化セリウムおよびコロイダルシリカを用いた。研磨条件は、パッドの硬度80(Asker−C)、研磨剤の粒径30(nm)、回転数30(rpm)、加工圧力10787(Pa)とした。
第2洗浄工程として、ロールスクラブ機、カップスクラブ機でのブラシ洗浄を行い、その後超音波洗浄機で洗浄を行った。
比較例では、第1研磨工程、洗浄工程、乾燥工程、第2研磨工程の順に行い、加熱工程を行わなかった。
ガラス基板のうねり、微小うねりとこれらの測定方法について説明する。
実施例1〜4と比較例で作製した各100枚のガラス基板表面のうねりWa、微小うねりμWa、研磨レートをそれぞれ測定した測定結果の平均値を表1に示す。
2 磁性膜
5 孔
7a 表主表面
7b 裏主表面
10t 外周端面
11 測定断面曲線
12 うねり曲線
13 微小うねり曲線
20t 内周端面
D 磁気ディスク
Claims (6)
- 研磨剤を含む研磨液を用いてガラス基板の表面を研磨する第1研磨工程と第2研磨工程とを有するガラス基板の製造方法において、
前記ガラス基板を加熱する加熱工程を有し、
前記第1研磨工程を行った後、前記第2研磨工程を行う前に、前記加熱工程を行うことを特徴とするガラス基板の製造方法。 - 前記加熱工程は、100℃〜300℃の温度で加熱する工程であることを特徴とする請求項1に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記第2研磨工程は前記加熱工程の直後に行われることを特徴とする請求項1または2に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記第1研磨工程と前記加熱工程との間に前記ガラス基板を洗浄する洗浄工程および前記ガラス基板を乾燥させる乾燥工程を有することを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記乾燥工程では、前記ガラス基板に気体を吹き付けることを特徴とする請求項4に記載のガラス基板の製造方法。
- 請求項1から5の何れか1項に記載のガラス基板の製造方法を用いて製造したガラス基板の表面に磁性膜を形成する工程を有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010533864A JP5321594B2 (ja) | 2008-10-17 | 2009-09-11 | ガラス基板の製造方法、および磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008268410 | 2008-10-17 | ||
JP2008268410 | 2008-10-17 | ||
PCT/JP2009/065916 WO2010044325A1 (ja) | 2008-10-17 | 2009-09-11 | ガラス基板の製造方法、および磁気記録媒体の製造方法 |
JP2010533864A JP5321594B2 (ja) | 2008-10-17 | 2009-09-11 | ガラス基板の製造方法、および磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2010044325A1 JPWO2010044325A1 (ja) | 2012-03-15 |
JP5321594B2 true JP5321594B2 (ja) | 2013-10-23 |
Family
ID=42106492
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010533864A Active JP5321594B2 (ja) | 2008-10-17 | 2009-09-11 | ガラス基板の製造方法、および磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9190096B2 (ja) |
JP (1) | JP5321594B2 (ja) |
WO (1) | WO2010044325A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012029857A1 (ja) * | 2010-08-31 | 2012-03-08 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP5636243B2 (ja) * | 2010-09-30 | 2014-12-03 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP5479390B2 (ja) * | 2011-03-07 | 2014-04-23 | 信越半導体株式会社 | シリコンウェーハの製造方法 |
JP2012218995A (ja) * | 2011-04-12 | 2012-11-12 | Asahi Glass Co Ltd | 強化ガラス板及びカバーガラスの製造方法並びにカバーガラス |
WO2013031547A1 (ja) * | 2011-08-29 | 2013-03-07 | 旭硝子株式会社 | ガラス板、およびガラス板の製造方法 |
KR20180034771A (ko) * | 2016-09-27 | 2018-04-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 조립체, 이를 포함하는 증착 장치, 및 마스크 조립체의 제조방법 |
MY190836A (en) * | 2016-11-23 | 2022-05-12 | Hoya Corp | Method for polishing glass substrate, method for manufacturing glass substrate, method for manufacturing magnetic-disk glass substrate, method for manufacturing magnetic disk, polishing liquid, and method for reducing cerium oxide |
CN113532695B (zh) * | 2021-08-14 | 2024-04-19 | 中建材玻璃新材料研究院集团有限公司 | 一种适用于浮法玻璃的锡槽物理模拟方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0589459A (ja) * | 1991-09-30 | 1993-04-09 | Hoya Corp | 磁気デイスク用ガラス基板及び磁気デイスクの製造方法並びに磁気デイスク用ガラス基板及び磁気デイスク |
JP2002092867A (ja) * | 2000-09-21 | 2002-03-29 | Hoya Corp | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法 |
JP2006099813A (ja) * | 2004-09-28 | 2006-04-13 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 磁気記録媒体用基板の製造方法及びその製造方法を用いた磁気記録媒体の製造方法 |
JP2007115388A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-05-10 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の収納方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板収納体、磁気ディスク用ガラス基板の配送方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP2007305217A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Konica Minolta Opto Inc | ガラス基板の化学強化処理方法およびこの処理方法を用いたガラス基板の製造方法 |
WO2008004472A1 (fr) * | 2006-07-03 | 2008-01-10 | Konica Minolta Opto, Inc. | Procédé de fabrication d'un substrat de verre pour support d'enregistrement d'informations et disque magnétique utilisant ce procédé |
Family Cites Families (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03184261A (ja) | 1989-12-13 | 1991-08-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | アルカリ蓄電池用陰極板の製造法 |
JPH03184495A (ja) | 1989-12-14 | 1991-08-12 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 立体画像表示方式 |
JP3184495B2 (ja) | 1991-09-30 | 2001-07-09 | ホーヤ株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク |
US6258137B1 (en) * | 1992-02-05 | 2001-07-10 | Saint-Gobain Industrial Ceramics, Inc. | CMP products |
JP3252702B2 (ja) * | 1996-03-28 | 2002-02-04 | 信越半導体株式会社 | 気相エッチング工程を含む半導体単結晶鏡面ウエーハの製造方法およびこの方法で製造される半導体単結晶鏡面ウエーハ |
JP3979750B2 (ja) * | 1998-11-06 | 2007-09-19 | 株式会社荏原製作所 | 基板の研磨装置 |
US6428396B2 (en) * | 2000-06-29 | 2002-08-06 | Hoya Corporation | Method of producing a substrate for an information recording medium and method of producing an information recording medium |
JP3516233B2 (ja) * | 2000-11-06 | 2004-04-05 | 日本板硝子株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP2002150547A (ja) * | 2000-11-06 | 2002-05-24 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP4274708B2 (ja) * | 2001-05-14 | 2009-06-10 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 |
US20030134734A1 (en) * | 2001-08-08 | 2003-07-17 | Shiro Nishimoto | Press molding method for glass and manufacturing method for glass substrate using this method |
US20030110803A1 (en) * | 2001-09-04 | 2003-06-19 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Method of manufacturing glass substrate for magnetic disks, and glass substrate for magnetic disks |
JP2003160348A (ja) * | 2001-11-21 | 2003-06-03 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 |
US7010939B2 (en) * | 2002-06-05 | 2006-03-14 | Hoya Corporation | Glass substrate for data recording medium and manufacturing method thereof |
JP2004042217A (ja) * | 2002-07-12 | 2004-02-12 | Ebara Corp | 研磨方法、研磨装置および研磨工具の製造方法 |
US20040137828A1 (en) * | 2002-07-17 | 2004-07-15 | Hoya Corporation | Glass substrate for a mask blank, method of producing a glass substrate for a mask blank, mask blank, method of producing the mask blank, transfer mask, and method of producing a transfer mask |
JP4252956B2 (ja) * | 2002-10-29 | 2009-04-08 | Hoya株式会社 | 化学強化用ガラス、情報記録媒体用基板、情報記録媒体及び情報記録媒体の製造方法 |
JP4234991B2 (ja) * | 2002-12-26 | 2009-03-04 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及びその製造方法によって製造される情報記録媒体用ガラス基板 |
US7566673B2 (en) * | 2003-10-31 | 2009-07-28 | Konica Minolta Opto, Inc. | Glass substrate for an information recording medium and information recording medium employing it |
US7395679B2 (en) * | 2004-03-19 | 2008-07-08 | Konica Minolta Opto, Inc. | Method of manufacturing glass substrate for information recording medium |
CN100538827C (zh) * | 2004-03-25 | 2009-09-09 | Hoya株式会社 | 磁盘用玻璃基板 |
JP2006079800A (ja) * | 2004-08-11 | 2006-03-23 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体用シリコン基板及びその製造方法並びに磁気記録媒体 |
CN101090874B (zh) * | 2004-12-27 | 2011-03-02 | 古河电气工业株式会社 | 玻璃条的制造方法、玻璃条以及玻璃基板 |
DE112006003221T5 (de) * | 2005-12-22 | 2008-10-23 | Asahi Glass Co., Ltd. | Glassubstrat für eine Maskenvorform und Polierverfahren zur Herstellung desselben |
SG136886A1 (en) * | 2006-04-28 | 2007-11-29 | Asahi Glass Co Ltd | Method for producing glass substrate for magnetic disk, and magnetic disk |
DE102006023078B4 (de) * | 2006-05-16 | 2012-04-19 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung von Glaskeramik-Artikeln mit verbesserter Oberfläche, Vorrichtung und Verwendung |
JP4836731B2 (ja) * | 2006-07-18 | 2011-12-14 | 旭硝子株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
JP5009101B2 (ja) * | 2006-10-06 | 2012-08-22 | 株式会社荏原製作所 | 基板研磨装置 |
US20090004764A1 (en) * | 2007-06-29 | 2009-01-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing SOI substrate and method for manufacturing semiconductor device |
WO2009096120A1 (ja) * | 2008-01-28 | 2009-08-06 | Asahi Glass Company, Limited | データ記憶媒体基板用ガラス、データ記憶媒体用ガラス基板および磁気ディスク |
US20100062287A1 (en) * | 2008-09-10 | 2010-03-11 | Seagate Technology Llc | Method of polishing amorphous/crystalline glass to achieve a low rq & wq |
US20100162761A1 (en) * | 2008-12-30 | 2010-07-01 | Stephen Carney | Flame polishing of flat glass |
WO2011024241A1 (ja) * | 2009-08-31 | 2011-03-03 | 株式会社エルム | 光ディスクの修復方法及び修復装置 |
US8206789B2 (en) * | 2009-11-03 | 2012-06-26 | Wd Media, Inc. | Glass substrates and methods of annealing the same |
-
2009
- 2009-09-11 WO PCT/JP2009/065916 patent/WO2010044325A1/ja active Application Filing
- 2009-09-11 JP JP2010533864A patent/JP5321594B2/ja active Active
- 2009-09-11 US US13/124,029 patent/US9190096B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0589459A (ja) * | 1991-09-30 | 1993-04-09 | Hoya Corp | 磁気デイスク用ガラス基板及び磁気デイスクの製造方法並びに磁気デイスク用ガラス基板及び磁気デイスク |
JP2002092867A (ja) * | 2000-09-21 | 2002-03-29 | Hoya Corp | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法 |
JP2006099813A (ja) * | 2004-09-28 | 2006-04-13 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 磁気記録媒体用基板の製造方法及びその製造方法を用いた磁気記録媒体の製造方法 |
JP2007115388A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-05-10 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の収納方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板収納体、磁気ディスク用ガラス基板の配送方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP2007305217A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Konica Minolta Opto Inc | ガラス基板の化学強化処理方法およびこの処理方法を用いたガラス基板の製造方法 |
WO2008004472A1 (fr) * | 2006-07-03 | 2008-01-10 | Konica Minolta Opto, Inc. | Procédé de fabrication d'un substrat de verre pour support d'enregistrement d'informations et disque magnétique utilisant ce procédé |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9190096B2 (en) | 2015-11-17 |
US20110195638A1 (en) | 2011-08-11 |
JPWO2010044325A1 (ja) | 2012-03-15 |
WO2010044325A1 (ja) | 2010-04-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4998095B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 | |
JP5321594B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、および磁気記録媒体の製造方法 | |
JP5029158B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 | |
JPWO2009031401A1 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 | |
JP2008287779A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 | |
JP2009076167A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 | |
WO2011033948A1 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体及び情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
WO2010041537A1 (ja) | ガラス基板の製造方法、および磁気記録媒体の製造方法 | |
WO2010041536A1 (ja) | ガラス基板の製造方法、および磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2009193608A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 | |
JP4894678B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP5536481B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法 | |
WO2011021478A1 (ja) | ガラス基板の製造方法、ガラス基板、磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体 | |
JP2009087483A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 | |
JP5781845B2 (ja) | Hdd用ガラス基板、hdd用ガラス基板の製造方法、及びhdd用磁気記録媒体 | |
JP2008204499A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 | |
JP5859757B2 (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 | |
WO2013001722A1 (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 | |
JP5706250B2 (ja) | Hdd用ガラス基板 | |
JP2012203960A (ja) | 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP5719785B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体、および情報記録装置 | |
JP2009048735A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 | |
JP2012079365A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2013012282A (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 | |
JP5360331B2 (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120514 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20120731 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20130416 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130618 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130701 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5321594 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |