JP5956975B2 - 液処理装置及び液処理方法 - Google Patents
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Description
この発明に係る液処理装置5は、図3に示すように、処理液であるレジスト液Lを貯留する処理液貯留容器60(以下にレジスト容器60という。)とウエハWにレジスト液Lを吐出(供給)する後述する処理液供給ノズル7の1つの処理液供給ノズル7aとを接続する供給管路51と、供給管路51に介設され、レジスト液Lを濾過してパーティクルを除去すると共に、レジスト液L中に混入している異物(気泡)を除去するフィルタ装置52aと、フィルタ装置52aの二次側の供給管路51に介設される第1のトラップタンク53と、第1のトラップタンク53の二次側の供給管路51に介設されるポンプPと、ポンプPの二次側の供給管路51に介設される第2のトラップタンク54と、ポンプPの吐出側とフィルタ装置52aの吸入側とを接続する循環管路55と、循環管路55に介設される循環制御弁56と、第2のトラップタンク54の二次側の供給管路51に介設される供給制御弁57を具備する。
まず、レジスト容器60をセット(インストール)した後、コントローラ200からの制御信号に基づいて、第1の気体供給管路8aに介設された切換弁V1と第1の処理液供給管路51aに介設された切換弁V2が開放し、N2ガス供給源62からレジスト容器60内に供給されるN2ガスの加圧によってレジスト液Lをバッファタンク61内に供給する。このとき、切換弁V3は大気部63側に切り換えられており、バッファタンク61内は大気に連通されている。
図5に示すように、バッファタンク61内に所定量のレジスト液Lが供給(補充)されると、上限液面センサ61aからの検知信号を受けた図示しないコントローラからの制御信号に基づいて、切換弁V1と切換弁V2が閉じると共に、切換弁V3がN2ガス供給源62側に切り換わる。これにより、N2ガス供給源62からN2ガスがバッファタンク61内に供給される一方、第2の処理液供給管路51bの供給制御弁57が開放し、ポンプPが駆動することで、レジスト液Lが処理液供給ノズル7aからウエハWに吐出(供給)されて処理が施される(処理液供給工程)。このとき、切換弁V4a,V5a,V5bは図示しないコントローラからの信号によって開かれており、フィルタ装置52a、トラップタンク53,54中に溶存する気泡はドレイン管51c,51d,51hを介して外部に排出される。
次に、供給管路51と循環管路55とを介して行われるレジスト液Lの循環について説明する。図6に示すように、処理液供給ノズル7dからウエハWにレジスト液を供給する際には、図示しないコントローラからの信号によって供給制御弁57が閉じられることで、処理液供給ノズル7aからウエハWへのレジスト液Lの供給が停止される(アイドル状態)。このアイドル状態で、図示しないコントローラからの信号によって循環制御弁56が開かれる。
図7に基づいて、この発明に係る液処理装置の第2実施形態を説明する。なお、第2実施形態において、第1実施形態と同一の構成については、同一部分に同一符号を付して説明は省略する。
図8に基づいて、この発明に係る液処理装置の第3実施形態を説明する。なお、第3実施形態において、第1実施形態と同一の構成については、同一部分に同一符号を付して説明は省略する。
図9に基づいて、この発明に係る液処理装置の第4実施形態を説明する。なお、第4実施形態において、第3実施形態と同一の構成については、同一部分に同一符号を付して説明は省略する。
図10,図11(a),図11(b)に基づいて、この発明に係る液処理装置の第5実施形態を説明する。なお、第5実施形態において、第1実施形態と同一の構成については、同一部分に同一符号を付して説明は省略する。
図12,図13に基づいて、この発明に係る液処理装置の第6実施形態を説明する。なお、第6実施形態において、第1実施形態と同一の構成については、同一部分に同一符号を付して説明は省略する。
図14,図15に基づいて、この発明に係る液処理装置の第7実施形態を説明する。なお、第7実施形態において、第1実施形態と同一の構成については、同一部分に同一符号を付して説明は省略する。
図16に基づいて、この発明に係る液処理装置の第8実施形態を説明する。なお、第8実施形態において、第1実施形態と同一の構成については、同一部分に同一符号を付して説明は省略する。
図17に基づいて、この発明に係る液処理装置の第9実施形態を説明する。なお、第9実施形態において、第1実施形態と同一の構成については、同一部分に同一符号を付して説明は省略する。
図18〜図21に基づいて、この発明に係る液処理装置の第10実施形態を説明する。
図22に基づいて、この発明に係る液処理装置に接続される液処理ユニットを説明する。液処理装置5に接続される液処理ユニット100は、図22に示すように、不活性ガス例えば窒素(N2)ガスの供給源101と、レジスト液Lを貯留するレジスト容器102と、レジスト容器102から導かれた処理液を一時貯留するバッファタンク103と、バッファタンク103に貯留されているレジスト液Lを吐出する2個のポンプP1,P2と、ポンプP1,P2の二次側に設けられている4個のフィルタ装置104a〜104d(以下、フィルタ装置104で代表する)と、を具備する。この実施形態ではポンプP1,P2にダイヤフラムポンプが用いられている。
まず、レジスト容器102をセットした後、図示しないコントローラからの制御信号に基づいて、第3の気体供給管路110aに介設された開閉弁V9と第3の処理液供給管路111aに介設された切換弁V15が開放し、N2ガス供給源101からレジスト容器102内に供給されるN2ガスの加圧によってレジスト液Lをバッファタンク103内に供給する。このとき、切換弁V12は大気部106側に切り換えられており、バッファタンク103内は大気に連通されている。レジスト容器102から供給されたレジスト液Lが第3の処理液供給管路111aを介してバッファタンク103に供給(補充)される際、レジスト液Lはバッファタンク103内の気体(大気)と接触することで、レジスト液Lの大気接触面積の増大によりレジスト液L中に溶存するガスを顕在化して気泡が発生又は発生しやすくする。
次に、第4の処理液供給管路111bと戻り管路111cとを介して行われるレジスト液Lの循環について説明する。バッファタンク103内に所定量のレジスト液Lが供給(補充)されると、上限液面センサ103aからの検知信号を受けた図示しないコントローラからの制御信号に基づいて、切換弁V15が閉じると共に切換弁V16が開く。
バッファタンク103からレジスト容器60へのレジスト液Lへの供給について説明する。バッファタンク103からレジスト容器60にレジスト液Lを供給する場合には、図示しないコントローラからの制御信号に基づいて、開閉弁V9,V15が閉じると共に切換弁V13が開き、切換弁V12がN2ガス供給源101側に切り換わる。これにより、N2ガス供給源101からN2ガスがバッファタンク103内に供給される一方、第4の処理液供給管路111bの開閉弁V8,V16が開かれ、ポンプP1,P2が駆動することで、レジスト液Lがフィルタ装置104、レジスト容器60に供給される。このとき、フィルタ装置104中に溶存する気泡はドレイン管路112a〜112dを介して大気部107に排出される。また、レジスト容器60に供給されたレジスト液Lは、第1の実施形態で上述したように、レジスト液Lが処理液供給ノズル7aからウエハWに吐出(供給)され、又はレジスト液Lが供給管路51と循環管路55との間を循環する。
なお、上記実施形態では、この発明に係る処理液供給装置をレジスト塗布処理装置に適用した場合について説明したが、レジスト以外の処理液例えば現像液等の供給装置や洗浄処理の供給装置にも適用可能である。
7、7a〜7d 処理液供給ノズル
51 供給管路
51a 第1の処理液供給管路
51b 第2の処理液供給管路
52a フィルタ装置
53 第1のトラップタンク
54 第2のトラップタンク
55 循環管路
56 循環制御弁
57 供給制御弁
58 振動体
59a 温度センサ
59b 温調器(温度制御手段)
60 レジスト容器(処理液貯留容器)
61 バッファタンク(処理液一時貯留容器)
71 ダイヤフラム
72 ポンプ室72(ポンプ部分)
73 作動室73(駆動部分)
80 脱気機構
81 容器
82 半透膜チューブ
83 流入用ポート
84 流出用ポート
85 排気用ポート
86 排出管
200 コントローラ(制御手段)
L レジスト液(処理液)
P ポンプ
V6 第3の開閉弁
V31,V32,V36 開閉弁
V33 吸入側の開閉弁
V34 第1の開閉弁
V35 第2の開閉弁
V4a,V5a 切換弁
W ウエハ(被処理基板)
Claims (3)
- 被処理基板に処理液を供給する処理液供給ノズルに接続される液処理装置であって、
上記処理液を貯留する処理液貯留容器と上記処理液供給ノズルとを接続する供給管路と、
上記供給管路に介設され、上記処理液を濾過すると共に、上記処理液中に混入している異物,気泡を除去するフィルタ装置と、
上記フィルタ装置の二次側の上記供給管路に介設されるポンプと、
上記ポンプの二次側の上記供給管路に介設される供給制御弁と、
上記ポンプのポンプ部分の吐出側と上記フィルタ装置の一次側とを接続する循環管路と、
上記フィルタ装置の一次側であって、上記循環管路との接続部の二次側の上記供給管路に設けられる切換弁と、
上記ポンプのポンプ部分の吐出側に設けられ、上記循環管路への上記処理液の供給を選択的に可能にする開閉弁と、
上記ポンプ、供給制御弁、切換弁及び開閉弁を制御する制御手段と、を具備し、
上記制御手段により、上記供給制御弁を閉じることで上記処理液供給ノズルから上記被処理基板への処理液の供給が停止している際に、上記開閉弁及び上記切換弁を閉じた状態で、上記ポンプの駆動手段の駆動により上記ポンプ部分を負圧にすることで、上記処理液中に存在する微細な気泡を顕在化し、その後、上記開閉弁及び上記切換弁を開き、上記ポンプを駆動して、上記フィルタ装置を介設する上記供給管路と上記循環管路との間で、気泡を顕在化した上記処理液を循環させることを特徴とする液処理装置。 - 請求項1に記載の液処理装置において、
上記ポンプのポンプ部分の吸入側に設けられた吸入側開閉弁をさらに具備し、上記制御手段により、上記供給制御弁、上記開閉弁、上記切換弁及び上記吸入側開閉弁を閉じた状態で、上記ポンプ部分を負圧にすることを特徴とする液処理装置。 - 処理液を貯留する処理液貯留容器と処理液供給ノズルとを接続する供給管路と、
上記供給管路に介設され、上記処理液を濾過すると共に、上記処理液中に混入している異物,気泡を除去するフィルタ装置と、
上記フィルタ装置の二次側の上記供給管路に介設されるポンプと、
上記ポンプの二次側の上記供給管路に介設される供給制御弁と、
上記ポンプのポンプ部分の吐出側と上記フィルタ装置の一次側とを接続する循環管路と、
上記フィルタ装置の一次側であって、上記循環管路との接続部の二次側の上記供給管路に設けられる切換弁と、
上記ポンプのポンプ部分の吐出側に設けられ、上記循環管路への上記処理液の供給を選択的に可能にする開閉弁と、
上記ポンプ、供給制御弁、切換弁及び開閉弁を制御する制御手段と、を具備する液処理装置を用いた液処理方法であって、
上記供給制御弁を開くと共に上記開閉弁を閉じ、上記ポンプを駆動させることで上記被処理基板に上記処理液を供給する処理液供給工程と、
上記供給制御弁を閉じることで上記処理液供給ノズルから上記被処理基板への処理液の供給が停止している際に、上記開閉弁及び上記切換弁を閉じた状態で、上記ポンプの駆動手段の駆動により上記ポンプ部分を負圧にすることで、上記処理液中に存在する微細な気泡を顕在化し、その後、上記開閉弁及び上記切換弁を開き、上記ポンプを駆動して、上記フィルタ装置を介設する上記供給管路と上記循環管路との間で、気泡を顕在化した上記処理液を循環させる循環工程と、を備えることを特徴とする液処理方法。
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