JP3583058B2 - 処理液供給装置 - Google Patents
処理液供給装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3583058B2 JP3583058B2 JP2000191453A JP2000191453A JP3583058B2 JP 3583058 B2 JP3583058 B2 JP 3583058B2 JP 2000191453 A JP2000191453 A JP 2000191453A JP 2000191453 A JP2000191453 A JP 2000191453A JP 3583058 B2 JP3583058 B2 JP 3583058B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pipe
- processing liquid
- pump
- supply
- vent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Pipeline Systems (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体処理装置に関するものであり、さらに詳細には半導体ウエハ等の被処理基板上にレジスト液などの処理液を供給する処理液供給装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、被処理基板に処理座を供給する処理液供給装置では、処理液を収容した容器と、被処理基板の近傍に配設したノズルとの間を供給配管で結び、この供給配管の途中に配設したポンプで容器内に収容された処理液をノズルまで送るようになっている。
【0003】
図14は従来型の塗布装置に用いられた処理液供給系の模式図である。
【0004】
図14に示したように、この処理液供給系214では、処理液タンク201、リキッドエンドセンサ203、供給ポンプ204、フィルタ205、吐出ポンプ206、及びノズル202がこの順序で配設されており、これら隣接する要素の間は供給配管207で接続されている。フィルタ205には廃液タンク(図示省略)に繋がるベント配管208が取り付けられている。
【0005】
また吐出ポンプ206の処理液移動方向下流側にはパージ配管209が取り付けられている。このパージ配管209は処理液タンク201とリキッドエンドセンサ203との間の供給配管207bに取り付けられたT字分岐管213に接続されており、パージ配管209を通ってきた処理液を供給配管207bに合流させるようになっている。
【0006】
ところで、図14に示したような長い供給配管207で容器207とノズル202との間を繋いだ構造の処理液供給系214では、供給配管207内に泡が形成される場合があり、これをそのまま放置するとノズル202からウエハWなどの被処理基板に吐出される処理液の量が変動してウエハWの品質を低下させるおそれがある。そのため、図14のような処理液供給系214では、泡抜き機構を備えている。
【0007】
即ち、処理液タンク201内に新たに処理液を入れた場合や、フィルタ205内のフィルタモジュールを交換して新たに処理液を流す場合など、供給配管207内に空気が入り込む場合には、処理液供給開始時にベント配管208のベントバルブ211を開けた状態で供給ポンプ204を作動させ、処理液タンク201からくみ出された処理液をフィルタ205に送る。フィルタ205内には最初、泡を多量に含んだ処理液が送られ、徐々に泡の量は減り、やがて泡を含まない処理液が供給される。そのため、泡を含んだ処理液はベント配管208を経由して廃液タンク(図示省略)に廃棄していた。
【0008】
しかし、ベントバルブ211を開けた状態で供給ポンプ204を作動させたときの処理液はすべて廃棄されてしまうため、処理液の無駄が多いという問題があった。
【0009】
また、ノズル202からウエハWに処理液を吐出する通常運転時にも供給配管207内に泡が生じる場合があるが、その場合には吐出ポンプ206の吐出側に接続されたパージ配管209のパージバルブ212を開けて、泡を含んだ処理液をパージ配管209側に送るようになっている。
【0010】
しかるに、このパージ配管209は処理液タンク201とリキッドエンドセンサ203との間の供給配管207bに配設されたT字分岐管213に接続されており、泡を含んだ処理液が再び供給配管207内を循環して正確な量の処理液の供給を妨げるという問題がある。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記問題を解決するためになされたものである。
【0012】
すなわち、本発明は処理液の無駄をなくすことのできる処理液供給装置を提供することを目的とする。
【0013】
また、本発明は泡の除去を効果的に行うことのできる処理液供給装置を提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の処理液供給装置は、被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、前記処理液を収容する処理液供給源と、前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、前記供給配管に配設されたポンプと、前記ポンプの作動を制御する手段と、前記処理液供給源と前記ポンプとの間の配管に配設された分岐管と、前記分岐管と前記ポンプとを結ぶバイパス配管と、前記バイパス配管から分岐する廃液管と、前記バイパス配管に配設され、前記ポンプに対して前記分岐管又は前記廃液管との間を連通させる三方弁と、前記三方弁を切り換える手段と、を具備する。
【0015】
上記処理液供給装置において、吐出手段とは、例えばウエハWに処理液を吐出するノズルをいう。処理液供給源とは、例えば処理液を収容する処理液タンクをいう。供給配管とは、前記処理液供給源から前記吐出手段に処理液を供給するための配管をいい、途中に配設されたリキッドエンドセンサや、供給ポンプ、フィルタ、吐出ポンプなどの各種要素間を繋ぐ配管をいう。ポンプとは、例えば供給ポンプや吐出ポンプの片方、又は両方のポンプをいう。ポンプの作動を制御する手段とは、例えば供給ポンプや吐出ポンプの作動を制御する制御装置をいう。分岐管とは、例えば供給配管とパージ配管とを接続するT字分岐管や、供給配管とパージ配管及びベント配管とを接続する十字分岐管をいう。バイパス配管とは、前記供給配管以外の配管をいい、例えば、パージ配管やベント配管の一方或いは両方をいう。
【0016】
三方弁とは、例えば、一つの入力側と二つの出力側とを備え、二つの出力側の一方と一つの入力側との間を切り換えることのできる弁をいう。三方弁を切り換える手段とは、例えば、ソレノイドのように、機械的或いは電気的な方法により三方弁を切り換える手段をいう。
【0017】
本発明の処理液供給装置では、T字分岐管や十字分岐管を介してベント配管と供給配管とを連通させ、ベント配管の途中に三方弁を取り付けてベント配管に対して廃液タンク又は供給配管との連通を切り換えるようにしてもよい。
【0018】
また本発明の処理液供給装置では、T字分岐管や十字分岐管を介してパージ配管と供給配管とを連通させ、パージ配管の途中に三方弁を取り付けてパージ配管に対して廃液タンク又は供給配管との連通を切り換えるようにしてもよい。
【0019】
さらに、上記したように十字分岐管を介してベント配管、パージ配管、供給配管とを連通させ、ベント配管とパージ配管のそれぞれに三方弁を取り付け、ベント配管、パージ配管のどちらからでも泡を含んだ処理液を廃液タンクに廃棄できるようにしてもよい。
【0020】
また、上記三方弁を制御する手段をさらに具備させ、定期的に三方弁を作動させてベント配管又はパージ配管から泡を含んだ処理液を廃棄するようにしてもよい。
【0021】
さらに、供給配管の途中に泡の有無を検出するセンサを取り付けておき、処理液供給系内に泡が生じた場合に三方弁を作動させてベント配管又はパージ配管から泡を含んだ処理液を廃棄するようにしてもよい。
【0022】
この処理液供給装置では、ベント配管やパージ配管と供給配管とを連通させる一方、ベント配管やパージ配管に三方弁を配設してあるので、この三方弁を適宜切り換えることにより配管内の泡を含んだ処理液のみを廃棄することができる。そのため、処理液の無駄な廃棄を殆どなくすことができる。また泡を含んだ処理液が再循環することがないので、処理液の吐出量を正確にコントロールすることができる。
【0023】
さらに、本発明の他の処理液供給装置は、被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、前記処理液を収容する処理液供給源と、前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、前記処理液供給源から吐出手段に処理液を供給するポンプと、前記ポンプと吐出手段との間の供給配管に介挿されるフィルタと、前記フィルタと、前記ポンプの上流側の供給配管とを結ぶバイパス配管と、前記バイパス配管から分岐する廃液管と、前記バイパス配管内の処理液を、前記ポンプ上流側と前記廃液管とに切り換える切換弁と、を具備する。
【0024】
上記処理液供給装置において、前記バイパス配管は前記ポンプと前記供給配管とを結ぶものであってもよい。さらにバイパス配管を二本使用し、一のバイパス配管で前記フィルタと前記供給配管とを結ぶとともに、もう一つのバイパス配管で前記ポンプと前記供給配管とを結んでもよい。
【0025】
さらに、前記切換弁を所定のタイミングで駆動するようにしてもよい。
【0026】
上記処理液供給装置では、前記供給配管の他にこの供給配管と前記フィルタや前記ポンプとを結ぶバイパス配管を配設し、このバイパス配管に切換弁を介して廃液管を配設したので、この切換弁を適切なタイミングで切り換えることにより効率良く配管内の泡を除去することができる。
【0027】
本発明のさらに他の処理液供給装置は、被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、前記処理液を収容する処理液供給源と、前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、前記供給配管に配設されたポンプと、前記ポンプの作動を制御する手段と、前記処理液供給源と前記ポンプとの間の供給配管に配設された分岐管と、前記ポンプと前記分岐管とを結ぶバイパス配管と、前記バイパス配管から分岐して前記処理液供給源までの間を結ぶ戻し配管と、前記バイパス配管に配設され、前記ポンプに対して前記バイパス配管又は前記戻し配管との間を連通させる第1の三方弁と、前記第1の三方弁を切り換える手段と、前記第1の三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記バイパス配管から分岐する廃液管と、前記第1の三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記第1の三方弁に対して前記バイパス配管又は前記廃液管との間を連通させる第2の三方弁と、前記第2の三方弁を切り換える手段と、を具備する。
【0028】
本発明のさらに別の処理液供給装置は、被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、前記処理液を収容する処理液供給源と、前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、前記供給配管に配設された吐出ポンプと、前記吐出ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された供給ポンプと、前記吐出ポンプ及び供給ポンプの作動を制御する手段と、前記吐出ポンプと前記供給ポンプとの間の供給配管に配設されたフィルタと、前記供給ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された分岐管と、前記フィルタと前記分岐管との間を結ぶベント配管と、前記吐出ポンプと前記分岐管との間を結ぶパージ配管と、前記ベント配管及び前記パージ配管からそれぞれ分岐して前記処理液供給源までの間を結ぶ戻し配管と、前記ベント配管に配設され、前記フィルタに対して前記分岐管又は前記戻し配管との間を連通させるベント側三方弁と、前記ベント側三方弁を切り換える手段と、前記パージ配管に配設され、前記吐出ポンプに対して前記分岐管又は戻し配管との間を連通させるパージ側三方弁と、前記パージ側三方弁を切り換える手段と、前記ベント側三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記ベント管から分岐する第1の廃液管と、前記ベント配管に配設され、前記ベント側三方弁と前記分岐管とを連通させ、又は前記ベント側三方弁と前記第1の廃液管とを連通させ、又は前記分岐管と前記第1の廃液管とを連通させるベント側切換弁と、前記ベント側切換弁を切り換える手段と、前記パージ側三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記パージ配管から分岐する第2の廃液管と、前記パージ配管に配設され、前記パージ側三方弁と前記分岐管とを連通させ、又は前記パージ側三方弁と前記第2の廃液管とを連通させ、又は前記分岐管と前記第2の廃液管とを連通させるパージ側切換弁と、前記パージ側切換弁を切り換える手段と、前記分岐管に配設され、前記分岐管内、前記供給配管内、前記ベント配管内、前記パージ配管内の処理液を除去する処理液除去手段と、を具備する。
【0029】
上記処理液供給装置は、前記フィルタと前記ベント側三方弁との間に配設され、ベント側の泡を検知する手段をさらに具備していてもよい。
【0030】
また、上記処理液供給装置は、前記吐出ポンプと前記パージ側三方弁との間に配設され、パージ側の泡を検知する手段をさらに具備していてもよい。
【0031】
さらに、上記処理液供給装置は、前記ベント側泡検出手段及び前記パージ側泡検出手段による前記ベント配管内及び前記パージ配管内に存在する泡の検知に基づいて、所定のタイミングで前記ベント側三方弁、前記パージ側三方弁、前記ベント側切換弁、前記パージ側切換弁をそれぞれ切り換える制御手段をさらに具備していてもよい。
【0032】
また、上記処理液供給装置は、前記フィルタと前記ベント側泡検知手段との間に配設されたベント側振動子をさらに具備していてもよい。
【0033】
さらに、上記処理液供給装置は、前記吐出ポンプと前記パージ側泡検出手段との間に配設されたパージ側振動子をさらに具備していてもよい。
【0034】
【発明の実施の形態】
(第1の実施形態)
以下、本発明の実施形態の詳細を図面に基づいて説明する。
【0035】
図1は本発明の一実施形態に係るレジスト塗布ユニット(COT)を備えた半導体ウエハ(以下、「ウエハ」という)Wの塗布現像処理システム1全体を示した平面図である。
【0036】
この塗布現像処理システム1では、被処理体としてのウエハWをウエハカセットCRで複数枚、例えば25枚単位で外部からシステムに搬入・搬出したり、ウエハカセットCRに対してウエハWを搬入・搬出したりするためのカセットステーション10と、塗布現像工程の中で1枚ずつウエハWに所定の処理を施す枚葉式の各種処理ユニットを所定位置に多段配置した処理ステーション11と、この処理ステーション11に隣接して設けられる露光装置(図示せず)との間でウエハWを受け渡しするためのインタフェース部12とが一体的に接続されている。
【0037】
このカセットステーション10では、カセット載置台20上の位置決め突起20aの位置に、複数個例えば4個までのウエハカセットCRが、夫々のウエハ出入口を処理ステーション11側に向けてX方向(図1中の上下方向)一列に載置され、このカセット配列方向(X方向)およびウエハカセッ卜CR内に収納されたウエハWのウエハ配列方向(Z方向;垂直方向)に移動可能なウエハ搬送体21が各ウエハカセットCRに選択的にアクセスする。
【0038】
このウエハ搬送体21はθ方向に回転自在であり、後述するように処理ステーション11側の第3の処理ユニット群G3 の多段ユニット部に配設されたアライメントユニット(ALIM)やイクステンションユニット(EXT)にもアクセスできる。
【0039】
処理ステーション11には、ウエハ搬送装置を備えた垂直搬送型のメインアーム22が設けられ、その周りに全ての処理ユニットが1組または複数の組に亙って多段に配置されている。
【0040】
図2は上記塗布現像処理システム1の正面図である。
【0041】
第1の処理ユニット群G1 では、カップCP内でウエハWをスピンチャックに載せて所定の処理を行う2台のスピンナ型処理ユニット、例えばレジスト塗布ユニット(COT)および現像ユニット(DEV)が下から順に2段に重ねられている。第2の処理ユニット群G2 では、2台のスピンナ型処理ユニット、例えばレジスト塗布ユニット(COT)および現像ユニット(DEV)が下から順に2段に重ねられている。これらレジスト塗布ユニット(COT)は、レジスト液の排液が機構的にもメンテナンスの上でも面倒であることから、このように下段に配置するのが好ましい。しかし、必要に応じて適宜上段に配置することももちろん可能である。
【0042】
図3は上記塗布現像処理システム1の背面図である。
【0043】
メインアーム22では、筒状支持体49の内側に、ウエハ搬送装置46が上下方向(Z方向)に昇降自在に装備されている。筒状支持体49はモータ(図示せず)の回転軸に接続されており、このモータの回転駆動力によって、前記回転軸を中心としてウエハ搬送装置46と一体に回転し、それによりこのウエハ搬送装置46はθ方向に回転自在となっている。なお筒状支持体49は前記モータによって回転される別の回転軸(図示せず)に接続するように構成してもよい。
【0044】
ウエハ搬送装置46には、搬送基台47の前後方向に移動自在な複数本の保持部材48が配設されており、これらの保持部材48は各処理ユニット間でのウエハWの受け渡しを可能にしている。
【0045】
また、図1に示すようにこの塗布現像処理システム1では、5つの処理ユニット群G1 、G2 、G3 、G4 、G5 が配置可能であり、第1および第2の処理ユニット群G1 、G2 の多段ユニットは、システム正面(図1において手前)側に配置され、第3の処理ユニット群G3 の多段ユニットはカセットステーション10に隣接して配置され、第4の処理ユニット群G4 の多段ユニットはインタフェース部12に隣接して配置され、第5の処理ユニット群G5 の多段ユニットは背面側に配置されることが可能である。
【0046】
