JP4879253B2 - 処理液供給装置 - Google Patents
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Description
図1は、この発明に係る処理液供給装置の第1実施形態を示す概略断面図である。
まず、新規薬液ボトル1をセットした後、コントローラ200からの制御信号に基づいて図2に示すように、第1の気体供給管路6aに介設された開閉弁V5と第1の処理液供給管路7aに介設された開閉弁V6が開放し、N2ガス供給源71から薬液ボトル1内に供給されるN2ガスの加圧によってレジスト液Lをバッファタンク2内に供給する。このとき、切換弁Vcは大気部72側に切り換えられており、バッファタンク2内は大気に連通されている。薬液ボトル1から供給されたレジスト液Lが接続部の導入管75を介してバッファタンク2に供給(補充)される際、レジスト液はバッファタンク2内の気体(大気)と接触することで、レジスト液の大気接触面積の増大によりレジスト液中に溶存するガスを顕在化して気泡が発生又は発生しやすくする。
バッファタンク2内に所定量のレジスト液Lが供給(補充)されると、上限液面センサ73からの検知信号を受けたコントローラ200からの制御信号に基づいて図3に示すように、開閉弁V5と開閉弁V6が閉じると共に、切換弁VcがN2ガス供給源71側に切り換わる。これにより、N2ガス供給源71からN2ガスがバッファタンク2内に供給される一方、循環管路8の開閉弁V1,V2(V3)が開放してフィルタ3からドレイン管路7cに排出された気泡を含むレジスト液Lを循環管路8を介して薬液ボトル1内に戻す。このとき、ポンプ5が駆動して供給ノズル70aからレジスト液が被処理基板であるウエハ(図示せず)に供給(吐出)されて処理が施される。
上記レジスト液のN2加圧−レジスト液吐出(1)に代えて、循環管路8の開閉弁V1(V3)を閉じると共に、開閉弁V2を開放する一方、トラップタンク用ドレイン管路7cに介設された開閉弁V4を開放してトラップタンク4からトラップタンク用ドレイン管路7cに排出された気泡を含むレジスト液Lを循環管路8を介して薬液ボトル1内に戻す。このとき、ポンプ5が駆動して供給ノズル70aからレジスト液がウエハ(図示せず)に供給(吐出)されて処理が施される。
供給ノズル70aから所定量のレジスト液をウエハに供給(吐出)した後、図5に示すように、循環管路8に介設される開閉弁V1(V3)とトラップタンク用ドレイン管路7cに介設された開閉弁V4を閉じて、バッファタンク2内のレジスト液をポンプ5側に補充する。
バッファタンク2内のレジスト液Lの補充量が所定量以下になったとき、下限液面センサ74からの検知信号がコントローラ200に伝達され、コントローラ200からの制御信号に基づいて図6に示すように、切換弁Vcが大気部72側に切り換わってバッファタンク2内が大気に連通する。この状態でバッファタンク2の交換が可能となる。なお、薬液ボトル1を交換する場合は、図6に示す状態から第1の気体供給管路6aに介設された開閉弁V5及び循環管路8に介設された開閉弁V2を閉じた状態にしてN2ガス供給源71からのN2ガスの供給を遮断した状態で薬液ボトル1を交換することができる。
図7は、この発明に係る処理液供給装置の第2実施形態を示す概略断面図である。
図8は、この発明に係る処理液供給装置の第3実施形態を示す概略断面図である。
上記実施形態では処理液貯留容器が薬液ボトル1にて形成され、N2ガス供給源71から供給されるN2ガスを薬液ボトル1内のレジスト液Lの液面に直接加圧してレジスト液Lを圧送する場合について説明したが、バッファタンク2が上述したように大気に連通可能な状態であれば、薬液ボトル1に代えて、処理液貯留容器内に収容される内袋内にレジスト液を貯留し、内袋の外側を加圧してレジスト液を供給ノズル70aに供給するものに適用可能である。なおこの場合においても、内袋を連続加圧すると、内袋のN2ガス透過により溶存ガス濃度が上昇するので、この発明の処理液供給装置を用いることによってレジスト液中に溶存するガスを効率良く除去することができる。
2 バッファタンク(一時貯留容器)
3 フィルタ
4 トラップタンク
5 ポンプ
6a 第1の気体供給管路
6b 第2の気体供給管路
7a 第1の処理液供給管路
7b 第2の処理液供給管路
7c ドレイン管路
7d トラップタンク用ドレイン管路
8 循環管路
8a 戻り管路
9 可変絞り
71 N2ガス供給源(加圧気体供給源)
72 大気部
75 導入管
76 気泡検出センサ
77 気泡検出センサ
200 コントローラ(制御手段)
L レジスト液(処理液)
V1〜V5,V7 開閉弁
Vc 切換弁
Claims (5)
- 被処理基板に処理液を供給する供給ノズルと、
上記処理液を貯留する処理液貯留容器と、
上記供給ノズルと処理液貯留容器とを接続する供給管路と、
気体供給管路を介して上記処理液貯留容器内の処理液を加圧して処理液を圧送する加圧気体供給源と、
上記気体供給管路に介設され、上記処理液貯留容器への気体の供給又は停止をするための気体供給用開閉弁と、
上記供給管路に介設され、上記処理液貯留容器から圧送された処理液を一時貯留する一時貯留容器と、
上記供給管路における上記処理液貯留容器と上記一時貯留容器との間に介設され、上記一時貯留容器へ処理液の供給又は停止をするための供給用開閉弁と、
上記一時貯留容器の二次側の供給管路に介設され、上記処理液を濾過して異物を除去すると共に、処理液中に混入している気泡を除去するフィルタと、
上記フィルタの二次側の供給管路に介設されるポンプと、を具備する処理液供給装置において、
上記フィルタの上部に接続され、気泡を外部に排出するためのドレイン管路と、このドレイン管路から分岐され、上記処理液貯留容器と一時貯留容器との間の供給管路に接続する戻り管路とからなる循環管路と、
上記加圧気体供給源と上記一時貯留容器とを接続する第2の気体供給管路と、
上記第2の気体供給管路に介設され、上記一時貯留容器をガス加圧する側に切り換える切換弁と、
上記循環管路を構成する上記ドレイン管路に介設される開閉弁と、この開閉弁の二次側に設けられ、流れる処理液の液圧を低下して処理液中に溶存する気体を気泡化する可変調整絞りと、
上記供給ノズルから処理液を供給するときに、上記気体供給用開閉弁及び供給用開閉弁を閉じ、かつ、上記切換弁を上記一時貯留容器を加圧する側に切り換えると同時に、上記フィルタの上記ドレイン管路の開閉弁を開放して上記処理液を上記循環管路に流すように制御する制御手段と、
を具備してなることを特徴とする処理液供給装置。 - 請求項1記載の処理液供給装置において、
上記開閉弁は、上記可変調整絞りと一体的に構成されている、ことを特徴とする処理液供給装置。 - 請求項1又は2記載の処理液供給装置において、
上記循環管路に介設され、該循環管路を流れる処理液中の気泡を検出する気泡検出センサを更に具備し、
上記制御手段は、上記気泡検出センサからの検出信号に基づいて、加圧気体供給源の加圧量、可変調整絞りの絞り量又は循環管路を流れる処理液の時間の少なくとも一つを制御する、ことを特徴とする処理液供給装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の処理液供給装置において、
上記フィルタとポンプとの間の供給管路に介設され、処理液中に溶存する気泡を分離する機能を有するトラップタンクを更に具備し、
上記トラップタンクと循環管路とを開閉弁を介設したドレイン管路によって接続してなる、ことを特徴とする処理液供給装置。 - 請求項4記載の処理液供給装置において、
上記トラップタンクに、該トラップタンク内に貯留される処理液中の気泡を検出する気泡検出センサを更に具備し、
上記制御手段は、上記気泡検出センサからの検出信号に基づいて、加圧気体供給源の加圧量、可変調整絞りの絞り量又は循環管路を流れる処理液の時間の少なくとも一つを制御する、ことを特徴とする処理液供給装置。
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