図3に示すように、第3の処理ユニット群G3 では、ウエハWを保持台(図示せず)に載せて所定の処理を行うオーブン型の処理ユニット、例えば冷却処理を行うクーリングユニット(COL)、レジストの定着性を高めるためのいわゆる疏水化処理を行うアドヒージョンユニット(AD)、位置合わせを行うアライメントユニット(ALIM)、イクステンションユニット(EXT)、露光処理前の加熱処理を行うプリベーキングユニット(PREBAKE)および露光処理後の加熱処理を行うポストベーキングユニット(POBAKE)が、下から順に例えば8段に重ねられている。第4の処理ユニット群G4 でも、オーブン型の処理ユニット、例えばクーリングユニット(COL)、イクステンション・クーリングユニット(EXTCOL)、イクステンションユニット(EXT)、クーリングユニッ卜(COL)、プリベーキングユニット(PREBAKE)およびポストベーキングユニット(POBAKE)が下から順に、例えば8段に重ねられている。
【0047】
このように処理温度の低いクーリングユニット(COL)、イクステンション・クーリングユニット(EXTCOL)を下段に配置し、処理温度の高いベーキングユニット(PREBAKE)、ポストベーキングユニット(POBAKE)およびアドヒージョンユニット(AD)を上段に配置することで、ユニット間の熱的な相互干渉を少なくすることができる。もちろん、ランダムな多段配置としてもよい。
【0048】
図1に示すように、インタフェース部12では、奥行方向(X方向)は前記処理ステーション11と同じ寸法を有するが、幅方向(Y方向)はより小さなサイズである。このインタフェース部12の正面部には、可搬性のピックアップカセットCRと、定置型のバッファカセットBRとが2段に配置され、他方背面部には周辺露光装置23が配設され、さらに中央部にはウエハ搬送体24が設けられている。このウエハ搬送体24は、X方向、Z方向に移動して両カセットCR、BRおよび周辺露光装置23にアクセスする。
【0049】
ウエハ搬送体24は、θ方向にも回転自在であり、処理ステーション11側の第4の処理ユニット群G4 の多段ユニットに配設されたイクステンションユニット(EXT)や、隣接する露光装置側のウエハ受渡し台(図示せず)にもアクセスできる。
【0050】
また塗布現像処理システム1では、既述の如くメインアーム22の背面側にも図1中破線で示した第5の処理ユニット群G5 の多段ユニットを配置できるが、この第5の処理ユニット群G5 の多段ユニットは、案内レール25に沿ってY方向へ移動可能である。従って、この第5の処理ユニット群G5 の多段ユニットを図示の如く設けた場合でも、前記案内レール25に沿って移動することにより、空間部が確保されるので、メインアーム22に対して背後からメンテナンス作業が容易に行える。
【0051】
次に、本実施形態に係るレジスト塗布ユニット(COT)について説明する。
【0052】
図4は本実施形態に係るレジスト塗布ユニット(COT)の概略断面図である。
【0053】
このレジスト塗布ユニット(COT)の中央部には環状のカップCΡが配設され、カップCΡの内側にはスピンチャック51が配置されている。スピンチャック51は真空吸着によってウエハWを固定保持した状態で駆動モータ52によって回転駆動される。
【0054】
駆動モータ52は、ユニット底板50に設けられた開口50aに昇降移動可能に配置され、たとえばアルミニウムからなるキャップ状のフランジ部材53を介してたとえばエアシリンダからなる昇降駆動手段54および昇降ガイド手段55と結合されている。
【0055】
ウエハW表面に塗布液としてのレジスト液を吐出するためのレジストノズル60は、レジストノズルスキャンアーム61の先端部にノズル保持体62を介して着脱可能に取り付けられている。このレジストノズルスキャンアーム61は、ユニット底板50の上に一方向(Y方向)に敷設されたガイドレール63上で水平移動可能な垂直支持部材64の上端部に取り付けられており、図示しないY方向駆動機構によって垂直支持部材64と一体にY方向に移動するようになっている。
【0056】
図5は、本実施形態に係るレジスト塗布ユニット(COT)の概略平面図である。
【0057】
レジストノズルスキャンアーム61は、レジストノズル待機部65でレジストノズル60を選択的に取り付けるためにY方向と直角なΧ方向にも移動可能であり、図示しないΧ方向駆動機構によってΧ方向にも移動できる。
【0058】
さらに、レジストノズル待機部65でレジストノズル60の吐出口が溶媒雰囲気室の口65aに挿入され、中で溶媒の雰囲気に晒されることで、レジストノズル60先端のレジスト液が固化または劣化しないようになっている。また、複数本のレジストノズル60,60,…が設けられ、レジスト液の種類・粘度に応じてそれらのレジストノズル60が使い分けられるようになっている。
【0059】
さらに、ガイドレール63上には、レジストノズルスキャンアーム61を支持する垂直支持部材64だけでなく、リンスノズルスキャンアーム70を支持しY方向に移動可能な垂直支持部材71も設けられている。
【0060】
Y方向駆動機構(図示せず)によってリンスノズルスキャンアーム70はカップCPの側方に設定されたリンスノズル待機位置(実線の位置)とスピンチャック51に設置されている半導体ウエハWの周辺部の真上に設定されたリンス液吐出位置(点線の位置)との間で並進または直線移動するようになっている。
【0061】
図4に示すように、レジストノズル60は、レジスト供給管66を介してレジスト塗布ユニット(COT)の下方室内に配設されたレジスト液供給機構に接続されている。
【0062】
次に、本実施形態に係るレジスト塗布ユニット(COT)のレジスト供給系について説明する。
【0063】
図6は本実施形態に係るレジスト塗布ユニット(COT)のレジスト供給系の模式図である。図中実線は配管を示し、点線は電気配線を示す。
【0064】
図6に示したように、このレジスト供給系100では、容器としてのレジストタンク101、リキッドエンドセンサ103、供給ポンプ104、フィルタ105、吐出ポンプ106、及びレジストノズル60がレジスト液の移動方向であるこの順序で配設されており、これら隣接する要素の間は供給配管107で接続されている。フィルタ105には廃液タンク(図示省略)に繋がるベント配管108が取り付けられている。
【0065】
供給ポンプ104の吐出側と吐出ポンプ106の吸い込み側との間はフィルタ105を介して接続されており、供給ポンプ104から吐き出されたレジスト液は一旦フィルタ105内を通過した後に吐出ポンプ106内に送られるようになっている。
【0066】
フィルタ105内部では、供給配管107dとの接続部と、供給配管107eとの接続部との間にレジスト液を濾過するフィルタモジュール(図示省略)が配設されており、供給ポンプ104から送られたレジスト液がフィルタモジュールを通過して濾過された後に吐出ポンプ106側に送られるようになっている。
【0067】
吐出ポンプ106の処理液移動方向下流側にはパージ配管109が取り付けられている。このパージ配管109は容器101とリキッドエンドセンサ103との間の供給配管107bに取り付けられた十字分岐管110に接続されており、パージ配管109を通ってきたレジスト液を供給配管107bに合流させるようになっている。
【0068】
また上述したベント配管108の一端も十字分岐管110に接続されており、ベント配管108を通ってきたレジスト液を供給配管107bに合流させるようになっている。
【0069】
ベント配管108の途中には第1三方弁、即ちベント側三方弁113が配設されている。
【0070】
この第1三方弁113の入力側はフィルタ105に接続されており、第1三方弁113の二つの出力側の一つは供給配管117bに繋がる十字配管110に繋がるベント配管108bと接続されている。第1三方弁113のもう一つの出力側は廃液タンク(図示省略)に繋がる廃液配管116と接続されている。従って、この第1三方弁113を切り換えることにより、ベント配管108aとベント配管108bとの間を連通させたり、ベント配管108aと廃液配管116との間を連通させたりできる。フィルタ105と第1三方弁113とを繋ぐベント配管108aの途中にはベントバルブ111が配設されており、ベント配管108内の開閉が行われる。
【0071】
同様に、パージ配管109の途中には第2三方弁、即ちパージ側三方弁114が配設されている。
【0072】
この第2三方弁114の入力側は吐出ポンプ106の吐出側に接続されており、第2三方弁114の二つの出力側の一つは供給配管117bに繋がる十字配管110に繋がるパージ配管109bと接続されている。第2三方弁114のもう一つの出力側は廃液タンク(図示省略)に繋がる廃液配管115と接続されている。
【0073】
従って、この第2三方弁114を切り換えることにより、パージ配管109aとパージ配管109bとの間を連通させたり、パージ配管109aと廃液配管115との間を連通させたりできる。吐出ポンプ106と第2三方弁114とを繋ぐパージ配管109aの途中にはパージバルブ112が配設されており、パージ配管109内の開閉が行われる。
【0074】
図6に示したように、供給ポンプ104、吐出ポンプ106、ベントバルブ111、第1三方弁113、パージバルブ112、及び第2三方弁114はいずれも制御部120に電気的に接続されており、この制御部120により統括的に制御されている。
【0075】
次に本実施形態に係るレジスト供給装置を作動させて配管内から泡の除去を行う場合の操作について説明する。
【0076】
図7はレジスト供給装置に新たにレジスト液をインストールした場合や、フィルタ105内のフィルタモジュールを交換した場合など、レジスト供給装置を一旦停止させた後に再起動する場合の泡抜操作の手順を示したフローチャートである。
【0077】
まず、レジストタンク101内に新たなレジスト液を充填したり、フィルタモジュールを交換するなど、必要な準備を整え、しかる後にレジスト供給装置を起動させる(ステップ1)。
【0078】
レジスト供給装置の起動と同時に第1三方弁113を切り換えてベント配管108aと廃液配管116との間を連通させる(ステップ2)。
【0079】
次にベントバルブ111を開き、ベント配管108a内をレジスト液が流動できる状態にする(ステップ3)。
【0080】
この状態で供給ポンプ104を作動させる(ステップ4)。
【0081】
供給ポンプ104の作動によりレジスト液タンク101内のレジスト液が汲み上げられ、供給配管107a〜107dを経由してフィルタ105内に流入する(ステップ5)。
【0082】
このとき吐出ポンプ106は作動していないので、フィルタ105内に流入したレジスト液はベント配管108a内に流入する。レジスト液の流入に伴い、供給配管107やフィルタ105、ベント配管108a内の空気が押し出されるため、廃液配管116には最初空気が流れ、やがて泡を多量に含んだレジスト液が流れ、泡の量は除序に減少し、最終的には泡を含まないレジスト液が流れ出す。この様子を肉眼、或いは配管中の泡の有無を監視する泡センサ(図示省略)を用いてモニタリングする(ステップ6)。
【0083】
そして廃液配管116側に泡を含んだレジスト液が流れなくなった時点で第1三方弁113を切換え、ベント配管108a側とベント配管108b側との間を連通させる(ステップ7)。
【0084】
第1三方弁113の切換えにより、ベント配管108a側からベント配管108b側にレジスト液が流れる。このレジスト液は十字分岐管110で再び供給配管107b内に流れ込み、レジスト液タンク101から汲み上げられたレジスト液と合流してフィルタ105に向けて流れる。最初、ベント配管108b内にも空気が残っているため、泡が形成され易い。そのため、暫くの間は供給配管107からフィルタ105、ベント配管108を経由して再び供給配管107内に戻るように循環させながら配管内の泡のモニタリングを継続し、泡が見られる場合には適宜第1三方弁116を切換えて配管内の泡抜きを行う。泡が見られなくなったらベントバルブ111を閉じて泡抜操作を終了する(ステップ8)。
【0085】
次に、ウエハWにレジスト液を吐出する通常運転時に配管内に泡の形成が確認された場合の泡抜操作について説明する。
【0086】
図8はレジスト液供給装置の通常運転時に配管内の泡抜操作を行う場合の手順を示したフローチャートである。
【0087】
通常運転時に配管内に泡の形成が認められた場合には、まずパージバルブ112を開いて、レジストノズル60側へレジスト液が流れないようにする(ステップ11,12)。この操作により吐出ポンプ106からレジスト液はパージ配管109a側に流れるようになる。このパージバルブ112を開く操作と同時に第2三方弁114を切り換えてパージ配管109aと廃液配管115との間を連通させる(ステップ13)。
【0088】
この状態で吐出ポンプ106を作動させて、泡を含んだレジスト液をパージ配管109a側から廃液配管115側に流出させる(ステップ14)。
【0089】
この廃液配管115側に流れ出てくるレジスト液の状態を肉眼或いは泡センサ(図示省略)にてモニタリングし、泡を含むレジスト液が泡を含まないレジスト液に切り換わるタイミングを図る(ステップ16)。
【0090】
泡を含まないレジスト液が出てくるようになったら、第2三方弁114を再び切り換えて、パージ配管109a側とパージ配管109b側との間を連通させる(ステップ17)。
【0091】
こうして配管内の泡抜操作が完了したら、パージバルブ112を閉じて(ステップ18)、吐出ポンプ106からレジストノズル60側へレジスト液が流れるようにする。
【0092】
以上詳述したように、本実施形態のレジスト液供給装置では、ベント配管108に第1三方弁113を配設し、この第1三方弁113を介して廃液配管116又は供給配管107を前記ベント配管108に選択的に接続してあるので、この第1三方弁113を適宜切り換えることにより供給配管107内の泡を含んだレジスト液のみを廃棄することができる。そのため、レジスト液の無駄な廃棄を殆どなくすことができる。
【0093】
また、本実施形態のレジスト液供給装置では、パージ配管109に第2三方弁114を配設し、この第2三方弁114を介して廃液配管115又は供給配管107を前記パージ配管109に選択的に接続してあるので、この第2三方弁114を適宜切り換えることによりパージ配管109からでも泡抜きを行うことができる。そのため、泡を含んだレジスト液が再循環するのを防止できるので、レジスト液の吐出量を正確にコントロールすることができる。
【0094】
なお、本発明は上記実施形態に記載した内容に限定されるものではない。
【0095】
即ち、上記実施形態では、ベント配管とパージ配管の両方とも供給配管と連通させ、またベント配管とパージ配管の両方に三方弁を配設してベント配管、パージ配管のいずれからでも配管内に発生した泡について泡抜操作をできる構成としたが、ベント配管、パージ配管のどちらか一方のみに三方弁を配設し、その三方弁を切り換えることにより泡抜操作を行う構成としてもよい。
【0096】
さらに、上記実施形態では、配管内に泡を含んだレジスト液が残っているかどうかの確認を肉眼で行う構成としたが、配管内を通過するレジスト液中に泡が含まれているか否かを検知する泡センサを用いてモニタリングを行い、泡センサの検出結果に基づいて三方弁の切換えを行うようにしても良い。
【0097】
その場合、ベント配管内に泡センサを配設し、この泡センサでベント配管内に泡の存在が検知されたときにベント側三方弁を切り換えて泡を含んだレジスト液を廃液配管側に廃棄するように切換え、泡が検知されなくなった時点でベント側三方弁を切り換えて供給配管に合流させるように制御してベント配管内の泡を除去する。
【0098】
一方、パージ配管側から泡抜きする場合には、パージ配管の途中に泡センサを配設し、この泡センサでパージ配管内に泡の存在が検知されたときにパージ側三方弁を切り換えて泡を含んだレジスト液を廃液配管側に廃棄するように切換え、泡が検知されなくなった時点でパージ側三方弁を切り換えて供給配管に合流させるように制御してパージ配管内の泡を除去する。
【0099】
また、供給配管の途中にも泡センサを配設しておき、供給配管内で泡の発生が検出された場合にパージバルブを閉鎖し、泡を含んだレジスト液をパージ配管側に移動させた後、上記したように、パージ配管の泡センサの検出結果に基づいてパージ側三方弁を適宜切り換えて泡を含んだレジスト液を廃液配管に廃棄するようにしてもよい。
【0100】
さらに、配管内の泡を含んだレジスト液を除去する方法として、レジスト液を新たにインストールした場合に、泡を含む可能性の高いレジスト供給開始直後に供給されるレジスト液の量を予め実験等で把握しておき、インストール後、所定量のレジスト液を廃棄するように設定し、最初に吐出される所定量のレジスト液については、これらは無条件に廃液されるように予め制御装置にプログラムしておく方法も可能である。
【0101】
また、上記実施形態ではウエハW用のレジスト塗布装置を例にして説明したが、本発明がその他の装置、例えば、液晶装置用ガラス基板のレジスト塗布装置や処理装置についても同様に適用できることはいうまでもない。
【0102】
(第2の実施形態)
次に本発明の第2の実施の形態について以下に説明する。なお、本実施形態のうち、上記第1の実施形態と重複する部分については説明を省略する。図9は、本実施形態に係る処理液供給装置の構成を模式的に示した図である。図9に示したように、この処理液供給装置では、レジスト容器130、ポンプ140、フィルタ150、吐出ノズル160がこの順番に配設されている。これらの間は供給配管170により繋がれ、レジスト容器130内のレジスト液がポンプ140、フィルタ150を経て吐出ノズル160に送られ、この吐出ノズル160からウエハWに吐出されるようになっている。また、この処理液供給装置では、フィルタ150と、ポンプ140よりレジスト移動方向上流側の供給配管とがバイパス配管180で繋がれており、このバイパス配管の途中には廃液管190が分岐している。この廃液管190とバイパス配管180との接合部分には三方弁200が配設されている。
【0103】
上記ポンプ140と三方弁200とは制御部210に電気的に接続され、この制御部210によりポンプ140及び三方弁200は統括的に制御されている。
【0104】
この処理液供給装置を運転する際には、上記ポンプ140と三方弁200とを適切なタイミングで作動させることにより、配管170内から泡抜きを行う。
【0105】
例えば、装置の起動時やレジスト容器130内のレジスト液を交換して配管170内に空気が入り込んだ場合には、まず三方弁200を廃液管190側に切り換え、ポンプ140を作動させてレジストの供給を開始する。レジスト容器は130から配管、ポンプ140、フィルタ150へ流れ込んで行くが、最初は泡が大半を占めている。この泡が多いうちは三方弁200から廃液管190側にレジストを流して廃棄する。暫くして泡がなくなれば三方弁200を切り換えてレジストがフィルタ150からポンプ140の上流側の配管内に流れるようにする。
【0106】
このように三方弁200を適宜切り換えることによりフィルタ150内に溜まった泡を効率良く泡抜きすることができる。
【0107】
なお、本実施形態の変形例として、図10に示したようにポンプ140とレジスト容器130との間にフィルタ150を配設し、ポンプ140とフィルタ150の上流側の供給配管との間をバイパス配管180で繋ぎ、このバイパス配管180に三方弁200を介して廃液管190を繋いでもよい。
【0108】
さらに、図11に示したように、フィルタ150及びポンプ140の双方に別々のバイパス配管を繋いでフィルタ150及びポンプ140より上流側の供給配管に繋ぎ、それぞれのバイパス配管に三方弁を介して廃液管を繋ぐ構成としてもよい。このような構成にすることにより、フィルタ150、ポンプ140のそれぞれに溜まった泡を効率よく泡抜きすることができる。
【0109】
(第3の実施形態)
図12は本発明の第3の実施形態による処理液供給装置を示した模式図である。なお、この処理液供給装置30において、上記第1及び第2の実施形態と同じ構成要素については同じ符号を付すものとする。
【0110】
フィルタ105と分岐管110との間に配設されたベント配管71、及び吐出ポンプ106と分岐管110との間に配設されたパージ配管72からそれぞれ分岐し、それらが合流して戻し配管27が配設されており、この戻し配管27の下流部はレジストタンク101に繋がっている。このベント配管71には、フィルタ105に対して、分岐管110又は戻し配管27との間を連通させるベント側三方弁35が配設されており、また、パージ配管72にも同様に、吐出ポンプ106に対して、分岐管110又は戻し配管27との間を連通させるパージ側三方弁36が配設されている。ベント側三方弁35はフィルタ105の上方に、パージ側三方弁36は吐出ポンプ106の上方にそれぞれ配置され、フィルタ105や吐出ポンプ106に混入している泡を効率よく戻し配管27側に流すことができる。なお、戻し配管27は、それぞれベント側三方弁35及びパージ側三方弁36から合流して一つの配管としたが、もちろん合流させないで2つの配管としてもよい。
【0111】
ベント側三方弁35と分岐管110との間には、ベント側三方弁35と分岐管110とを連通させ、又はベント側三方弁35と廃液管43とを連通させ、又は分岐管110と廃液管43とを連通させるベント側切換弁41が配設されている。パージ側も同様に、パージ側三方弁36と分岐管110との間には、パージ側三方弁36と分岐管110とを連通させ、又はパージ側三方弁36と廃液管44とを連通させ、又は分岐管110と廃液管44とを連通させるパージ側切換弁42が配設されている。また、フィルタ105とベント側三方弁35との間には、供給配管107からベント配管上流部71aを通る泡の存在を検知する手段としてのベント側センサ33が設けられており、パージ側も同様に、供給配管107からパージ配管上流部72aを通る泡の存在を検知する手段としてのパージ側センサ34が設けられている。
【0112】
これらベント側センサ33の上流側及びパージ側センサ34の上流側には、各センサ33、34により効率よく泡を検知するために、配管を微小振動させて多数の微小な泡どうしを集合させるためのベント側振動子31及びパージ側振動子31及びパージ側振動子32がそれぞれ設けられている。
【0113】
また、供給配管107fにはレジストノズル60へ向うレジストの供給を停止させる供給管バルブ57が配設されている。
【0114】
さらに分岐管110には、分岐管110内、供給配管107内、ベント配管71内、パージ配管72内の処理液を除去する処理液除去手段としての窒素ガスボンベ56がバルブ58を介して配設されている。
【0115】
また、各三方弁35及び36、各切換弁41及び42、各センサ33及び34、各振動子31及び32、またリキッドエンドセンサ103の廃液管に設けられたドレインバルブ38の開閉及び供給管バルブ57の開閉を統括的に制御する制御部45が設けられている。
【0116】
次に図13に示すフローチャートを用いて、作動中の処理液供給装置30を一旦停止させた後に再起動した際(通常運転時)における配管107内の泡抜きの方法について説明する。
【0117】
まず、この処理液供給装置30が作動しているときには、制御部45の指令によりベント側切換弁41は常にベント側三方弁35と分岐管110とを連通させた状態にある。ベント側三方弁35からベント側センサ33までの配管の長さ及び単位時間当たりのベント配管71を流れる処理液の量は設定値であるので、ベント側センサ33により検知された泡がベント側三方弁35に達するまでの時間T1が予め設定されている。なお、配管内にばらばらに存在する泡をできるだけ集合させるためにベント側振動子31を微小振動させておく。
【0118】
ベント側センサ33によりある程度まとまった量の泡の最初の泡が検知される(S2)と、制御部45の指令により供給管バルブ57は閉とされ、上記所定時間T1経過後に、ベント側三方弁35が戻し配管27側に接続される(S3)。そしてベント側センサ33が上記最初の泡を検知し始めてから、ある程度まとまった多数の泡の最後の泡を検知するまでの時間ΔTを制御部45が記憶する。そして最後の泡を検知してから(S4)一定時間、例えば時間T2を予め設定しておき、この時間T2経過後に供給管バルブ57が開となる(S5)。そしてベント側三方弁35が戻し配管27に接続されてから時間ΔT+T2だけ経過後にベント側三方弁35が分岐管110側に接続される(S6)。これにより、泡が混入した処理液は廃棄されることなく、全て戻し配管27によりレジストタンク101に戻され、他方、泡が混入されていない処理液は全てベント配管71から分岐管110を経由して再び供給配管107に戻される。これにより処理液の無駄な廃棄を防止することかできる。なお、これら一連の動作は制御部45により全自動で制御される。
【0119】
以上説明した泡抜き方法は、ベント配管71側とパージ配管72側とにおいて同じ作用をするので、パージ配管72側についての説明を省略する。
【0120】
次に、作動中の処理液供給装置30を停止させた後(ウエハに対しての塗布処理を終了させて処理液供給装置30を停止させた後)に、配管内をシンナで洗浄する場合について説明する。なお、ベント配管71側とパージ配管72側は同じ作用をするので、ベント配管71側だけについて説明する。
【0121】
まず、レジストタンク101と供給配管107との接続を切り離し、リキッドエンドセンサ103のドレインバルブ38を開とする。そしてベント側切換弁41(パージ側切換弁42)により、分岐管110側と廃液管43(44)とを連通させた後、窒素ガスボンベ56のバルブ58を開としてガスの勢いにより供給配管107a、107b内、分岐管110内、ベント配管71b(パージ配管72b)内に残存する処理液を各廃液管39、43(44)より廃棄する。
【0122】
次にリキッドエンドセンサ103のドレインバルブ38を閉とし、ベント側切換弁41(パージ側切換弁42)により、ベント側三方弁35(パージ側三方弁36)と廃液管43とを連通させ、また、ベント側三方弁35(パージ側三方弁36)を分岐管110側に切り換えて、供給ポンプ104及び吐出ポンプ106を作動させる。このとき窒素ガスは噴出させたままである。これにより、供給配管107内、ベント配管71a(パージ配管72a)内に残存する処理液を廃液管43(44)より廃棄する。
【0123】
その後、シンナが入ったタンク(図示せず)を供給配管107に接続して、リキッドエンドセンサ103、ドレインバルブ38を閉とし、ベント側切換弁41(パージ側切換弁42)により、分岐管110と廃液管43(44)とを連通させ、またベント側三方弁35(パージ側三方弁36)を戻し配管27側に切り換えて、各ポンプ104及び106の作動、かつ窒素ガスボンベ56のガスの勢いにより供給配管107内、分岐管110内、ベント配管71b(パージ配管72b)内にシンナを流入させながらこのシンナを廃液管43(44)より廃棄して乾燥させる。
【0124】
次にベント側切換弁41により、ベント側三方弁35と廃液管43とを連通させ、また、ベント側三方弁35を分岐管110側に接続して、供給配管107内、ベント配管71a内にシンナを流入させながらこのシンナを廃液管43(44)より廃棄して乾燥させる。
【0125】
そして最後にベント側三方弁35(パージ側三方弁36)を戻し配管27側に接続して、供給配管107内、戻し配管27内にシンナをシンナタンクに戻して乾燥させる。これら一連の動作は制御部45により全自動で制御される。
【0126】
これにより、全配管を全自動でシンナにより洗浄、窒素ガスにより乾燥させることができるので、使用済みの処理液は完全に除去される。従って、後述する新たなレジストをインストールする場合において、使用済み処理液と新たな処理液が混同してしまうおそれはない。
【0127】
次に、各配管内をシンナ洗浄した後に新たなレジスト(処理液)をこの処理液供給装置30の配管内に充填する場合について説明する。この場合もシンナ洗浄の場合と同様に処理液供給装置30の作動はさせていない(ウエハに対しての塗布処理を行なっていない)。なお、ベント配管71側とパージ配管72側は同じ作用をするのでベント配管71側だけについて説明する。
【0128】
まず、新しいレジストタンクを供給配管107に接続して、リキッドエンドセンサ103のドレインバルブ38を閉とし、また供給管バルブ57を開として、各ポンプ104,106の作動により供給配管107に処理液を注入する。そしてベント側三方弁35(パージ側三方弁36)、ベント側切換弁41(パージ側切換弁42)を適宜切り換えて、ベント配管71、パージ配管72、戻し配管27の各配管に処理液を充填する。
【0129】
このように新しいレジストを充填した後の各配管内の泡の量は、上述した通常運転時の泡の量よりも多いため、マニュアル操作で泡抜きを行なう。
【0130】
泡抜きを行なう際には、各ポンプ104、106を作動させたまま供給管バルブ57を閉とし、ベント側切換弁41(パージ側切換弁42)により、ベント側三方弁35(パージ側三方弁36)と分岐管110とを連通させ、供給配管107b〜107eからベント配管71(パージ配管72)、分岐管110を経由して再び供給配管107b〜107eに処理液を戻すように循環させながら、ベント側センサ33(パージ側センサ34)によって、処理液中の泡の存在を確認する。このときベント側振動子31(パージ側振動子32)の使用は任意である。そして泡が検知されたならば、ベント側切換弁41(パージ側切換弁42)を廃液管43(44)に切り換えて泡が混入した処理液を廃棄する。戻し配管27については、装置30を作動させた後においても、泡が混入しているので泡抜きを行なう必要はない。すなわち、戻し配管27は上述したように、泡が混入した処理液のみをレジストタンク101に戻すための配管だからである。
【0131】
その後、供給管バルブ57を開として処理液供給装置30を起動させ、ウエハに塗布処理を開始する。そして上述した通常運転時と同様なシーケンスで泡抜き操作が行なわれる。
【0132】
なお、以上の第3の実施形態は、通常運転時及び配管内をシンナで洗浄する場合、全てマニュアル操作で泡抜きを行なうようにしてもよい。
【0133】
本発明によれば、前記容器と前記ポンプとの間の配管に分岐管を設ける一方、前記分岐管と前記ポンプとを結ぶバイパス配管に三方弁を配設し、この三方弁を切り換えることにより配管内の泡抜きを行う構成としたので、無駄に処理液を廃棄することがない。
【0134】
また本発明によれば、供給配管からフィルタ、フィルタからベント配管を経由して再び供給配管へ戻る循環路を形成し、このベント配管にベント側三方弁を配設してこのベント側三方弁を切り換えることにより配管内の泡抜操作を行う構成にしたので、泡を含まない処理液を廃棄することがなくなり、無駄に処理液を廃棄することが防止できる。
【0135】
さらに本発明によれば、供給配管から吐出ポンプ、吐出ポンプからパージ配管を経由して再び供給配管へ戻る循環路を形成し、このパージ配管にパージ側三方弁を配設してこのパージ側三方弁を切り換えることにより配管内の泡抜操作を行う構成にしたので、泡を含まない処理液を廃棄することがなくなり、無駄に処理液を廃棄することが防止できる。
【0136】
さらにまた本発明によれば、供給配管からフィルタ、フィルタからベント配管を経由して再び供給配管へ戻る循環路を形成し、このベント配管にベント側三方弁を配設する一方、供給配管から吐出ポンプ、吐出ポンプからパージ配管を経由して再び供給配管へ戻る循環路を形成し、このパージ配管にパージ側三方弁を配設し、上記ベント側三方弁及びパージ側三方弁を切り換えることにより配管内の泡抜操作を行う構成としたので、ベント側、パージ側のどちらからでも泡抜操作を行うことができる。そのため、処理液のインストール時やフィルタの交換時のみならず、通常運転時でも適宜泡抜操作を行うことができる。
【0137】
また本発明によれば、通常運転時において、供給配管内の泡が混入した処理液は廃棄されることなく、全て戻し配管により処理液供給源に戻され、他方、泡が混入されていない処理液は全てパージ配管から分岐管を経由して再び供給配管に戻される。これにより処理液の無駄な廃棄を防止することができる。
【0138】
以上説明した実施形態は、あくまでも本発明のの技術的内容を明らかにする意図のものにおいて、本発明はそうした具体例にのみ限定して狭義に解釈されるものではなく、本発明の技術的思想と同じ技術的思想に基づく範囲において、各種変形例が可能である。
【0139】
【発明の効果】
本発明によれば、前記容器と前記ポンプとの間の配管に分岐管を設ける一方、前記分岐管と前記ポンプとを結ぶバイパス配管に三方弁を配設し、この三方弁を切り換えることにより配管内の泡抜きを行う構成としたので、無駄に処理液を廃棄することが防止される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に係るレジスト塗布ユニットを備えた塗布現像処理システムの平面図である。
【図2】本発明の実施形態に係るレジスト塗布ユニットを備えた塗布現像処理システムの正面図である。
【図3】本発明の実施形態に係るレジスト塗布ユニットを備えた塗布現像処理システムの背面図である。
【図4】本実施形態に係るレジスト塗布ユニットの概略断面図である。
【図5】本実施形態に係るレジスト塗布ユニットの概略平面図である。
【図6】本実施形態に係るレジスト塗布ユニットのレジスト供給系の模式図である。
【図7】本実施形態に係るレジスト供給装置を一旦停止後再起動する場合の泡抜操作のフローチャートである。
【図8】本実施形態に係るレジスト液供給装置の通常運転時に行う泡抜操作のフローチャートである。
【図9】本発明の第2の実施形態に係るレジスト液供給装置の構成を模式的に示した図である。
【図10】本発明の第2の実施形態の変形例に係るレジスト液供給装置の模式図である。
【図11】本発明の第2の実施形態の変形例に係るレジスト液供給装置の模式図である。
【図12】本発明の第3の実施形態による処理液供給装置を示した模式図である。
【図13】本発明の第3の実施形態に係るレジスト供給装置を一旦停止後再起動する場合の泡抜操作のフローチャートである。
【図14】従来のレジスト塗布ユニットのレジスト供給系の模式図である。
【符号の簡単な説明】
W………ウエハ(被処理基板)、
60………レジストノズル(吐出手段)、
101………レジスト液タンク(容器)、
107………供給配管、
104………供給ポンプ(ポンプ)、
106………吐出ポンプ(ポンプ)、
120………制御部(制御手段)、
110………十字分岐管(分岐管)、
108………ベント配管(バイパス配管)、
109………パージ配管(バイパス配管)、
113………第1三方弁(三方弁)、
114………第2三方弁(三方弁)、
105………フィルタ。
Claims (17)
- 被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、
前記処理液を収容する処理液供給源と、
前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、
前記供給配管に配設されたポンプと、
前記ポンプの作動を制御する手段と、
前記処理液供給源と前記ポンプとの間の配管に配設された分岐管と、
前記分岐管と前記ポンプとを結ぶバイパス配管と、
前記バイパス配管から分岐する廃液管と、
前記バイパス配管に配設され、前記ポンプに対して前記分岐管又は前記廃液管との間を連通させる三方弁と、
前記三方弁を切り換える手段と、
を具備する処理液供給装置。 - 被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、
前記処理液を収容する処理液供給源と、
前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、
前記供給配管に配設された吐出ポンプと、
前記吐出ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された供給ポンプと、
前記吐出ポンプ及び供給ポンプの作動を制御する手段と、
前記吐出ポンプと前記供給ポンプとの間の供給配管に配設されたフィルタと、
前記供給ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された分岐管と、
前記フィルタと前記分岐管との間を結ぶベント配管と、
前記ベント配管から分岐する廃液管と、
前記ベント配管に配設され、前記フィルタに対して前記分岐管又は前記廃液管との間を連通させるベント側三方弁と、
前記ベント側三方弁を切り換える手段と、
を具備する処理液供給装置。 - 被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、
前記処理液を収容する処理液供給源と、
前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、
前記供給配管に配設された吐出ポンプと、
前記吐出ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された供給ポンプと、
前記吐出ポンプ及び供給ポンプの作動を制御する手段と、
前記吐出ポンプと前記供給ポンプとの間の供給配管に配設されたフィルタと、
前記供給ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された分岐管と、
前記吐出ポンプと前記分岐管との間を結ぶパージ配管と、
前記パージ配管から分岐する廃液管と、
前記パージ配管に配設され、前記吐出ポンプに対して前記分岐管又は前記廃液管との間を連通させるパージ側三方弁と、
前記パージ側三方弁を切り換える手段と、
を具備する処理液供給装置。 - 被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、
前記処理液を収容する処理液供給源と、
前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、
前記供給配管に配設された吐出ポンプと、
前記吐出ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された供給ポンプと、
前記吐出ポンプ及び供給ポンプの作動を制御する手段と、
前記吐出ポンプと前記供給ポンプとの間の供給配管に配設されたフィルタと、
前記供給ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された分岐管と、
前記フィルタと前記分岐管との間を結ぶベント配管と、
前記ベント配管から分岐する第1の廃液管と、
前記ベント配管に配設され、前記フィルタに対して前記分岐管又は前記第1の廃液管との間を連通させる第1三方弁と、
前記第1三方弁を切り換える手段と、
前記吐出ポンプと前記分岐管との間を結ぶパージ配管と、
前記パージ配管から分岐する第2の廃液管と、
前記パージ配管に配設され、前記吐出ポンプに対して前記分岐管又は前記第2の廃液管との間を連通させる第2三方弁と、
前記第2三方弁を切り換える手段と、
を具備する処理液供給装置。 - 被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、
前記処理液を収容する処理液供給源と、
前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、
前記処理液供給源から吐出手段に処理液を供給するポンプと、
前記ポンプと吐出手段との間の供給配管に介挿されるフィルタと、
前記フィルタと、前記ポンプの上流側の供給配管とを結ぶバイパス配管と、
前記バイパス配管から分岐する廃液管と、
前記バイパス配管内の処理液を、前記ポンプ上流側と前記廃液管とに切り換える切換弁と、
を具備する処理液供給装置。 - 請求項5記載の処理液供給装置であって、前記ポンプ及び切換弁の作動タイミングを制御する制御部をさらに具備する処理液供給装置。
- 被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、
前記処理液を収容する処理液供給源と、
前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、
前記処理液供給源から吐出手段に処理液を供給するポンプと、
前記処理液供給源とポンプとの間の供給配管に介挿されるフィルタと、
前記ポンプと前記フィルタの上流側の供給配管とを結ぶバイパス配管と、
前記バイパス配管から分岐する廃液管と、
前記バイパス配管内の処理液を、前記フィルタ上流側と前記廃液管とに切り換える切換弁と、
を具備する処理液供給装置。 - 請求項7記載の処理液供給装置であって、前記ポンプ及び切換弁の作動タイミングを制御する制御部をさらに具備する処理液供給装置。
- 被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、
前記処理液を収容する処理液供給源と、
前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、
前記処理液供給源から吐出手段に処理液を供給するポンプと、
前記処理液供給源とポンプとの間の供給配管に介挿されるフィルタと、
前記フィルタと、前記ポンプの上流側の供給配管とを結ぶ第1のバイパス配管と、
前記第1のバイパス配管から分岐する第1の廃液管と、
前記第1のバイパス配管内の処理液を、前記ポンプ上流側と前記第1の廃液管とに切り換える第1の切換弁と、
前記ポンプと前記フィルタの上流側の供給配管とを結ぶ第2のバイパス配管と、
前記第2のバイパス配管から分岐する第2の廃液管と、
前記第2のバイパス配管内の処理液を、前記フィルタ上流側と前記第2の廃液管とに切り換える第2の切換弁と、
を具備する処理液供給装置。 - 請求項9記載の処理液供給装置であって、前記ポンプ、第1の切換弁、及び第2の切換弁の作動タイミングを制御する制御部をさらに具備する処理液供給装置。
- 被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、
前記処理液を収容する処理液供給源と、
前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、
前記供給配管に配設されたポンプと、
前記ポンプの作動を制御する手段と、
前記処理液供給源と前記ポンプとの間の供給配管に配設された分岐管と、
前記ポンプと前記分岐管とを結ぶバイパス配管と、
前記バイパス配管から分岐して前記処理液供給源までの間を結ぶ戻し配管と、
前記バイパス配管に配設され、前記ポンプに対して前記バイパス配管又は前記戻し配管との間を連通させる第1の三方弁と、
前記第1の三方弁を切り換える手段と、
前記第1の三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記バイパス配管から分岐する廃液管と、
前記第1の三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記第1の三方弁に対して前記バイパス配管又は前記廃液管との間を連通させる第2の三方弁と、
前記第2の三方弁を切り換える手段と、
を具備する処理液供給装置。 - 被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、
前記処理液を収容する処理液供給源と、
前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、
前記供給配管に配設された吐出ポンプと、
前記吐出ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された供給ポンプと、
前記吐出ポンプ及び供給ポンプの作動を制御する手段と、
前記吐出ポンプと前記供給ポンプとの間の供給配管に配設されたフィルタと、
前記供給ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された分岐管と、
前記フィルタと前記分岐管との間を結ぶベント配管と、
前記吐出ポンプと前記分岐管との間を結ぶパージ配管と、
前記ベント配管及び前記パージ配管からそれぞれ分岐して前記処理液供給源までの間を結ぶ戻し配管と、
前記ベント配管に配設され、前記フィルタに対して前記分岐管又は前記戻し配管との間を連通させるベント側三方弁と、
前記ベント側三方弁を切り換える手段と、
前記パージ配管に配設され、前記吐出ポンプに対して前記分岐管又は戻し配管との間を連通させるパージ側三方弁と、
前記パージ側三方弁を切り換える手段と、
前記ベント側三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記ベント管から分岐する第1の廃液管と、
前記ベント配管に配設され、前記ベント側三方弁と前記分岐管とを連通させ、又は前記ベント側三方弁と前記第1の廃液管とを連通させ、又は前記分岐管と前記第1の廃液管とを連通させるベント側切換弁と、
前記ベント側切換弁を切り換える手段と、
前記パージ側三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記パージ配管から分岐する第2の廃液管と、
前記パージ配管に配設され、前記パージ側三方弁と前記分岐管とを連通させ、又は前記パージ側三方弁と前記第2の廃液管とを連通させ、又は前記分岐管と前記第2の廃液管とを連通させるパージ側切換弁と、
前記パージ側切換弁を切り換える手段と、
前記分岐管に配設され、前記分岐管内、前記供給配管内、前記ベント配管内、前記パージ配管内の処理液を除去する処理液除去手段と、
を具備する処理液供給装置。 - 請求項11又は12に記載の処理液供給装置であって、前記フィルタと前記ベント側三方弁との間に配設され、ベント側の泡を検知する手段をさらに具備することを特徴とする処理液供給装置。
- 請求項11又は12に記載の処理液供給装置であって、前記吐出ポンプと前記パージ側三方弁との間に配設され、パージ側の泡を検知する手段をさらに具備することを特徴とする処理液供給装置。
- 請求項14に記載の処理液供給装置であって、前記ベント側泡検出手段及び前記パージ側泡検出手段による前記ベント配管内及び前記パージ配管内に存在する泡の検知に基づいて、所定のタイミングで前記ベント側三方弁、前記パージ側三方弁、前記ベント側切換弁、前記パージ側切換弁をそれぞれ切り換える制御手段をさらに具備することを特徴とする処理液供給装置。
- 請求項14に記載の処理液供給装置であって、前記フィルタと前記ベント側泡検知手段との間に配設されたベント側振動子をさらに具備することを特徴とする処理液供給装置。
- 請求項14に記載の処理液供給装置であって、前記吐出ポンプと前記パージ側泡検出手段との間に配設されたパージ側振動子をさらに具備することを特徴とする処理液供給装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000191453A JP3583058B2 (ja) | 1999-07-02 | 2000-06-26 | 処理液供給装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11-189008 | 1999-07-02 | ||
JP18900899 | 1999-07-02 | ||
JP2000191453A JP3583058B2 (ja) | 1999-07-02 | 2000-06-26 | 処理液供給装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001077015A JP2001077015A (ja) | 2001-03-23 |
JP3583058B2 true JP3583058B2 (ja) | 2004-10-27 |
Family
ID=26505264
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000191453A Expired - Fee Related JP3583058B2 (ja) | 1999-07-02 | 2000-06-26 | 処理液供給装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3583058B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4024639B2 (ja) * | 2002-10-16 | 2007-12-19 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 薬液ポンプ、配管システム、基板処理ユニット、基板処理装置、薬液吐出方法、配液方法および基板処理方法 |
JP4533699B2 (ja) * | 2004-08-16 | 2010-09-01 | シーケーディ株式会社 | 液圧制御装置 |
JP4776429B2 (ja) * | 2006-05-11 | 2011-09-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給システム、処理液供給方法、処理液供給プログラム及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP4344381B2 (ja) * | 2006-12-27 | 2009-10-14 | 中外炉工業株式会社 | 塗工液供給装置 |
JP5236418B2 (ja) * | 2008-10-08 | 2013-07-17 | 信越化学工業株式会社 | 洗浄方法および洗浄液供給装置 |
JP4879253B2 (ja) * | 2008-12-04 | 2012-02-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置 |
JP2014022578A (ja) * | 2012-07-19 | 2014-02-03 | Tokyo Electron Ltd | 処理液供給装置及び処理液供給方法 |
JP5453561B1 (ja) * | 2012-12-20 | 2014-03-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置、液処理方法及び液処理用記憶媒体 |
JP5367188B2 (ja) * | 2013-02-25 | 2013-12-11 | 信越化学工業株式会社 | 洗浄方法および洗浄液供給装置 |
JP6020405B2 (ja) | 2013-10-02 | 2016-11-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置及び処理液供給方法 |
JP6020416B2 (ja) | 2013-11-01 | 2016-11-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置及び処理液供給方法 |
JP6987649B2 (ja) * | 2018-01-12 | 2022-01-05 | 株式会社Screenホールディングス | 処理液供給装置及びその脱気方法 |
JP7164426B2 (ja) * | 2018-12-25 | 2022-11-01 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置およびフィルタの気泡抜き方法 |
JP7274356B2 (ja) * | 2019-06-11 | 2023-05-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 |
-
2000
- 2000-06-26 JP JP2000191453A patent/JP3583058B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001077015A (ja) | 2001-03-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6238109B1 (en) | Processing solution supply apparatus | |
JP3583058B2 (ja) | 処理液供給装置 | |
JP3333121B2 (ja) | 塗布装置 | |
US7472713B2 (en) | Substrate processing apparatus | |
US6589359B2 (en) | Cleaning method and cleaning apparatus for substrate | |
KR100556012B1 (ko) | 현상처리방법 및 현상처리장치 | |
US20170200624A1 (en) | Substrate processing apparatus and method of cleaning substrate processing apparatus | |
TW200302519A (en) | Processing apparatus and substrate processing method | |
KR20030038425A (ko) | 기판처리장치 및 기판처리방법 | |
JP4083682B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP2004321971A (ja) | 洗浄装置および基板処理装置 | |
JP3686822B2 (ja) | 現像処理装置および現像処理方法 | |
KR19980024246A (ko) | 타겟 처리 기판용 처리 장치 | |
JP4173349B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
KR101023750B1 (ko) | 유체 흐름 개폐 유닛 및 이를 이용한 기판 처리 장치. | |
JP2001319869A (ja) | 現像処理装置および現像処理方法 | |
JP3892687B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP2003197718A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
KR20130015639A (ko) | 약액공급유닛 | |
JP4353628B2 (ja) | 塗布装置 | |
JP3576835B2 (ja) | 薬液供給システムおよび基板処理システム、ならびに液処理方法 | |
JP3623284B2 (ja) | 洗浄処理装置およびその制御方法 | |
US6119709A (en) | Feeding apparatus and replenishing method of processing solution | |
JPH07106240A (ja) | 基板端縁処理装置 | |
JP2000114152A (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040302 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040419 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040727 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040727 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3583058 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100806 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100806 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130806 Year of fee payment: 9 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |