JP3583058B2 - 処理液供給装置 - Google Patents
処理液供給装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3583058B2 JP3583058B2 JP2000191453A JP2000191453A JP3583058B2 JP 3583058 B2 JP3583058 B2 JP 3583058B2 JP 2000191453 A JP2000191453 A JP 2000191453A JP 2000191453 A JP2000191453 A JP 2000191453A JP 3583058 B2 JP3583058 B2 JP 3583058B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pipe
- processing liquid
- pump
- supply
- vent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Pipeline Systems (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体処理装置に関するものであり、さらに詳細には半導体ウエハ等の被処理基板上にレジスト液などの処理液を供給する処理液供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、被処理基板に処理座を供給する処理液供給装置では、処理液を収容した容器と、被処理基板の近傍に配設したノズルとの間を供給配管で結び、この供給配管の途中に配設したポンプで容器内に収容された処理液をノズルまで送るようになっている。
【０００３】
図１４は従来型の塗布装置に用いられた処理液供給系の模式図である。
【０００４】
図１４に示したように、この処理液供給系２１４では、処理液タンク２０１、リキッドエンドセンサ２０３、供給ポンプ２０４、フィルタ２０５、吐出ポンプ２０６、及びノズル２０２がこの順序で配設されており、これら隣接する要素の間は供給配管２０７で接続されている。フィルタ２０５には廃液タンク（図示省略）に繋がるベント配管２０８が取り付けられている。
【０００５】
また吐出ポンプ２０６の処理液移動方向下流側にはパージ配管２０９が取り付けられている。このパージ配管２０９は処理液タンク２０１とリキッドエンドセンサ２０３との間の供給配管２０７ｂに取り付けられたＴ字分岐管２１３に接続されており、パージ配管２０９を通ってきた処理液を供給配管２０７ｂに合流させるようになっている。
【０００６】
ところで、図１４に示したような長い供給配管２０７で容器２０７とノズル２０２との間を繋いだ構造の処理液供給系２１４では、供給配管２０７内に泡が形成される場合があり、これをそのまま放置するとノズル２０２からウエハＷなどの被処理基板に吐出される処理液の量が変動してウエハＷの品質を低下させるおそれがある。そのため、図１４のような処理液供給系２１４では、泡抜き機構を備えている。
【０００７】
即ち、処理液タンク２０１内に新たに処理液を入れた場合や、フィルタ２０５内のフィルタモジュールを交換して新たに処理液を流す場合など、供給配管２０７内に空気が入り込む場合には、処理液供給開始時にベント配管２０８のベントバルブ２１１を開けた状態で供給ポンプ２０４を作動させ、処理液タンク２０１からくみ出された処理液をフィルタ２０５に送る。フィルタ２０５内には最初、泡を多量に含んだ処理液が送られ、徐々に泡の量は減り、やがて泡を含まない処理液が供給される。そのため、泡を含んだ処理液はベント配管２０８を経由して廃液タンク（図示省略）に廃棄していた。
【０００８】
しかし、ベントバルブ２１１を開けた状態で供給ポンプ２０４を作動させたときの処理液はすべて廃棄されてしまうため、処理液の無駄が多いという問題があった。
【０００９】
また、ノズル２０２からウエハＷに処理液を吐出する通常運転時にも供給配管２０７内に泡が生じる場合があるが、その場合には吐出ポンプ２０６の吐出側に接続されたパージ配管２０９のパージバルブ２１２を開けて、泡を含んだ処理液をパージ配管２０９側に送るようになっている。
【００１０】
しかるに、このパージ配管２０９は処理液タンク２０１とリキッドエンドセンサ２０３との間の供給配管２０７ｂに配設されたＴ字分岐管２１３に接続されており、泡を含んだ処理液が再び供給配管２０７内を循環して正確な量の処理液の供給を妨げるという問題がある。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記問題を解決するためになされたものである。
【００１２】
すなわち、本発明は処理液の無駄をなくすことのできる処理液供給装置を提供することを目的とする。
【００１３】
また、本発明は泡の除去を効果的に行うことのできる処理液供給装置を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の処理液供給装置は、被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、前記処理液を収容する処理液供給源と、前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、前記供給配管に配設されたポンプと、前記ポンプの作動を制御する手段と、前記処理液供給源と前記ポンプとの間の配管に配設された分岐管と、前記分岐管と前記ポンプとを結ぶバイパス配管と、前記バイパス配管から分岐する廃液管と、前記バイパス配管に配設され、前記ポンプに対して前記分岐管又は前記廃液管との間を連通させる三方弁と、前記三方弁を切り換える手段と、を具備する。
【００１５】
上記処理液供給装置において、吐出手段とは、例えばウエハＷに処理液を吐出するノズルをいう。処理液供給源とは、例えば処理液を収容する処理液タンクをいう。供給配管とは、前記処理液供給源から前記吐出手段に処理液を供給するための配管をいい、途中に配設されたリキッドエンドセンサや、供給ポンプ、フィルタ、吐出ポンプなどの各種要素間を繋ぐ配管をいう。ポンプとは、例えば供給ポンプや吐出ポンプの片方、又は両方のポンプをいう。ポンプの作動を制御する手段とは、例えば供給ポンプや吐出ポンプの作動を制御する制御装置をいう。分岐管とは、例えば供給配管とパージ配管とを接続するＴ字分岐管や、供給配管とパージ配管及びベント配管とを接続する十字分岐管をいう。バイパス配管とは、前記供給配管以外の配管をいい、例えば、パージ配管やベント配管の一方或いは両方をいう。
【００１６】
三方弁とは、例えば、一つの入力側と二つの出力側とを備え、二つの出力側の一方と一つの入力側との間を切り換えることのできる弁をいう。三方弁を切り換える手段とは、例えば、ソレノイドのように、機械的或いは電気的な方法により三方弁を切り換える手段をいう。
【００１７】
本発明の処理液供給装置では、Ｔ字分岐管や十字分岐管を介してベント配管と供給配管とを連通させ、ベント配管の途中に三方弁を取り付けてベント配管に対して廃液タンク又は供給配管との連通を切り換えるようにしてもよい。
【００１８】
また本発明の処理液供給装置では、Ｔ字分岐管や十字分岐管を介してパージ配管と供給配管とを連通させ、パージ配管の途中に三方弁を取り付けてパージ配管に対して廃液タンク又は供給配管との連通を切り換えるようにしてもよい。
【００１９】
さらに、上記したように十字分岐管を介してベント配管、パージ配管、供給配管とを連通させ、ベント配管とパージ配管のそれぞれに三方弁を取り付け、ベント配管、パージ配管のどちらからでも泡を含んだ処理液を廃液タンクに廃棄できるようにしてもよい。
【００２０】
また、上記三方弁を制御する手段をさらに具備させ、定期的に三方弁を作動させてベント配管又はパージ配管から泡を含んだ処理液を廃棄するようにしてもよい。
【００２１】
さらに、供給配管の途中に泡の有無を検出するセンサを取り付けておき、処理液供給系内に泡が生じた場合に三方弁を作動させてベント配管又はパージ配管から泡を含んだ処理液を廃棄するようにしてもよい。
【００２２】
この処理液供給装置では、ベント配管やパージ配管と供給配管とを連通させる一方、ベント配管やパージ配管に三方弁を配設してあるので、この三方弁を適宜切り換えることにより配管内の泡を含んだ処理液のみを廃棄することができる。そのため、処理液の無駄な廃棄を殆どなくすことができる。また泡を含んだ処理液が再循環することがないので、処理液の吐出量を正確にコントロールすることができる。
【００２３】
さらに、本発明の他の処理液供給装置は、被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、前記処理液を収容する処理液供給源と、前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、前記処理液供給源から吐出手段に処理液を供給するポンプと、前記ポンプと吐出手段との間の供給配管に介挿されるフィルタと、前記フィルタと、前記ポンプの上流側の供給配管とを結ぶバイパス配管と、前記バイパス配管から分岐する廃液管と、前記バイパス配管内の処理液を、前記ポンプ上流側と前記廃液管とに切り換える切換弁と、を具備する。
【００２４】
上記処理液供給装置において、前記バイパス配管は前記ポンプと前記供給配管とを結ぶものであってもよい。さらにバイパス配管を二本使用し、一のバイパス配管で前記フィルタと前記供給配管とを結ぶとともに、もう一つのバイパス配管で前記ポンプと前記供給配管とを結んでもよい。
【００２５】
さらに、前記切換弁を所定のタイミングで駆動するようにしてもよい。
【００２６】
上記処理液供給装置では、前記供給配管の他にこの供給配管と前記フィルタや前記ポンプとを結ぶバイパス配管を配設し、このバイパス配管に切換弁を介して廃液管を配設したので、この切換弁を適切なタイミングで切り換えることにより効率良く配管内の泡を除去することができる。
【００２７】
本発明のさらに他の処理液供給装置は、被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、前記処理液を収容する処理液供給源と、前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、前記供給配管に配設されたポンプと、前記ポンプの作動を制御する手段と、前記処理液供給源と前記ポンプとの間の供給配管に配設された分岐管と、前記ポンプと前記分岐管とを結ぶバイパス配管と、前記バイパス配管から分岐して前記処理液供給源までの間を結ぶ戻し配管と、前記バイパス配管に配設され、前記ポンプに対して前記バイパス配管又は前記戻し配管との間を連通させる第１の三方弁と、前記第１の三方弁を切り換える手段と、前記第１の三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記バイパス配管から分岐する廃液管と、前記第１の三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記第１の三方弁に対して前記バイパス配管又は前記廃液管との間を連通させる第２の三方弁と、前記第２の三方弁を切り換える手段と、を具備する。
【００２８】
本発明のさらに別の処理液供給装置は、被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、前記処理液を収容する処理液供給源と、前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、前記供給配管に配設された吐出ポンプと、前記吐出ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された供給ポンプと、前記吐出ポンプ及び供給ポンプの作動を制御する手段と、前記吐出ポンプと前記供給ポンプとの間の供給配管に配設されたフィルタと、前記供給ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された分岐管と、前記フィルタと前記分岐管との間を結ぶベント配管と、前記吐出ポンプと前記分岐管との間を結ぶパージ配管と、前記ベント配管及び前記パージ配管からそれぞれ分岐して前記処理液供給源までの間を結ぶ戻し配管と、前記ベント配管に配設され、前記フィルタに対して前記分岐管又は前記戻し配管との間を連通させるベント側三方弁と、前記ベント側三方弁を切り換える手段と、前記パージ配管に配設され、前記吐出ポンプに対して前記分岐管又は戻し配管との間を連通させるパージ側三方弁と、前記パージ側三方弁を切り換える手段と、前記ベント側三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記ベント管から分岐する第１の廃液管と、前記ベント配管に配設され、前記ベント側三方弁と前記分岐管とを連通させ、又は前記ベント側三方弁と前記第１の廃液管とを連通させ、又は前記分岐管と前記第１の廃液管とを連通させるベント側切換弁と、前記ベント側切換弁を切り換える手段と、前記パージ側三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記パージ配管から分岐する第２の廃液管と、前記パージ配管に配設され、前記パージ側三方弁と前記分岐管とを連通させ、又は前記パージ側三方弁と前記第２の廃液管とを連通させ、又は前記分岐管と前記第２の廃液管とを連通させるパージ側切換弁と、前記パージ側切換弁を切り換える手段と、前記分岐管に配設され、前記分岐管内、前記供給配管内、前記ベント配管内、前記パージ配管内の処理液を除去する処理液除去手段と、を具備する。
【００２９】
上記処理液供給装置は、前記フィルタと前記ベント側三方弁との間に配設され、ベント側の泡を検知する手段をさらに具備していてもよい。
【００３０】
また、上記処理液供給装置は、前記吐出ポンプと前記パージ側三方弁との間に配設され、パージ側の泡を検知する手段をさらに具備していてもよい。
【００３１】
さらに、上記処理液供給装置は、前記ベント側泡検出手段及び前記パージ側泡検出手段による前記ベント配管内及び前記パージ配管内に存在する泡の検知に基づいて、所定のタイミングで前記ベント側三方弁、前記パージ側三方弁、前記ベント側切換弁、前記パージ側切換弁をそれぞれ切り換える制御手段をさらに具備していてもよい。
【００３２】
また、上記処理液供給装置は、前記フィルタと前記ベント側泡検知手段との間に配設されたベント側振動子をさらに具備していてもよい。
【００３３】
さらに、上記処理液供給装置は、前記吐出ポンプと前記パージ側泡検出手段との間に配設されたパージ側振動子をさらに具備していてもよい。
【００３４】
【発明の実施の形態】
（第１の実施形態）
以下、本発明の実施形態の詳細を図面に基づいて説明する。
【００３５】
図１は本発明の一実施形態に係るレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）を備えた半導体ウエハ（以下、「ウエハ」という）Ｗの塗布現像処理システム１全体を示した平面図である。
【００３６】
この塗布現像処理システム１では、被処理体としてのウエハＷをウエハカセットＣＲで複数枚、例えば２５枚単位で外部からシステムに搬入・搬出したり、ウエハカセットＣＲに対してウエハＷを搬入・搬出したりするためのカセットステーション１０と、塗布現像工程の中で１枚ずつウエハＷに所定の処理を施す枚葉式の各種処理ユニットを所定位置に多段配置した処理ステーション１１と、この処理ステーション１１に隣接して設けられる露光装置（図示せず）との間でウエハＷを受け渡しするためのインタフェース部１２とが一体的に接続されている。
【００３７】
このカセットステーション１０では、カセット載置台２０上の位置決め突起２０ａの位置に、複数個例えば４個までのウエハカセットＣＲが、夫々のウエハ出入口を処理ステーション１１側に向けてＸ方向（図１中の上下方向）一列に載置され、このカセット配列方向（Ｘ方向）およびウエハカセッ卜ＣＲ内に収納されたウエハＷのウエハ配列方向（Ｚ方向；垂直方向）に移動可能なウエハ搬送体２１が各ウエハカセットＣＲに選択的にアクセスする。
【００３８】
このウエハ搬送体２１はθ方向に回転自在であり、後述するように処理ステーション１１側の第３の処理ユニット群Ｇ３ の多段ユニット部に配設されたアライメントユニット（ＡＬＩＭ）やイクステンションユニット（ＥＸＴ）にもアクセスできる。
【００３９】
処理ステーション１１には、ウエハ搬送装置を備えた垂直搬送型のメインアーム２２が設けられ、その周りに全ての処理ユニットが１組または複数の組に亙って多段に配置されている。
【００４０】
図２は上記塗布現像処理システム１の正面図である。
【００４１】
第１の処理ユニット群Ｇ１ では、カップＣＰ内でウエハＷをスピンチャックに載せて所定の処理を行う２台のスピンナ型処理ユニット、例えばレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）および現像ユニット（ＤＥＶ）が下から順に２段に重ねられている。第２の処理ユニット群Ｇ２ では、２台のスピンナ型処理ユニット、例えばレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）および現像ユニット（ＤＥＶ）が下から順に２段に重ねられている。これらレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）は、レジスト液の排液が機構的にもメンテナンスの上でも面倒であることから、このように下段に配置するのが好ましい。しかし、必要に応じて適宜上段に配置することももちろん可能である。
【００４２】
図３は上記塗布現像処理システム１の背面図である。
【００４３】
メインアーム２２では、筒状支持体４９の内側に、ウエハ搬送装置４６が上下方向（Ｚ方向）に昇降自在に装備されている。筒状支持体４９はモータ（図示せず）の回転軸に接続されており、このモータの回転駆動力によって、前記回転軸を中心としてウエハ搬送装置４６と一体に回転し、それによりこのウエハ搬送装置４６はθ方向に回転自在となっている。なお筒状支持体４９は前記モータによって回転される別の回転軸（図示せず）に接続するように構成してもよい。
【００４４】
ウエハ搬送装置４６には、搬送基台４７の前後方向に移動自在な複数本の保持部材４８が配設されており、これらの保持部材４８は各処理ユニット間でのウエハＷの受け渡しを可能にしている。
【００４５】
また、図１に示すようにこの塗布現像処理システム１では、５つの処理ユニット群Ｇ１ 、Ｇ２ 、Ｇ３ 、Ｇ４ 、Ｇ５ が配置可能であり、第１および第２の処理ユニット群Ｇ１ 、Ｇ２ の多段ユニットは、システム正面（図１において手前）側に配置され、第３の処理ユニット群Ｇ３ の多段ユニットはカセットステーション１０に隣接して配置され、第４の処理ユニット群Ｇ４ の多段ユニットはインタフェース部１２に隣接して配置され、第５の処理ユニット群Ｇ５ の多段ユニットは背面側に配置されることが可能である。
【００４６】
図３に示すように、第３の処理ユニット群Ｇ３ では、ウエハＷを保持台（図示せず）に載せて所定の処理を行うオーブン型の処理ユニット、例えば冷却処理を行うクーリングユニット（ＣＯＬ）、レジストの定着性を高めるためのいわゆる疏水化処理を行うアドヒージョンユニット（ＡＤ）、位置合わせを行うアライメントユニット（ＡＬＩＭ）、イクステンションユニット（ＥＸＴ）、露光処理前の加熱処理を行うプリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）および露光処理後の加熱処理を行うポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）が、下から順に例えば８段に重ねられている。第４の処理ユニット群Ｇ４ でも、オーブン型の処理ユニット、例えばクーリングユニット（ＣＯＬ）、イクステンション・クーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）、イクステンションユニット（ＥＸＴ）、クーリングユニッ卜（ＣＯＬ）、プリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）およびポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）が下から順に、例えば８段に重ねられている。
【００４７】
このように処理温度の低いクーリングユニット（ＣＯＬ）、イクステンション・クーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）を下段に配置し、処理温度の高いベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）、ポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）およびアドヒージョンユニット（ＡＤ）を上段に配置することで、ユニット間の熱的な相互干渉を少なくすることができる。もちろん、ランダムな多段配置としてもよい。
【００４８】
図１に示すように、インタフェース部１２では、奥行方向（Ｘ方向）は前記処理ステーション１１と同じ寸法を有するが、幅方向（Ｙ方向）はより小さなサイズである。このインタフェース部１２の正面部には、可搬性のピックアップカセットＣＲと、定置型のバッファカセットＢＲとが２段に配置され、他方背面部には周辺露光装置２３が配設され、さらに中央部にはウエハ搬送体２４が設けられている。このウエハ搬送体２４は、Ｘ方向、Ｚ方向に移動して両カセットＣＲ、ＢＲおよび周辺露光装置２３にアクセスする。
【００４９】
ウエハ搬送体２４は、θ方向にも回転自在であり、処理ステーション１１側の第４の処理ユニット群Ｇ４ の多段ユニットに配設されたイクステンションユニット（ＥＸＴ）や、隣接する露光装置側のウエハ受渡し台（図示せず）にもアクセスできる。
【００５０】
また塗布現像処理システム１では、既述の如くメインアーム２２の背面側にも図１中破線で示した第５の処理ユニット群Ｇ５ の多段ユニットを配置できるが、この第５の処理ユニット群Ｇ５ の多段ユニットは、案内レール２５に沿ってＹ方向へ移動可能である。従って、この第５の処理ユニット群Ｇ５ の多段ユニットを図示の如く設けた場合でも、前記案内レール２５に沿って移動することにより、空間部が確保されるので、メインアーム２２に対して背後からメンテナンス作業が容易に行える。
【００５１】
次に、本実施形態に係るレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）について説明する。
【００５２】
図４は本実施形態に係るレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）の概略断面図である。
【００５３】
このレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）の中央部には環状のカップＣΡが配設され、カップＣΡの内側にはスピンチャック５１が配置されている。スピンチャック５１は真空吸着によってウエハＷを固定保持した状態で駆動モータ５２によって回転駆動される。
【００５４】
駆動モータ５２は、ユニット底板５０に設けられた開口５０ａに昇降移動可能に配置され、たとえばアルミニウムからなるキャップ状のフランジ部材５３を介してたとえばエアシリンダからなる昇降駆動手段５４および昇降ガイド手段５５と結合されている。
【００５５】
ウエハＷ表面に塗布液としてのレジスト液を吐出するためのレジストノズル６０は、レジストノズルスキャンアーム６１の先端部にノズル保持体６２を介して着脱可能に取り付けられている。このレジストノズルスキャンアーム６１は、ユニット底板５０の上に一方向（Ｙ方向）に敷設されたガイドレール６３上で水平移動可能な垂直支持部材６４の上端部に取り付けられており、図示しないＹ方向駆動機構によって垂直支持部材６４と一体にＹ方向に移動するようになっている。
【００５６】
図５は、本実施形態に係るレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）の概略平面図である。
【００５７】
レジストノズルスキャンアーム６１は、レジストノズル待機部６５でレジストノズル６０を選択的に取り付けるためにＹ方向と直角なΧ方向にも移動可能であり、図示しないΧ方向駆動機構によってΧ方向にも移動できる。
【００５８】
さらに、レジストノズル待機部６５でレジストノズル６０の吐出口が溶媒雰囲気室の口６５ａに挿入され、中で溶媒の雰囲気に晒されることで、レジストノズル６０先端のレジスト液が固化または劣化しないようになっている。また、複数本のレジストノズル６０，６０，…が設けられ、レジスト液の種類・粘度に応じてそれらのレジストノズル６０が使い分けられるようになっている。
【００５９】
さらに、ガイドレール６３上には、レジストノズルスキャンアーム６１を支持する垂直支持部材６４だけでなく、リンスノズルスキャンアーム７０を支持しＹ方向に移動可能な垂直支持部材７１も設けられている。
【００６０】
Ｙ方向駆動機構（図示せず）によってリンスノズルスキャンアーム７０はカップＣＰの側方に設定されたリンスノズル待機位置（実線の位置）とスピンチャック５１に設置されている半導体ウエハＷの周辺部の真上に設定されたリンス液吐出位置（点線の位置）との間で並進または直線移動するようになっている。
【００６１】
図４に示すように、レジストノズル６０は、レジスト供給管６６を介してレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）の下方室内に配設されたレジスト液供給機構に接続されている。
【００６２】
次に、本実施形態に係るレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）のレジスト供給系について説明する。
【００６３】
図６は本実施形態に係るレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）のレジスト供給系の模式図である。図中実線は配管を示し、点線は電気配線を示す。
【００６４】
図６に示したように、このレジスト供給系１００では、容器としてのレジストタンク１０１、リキッドエンドセンサ１０３、供給ポンプ１０４、フィルタ１０５、吐出ポンプ１０６、及びレジストノズル６０がレジスト液の移動方向であるこの順序で配設されており、これら隣接する要素の間は供給配管１０７で接続されている。フィルタ１０５には廃液タンク（図示省略）に繋がるベント配管１０８が取り付けられている。
【００６５】
供給ポンプ１０４の吐出側と吐出ポンプ１０６の吸い込み側との間はフィルタ１０５を介して接続されており、供給ポンプ１０４から吐き出されたレジスト液は一旦フィルタ１０５内を通過した後に吐出ポンプ１０６内に送られるようになっている。
【００６６】
フィルタ１０５内部では、供給配管１０７ｄとの接続部と、供給配管１０７ｅとの接続部との間にレジスト液を濾過するフィルタモジュール（図示省略）が配設されており、供給ポンプ１０４から送られたレジスト液がフィルタモジュールを通過して濾過された後に吐出ポンプ１０６側に送られるようになっている。
【００６７】
吐出ポンプ１０６の処理液移動方向下流側にはパージ配管１０９が取り付けられている。このパージ配管１０９は容器１０１とリキッドエンドセンサ１０３との間の供給配管１０７ｂに取り付けられた十字分岐管１１０に接続されており、パージ配管１０９を通ってきたレジスト液を供給配管１０７ｂに合流させるようになっている。
【００６８】
また上述したベント配管１０８の一端も十字分岐管１１０に接続されており、ベント配管１０８を通ってきたレジスト液を供給配管１０７ｂに合流させるようになっている。
【００６９】
ベント配管１０８の途中には第１三方弁、即ちベント側三方弁１１３が配設されている。
【００７０】
この第１三方弁１１３の入力側はフィルタ１０５に接続されており、第１三方弁１１３の二つの出力側の一つは供給配管１１７ｂに繋がる十字配管１１０に繋がるベント配管１０８ｂと接続されている。第１三方弁１１３のもう一つの出力側は廃液タンク（図示省略）に繋がる廃液配管１１６と接続されている。従って、この第１三方弁１１３を切り換えることにより、ベント配管１０８ａとベント配管１０８ｂとの間を連通させたり、ベント配管１０８ａと廃液配管１１６との間を連通させたりできる。フィルタ１０５と第１三方弁１１３とを繋ぐベント配管１０８ａの途中にはベントバルブ１１１が配設されており、ベント配管１０８内の開閉が行われる。
【００７１】
同様に、パージ配管１０９の途中には第２三方弁、即ちパージ側三方弁１１４が配設されている。
【００７２】
この第２三方弁１１４の入力側は吐出ポンプ１０６の吐出側に接続されており、第２三方弁１１４の二つの出力側の一つは供給配管１１７ｂに繋がる十字配管１１０に繋がるパージ配管１０９ｂと接続されている。第２三方弁１１４のもう一つの出力側は廃液タンク（図示省略）に繋がる廃液配管１１５と接続されている。
【００７３】
従って、この第２三方弁１１４を切り換えることにより、パージ配管１０９ａとパージ配管１０９ｂとの間を連通させたり、パージ配管１０９ａと廃液配管１１５との間を連通させたりできる。吐出ポンプ１０６と第２三方弁１１４とを繋ぐパージ配管１０９ａの途中にはパージバルブ１１２が配設されており、パージ配管１０９内の開閉が行われる。
【００７４】
図６に示したように、供給ポンプ１０４、吐出ポンプ１０６、ベントバルブ１１１、第１三方弁１１３、パージバルブ１１２、及び第２三方弁１１４はいずれも制御部１２０に電気的に接続されており、この制御部１２０により統括的に制御されている。
【００７５】
次に本実施形態に係るレジスト供給装置を作動させて配管内から泡の除去を行う場合の操作について説明する。
【００７６】
図７はレジスト供給装置に新たにレジスト液をインストールした場合や、フィルタ１０５内のフィルタモジュールを交換した場合など、レジスト供給装置を一旦停止させた後に再起動する場合の泡抜操作の手順を示したフローチャートである。
【００７７】
まず、レジストタンク１０１内に新たなレジスト液を充填したり、フィルタモジュールを交換するなど、必要な準備を整え、しかる後にレジスト供給装置を起動させる（ステップ１）。
【００７８】
レジスト供給装置の起動と同時に第１三方弁１１３を切り換えてベント配管１０８ａと廃液配管１１６との間を連通させる（ステップ２）。
【００７９】
次にベントバルブ１１１を開き、ベント配管１０８ａ内をレジスト液が流動できる状態にする（ステップ３）。
【００８０】
この状態で供給ポンプ１０４を作動させる（ステップ４）。
【００８１】
供給ポンプ１０４の作動によりレジスト液タンク１０１内のレジスト液が汲み上げられ、供給配管１０７ａ〜１０７ｄを経由してフィルタ１０５内に流入する（ステップ５）。
【００８２】
このとき吐出ポンプ１０６は作動していないので、フィルタ１０５内に流入したレジスト液はベント配管１０８ａ内に流入する。レジスト液の流入に伴い、供給配管１０７やフィルタ１０５、ベント配管１０８ａ内の空気が押し出されるため、廃液配管１１６には最初空気が流れ、やがて泡を多量に含んだレジスト液が流れ、泡の量は除序に減少し、最終的には泡を含まないレジスト液が流れ出す。この様子を肉眼、或いは配管中の泡の有無を監視する泡センサ（図示省略）を用いてモニタリングする（ステップ６）。
【００８３】
そして廃液配管１１６側に泡を含んだレジスト液が流れなくなった時点で第１三方弁１１３を切換え、ベント配管１０８ａ側とベント配管１０８ｂ側との間を連通させる（ステップ７）。
【００８４】
第１三方弁１１３の切換えにより、ベント配管１０８ａ側からベント配管１０８ｂ側にレジスト液が流れる。このレジスト液は十字分岐管１１０で再び供給配管１０７ｂ内に流れ込み、レジスト液タンク１０１から汲み上げられたレジスト液と合流してフィルタ１０５に向けて流れる。最初、ベント配管１０８ｂ内にも空気が残っているため、泡が形成され易い。そのため、暫くの間は供給配管１０７からフィルタ１０５、ベント配管１０８を経由して再び供給配管１０７内に戻るように循環させながら配管内の泡のモニタリングを継続し、泡が見られる場合には適宜第１三方弁１１６を切換えて配管内の泡抜きを行う。泡が見られなくなったらベントバルブ１１１を閉じて泡抜操作を終了する（ステップ８）。
【００８５】
次に、ウエハＷにレジスト液を吐出する通常運転時に配管内に泡の形成が確認された場合の泡抜操作について説明する。
【００８６】
図８はレジスト液供給装置の通常運転時に配管内の泡抜操作を行う場合の手順を示したフローチャートである。
【００８７】
通常運転時に配管内に泡の形成が認められた場合には、まずパージバルブ１１２を開いて、レジストノズル６０側へレジスト液が流れないようにする（ステップ１１，１２）。この操作により吐出ポンプ１０６からレジスト液はパージ配管１０９ａ側に流れるようになる。このパージバルブ１１２を開く操作と同時に第２三方弁１１４を切り換えてパージ配管１０９ａと廃液配管１１５との間を連通させる（ステップ１３）。
【００８８】
この状態で吐出ポンプ１０６を作動させて、泡を含んだレジスト液をパージ配管１０９ａ側から廃液配管１１５側に流出させる（ステップ１４）。
【００８９】
この廃液配管１１５側に流れ出てくるレジスト液の状態を肉眼或いは泡センサ（図示省略）にてモニタリングし、泡を含むレジスト液が泡を含まないレジスト液に切り換わるタイミングを図る（ステップ１６）。
【００９０】
泡を含まないレジスト液が出てくるようになったら、第２三方弁１１４を再び切り換えて、パージ配管１０９ａ側とパージ配管１０９ｂ側との間を連通させる（ステップ１７）。
【００９１】
こうして配管内の泡抜操作が完了したら、パージバルブ１１２を閉じて（ステップ１８）、吐出ポンプ１０６からレジストノズル６０側へレジスト液が流れるようにする。
【００９２】
以上詳述したように、本実施形態のレジスト液供給装置では、ベント配管１０８に第１三方弁１１３を配設し、この第１三方弁１１３を介して廃液配管１１６又は供給配管１０７を前記ベント配管１０８に選択的に接続してあるので、この第１三方弁１１３を適宜切り換えることにより供給配管１０７内の泡を含んだレジスト液のみを廃棄することができる。そのため、レジスト液の無駄な廃棄を殆どなくすことができる。
【００９３】
また、本実施形態のレジスト液供給装置では、パージ配管１０９に第２三方弁１１４を配設し、この第２三方弁１１４を介して廃液配管１１５又は供給配管１０７を前記パージ配管１０９に選択的に接続してあるので、この第２三方弁１１４を適宜切り換えることによりパージ配管１０９からでも泡抜きを行うことができる。そのため、泡を含んだレジスト液が再循環するのを防止できるので、レジスト液の吐出量を正確にコントロールすることができる。
【００９４】
なお、本発明は上記実施形態に記載した内容に限定されるものではない。
【００９５】
即ち、上記実施形態では、ベント配管とパージ配管の両方とも供給配管と連通させ、またベント配管とパージ配管の両方に三方弁を配設してベント配管、パージ配管のいずれからでも配管内に発生した泡について泡抜操作をできる構成としたが、ベント配管、パージ配管のどちらか一方のみに三方弁を配設し、その三方弁を切り換えることにより泡抜操作を行う構成としてもよい。
【００９６】
さらに、上記実施形態では、配管内に泡を含んだレジスト液が残っているかどうかの確認を肉眼で行う構成としたが、配管内を通過するレジスト液中に泡が含まれているか否かを検知する泡センサを用いてモニタリングを行い、泡センサの検出結果に基づいて三方弁の切換えを行うようにしても良い。
【００９７】
その場合、ベント配管内に泡センサを配設し、この泡センサでベント配管内に泡の存在が検知されたときにベント側三方弁を切り換えて泡を含んだレジスト液を廃液配管側に廃棄するように切換え、泡が検知されなくなった時点でベント側三方弁を切り換えて供給配管に合流させるように制御してベント配管内の泡を除去する。
【００９８】
一方、パージ配管側から泡抜きする場合には、パージ配管の途中に泡センサを配設し、この泡センサでパージ配管内に泡の存在が検知されたときにパージ側三方弁を切り換えて泡を含んだレジスト液を廃液配管側に廃棄するように切換え、泡が検知されなくなった時点でパージ側三方弁を切り換えて供給配管に合流させるように制御してパージ配管内の泡を除去する。
【００９９】
また、供給配管の途中にも泡センサを配設しておき、供給配管内で泡の発生が検出された場合にパージバルブを閉鎖し、泡を含んだレジスト液をパージ配管側に移動させた後、上記したように、パージ配管の泡センサの検出結果に基づいてパージ側三方弁を適宜切り換えて泡を含んだレジスト液を廃液配管に廃棄するようにしてもよい。
【０１００】
さらに、配管内の泡を含んだレジスト液を除去する方法として、レジスト液を新たにインストールした場合に、泡を含む可能性の高いレジスト供給開始直後に供給されるレジスト液の量を予め実験等で把握しておき、インストール後、所定量のレジスト液を廃棄するように設定し、最初に吐出される所定量のレジスト液については、これらは無条件に廃液されるように予め制御装置にプログラムしておく方法も可能である。
【０１０１】
また、上記実施形態ではウエハＷ用のレジスト塗布装置を例にして説明したが、本発明がその他の装置、例えば、液晶装置用ガラス基板のレジスト塗布装置や処理装置についても同様に適用できることはいうまでもない。
【０１０２】
（第２の実施形態）
次に本発明の第２の実施の形態について以下に説明する。なお、本実施形態のうち、上記第１の実施形態と重複する部分については説明を省略する。図９は、本実施形態に係る処理液供給装置の構成を模式的に示した図である。図９に示したように、この処理液供給装置では、レジスト容器１３０、ポンプ１４０、フィルタ１５０、吐出ノズル１６０がこの順番に配設されている。これらの間は供給配管１７０により繋がれ、レジスト容器１３０内のレジスト液がポンプ１４０、フィルタ１５０を経て吐出ノズル１６０に送られ、この吐出ノズル１６０からウエハＷに吐出されるようになっている。また、この処理液供給装置では、フィルタ１５０と、ポンプ１４０よりレジスト移動方向上流側の供給配管とがバイパス配管１８０で繋がれており、このバイパス配管の途中には廃液管１９０が分岐している。この廃液管１９０とバイパス配管１８０との接合部分には三方弁２００が配設されている。
【０１０３】
上記ポンプ１４０と三方弁２００とは制御部２１０に電気的に接続され、この制御部２１０によりポンプ１４０及び三方弁２００は統括的に制御されている。
【０１０４】
この処理液供給装置を運転する際には、上記ポンプ１４０と三方弁２００とを適切なタイミングで作動させることにより、配管１７０内から泡抜きを行う。
【０１０５】
例えば、装置の起動時やレジスト容器１３０内のレジスト液を交換して配管１７０内に空気が入り込んだ場合には、まず三方弁２００を廃液管１９０側に切り換え、ポンプ１４０を作動させてレジストの供給を開始する。レジスト容器は１３０から配管、ポンプ１４０、フィルタ１５０へ流れ込んで行くが、最初は泡が大半を占めている。この泡が多いうちは三方弁２００から廃液管１９０側にレジストを流して廃棄する。暫くして泡がなくなれば三方弁２００を切り換えてレジストがフィルタ１５０からポンプ１４０の上流側の配管内に流れるようにする。
【０１０６】
このように三方弁２００を適宜切り換えることによりフィルタ１５０内に溜まった泡を効率良く泡抜きすることができる。
【０１０７】
なお、本実施形態の変形例として、図１０に示したようにポンプ１４０とレジスト容器１３０との間にフィルタ１５０を配設し、ポンプ１４０とフィルタ１５０の上流側の供給配管との間をバイパス配管１８０で繋ぎ、このバイパス配管１８０に三方弁２００を介して廃液管１９０を繋いでもよい。
【０１０８】
さらに、図１１に示したように、フィルタ１５０及びポンプ１４０の双方に別々のバイパス配管を繋いでフィルタ１５０及びポンプ１４０より上流側の供給配管に繋ぎ、それぞれのバイパス配管に三方弁を介して廃液管を繋ぐ構成としてもよい。このような構成にすることにより、フィルタ１５０、ポンプ１４０のそれぞれに溜まった泡を効率よく泡抜きすることができる。
【０１０９】
（第３の実施形態）
図１２は本発明の第３の実施形態による処理液供給装置を示した模式図である。なお、この処理液供給装置３０において、上記第１及び第２の実施形態と同じ構成要素については同じ符号を付すものとする。
【０１１０】
フィルタ１０５と分岐管１１０との間に配設されたベント配管７１、及び吐出ポンプ１０６と分岐管１１０との間に配設されたパージ配管７２からそれぞれ分岐し、それらが合流して戻し配管２７が配設されており、この戻し配管２７の下流部はレジストタンク１０１に繋がっている。このベント配管７１には、フィルタ１０５に対して、分岐管１１０又は戻し配管２７との間を連通させるベント側三方弁３５が配設されており、また、パージ配管７２にも同様に、吐出ポンプ１０６に対して、分岐管１１０又は戻し配管２７との間を連通させるパージ側三方弁３６が配設されている。ベント側三方弁３５はフィルタ１０５の上方に、パージ側三方弁３６は吐出ポンプ１０６の上方にそれぞれ配置され、フィルタ１０５や吐出ポンプ１０６に混入している泡を効率よく戻し配管２７側に流すことができる。なお、戻し配管２７は、それぞれベント側三方弁３５及びパージ側三方弁３６から合流して一つの配管としたが、もちろん合流させないで２つの配管としてもよい。
【０１１１】
ベント側三方弁３５と分岐管１１０との間には、ベント側三方弁３５と分岐管１１０とを連通させ、又はベント側三方弁３５と廃液管４３とを連通させ、又は分岐管１１０と廃液管４３とを連通させるベント側切換弁４１が配設されている。パージ側も同様に、パージ側三方弁３６と分岐管１１０との間には、パージ側三方弁３６と分岐管１１０とを連通させ、又はパージ側三方弁３６と廃液管４４とを連通させ、又は分岐管１１０と廃液管４４とを連通させるパージ側切換弁４２が配設されている。また、フィルタ１０５とベント側三方弁３５との間には、供給配管１０７からベント配管上流部７１ａを通る泡の存在を検知する手段としてのベント側センサ３３が設けられており、パージ側も同様に、供給配管１０７からパージ配管上流部７２ａを通る泡の存在を検知する手段としてのパージ側センサ３４が設けられている。
【０１１２】
これらベント側センサ３３の上流側及びパージ側センサ３４の上流側には、各センサ３３、３４により効率よく泡を検知するために、配管を微小振動させて多数の微小な泡どうしを集合させるためのベント側振動子３１及びパージ側振動子３１及びパージ側振動子３２がそれぞれ設けられている。
【０１１３】
また、供給配管１０７ｆにはレジストノズル６０へ向うレジストの供給を停止させる供給管バルブ５７が配設されている。
【０１１４】
さらに分岐管１１０には、分岐管１１０内、供給配管１０７内、ベント配管７１内、パージ配管７２内の処理液を除去する処理液除去手段としての窒素ガスボンベ５６がバルブ５８を介して配設されている。
【０１１５】
また、各三方弁３５及び３６、各切換弁４１及び４２、各センサ３３及び３４、各振動子３１及び３２、またリキッドエンドセンサ１０３の廃液管に設けられたドレインバルブ３８の開閉及び供給管バルブ５７の開閉を統括的に制御する制御部４５が設けられている。
【０１１６】
次に図１３に示すフローチャートを用いて、作動中の処理液供給装置３０を一旦停止させた後に再起動した際（通常運転時）における配管１０７内の泡抜きの方法について説明する。
【０１１７】
まず、この処理液供給装置３０が作動しているときには、制御部４５の指令によりベント側切換弁４１は常にベント側三方弁３５と分岐管１１０とを連通させた状態にある。ベント側三方弁３５からベント側センサ３３までの配管の長さ及び単位時間当たりのベント配管７１を流れる処理液の量は設定値であるので、ベント側センサ３３により検知された泡がベント側三方弁３５に達するまでの時間Ｔ１が予め設定されている。なお、配管内にばらばらに存在する泡をできるだけ集合させるためにベント側振動子３１を微小振動させておく。
【０１１８】
ベント側センサ３３によりある程度まとまった量の泡の最初の泡が検知される（Ｓ２）と、制御部４５の指令により供給管バルブ５７は閉とされ、上記所定時間Ｔ１経過後に、ベント側三方弁３５が戻し配管２７側に接続される（Ｓ３）。そしてベント側センサ３３が上記最初の泡を検知し始めてから、ある程度まとまった多数の泡の最後の泡を検知するまでの時間ΔＴを制御部４５が記憶する。そして最後の泡を検知してから（Ｓ４）一定時間、例えば時間Ｔ２を予め設定しておき、この時間Ｔ２経過後に供給管バルブ５７が開となる（Ｓ５）。そしてベント側三方弁３５が戻し配管２７に接続されてから時間ΔＴ＋Ｔ２だけ経過後にベント側三方弁３５が分岐管１１０側に接続される（Ｓ６）。これにより、泡が混入した処理液は廃棄されることなく、全て戻し配管２７によりレジストタンク１０１に戻され、他方、泡が混入されていない処理液は全てベント配管７１から分岐管１１０を経由して再び供給配管１０７に戻される。これにより処理液の無駄な廃棄を防止することかできる。なお、これら一連の動作は制御部４５により全自動で制御される。
【０１１９】
以上説明した泡抜き方法は、ベント配管７１側とパージ配管７２側とにおいて同じ作用をするので、パージ配管７２側についての説明を省略する。
【０１２０】
次に、作動中の処理液供給装置３０を停止させた後（ウエハに対しての塗布処理を終了させて処理液供給装置３０を停止させた後）に、配管内をシンナで洗浄する場合について説明する。なお、ベント配管７１側とパージ配管７２側は同じ作用をするので、ベント配管７１側だけについて説明する。
【０１２１】
まず、レジストタンク１０１と供給配管１０７との接続を切り離し、リキッドエンドセンサ１０３のドレインバルブ３８を開とする。そしてベント側切換弁４１（パージ側切換弁４２）により、分岐管１１０側と廃液管４３（４４）とを連通させた後、窒素ガスボンベ５６のバルブ５８を開としてガスの勢いにより供給配管１０７ａ、１０７ｂ内、分岐管１１０内、ベント配管７１ｂ（パージ配管７２ｂ）内に残存する処理液を各廃液管３９、４３（４４）より廃棄する。
【０１２２】
次にリキッドエンドセンサ１０３のドレインバルブ３８を閉とし、ベント側切換弁４１（パージ側切換弁４２）により、ベント側三方弁３５（パージ側三方弁３６）と廃液管４３とを連通させ、また、ベント側三方弁３５（パージ側三方弁３６）を分岐管１１０側に切り換えて、供給ポンプ１０４及び吐出ポンプ１０６を作動させる。このとき窒素ガスは噴出させたままである。これにより、供給配管１０７内、ベント配管７１ａ（パージ配管７２ａ）内に残存する処理液を廃液管４３（４４）より廃棄する。
【０１２３】
その後、シンナが入ったタンク（図示せず）を供給配管１０７に接続して、リキッドエンドセンサ１０３、ドレインバルブ３８を閉とし、ベント側切換弁４１（パージ側切換弁４２）により、分岐管１１０と廃液管４３（４４）とを連通させ、またベント側三方弁３５（パージ側三方弁３６）を戻し配管２７側に切り換えて、各ポンプ１０４及び１０６の作動、かつ窒素ガスボンベ５６のガスの勢いにより供給配管１０７内、分岐管１１０内、ベント配管７１ｂ（パージ配管７２ｂ）内にシンナを流入させながらこのシンナを廃液管４３（４４）より廃棄して乾燥させる。
【０１２４】
次にベント側切換弁４１により、ベント側三方弁３５と廃液管４３とを連通させ、また、ベント側三方弁３５を分岐管１１０側に接続して、供給配管１０７内、ベント配管７１ａ内にシンナを流入させながらこのシンナを廃液管４３（４４）より廃棄して乾燥させる。
【０１２５】
そして最後にベント側三方弁３５（パージ側三方弁３６）を戻し配管２７側に接続して、供給配管１０７内、戻し配管２７内にシンナをシンナタンクに戻して乾燥させる。これら一連の動作は制御部４５により全自動で制御される。
【０１２６】
これにより、全配管を全自動でシンナにより洗浄、窒素ガスにより乾燥させることができるので、使用済みの処理液は完全に除去される。従って、後述する新たなレジストをインストールする場合において、使用済み処理液と新たな処理液が混同してしまうおそれはない。
【０１２７】
次に、各配管内をシンナ洗浄した後に新たなレジスト（処理液）をこの処理液供給装置３０の配管内に充填する場合について説明する。この場合もシンナ洗浄の場合と同様に処理液供給装置３０の作動はさせていない（ウエハに対しての塗布処理を行なっていない）。なお、ベント配管７１側とパージ配管７２側は同じ作用をするのでベント配管７１側だけについて説明する。
【０１２８】
まず、新しいレジストタンクを供給配管１０７に接続して、リキッドエンドセンサ１０３のドレインバルブ３８を閉とし、また供給管バルブ５７を開として、各ポンプ１０４，１０６の作動により供給配管１０７に処理液を注入する。そしてベント側三方弁３５（パージ側三方弁３６）、ベント側切換弁４１（パージ側切換弁４２）を適宜切り換えて、ベント配管７１、パージ配管７２、戻し配管２７の各配管に処理液を充填する。
【０１２９】
このように新しいレジストを充填した後の各配管内の泡の量は、上述した通常運転時の泡の量よりも多いため、マニュアル操作で泡抜きを行なう。
【０１３０】
泡抜きを行なう際には、各ポンプ１０４、１０６を作動させたまま供給管バルブ５７を閉とし、ベント側切換弁４１（パージ側切換弁４２）により、ベント側三方弁３５（パージ側三方弁３６）と分岐管１１０とを連通させ、供給配管１０７ｂ〜１０７ｅからベント配管７１（パージ配管７２）、分岐管１１０を経由して再び供給配管１０７ｂ〜１０７ｅに処理液を戻すように循環させながら、ベント側センサ３３（パージ側センサ３４）によって、処理液中の泡の存在を確認する。このときベント側振動子３１（パージ側振動子３２）の使用は任意である。そして泡が検知されたならば、ベント側切換弁４１（パージ側切換弁４２）を廃液管４３（４４）に切り換えて泡が混入した処理液を廃棄する。戻し配管２７については、装置３０を作動させた後においても、泡が混入しているので泡抜きを行なう必要はない。すなわち、戻し配管２７は上述したように、泡が混入した処理液のみをレジストタンク１０１に戻すための配管だからである。
【０１３１】
その後、供給管バルブ５７を開として処理液供給装置３０を起動させ、ウエハに塗布処理を開始する。そして上述した通常運転時と同様なシーケンスで泡抜き操作が行なわれる。
【０１３２】
なお、以上の第３の実施形態は、通常運転時及び配管内をシンナで洗浄する場合、全てマニュアル操作で泡抜きを行なうようにしてもよい。
【０１３３】
本発明によれば、前記容器と前記ポンプとの間の配管に分岐管を設ける一方、前記分岐管と前記ポンプとを結ぶバイパス配管に三方弁を配設し、この三方弁を切り換えることにより配管内の泡抜きを行う構成としたので、無駄に処理液を廃棄することがない。
【０１３４】
また本発明によれば、供給配管からフィルタ、フィルタからベント配管を経由して再び供給配管へ戻る循環路を形成し、このベント配管にベント側三方弁を配設してこのベント側三方弁を切り換えることにより配管内の泡抜操作を行う構成にしたので、泡を含まない処理液を廃棄することがなくなり、無駄に処理液を廃棄することが防止できる。
【０１３５】
さらに本発明によれば、供給配管から吐出ポンプ、吐出ポンプからパージ配管を経由して再び供給配管へ戻る循環路を形成し、このパージ配管にパージ側三方弁を配設してこのパージ側三方弁を切り換えることにより配管内の泡抜操作を行う構成にしたので、泡を含まない処理液を廃棄することがなくなり、無駄に処理液を廃棄することが防止できる。
【０１３６】
さらにまた本発明によれば、供給配管からフィルタ、フィルタからベント配管を経由して再び供給配管へ戻る循環路を形成し、このベント配管にベント側三方弁を配設する一方、供給配管から吐出ポンプ、吐出ポンプからパージ配管を経由して再び供給配管へ戻る循環路を形成し、このパージ配管にパージ側三方弁を配設し、上記ベント側三方弁及びパージ側三方弁を切り換えることにより配管内の泡抜操作を行う構成としたので、ベント側、パージ側のどちらからでも泡抜操作を行うことができる。そのため、処理液のインストール時やフィルタの交換時のみならず、通常運転時でも適宜泡抜操作を行うことができる。
【０１３７】
また本発明によれば、通常運転時において、供給配管内の泡が混入した処理液は廃棄されることなく、全て戻し配管により処理液供給源に戻され、他方、泡が混入されていない処理液は全てパージ配管から分岐管を経由して再び供給配管に戻される。これにより処理液の無駄な廃棄を防止することができる。
【０１３８】
以上説明した実施形態は、あくまでも本発明のの技術的内容を明らかにする意図のものにおいて、本発明はそうした具体例にのみ限定して狭義に解釈されるものではなく、本発明の技術的思想と同じ技術的思想に基づく範囲において、各種変形例が可能である。
【０１３９】
【発明の効果】
本発明によれば、前記容器と前記ポンプとの間の配管に分岐管を設ける一方、前記分岐管と前記ポンプとを結ぶバイパス配管に三方弁を配設し、この三方弁を切り換えることにより配管内の泡抜きを行う構成としたので、無駄に処理液を廃棄することが防止される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係るレジスト塗布ユニットを備えた塗布現像処理システムの平面図である。
【図２】本発明の実施形態に係るレジスト塗布ユニットを備えた塗布現像処理システムの正面図である。
【図３】本発明の実施形態に係るレジスト塗布ユニットを備えた塗布現像処理システムの背面図である。
【図４】本実施形態に係るレジスト塗布ユニットの概略断面図である。
【図５】本実施形態に係るレジスト塗布ユニットの概略平面図である。
【図６】本実施形態に係るレジスト塗布ユニットのレジスト供給系の模式図である。
【図７】本実施形態に係るレジスト供給装置を一旦停止後再起動する場合の泡抜操作のフローチャートである。
【図８】本実施形態に係るレジスト液供給装置の通常運転時に行う泡抜操作のフローチャートである。
【図９】本発明の第２の実施形態に係るレジスト液供給装置の構成を模式的に示した図である。
【図１０】本発明の第２の実施形態の変形例に係るレジスト液供給装置の模式図である。
【図１１】本発明の第２の実施形態の変形例に係るレジスト液供給装置の模式図である。
【図１２】本発明の第３の実施形態による処理液供給装置を示した模式図である。
【図１３】本発明の第３の実施形態に係るレジスト供給装置を一旦停止後再起動する場合の泡抜操作のフローチャートである。
【図１４】従来のレジスト塗布ユニットのレジスト供給系の模式図である。
【符号の簡単な説明】
Ｗ………ウエハ（被処理基板）、
６０………レジストノズル（吐出手段）、
１０１………レジスト液タンク（容器）、
１０７………供給配管、
１０４………供給ポンプ（ポンプ）、
１０６………吐出ポンプ（ポンプ）、
１２０………制御部（制御手段）、
１１０………十字分岐管（分岐管）、
１０８………ベント配管（バイパス配管）、
１０９………パージ配管（バイパス配管）、
１１３………第１三方弁（三方弁）、
１１４………第２三方弁（三方弁）、
１０５………フィルタ。
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体処理装置に関するものであり、さらに詳細には半導体ウエハ等の被処理基板上にレジスト液などの処理液を供給する処理液供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、被処理基板に処理座を供給する処理液供給装置では、処理液を収容した容器と、被処理基板の近傍に配設したノズルとの間を供給配管で結び、この供給配管の途中に配設したポンプで容器内に収容された処理液をノズルまで送るようになっている。
【０００３】
図１４は従来型の塗布装置に用いられた処理液供給系の模式図である。
【０００４】
図１４に示したように、この処理液供給系２１４では、処理液タンク２０１、リキッドエンドセンサ２０３、供給ポンプ２０４、フィルタ２０５、吐出ポンプ２０６、及びノズル２０２がこの順序で配設されており、これら隣接する要素の間は供給配管２０７で接続されている。フィルタ２０５には廃液タンク（図示省略）に繋がるベント配管２０８が取り付けられている。
【０００５】
また吐出ポンプ２０６の処理液移動方向下流側にはパージ配管２０９が取り付けられている。このパージ配管２０９は処理液タンク２０１とリキッドエンドセンサ２０３との間の供給配管２０７ｂに取り付けられたＴ字分岐管２１３に接続されており、パージ配管２０９を通ってきた処理液を供給配管２０７ｂに合流させるようになっている。
【０００６】
ところで、図１４に示したような長い供給配管２０７で容器２０７とノズル２０２との間を繋いだ構造の処理液供給系２１４では、供給配管２０７内に泡が形成される場合があり、これをそのまま放置するとノズル２０２からウエハＷなどの被処理基板に吐出される処理液の量が変動してウエハＷの品質を低下させるおそれがある。そのため、図１４のような処理液供給系２１４では、泡抜き機構を備えている。
【０００７】
即ち、処理液タンク２０１内に新たに処理液を入れた場合や、フィルタ２０５内のフィルタモジュールを交換して新たに処理液を流す場合など、供給配管２０７内に空気が入り込む場合には、処理液供給開始時にベント配管２０８のベントバルブ２１１を開けた状態で供給ポンプ２０４を作動させ、処理液タンク２０１からくみ出された処理液をフィルタ２０５に送る。フィルタ２０５内には最初、泡を多量に含んだ処理液が送られ、徐々に泡の量は減り、やがて泡を含まない処理液が供給される。そのため、泡を含んだ処理液はベント配管２０８を経由して廃液タンク（図示省略）に廃棄していた。
【０００８】
しかし、ベントバルブ２１１を開けた状態で供給ポンプ２０４を作動させたときの処理液はすべて廃棄されてしまうため、処理液の無駄が多いという問題があった。
【０００９】
また、ノズル２０２からウエハＷに処理液を吐出する通常運転時にも供給配管２０７内に泡が生じる場合があるが、その場合には吐出ポンプ２０６の吐出側に接続されたパージ配管２０９のパージバルブ２１２を開けて、泡を含んだ処理液をパージ配管２０９側に送るようになっている。
【００１０】
しかるに、このパージ配管２０９は処理液タンク２０１とリキッドエンドセンサ２０３との間の供給配管２０７ｂに配設されたＴ字分岐管２１３に接続されており、泡を含んだ処理液が再び供給配管２０７内を循環して正確な量の処理液の供給を妨げるという問題がある。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記問題を解決するためになされたものである。
【００１２】
すなわち、本発明は処理液の無駄をなくすことのできる処理液供給装置を提供することを目的とする。
【００１３】
また、本発明は泡の除去を効果的に行うことのできる処理液供給装置を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の処理液供給装置は、被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、前記処理液を収容する処理液供給源と、前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、前記供給配管に配設されたポンプと、前記ポンプの作動を制御する手段と、前記処理液供給源と前記ポンプとの間の配管に配設された分岐管と、前記分岐管と前記ポンプとを結ぶバイパス配管と、前記バイパス配管から分岐する廃液管と、前記バイパス配管に配設され、前記ポンプに対して前記分岐管又は前記廃液管との間を連通させる三方弁と、前記三方弁を切り換える手段と、を具備する。
【００１５】
上記処理液供給装置において、吐出手段とは、例えばウエハＷに処理液を吐出するノズルをいう。処理液供給源とは、例えば処理液を収容する処理液タンクをいう。供給配管とは、前記処理液供給源から前記吐出手段に処理液を供給するための配管をいい、途中に配設されたリキッドエンドセンサや、供給ポンプ、フィルタ、吐出ポンプなどの各種要素間を繋ぐ配管をいう。ポンプとは、例えば供給ポンプや吐出ポンプの片方、又は両方のポンプをいう。ポンプの作動を制御する手段とは、例えば供給ポンプや吐出ポンプの作動を制御する制御装置をいう。分岐管とは、例えば供給配管とパージ配管とを接続するＴ字分岐管や、供給配管とパージ配管及びベント配管とを接続する十字分岐管をいう。バイパス配管とは、前記供給配管以外の配管をいい、例えば、パージ配管やベント配管の一方或いは両方をいう。
【００１６】
三方弁とは、例えば、一つの入力側と二つの出力側とを備え、二つの出力側の一方と一つの入力側との間を切り換えることのできる弁をいう。三方弁を切り換える手段とは、例えば、ソレノイドのように、機械的或いは電気的な方法により三方弁を切り換える手段をいう。
【００１７】
本発明の処理液供給装置では、Ｔ字分岐管や十字分岐管を介してベント配管と供給配管とを連通させ、ベント配管の途中に三方弁を取り付けてベント配管に対して廃液タンク又は供給配管との連通を切り換えるようにしてもよい。
【００１８】
また本発明の処理液供給装置では、Ｔ字分岐管や十字分岐管を介してパージ配管と供給配管とを連通させ、パージ配管の途中に三方弁を取り付けてパージ配管に対して廃液タンク又は供給配管との連通を切り換えるようにしてもよい。
【００１９】
さらに、上記したように十字分岐管を介してベント配管、パージ配管、供給配管とを連通させ、ベント配管とパージ配管のそれぞれに三方弁を取り付け、ベント配管、パージ配管のどちらからでも泡を含んだ処理液を廃液タンクに廃棄できるようにしてもよい。
【００２０】
また、上記三方弁を制御する手段をさらに具備させ、定期的に三方弁を作動させてベント配管又はパージ配管から泡を含んだ処理液を廃棄するようにしてもよい。
【００２１】
さらに、供給配管の途中に泡の有無を検出するセンサを取り付けておき、処理液供給系内に泡が生じた場合に三方弁を作動させてベント配管又はパージ配管から泡を含んだ処理液を廃棄するようにしてもよい。
【００２２】
この処理液供給装置では、ベント配管やパージ配管と供給配管とを連通させる一方、ベント配管やパージ配管に三方弁を配設してあるので、この三方弁を適宜切り換えることにより配管内の泡を含んだ処理液のみを廃棄することができる。そのため、処理液の無駄な廃棄を殆どなくすことができる。また泡を含んだ処理液が再循環することがないので、処理液の吐出量を正確にコントロールすることができる。
【００２３】
さらに、本発明の他の処理液供給装置は、被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、前記処理液を収容する処理液供給源と、前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、前記処理液供給源から吐出手段に処理液を供給するポンプと、前記ポンプと吐出手段との間の供給配管に介挿されるフィルタと、前記フィルタと、前記ポンプの上流側の供給配管とを結ぶバイパス配管と、前記バイパス配管から分岐する廃液管と、前記バイパス配管内の処理液を、前記ポンプ上流側と前記廃液管とに切り換える切換弁と、を具備する。
【００２４】
上記処理液供給装置において、前記バイパス配管は前記ポンプと前記供給配管とを結ぶものであってもよい。さらにバイパス配管を二本使用し、一のバイパス配管で前記フィルタと前記供給配管とを結ぶとともに、もう一つのバイパス配管で前記ポンプと前記供給配管とを結んでもよい。
【００２５】
さらに、前記切換弁を所定のタイミングで駆動するようにしてもよい。
【００２６】
上記処理液供給装置では、前記供給配管の他にこの供給配管と前記フィルタや前記ポンプとを結ぶバイパス配管を配設し、このバイパス配管に切換弁を介して廃液管を配設したので、この切換弁を適切なタイミングで切り換えることにより効率良く配管内の泡を除去することができる。
【００２７】
本発明のさらに他の処理液供給装置は、被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、前記処理液を収容する処理液供給源と、前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、前記供給配管に配設されたポンプと、前記ポンプの作動を制御する手段と、前記処理液供給源と前記ポンプとの間の供給配管に配設された分岐管と、前記ポンプと前記分岐管とを結ぶバイパス配管と、前記バイパス配管から分岐して前記処理液供給源までの間を結ぶ戻し配管と、前記バイパス配管に配設され、前記ポンプに対して前記バイパス配管又は前記戻し配管との間を連通させる第１の三方弁と、前記第１の三方弁を切り換える手段と、前記第１の三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記バイパス配管から分岐する廃液管と、前記第１の三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記第１の三方弁に対して前記バイパス配管又は前記廃液管との間を連通させる第２の三方弁と、前記第２の三方弁を切り換える手段と、を具備する。
【００２８】
本発明のさらに別の処理液供給装置は、被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、前記処理液を収容する処理液供給源と、前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、前記供給配管に配設された吐出ポンプと、前記吐出ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された供給ポンプと、前記吐出ポンプ及び供給ポンプの作動を制御する手段と、前記吐出ポンプと前記供給ポンプとの間の供給配管に配設されたフィルタと、前記供給ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された分岐管と、前記フィルタと前記分岐管との間を結ぶベント配管と、前記吐出ポンプと前記分岐管との間を結ぶパージ配管と、前記ベント配管及び前記パージ配管からそれぞれ分岐して前記処理液供給源までの間を結ぶ戻し配管と、前記ベント配管に配設され、前記フィルタに対して前記分岐管又は前記戻し配管との間を連通させるベント側三方弁と、前記ベント側三方弁を切り換える手段と、前記パージ配管に配設され、前記吐出ポンプに対して前記分岐管又は戻し配管との間を連通させるパージ側三方弁と、前記パージ側三方弁を切り換える手段と、前記ベント側三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記ベント管から分岐する第１の廃液管と、前記ベント配管に配設され、前記ベント側三方弁と前記分岐管とを連通させ、又は前記ベント側三方弁と前記第１の廃液管とを連通させ、又は前記分岐管と前記第１の廃液管とを連通させるベント側切換弁と、前記ベント側切換弁を切り換える手段と、前記パージ側三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記パージ配管から分岐する第２の廃液管と、前記パージ配管に配設され、前記パージ側三方弁と前記分岐管とを連通させ、又は前記パージ側三方弁と前記第２の廃液管とを連通させ、又は前記分岐管と前記第２の廃液管とを連通させるパージ側切換弁と、前記パージ側切換弁を切り換える手段と、前記分岐管に配設され、前記分岐管内、前記供給配管内、前記ベント配管内、前記パージ配管内の処理液を除去する処理液除去手段と、を具備する。
【００２９】
上記処理液供給装置は、前記フィルタと前記ベント側三方弁との間に配設され、ベント側の泡を検知する手段をさらに具備していてもよい。
【００３０】
また、上記処理液供給装置は、前記吐出ポンプと前記パージ側三方弁との間に配設され、パージ側の泡を検知する手段をさらに具備していてもよい。
【００３１】
さらに、上記処理液供給装置は、前記ベント側泡検出手段及び前記パージ側泡検出手段による前記ベント配管内及び前記パージ配管内に存在する泡の検知に基づいて、所定のタイミングで前記ベント側三方弁、前記パージ側三方弁、前記ベント側切換弁、前記パージ側切換弁をそれぞれ切り換える制御手段をさらに具備していてもよい。
【００３２】
また、上記処理液供給装置は、前記フィルタと前記ベント側泡検知手段との間に配設されたベント側振動子をさらに具備していてもよい。
【００３３】
さらに、上記処理液供給装置は、前記吐出ポンプと前記パージ側泡検出手段との間に配設されたパージ側振動子をさらに具備していてもよい。
【００３４】
【発明の実施の形態】
（第１の実施形態）
以下、本発明の実施形態の詳細を図面に基づいて説明する。
【００３５】
図１は本発明の一実施形態に係るレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）を備えた半導体ウエハ（以下、「ウエハ」という）Ｗの塗布現像処理システム１全体を示した平面図である。
【００３６】
この塗布現像処理システム１では、被処理体としてのウエハＷをウエハカセットＣＲで複数枚、例えば２５枚単位で外部からシステムに搬入・搬出したり、ウエハカセットＣＲに対してウエハＷを搬入・搬出したりするためのカセットステーション１０と、塗布現像工程の中で１枚ずつウエハＷに所定の処理を施す枚葉式の各種処理ユニットを所定位置に多段配置した処理ステーション１１と、この処理ステーション１１に隣接して設けられる露光装置（図示せず）との間でウエハＷを受け渡しするためのインタフェース部１２とが一体的に接続されている。
【００３７】
このカセットステーション１０では、カセット載置台２０上の位置決め突起２０ａの位置に、複数個例えば４個までのウエハカセットＣＲが、夫々のウエハ出入口を処理ステーション１１側に向けてＸ方向（図１中の上下方向）一列に載置され、このカセット配列方向（Ｘ方向）およびウエハカセッ卜ＣＲ内に収納されたウエハＷのウエハ配列方向（Ｚ方向；垂直方向）に移動可能なウエハ搬送体２１が各ウエハカセットＣＲに選択的にアクセスする。
【００３８】
このウエハ搬送体２１はθ方向に回転自在であり、後述するように処理ステーション１１側の第３の処理ユニット群Ｇ３ の多段ユニット部に配設されたアライメントユニット（ＡＬＩＭ）やイクステンションユニット（ＥＸＴ）にもアクセスできる。
【００３９】
処理ステーション１１には、ウエハ搬送装置を備えた垂直搬送型のメインアーム２２が設けられ、その周りに全ての処理ユニットが１組または複数の組に亙って多段に配置されている。
【００４０】
図２は上記塗布現像処理システム１の正面図である。
【００４１】
第１の処理ユニット群Ｇ１ では、カップＣＰ内でウエハＷをスピンチャックに載せて所定の処理を行う２台のスピンナ型処理ユニット、例えばレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）および現像ユニット（ＤＥＶ）が下から順に２段に重ねられている。第２の処理ユニット群Ｇ２ では、２台のスピンナ型処理ユニット、例えばレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）および現像ユニット（ＤＥＶ）が下から順に２段に重ねられている。これらレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）は、レジスト液の排液が機構的にもメンテナンスの上でも面倒であることから、このように下段に配置するのが好ましい。しかし、必要に応じて適宜上段に配置することももちろん可能である。
【００４２】
図３は上記塗布現像処理システム１の背面図である。
【００４３】
メインアーム２２では、筒状支持体４９の内側に、ウエハ搬送装置４６が上下方向（Ｚ方向）に昇降自在に装備されている。筒状支持体４９はモータ（図示せず）の回転軸に接続されており、このモータの回転駆動力によって、前記回転軸を中心としてウエハ搬送装置４６と一体に回転し、それによりこのウエハ搬送装置４６はθ方向に回転自在となっている。なお筒状支持体４９は前記モータによって回転される別の回転軸（図示せず）に接続するように構成してもよい。
【００４４】
ウエハ搬送装置４６には、搬送基台４７の前後方向に移動自在な複数本の保持部材４８が配設されており、これらの保持部材４８は各処理ユニット間でのウエハＷの受け渡しを可能にしている。
【００４５】
また、図１に示すようにこの塗布現像処理システム１では、５つの処理ユニット群Ｇ１ 、Ｇ２ 、Ｇ３ 、Ｇ４ 、Ｇ５ が配置可能であり、第１および第２の処理ユニット群Ｇ１ 、Ｇ２ の多段ユニットは、システム正面（図１において手前）側に配置され、第３の処理ユニット群Ｇ３ の多段ユニットはカセットステーション１０に隣接して配置され、第４の処理ユニット群Ｇ４ の多段ユニットはインタフェース部１２に隣接して配置され、第５の処理ユニット群Ｇ５ の多段ユニットは背面側に配置されることが可能である。
【００４６】
図３に示すように、第３の処理ユニット群Ｇ３ では、ウエハＷを保持台（図示せず）に載せて所定の処理を行うオーブン型の処理ユニット、例えば冷却処理を行うクーリングユニット（ＣＯＬ）、レジストの定着性を高めるためのいわゆる疏水化処理を行うアドヒージョンユニット（ＡＤ）、位置合わせを行うアライメントユニット（ＡＬＩＭ）、イクステンションユニット（ＥＸＴ）、露光処理前の加熱処理を行うプリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）および露光処理後の加熱処理を行うポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）が、下から順に例えば８段に重ねられている。第４の処理ユニット群Ｇ４ でも、オーブン型の処理ユニット、例えばクーリングユニット（ＣＯＬ）、イクステンション・クーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）、イクステンションユニット（ＥＸＴ）、クーリングユニッ卜（ＣＯＬ）、プリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）およびポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）が下から順に、例えば８段に重ねられている。
【００４７】
このように処理温度の低いクーリングユニット（ＣＯＬ）、イクステンション・クーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）を下段に配置し、処理温度の高いベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）、ポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）およびアドヒージョンユニット（ＡＤ）を上段に配置することで、ユニット間の熱的な相互干渉を少なくすることができる。もちろん、ランダムな多段配置としてもよい。
【００４８】
図１に示すように、インタフェース部１２では、奥行方向（Ｘ方向）は前記処理ステーション１１と同じ寸法を有するが、幅方向（Ｙ方向）はより小さなサイズである。このインタフェース部１２の正面部には、可搬性のピックアップカセットＣＲと、定置型のバッファカセットＢＲとが２段に配置され、他方背面部には周辺露光装置２３が配設され、さらに中央部にはウエハ搬送体２４が設けられている。このウエハ搬送体２４は、Ｘ方向、Ｚ方向に移動して両カセットＣＲ、ＢＲおよび周辺露光装置２３にアクセスする。
【００４９】
ウエハ搬送体２４は、θ方向にも回転自在であり、処理ステーション１１側の第４の処理ユニット群Ｇ４ の多段ユニットに配設されたイクステンションユニット（ＥＸＴ）や、隣接する露光装置側のウエハ受渡し台（図示せず）にもアクセスできる。
【００５０】
また塗布現像処理システム１では、既述の如くメインアーム２２の背面側にも図１中破線で示した第５の処理ユニット群Ｇ５ の多段ユニットを配置できるが、この第５の処理ユニット群Ｇ５ の多段ユニットは、案内レール２５に沿ってＹ方向へ移動可能である。従って、この第５の処理ユニット群Ｇ５ の多段ユニットを図示の如く設けた場合でも、前記案内レール２５に沿って移動することにより、空間部が確保されるので、メインアーム２２に対して背後からメンテナンス作業が容易に行える。
【００５１】
次に、本実施形態に係るレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）について説明する。
【００５２】
図４は本実施形態に係るレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）の概略断面図である。
【００５３】
このレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）の中央部には環状のカップＣΡが配設され、カップＣΡの内側にはスピンチャック５１が配置されている。スピンチャック５１は真空吸着によってウエハＷを固定保持した状態で駆動モータ５２によって回転駆動される。
【００５４】
駆動モータ５２は、ユニット底板５０に設けられた開口５０ａに昇降移動可能に配置され、たとえばアルミニウムからなるキャップ状のフランジ部材５３を介してたとえばエアシリンダからなる昇降駆動手段５４および昇降ガイド手段５５と結合されている。
【００５５】
ウエハＷ表面に塗布液としてのレジスト液を吐出するためのレジストノズル６０は、レジストノズルスキャンアーム６１の先端部にノズル保持体６２を介して着脱可能に取り付けられている。このレジストノズルスキャンアーム６１は、ユニット底板５０の上に一方向（Ｙ方向）に敷設されたガイドレール６３上で水平移動可能な垂直支持部材６４の上端部に取り付けられており、図示しないＹ方向駆動機構によって垂直支持部材６４と一体にＹ方向に移動するようになっている。
【００５６】
図５は、本実施形態に係るレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）の概略平面図である。
【００５７】
レジストノズルスキャンアーム６１は、レジストノズル待機部６５でレジストノズル６０を選択的に取り付けるためにＹ方向と直角なΧ方向にも移動可能であり、図示しないΧ方向駆動機構によってΧ方向にも移動できる。
【００５８】
さらに、レジストノズル待機部６５でレジストノズル６０の吐出口が溶媒雰囲気室の口６５ａに挿入され、中で溶媒の雰囲気に晒されることで、レジストノズル６０先端のレジスト液が固化または劣化しないようになっている。また、複数本のレジストノズル６０，６０，…が設けられ、レジスト液の種類・粘度に応じてそれらのレジストノズル６０が使い分けられるようになっている。
【００５９】
さらに、ガイドレール６３上には、レジストノズルスキャンアーム６１を支持する垂直支持部材６４だけでなく、リンスノズルスキャンアーム７０を支持しＹ方向に移動可能な垂直支持部材７１も設けられている。
【００６０】
Ｙ方向駆動機構（図示せず）によってリンスノズルスキャンアーム７０はカップＣＰの側方に設定されたリンスノズル待機位置（実線の位置）とスピンチャック５１に設置されている半導体ウエハＷの周辺部の真上に設定されたリンス液吐出位置（点線の位置）との間で並進または直線移動するようになっている。
【００６１】
図４に示すように、レジストノズル６０は、レジスト供給管６６を介してレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）の下方室内に配設されたレジスト液供給機構に接続されている。
【００６２】
次に、本実施形態に係るレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）のレジスト供給系について説明する。
【００６３】
図６は本実施形態に係るレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）のレジスト供給系の模式図である。図中実線は配管を示し、点線は電気配線を示す。
【００６４】
図６に示したように、このレジスト供給系１００では、容器としてのレジストタンク１０１、リキッドエンドセンサ１０３、供給ポンプ１０４、フィルタ１０５、吐出ポンプ１０６、及びレジストノズル６０がレジスト液の移動方向であるこの順序で配設されており、これら隣接する要素の間は供給配管１０７で接続されている。フィルタ１０５には廃液タンク（図示省略）に繋がるベント配管１０８が取り付けられている。
【００６５】
供給ポンプ１０４の吐出側と吐出ポンプ１０６の吸い込み側との間はフィルタ１０５を介して接続されており、供給ポンプ１０４から吐き出されたレジスト液は一旦フィルタ１０５内を通過した後に吐出ポンプ１０６内に送られるようになっている。
【００６６】
フィルタ１０５内部では、供給配管１０７ｄとの接続部と、供給配管１０７ｅとの接続部との間にレジスト液を濾過するフィルタモジュール（図示省略）が配設されており、供給ポンプ１０４から送られたレジスト液がフィルタモジュールを通過して濾過された後に吐出ポンプ１０６側に送られるようになっている。
【００６７】
吐出ポンプ１０６の処理液移動方向下流側にはパージ配管１０９が取り付けられている。このパージ配管１０９は容器１０１とリキッドエンドセンサ１０３との間の供給配管１０７ｂに取り付けられた十字分岐管１１０に接続されており、パージ配管１０９を通ってきたレジスト液を供給配管１０７ｂに合流させるようになっている。
【００６８】
また上述したベント配管１０８の一端も十字分岐管１１０に接続されており、ベント配管１０８を通ってきたレジスト液を供給配管１０７ｂに合流させるようになっている。
【００６９】
ベント配管１０８の途中には第１三方弁、即ちベント側三方弁１１３が配設されている。
【００７０】
この第１三方弁１１３の入力側はフィルタ１０５に接続されており、第１三方弁１１３の二つの出力側の一つは供給配管１１７ｂに繋がる十字配管１１０に繋がるベント配管１０８ｂと接続されている。第１三方弁１１３のもう一つの出力側は廃液タンク（図示省略）に繋がる廃液配管１１６と接続されている。従って、この第１三方弁１１３を切り換えることにより、ベント配管１０８ａとベント配管１０８ｂとの間を連通させたり、ベント配管１０８ａと廃液配管１１６との間を連通させたりできる。フィルタ１０５と第１三方弁１１３とを繋ぐベント配管１０８ａの途中にはベントバルブ１１１が配設されており、ベント配管１０８内の開閉が行われる。
【００７１】
同様に、パージ配管１０９の途中には第２三方弁、即ちパージ側三方弁１１４が配設されている。
【００７２】
この第２三方弁１１４の入力側は吐出ポンプ１０６の吐出側に接続されており、第２三方弁１１４の二つの出力側の一つは供給配管１１７ｂに繋がる十字配管１１０に繋がるパージ配管１０９ｂと接続されている。第２三方弁１１４のもう一つの出力側は廃液タンク（図示省略）に繋がる廃液配管１１５と接続されている。
【００７３】
従って、この第２三方弁１１４を切り換えることにより、パージ配管１０９ａとパージ配管１０９ｂとの間を連通させたり、パージ配管１０９ａと廃液配管１１５との間を連通させたりできる。吐出ポンプ１０６と第２三方弁１１４とを繋ぐパージ配管１０９ａの途中にはパージバルブ１１２が配設されており、パージ配管１０９内の開閉が行われる。
【００７４】
図６に示したように、供給ポンプ１０４、吐出ポンプ１０６、ベントバルブ１１１、第１三方弁１１３、パージバルブ１１２、及び第２三方弁１１４はいずれも制御部１２０に電気的に接続されており、この制御部１２０により統括的に制御されている。
【００７５】
次に本実施形態に係るレジスト供給装置を作動させて配管内から泡の除去を行う場合の操作について説明する。
【００７６】
図７はレジスト供給装置に新たにレジスト液をインストールした場合や、フィルタ１０５内のフィルタモジュールを交換した場合など、レジスト供給装置を一旦停止させた後に再起動する場合の泡抜操作の手順を示したフローチャートである。
【００７７】
まず、レジストタンク１０１内に新たなレジスト液を充填したり、フィルタモジュールを交換するなど、必要な準備を整え、しかる後にレジスト供給装置を起動させる（ステップ１）。
【００７８】
レジスト供給装置の起動と同時に第１三方弁１１３を切り換えてベント配管１０８ａと廃液配管１１６との間を連通させる（ステップ２）。
【００７９】
次にベントバルブ１１１を開き、ベント配管１０８ａ内をレジスト液が流動できる状態にする（ステップ３）。
【００８０】
この状態で供給ポンプ１０４を作動させる（ステップ４）。
【００８１】
供給ポンプ１０４の作動によりレジスト液タンク１０１内のレジスト液が汲み上げられ、供給配管１０７ａ〜１０７ｄを経由してフィルタ１０５内に流入する（ステップ５）。
【００８２】
このとき吐出ポンプ１０６は作動していないので、フィルタ１０５内に流入したレジスト液はベント配管１０８ａ内に流入する。レジスト液の流入に伴い、供給配管１０７やフィルタ１０５、ベント配管１０８ａ内の空気が押し出されるため、廃液配管１１６には最初空気が流れ、やがて泡を多量に含んだレジスト液が流れ、泡の量は除序に減少し、最終的には泡を含まないレジスト液が流れ出す。この様子を肉眼、或いは配管中の泡の有無を監視する泡センサ（図示省略）を用いてモニタリングする（ステップ６）。
【００８３】
そして廃液配管１１６側に泡を含んだレジスト液が流れなくなった時点で第１三方弁１１３を切換え、ベント配管１０８ａ側とベント配管１０８ｂ側との間を連通させる（ステップ７）。
【００８４】
第１三方弁１１３の切換えにより、ベント配管１０８ａ側からベント配管１０８ｂ側にレジスト液が流れる。このレジスト液は十字分岐管１１０で再び供給配管１０７ｂ内に流れ込み、レジスト液タンク１０１から汲み上げられたレジスト液と合流してフィルタ１０５に向けて流れる。最初、ベント配管１０８ｂ内にも空気が残っているため、泡が形成され易い。そのため、暫くの間は供給配管１０７からフィルタ１０５、ベント配管１０８を経由して再び供給配管１０７内に戻るように循環させながら配管内の泡のモニタリングを継続し、泡が見られる場合には適宜第１三方弁１１６を切換えて配管内の泡抜きを行う。泡が見られなくなったらベントバルブ１１１を閉じて泡抜操作を終了する（ステップ８）。
【００８５】
次に、ウエハＷにレジスト液を吐出する通常運転時に配管内に泡の形成が確認された場合の泡抜操作について説明する。
【００８６】
図８はレジスト液供給装置の通常運転時に配管内の泡抜操作を行う場合の手順を示したフローチャートである。
【００８７】
通常運転時に配管内に泡の形成が認められた場合には、まずパージバルブ１１２を開いて、レジストノズル６０側へレジスト液が流れないようにする（ステップ１１，１２）。この操作により吐出ポンプ１０６からレジスト液はパージ配管１０９ａ側に流れるようになる。このパージバルブ１１２を開く操作と同時に第２三方弁１１４を切り換えてパージ配管１０９ａと廃液配管１１５との間を連通させる（ステップ１３）。
【００８８】
この状態で吐出ポンプ１０６を作動させて、泡を含んだレジスト液をパージ配管１０９ａ側から廃液配管１１５側に流出させる（ステップ１４）。
【００８９】
この廃液配管１１５側に流れ出てくるレジスト液の状態を肉眼或いは泡センサ（図示省略）にてモニタリングし、泡を含むレジスト液が泡を含まないレジスト液に切り換わるタイミングを図る（ステップ１６）。
【００９０】
泡を含まないレジスト液が出てくるようになったら、第２三方弁１１４を再び切り換えて、パージ配管１０９ａ側とパージ配管１０９ｂ側との間を連通させる（ステップ１７）。
【００９１】
こうして配管内の泡抜操作が完了したら、パージバルブ１１２を閉じて（ステップ１８）、吐出ポンプ１０６からレジストノズル６０側へレジスト液が流れるようにする。
【００９２】
以上詳述したように、本実施形態のレジスト液供給装置では、ベント配管１０８に第１三方弁１１３を配設し、この第１三方弁１１３を介して廃液配管１１６又は供給配管１０７を前記ベント配管１０８に選択的に接続してあるので、この第１三方弁１１３を適宜切り換えることにより供給配管１０７内の泡を含んだレジスト液のみを廃棄することができる。そのため、レジスト液の無駄な廃棄を殆どなくすことができる。
【００９３】
また、本実施形態のレジスト液供給装置では、パージ配管１０９に第２三方弁１１４を配設し、この第２三方弁１１４を介して廃液配管１１５又は供給配管１０７を前記パージ配管１０９に選択的に接続してあるので、この第２三方弁１１４を適宜切り換えることによりパージ配管１０９からでも泡抜きを行うことができる。そのため、泡を含んだレジスト液が再循環するのを防止できるので、レジスト液の吐出量を正確にコントロールすることができる。
【００９４】
なお、本発明は上記実施形態に記載した内容に限定されるものではない。
【００９５】
即ち、上記実施形態では、ベント配管とパージ配管の両方とも供給配管と連通させ、またベント配管とパージ配管の両方に三方弁を配設してベント配管、パージ配管のいずれからでも配管内に発生した泡について泡抜操作をできる構成としたが、ベント配管、パージ配管のどちらか一方のみに三方弁を配設し、その三方弁を切り換えることにより泡抜操作を行う構成としてもよい。
【００９６】
さらに、上記実施形態では、配管内に泡を含んだレジスト液が残っているかどうかの確認を肉眼で行う構成としたが、配管内を通過するレジスト液中に泡が含まれているか否かを検知する泡センサを用いてモニタリングを行い、泡センサの検出結果に基づいて三方弁の切換えを行うようにしても良い。
【００９７】
その場合、ベント配管内に泡センサを配設し、この泡センサでベント配管内に泡の存在が検知されたときにベント側三方弁を切り換えて泡を含んだレジスト液を廃液配管側に廃棄するように切換え、泡が検知されなくなった時点でベント側三方弁を切り換えて供給配管に合流させるように制御してベント配管内の泡を除去する。
【００９８】
一方、パージ配管側から泡抜きする場合には、パージ配管の途中に泡センサを配設し、この泡センサでパージ配管内に泡の存在が検知されたときにパージ側三方弁を切り換えて泡を含んだレジスト液を廃液配管側に廃棄するように切換え、泡が検知されなくなった時点でパージ側三方弁を切り換えて供給配管に合流させるように制御してパージ配管内の泡を除去する。
【００９９】
また、供給配管の途中にも泡センサを配設しておき、供給配管内で泡の発生が検出された場合にパージバルブを閉鎖し、泡を含んだレジスト液をパージ配管側に移動させた後、上記したように、パージ配管の泡センサの検出結果に基づいてパージ側三方弁を適宜切り換えて泡を含んだレジスト液を廃液配管に廃棄するようにしてもよい。
【０１００】
さらに、配管内の泡を含んだレジスト液を除去する方法として、レジスト液を新たにインストールした場合に、泡を含む可能性の高いレジスト供給開始直後に供給されるレジスト液の量を予め実験等で把握しておき、インストール後、所定量のレジスト液を廃棄するように設定し、最初に吐出される所定量のレジスト液については、これらは無条件に廃液されるように予め制御装置にプログラムしておく方法も可能である。
【０１０１】
また、上記実施形態ではウエハＷ用のレジスト塗布装置を例にして説明したが、本発明がその他の装置、例えば、液晶装置用ガラス基板のレジスト塗布装置や処理装置についても同様に適用できることはいうまでもない。
【０１０２】
（第２の実施形態）
次に本発明の第２の実施の形態について以下に説明する。なお、本実施形態のうち、上記第１の実施形態と重複する部分については説明を省略する。図９は、本実施形態に係る処理液供給装置の構成を模式的に示した図である。図９に示したように、この処理液供給装置では、レジスト容器１３０、ポンプ１４０、フィルタ１５０、吐出ノズル１６０がこの順番に配設されている。これらの間は供給配管１７０により繋がれ、レジスト容器１３０内のレジスト液がポンプ１４０、フィルタ１５０を経て吐出ノズル１６０に送られ、この吐出ノズル１６０からウエハＷに吐出されるようになっている。また、この処理液供給装置では、フィルタ１５０と、ポンプ１４０よりレジスト移動方向上流側の供給配管とがバイパス配管１８０で繋がれており、このバイパス配管の途中には廃液管１９０が分岐している。この廃液管１９０とバイパス配管１８０との接合部分には三方弁２００が配設されている。
【０１０３】
上記ポンプ１４０と三方弁２００とは制御部２１０に電気的に接続され、この制御部２１０によりポンプ１４０及び三方弁２００は統括的に制御されている。
【０１０４】
この処理液供給装置を運転する際には、上記ポンプ１４０と三方弁２００とを適切なタイミングで作動させることにより、配管１７０内から泡抜きを行う。
【０１０５】
例えば、装置の起動時やレジスト容器１３０内のレジスト液を交換して配管１７０内に空気が入り込んだ場合には、まず三方弁２００を廃液管１９０側に切り換え、ポンプ１４０を作動させてレジストの供給を開始する。レジスト容器は１３０から配管、ポンプ１４０、フィルタ１５０へ流れ込んで行くが、最初は泡が大半を占めている。この泡が多いうちは三方弁２００から廃液管１９０側にレジストを流して廃棄する。暫くして泡がなくなれば三方弁２００を切り換えてレジストがフィルタ１５０からポンプ１４０の上流側の配管内に流れるようにする。
【０１０６】
このように三方弁２００を適宜切り換えることによりフィルタ１５０内に溜まった泡を効率良く泡抜きすることができる。
【０１０７】
なお、本実施形態の変形例として、図１０に示したようにポンプ１４０とレジスト容器１３０との間にフィルタ１５０を配設し、ポンプ１４０とフィルタ１５０の上流側の供給配管との間をバイパス配管１８０で繋ぎ、このバイパス配管１８０に三方弁２００を介して廃液管１９０を繋いでもよい。
【０１０８】
さらに、図１１に示したように、フィルタ１５０及びポンプ１４０の双方に別々のバイパス配管を繋いでフィルタ１５０及びポンプ１４０より上流側の供給配管に繋ぎ、それぞれのバイパス配管に三方弁を介して廃液管を繋ぐ構成としてもよい。このような構成にすることにより、フィルタ１５０、ポンプ１４０のそれぞれに溜まった泡を効率よく泡抜きすることができる。
【０１０９】
（第３の実施形態）
図１２は本発明の第３の実施形態による処理液供給装置を示した模式図である。なお、この処理液供給装置３０において、上記第１及び第２の実施形態と同じ構成要素については同じ符号を付すものとする。
【０１１０】
フィルタ１０５と分岐管１１０との間に配設されたベント配管７１、及び吐出ポンプ１０６と分岐管１１０との間に配設されたパージ配管７２からそれぞれ分岐し、それらが合流して戻し配管２７が配設されており、この戻し配管２７の下流部はレジストタンク１０１に繋がっている。このベント配管７１には、フィルタ１０５に対して、分岐管１１０又は戻し配管２７との間を連通させるベント側三方弁３５が配設されており、また、パージ配管７２にも同様に、吐出ポンプ１０６に対して、分岐管１１０又は戻し配管２７との間を連通させるパージ側三方弁３６が配設されている。ベント側三方弁３５はフィルタ１０５の上方に、パージ側三方弁３６は吐出ポンプ１０６の上方にそれぞれ配置され、フィルタ１０５や吐出ポンプ１０６に混入している泡を効率よく戻し配管２７側に流すことができる。なお、戻し配管２７は、それぞれベント側三方弁３５及びパージ側三方弁３６から合流して一つの配管としたが、もちろん合流させないで２つの配管としてもよい。
【０１１１】
ベント側三方弁３５と分岐管１１０との間には、ベント側三方弁３５と分岐管１１０とを連通させ、又はベント側三方弁３５と廃液管４３とを連通させ、又は分岐管１１０と廃液管４３とを連通させるベント側切換弁４１が配設されている。パージ側も同様に、パージ側三方弁３６と分岐管１１０との間には、パージ側三方弁３６と分岐管１１０とを連通させ、又はパージ側三方弁３６と廃液管４４とを連通させ、又は分岐管１１０と廃液管４４とを連通させるパージ側切換弁４２が配設されている。また、フィルタ１０５とベント側三方弁３５との間には、供給配管１０７からベント配管上流部７１ａを通る泡の存在を検知する手段としてのベント側センサ３３が設けられており、パージ側も同様に、供給配管１０７からパージ配管上流部７２ａを通る泡の存在を検知する手段としてのパージ側センサ３４が設けられている。
【０１１２】
これらベント側センサ３３の上流側及びパージ側センサ３４の上流側には、各センサ３３、３４により効率よく泡を検知するために、配管を微小振動させて多数の微小な泡どうしを集合させるためのベント側振動子３１及びパージ側振動子３１及びパージ側振動子３２がそれぞれ設けられている。
【０１１３】
また、供給配管１０７ｆにはレジストノズル６０へ向うレジストの供給を停止させる供給管バルブ５７が配設されている。
【０１１４】
さらに分岐管１１０には、分岐管１１０内、供給配管１０７内、ベント配管７１内、パージ配管７２内の処理液を除去する処理液除去手段としての窒素ガスボンベ５６がバルブ５８を介して配設されている。
【０１１５】
また、各三方弁３５及び３６、各切換弁４１及び４２、各センサ３３及び３４、各振動子３１及び３２、またリキッドエンドセンサ１０３の廃液管に設けられたドレインバルブ３８の開閉及び供給管バルブ５７の開閉を統括的に制御する制御部４５が設けられている。
【０１１６】
次に図１３に示すフローチャートを用いて、作動中の処理液供給装置３０を一旦停止させた後に再起動した際（通常運転時）における配管１０７内の泡抜きの方法について説明する。
【０１１７】
まず、この処理液供給装置３０が作動しているときには、制御部４５の指令によりベント側切換弁４１は常にベント側三方弁３５と分岐管１１０とを連通させた状態にある。ベント側三方弁３５からベント側センサ３３までの配管の長さ及び単位時間当たりのベント配管７１を流れる処理液の量は設定値であるので、ベント側センサ３３により検知された泡がベント側三方弁３５に達するまでの時間Ｔ１が予め設定されている。なお、配管内にばらばらに存在する泡をできるだけ集合させるためにベント側振動子３１を微小振動させておく。
【０１１８】
ベント側センサ３３によりある程度まとまった量の泡の最初の泡が検知される（Ｓ２）と、制御部４５の指令により供給管バルブ５７は閉とされ、上記所定時間Ｔ１経過後に、ベント側三方弁３５が戻し配管２７側に接続される（Ｓ３）。そしてベント側センサ３３が上記最初の泡を検知し始めてから、ある程度まとまった多数の泡の最後の泡を検知するまでの時間ΔＴを制御部４５が記憶する。そして最後の泡を検知してから（Ｓ４）一定時間、例えば時間Ｔ２を予め設定しておき、この時間Ｔ２経過後に供給管バルブ５７が開となる（Ｓ５）。そしてベント側三方弁３５が戻し配管２７に接続されてから時間ΔＴ＋Ｔ２だけ経過後にベント側三方弁３５が分岐管１１０側に接続される（Ｓ６）。これにより、泡が混入した処理液は廃棄されることなく、全て戻し配管２７によりレジストタンク１０１に戻され、他方、泡が混入されていない処理液は全てベント配管７１から分岐管１１０を経由して再び供給配管１０７に戻される。これにより処理液の無駄な廃棄を防止することかできる。なお、これら一連の動作は制御部４５により全自動で制御される。
【０１１９】
以上説明した泡抜き方法は、ベント配管７１側とパージ配管７２側とにおいて同じ作用をするので、パージ配管７２側についての説明を省略する。
【０１２０】
次に、作動中の処理液供給装置３０を停止させた後（ウエハに対しての塗布処理を終了させて処理液供給装置３０を停止させた後）に、配管内をシンナで洗浄する場合について説明する。なお、ベント配管７１側とパージ配管７２側は同じ作用をするので、ベント配管７１側だけについて説明する。
【０１２１】
まず、レジストタンク１０１と供給配管１０７との接続を切り離し、リキッドエンドセンサ１０３のドレインバルブ３８を開とする。そしてベント側切換弁４１（パージ側切換弁４２）により、分岐管１１０側と廃液管４３（４４）とを連通させた後、窒素ガスボンベ５６のバルブ５８を開としてガスの勢いにより供給配管１０７ａ、１０７ｂ内、分岐管１１０内、ベント配管７１ｂ（パージ配管７２ｂ）内に残存する処理液を各廃液管３９、４３（４４）より廃棄する。
【０１２２】
次にリキッドエンドセンサ１０３のドレインバルブ３８を閉とし、ベント側切換弁４１（パージ側切換弁４２）により、ベント側三方弁３５（パージ側三方弁３６）と廃液管４３とを連通させ、また、ベント側三方弁３５（パージ側三方弁３６）を分岐管１１０側に切り換えて、供給ポンプ１０４及び吐出ポンプ１０６を作動させる。このとき窒素ガスは噴出させたままである。これにより、供給配管１０７内、ベント配管７１ａ（パージ配管７２ａ）内に残存する処理液を廃液管４３（４４）より廃棄する。
【０１２３】
その後、シンナが入ったタンク（図示せず）を供給配管１０７に接続して、リキッドエンドセンサ１０３、ドレインバルブ３８を閉とし、ベント側切換弁４１（パージ側切換弁４２）により、分岐管１１０と廃液管４３（４４）とを連通させ、またベント側三方弁３５（パージ側三方弁３６）を戻し配管２７側に切り換えて、各ポンプ１０４及び１０６の作動、かつ窒素ガスボンベ５６のガスの勢いにより供給配管１０７内、分岐管１１０内、ベント配管７１ｂ（パージ配管７２ｂ）内にシンナを流入させながらこのシンナを廃液管４３（４４）より廃棄して乾燥させる。
【０１２４】
次にベント側切換弁４１により、ベント側三方弁３５と廃液管４３とを連通させ、また、ベント側三方弁３５を分岐管１１０側に接続して、供給配管１０７内、ベント配管７１ａ内にシンナを流入させながらこのシンナを廃液管４３（４４）より廃棄して乾燥させる。
【０１２５】
そして最後にベント側三方弁３５（パージ側三方弁３６）を戻し配管２７側に接続して、供給配管１０７内、戻し配管２７内にシンナをシンナタンクに戻して乾燥させる。これら一連の動作は制御部４５により全自動で制御される。
【０１２６】
これにより、全配管を全自動でシンナにより洗浄、窒素ガスにより乾燥させることができるので、使用済みの処理液は完全に除去される。従って、後述する新たなレジストをインストールする場合において、使用済み処理液と新たな処理液が混同してしまうおそれはない。
【０１２７】
次に、各配管内をシンナ洗浄した後に新たなレジスト（処理液）をこの処理液供給装置３０の配管内に充填する場合について説明する。この場合もシンナ洗浄の場合と同様に処理液供給装置３０の作動はさせていない（ウエハに対しての塗布処理を行なっていない）。なお、ベント配管７１側とパージ配管７２側は同じ作用をするのでベント配管７１側だけについて説明する。
【０１２８】
まず、新しいレジストタンクを供給配管１０７に接続して、リキッドエンドセンサ１０３のドレインバルブ３８を閉とし、また供給管バルブ５７を開として、各ポンプ１０４，１０６の作動により供給配管１０７に処理液を注入する。そしてベント側三方弁３５（パージ側三方弁３６）、ベント側切換弁４１（パージ側切換弁４２）を適宜切り換えて、ベント配管７１、パージ配管７２、戻し配管２７の各配管に処理液を充填する。
【０１２９】
このように新しいレジストを充填した後の各配管内の泡の量は、上述した通常運転時の泡の量よりも多いため、マニュアル操作で泡抜きを行なう。
【０１３０】
泡抜きを行なう際には、各ポンプ１０４、１０６を作動させたまま供給管バルブ５７を閉とし、ベント側切換弁４１（パージ側切換弁４２）により、ベント側三方弁３５（パージ側三方弁３６）と分岐管１１０とを連通させ、供給配管１０７ｂ〜１０７ｅからベント配管７１（パージ配管７２）、分岐管１１０を経由して再び供給配管１０７ｂ〜１０７ｅに処理液を戻すように循環させながら、ベント側センサ３３（パージ側センサ３４）によって、処理液中の泡の存在を確認する。このときベント側振動子３１（パージ側振動子３２）の使用は任意である。そして泡が検知されたならば、ベント側切換弁４１（パージ側切換弁４２）を廃液管４３（４４）に切り換えて泡が混入した処理液を廃棄する。戻し配管２７については、装置３０を作動させた後においても、泡が混入しているので泡抜きを行なう必要はない。すなわち、戻し配管２７は上述したように、泡が混入した処理液のみをレジストタンク１０１に戻すための配管だからである。
【０１３１】
その後、供給管バルブ５７を開として処理液供給装置３０を起動させ、ウエハに塗布処理を開始する。そして上述した通常運転時と同様なシーケンスで泡抜き操作が行なわれる。
【０１３２】
なお、以上の第３の実施形態は、通常運転時及び配管内をシンナで洗浄する場合、全てマニュアル操作で泡抜きを行なうようにしてもよい。
【０１３３】
本発明によれば、前記容器と前記ポンプとの間の配管に分岐管を設ける一方、前記分岐管と前記ポンプとを結ぶバイパス配管に三方弁を配設し、この三方弁を切り換えることにより配管内の泡抜きを行う構成としたので、無駄に処理液を廃棄することがない。
【０１３４】
また本発明によれば、供給配管からフィルタ、フィルタからベント配管を経由して再び供給配管へ戻る循環路を形成し、このベント配管にベント側三方弁を配設してこのベント側三方弁を切り換えることにより配管内の泡抜操作を行う構成にしたので、泡を含まない処理液を廃棄することがなくなり、無駄に処理液を廃棄することが防止できる。
【０１３５】
さらに本発明によれば、供給配管から吐出ポンプ、吐出ポンプからパージ配管を経由して再び供給配管へ戻る循環路を形成し、このパージ配管にパージ側三方弁を配設してこのパージ側三方弁を切り換えることにより配管内の泡抜操作を行う構成にしたので、泡を含まない処理液を廃棄することがなくなり、無駄に処理液を廃棄することが防止できる。
【０１３６】
さらにまた本発明によれば、供給配管からフィルタ、フィルタからベント配管を経由して再び供給配管へ戻る循環路を形成し、このベント配管にベント側三方弁を配設する一方、供給配管から吐出ポンプ、吐出ポンプからパージ配管を経由して再び供給配管へ戻る循環路を形成し、このパージ配管にパージ側三方弁を配設し、上記ベント側三方弁及びパージ側三方弁を切り換えることにより配管内の泡抜操作を行う構成としたので、ベント側、パージ側のどちらからでも泡抜操作を行うことができる。そのため、処理液のインストール時やフィルタの交換時のみならず、通常運転時でも適宜泡抜操作を行うことができる。
【０１３７】
また本発明によれば、通常運転時において、供給配管内の泡が混入した処理液は廃棄されることなく、全て戻し配管により処理液供給源に戻され、他方、泡が混入されていない処理液は全てパージ配管から分岐管を経由して再び供給配管に戻される。これにより処理液の無駄な廃棄を防止することができる。
【０１３８】
以上説明した実施形態は、あくまでも本発明のの技術的内容を明らかにする意図のものにおいて、本発明はそうした具体例にのみ限定して狭義に解釈されるものではなく、本発明の技術的思想と同じ技術的思想に基づく範囲において、各種変形例が可能である。
【０１３９】
【発明の効果】
本発明によれば、前記容器と前記ポンプとの間の配管に分岐管を設ける一方、前記分岐管と前記ポンプとを結ぶバイパス配管に三方弁を配設し、この三方弁を切り換えることにより配管内の泡抜きを行う構成としたので、無駄に処理液を廃棄することが防止される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係るレジスト塗布ユニットを備えた塗布現像処理システムの平面図である。
【図２】本発明の実施形態に係るレジスト塗布ユニットを備えた塗布現像処理システムの正面図である。
【図３】本発明の実施形態に係るレジスト塗布ユニットを備えた塗布現像処理システムの背面図である。
【図４】本実施形態に係るレジスト塗布ユニットの概略断面図である。
【図５】本実施形態に係るレジスト塗布ユニットの概略平面図である。
【図６】本実施形態に係るレジスト塗布ユニットのレジスト供給系の模式図である。
【図７】本実施形態に係るレジスト供給装置を一旦停止後再起動する場合の泡抜操作のフローチャートである。
【図８】本実施形態に係るレジスト液供給装置の通常運転時に行う泡抜操作のフローチャートである。
【図９】本発明の第２の実施形態に係るレジスト液供給装置の構成を模式的に示した図である。
【図１０】本発明の第２の実施形態の変形例に係るレジスト液供給装置の模式図である。
【図１１】本発明の第２の実施形態の変形例に係るレジスト液供給装置の模式図である。
【図１２】本発明の第３の実施形態による処理液供給装置を示した模式図である。
【図１３】本発明の第３の実施形態に係るレジスト供給装置を一旦停止後再起動する場合の泡抜操作のフローチャートである。
【図１４】従来のレジスト塗布ユニットのレジスト供給系の模式図である。
【符号の簡単な説明】
Ｗ………ウエハ（被処理基板）、
６０………レジストノズル（吐出手段）、
１０１………レジスト液タンク（容器）、
１０７………供給配管、
１０４………供給ポンプ（ポンプ）、
１０６………吐出ポンプ（ポンプ）、
１２０………制御部（制御手段）、
１１０………十字分岐管（分岐管）、
１０８………ベント配管（バイパス配管）、
１０９………パージ配管（バイパス配管）、
１１３………第１三方弁（三方弁）、
１１４………第２三方弁（三方弁）、
１０５………フィルタ。
Claims (17)
- 被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、
前記処理液を収容する処理液供給源と、
前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、
前記供給配管に配設されたポンプと、
前記ポンプの作動を制御する手段と、
前記処理液供給源と前記ポンプとの間の配管に配設された分岐管と、
前記分岐管と前記ポンプとを結ぶバイパス配管と、
前記バイパス配管から分岐する廃液管と、
前記バイパス配管に配設され、前記ポンプに対して前記分岐管又は前記廃液管との間を連通させる三方弁と、
前記三方弁を切り換える手段と、
を具備する処理液供給装置。 - 被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、
前記処理液を収容する処理液供給源と、
前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、
前記供給配管に配設された吐出ポンプと、
前記吐出ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された供給ポンプと、
前記吐出ポンプ及び供給ポンプの作動を制御する手段と、
前記吐出ポンプと前記供給ポンプとの間の供給配管に配設されたフィルタと、
前記供給ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された分岐管と、
前記フィルタと前記分岐管との間を結ぶベント配管と、
前記ベント配管から分岐する廃液管と、
前記ベント配管に配設され、前記フィルタに対して前記分岐管又は前記廃液管との間を連通させるベント側三方弁と、
前記ベント側三方弁を切り換える手段と、
を具備する処理液供給装置。 - 被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、
前記処理液を収容する処理液供給源と、
前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、
前記供給配管に配設された吐出ポンプと、
前記吐出ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された供給ポンプと、
前記吐出ポンプ及び供給ポンプの作動を制御する手段と、
前記吐出ポンプと前記供給ポンプとの間の供給配管に配設されたフィルタと、
前記供給ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された分岐管と、
前記吐出ポンプと前記分岐管との間を結ぶパージ配管と、
前記パージ配管から分岐する廃液管と、
前記パージ配管に配設され、前記吐出ポンプに対して前記分岐管又は前記廃液管との間を連通させるパージ側三方弁と、
前記パージ側三方弁を切り換える手段と、
を具備する処理液供給装置。 - 被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、
前記処理液を収容する処理液供給源と、
前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、
前記供給配管に配設された吐出ポンプと、
前記吐出ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された供給ポンプと、
前記吐出ポンプ及び供給ポンプの作動を制御する手段と、
前記吐出ポンプと前記供給ポンプとの間の供給配管に配設されたフィルタと、
前記供給ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された分岐管と、
前記フィルタと前記分岐管との間を結ぶベント配管と、
前記ベント配管から分岐する第１の廃液管と、
前記ベント配管に配設され、前記フィルタに対して前記分岐管又は前記第１の廃液管との間を連通させる第１三方弁と、
前記第１三方弁を切り換える手段と、
前記吐出ポンプと前記分岐管との間を結ぶパージ配管と、
前記パージ配管から分岐する第２の廃液管と、
前記パージ配管に配設され、前記吐出ポンプに対して前記分岐管又は前記第２の廃液管との間を連通させる第２三方弁と、
前記第２三方弁を切り換える手段と、
を具備する処理液供給装置。 - 被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、
前記処理液を収容する処理液供給源と、
前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、
前記処理液供給源から吐出手段に処理液を供給するポンプと、
前記ポンプと吐出手段との間の供給配管に介挿されるフィルタと、
前記フィルタと、前記ポンプの上流側の供給配管とを結ぶバイパス配管と、
前記バイパス配管から分岐する廃液管と、
前記バイパス配管内の処理液を、前記ポンプ上流側と前記廃液管とに切り換える切換弁と、
を具備する処理液供給装置。 - 請求項５記載の処理液供給装置であって、前記ポンプ及び切換弁の作動タイミングを制御する制御部をさらに具備する処理液供給装置。
- 被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、
前記処理液を収容する処理液供給源と、
前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、
前記処理液供給源から吐出手段に処理液を供給するポンプと、
前記処理液供給源とポンプとの間の供給配管に介挿されるフィルタと、
前記ポンプと前記フィルタの上流側の供給配管とを結ぶバイパス配管と、
前記バイパス配管から分岐する廃液管と、
前記バイパス配管内の処理液を、前記フィルタ上流側と前記廃液管とに切り換える切換弁と、
を具備する処理液供給装置。 - 請求項７記載の処理液供給装置であって、前記ポンプ及び切換弁の作動タイミングを制御する制御部をさらに具備する処理液供給装置。
- 被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、
前記処理液を収容する処理液供給源と、
前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、
前記処理液供給源から吐出手段に処理液を供給するポンプと、
前記処理液供給源とポンプとの間の供給配管に介挿されるフィルタと、
前記フィルタと、前記ポンプの上流側の供給配管とを結ぶ第１のバイパス配管と、
前記第１のバイパス配管から分岐する第１の廃液管と、
前記第１のバイパス配管内の処理液を、前記ポンプ上流側と前記第１の廃液管とに切り換える第１の切換弁と、
前記ポンプと前記フィルタの上流側の供給配管とを結ぶ第２のバイパス配管と、
前記第２のバイパス配管から分岐する第２の廃液管と、
前記第２のバイパス配管内の処理液を、前記フィルタ上流側と前記第２の廃液管とに切り換える第２の切換弁と、
を具備する処理液供給装置。 - 請求項９記載の処理液供給装置であって、前記ポンプ、第１の切換弁、及び第２の切換弁の作動タイミングを制御する制御部をさらに具備する処理液供給装置。
- 被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、
前記処理液を収容する処理液供給源と、
前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、
前記供給配管に配設されたポンプと、
前記ポンプの作動を制御する手段と、
前記処理液供給源と前記ポンプとの間の供給配管に配設された分岐管と、
前記ポンプと前記分岐管とを結ぶバイパス配管と、
前記バイパス配管から分岐して前記処理液供給源までの間を結ぶ戻し配管と、
前記バイパス配管に配設され、前記ポンプに対して前記バイパス配管又は前記戻し配管との間を連通させる第１の三方弁と、
前記第１の三方弁を切り換える手段と、
前記第１の三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記バイパス配管から分岐する廃液管と、
前記第１の三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記第１の三方弁に対して前記バイパス配管又は前記廃液管との間を連通させる第２の三方弁と、
前記第２の三方弁を切り換える手段と、
を具備する処理液供給装置。 - 被処理基板に処理液を吐出する吐出手段と、
前記処理液を収容する処理液供給源と、
前記吐出手段と前記処理液供給源とを結ぶ供給配管と、
前記供給配管に配設された吐出ポンプと、
前記吐出ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された供給ポンプと、
前記吐出ポンプ及び供給ポンプの作動を制御する手段と、
前記吐出ポンプと前記供給ポンプとの間の供給配管に配設されたフィルタと、
前記供給ポンプと前記処理液供給源との間の供給配管に配設された分岐管と、
前記フィルタと前記分岐管との間を結ぶベント配管と、
前記吐出ポンプと前記分岐管との間を結ぶパージ配管と、
前記ベント配管及び前記パージ配管からそれぞれ分岐して前記処理液供給源までの間を結ぶ戻し配管と、
前記ベント配管に配設され、前記フィルタに対して前記分岐管又は前記戻し配管との間を連通させるベント側三方弁と、
前記ベント側三方弁を切り換える手段と、
前記パージ配管に配設され、前記吐出ポンプに対して前記分岐管又は戻し配管との間を連通させるパージ側三方弁と、
前記パージ側三方弁を切り換える手段と、
前記ベント側三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記ベント管から分岐する第１の廃液管と、
前記ベント配管に配設され、前記ベント側三方弁と前記分岐管とを連通させ、又は前記ベント側三方弁と前記第１の廃液管とを連通させ、又は前記分岐管と前記第１の廃液管とを連通させるベント側切換弁と、
前記ベント側切換弁を切り換える手段と、
前記パージ側三方弁と前記分岐管との間に配設され、前記パージ配管から分岐する第２の廃液管と、
前記パージ配管に配設され、前記パージ側三方弁と前記分岐管とを連通させ、又は前記パージ側三方弁と前記第２の廃液管とを連通させ、又は前記分岐管と前記第２の廃液管とを連通させるパージ側切換弁と、
前記パージ側切換弁を切り換える手段と、
前記分岐管に配設され、前記分岐管内、前記供給配管内、前記ベント配管内、前記パージ配管内の処理液を除去する処理液除去手段と、
を具備する処理液供給装置。 - 請求項１１又は１２に記載の処理液供給装置であって、前記フィルタと前記ベント側三方弁との間に配設され、ベント側の泡を検知する手段をさらに具備することを特徴とする処理液供給装置。
- 請求項１１又は１２に記載の処理液供給装置であって、前記吐出ポンプと前記パージ側三方弁との間に配設され、パージ側の泡を検知する手段をさらに具備することを特徴とする処理液供給装置。
- 請求項１４に記載の処理液供給装置であって、前記ベント側泡検出手段及び前記パージ側泡検出手段による前記ベント配管内及び前記パージ配管内に存在する泡の検知に基づいて、所定のタイミングで前記ベント側三方弁、前記パージ側三方弁、前記ベント側切換弁、前記パージ側切換弁をそれぞれ切り換える制御手段をさらに具備することを特徴とする処理液供給装置。
- 請求項１４に記載の処理液供給装置であって、前記フィルタと前記ベント側泡検知手段との間に配設されたベント側振動子をさらに具備することを特徴とする処理液供給装置。
- 請求項１４に記載の処理液供給装置であって、前記吐出ポンプと前記パージ側泡検出手段との間に配設されたパージ側振動子をさらに具備することを特徴とする処理液供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000191453A JP3583058B2 (ja) | 1999-07-02 | 2000-06-26 | 処理液供給装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11-189008 | 1999-07-02 | ||
| JP18900899 | 1999-07-02 | ||
| JP2000191453A JP3583058B2 (ja) | 1999-07-02 | 2000-06-26 | 処理液供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001077015A JP2001077015A (ja) | 2001-03-23 |
| JP3583058B2 true JP3583058B2 (ja) | 2004-10-27 |
Family
ID=26505264
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000191453A Expired - Fee Related JP3583058B2 (ja) | 1999-07-02 | 2000-06-26 | 処理液供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3583058B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4024639B2 (ja) * | 2002-10-16 | 2007-12-19 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 薬液ポンプ、配管システム、基板処理ユニット、基板処理装置、薬液吐出方法、配液方法および基板処理方法 |
| JP4533699B2 (ja) * | 2004-08-16 | 2010-09-01 | シーケーディ株式会社 | 液圧制御装置 |
| JP4776429B2 (ja) * | 2006-05-11 | 2011-09-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給システム、処理液供給方法、処理液供給プログラム及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
| JP4344381B2 (ja) * | 2006-12-27 | 2009-10-14 | 中外炉工業株式会社 | 塗工液供給装置 |
| JP5236418B2 (ja) * | 2008-10-08 | 2013-07-17 | 信越化学工業株式会社 | 洗浄方法および洗浄液供給装置 |
| JP4879253B2 (ja) * | 2008-12-04 | 2012-02-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置 |
| JP2014022578A (ja) * | 2012-07-19 | 2014-02-03 | Tokyo Electron Ltd | 処理液供給装置及び処理液供給方法 |
| JP5453561B1 (ja) * | 2012-12-20 | 2014-03-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置、液処理方法及び液処理用記憶媒体 |
| JP5367188B2 (ja) * | 2013-02-25 | 2013-12-11 | 信越化学工業株式会社 | 洗浄方法および洗浄液供給装置 |
| JP6020405B2 (ja) | 2013-10-02 | 2016-11-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置及び処理液供給方法 |
| JP6020416B2 (ja) | 2013-11-01 | 2016-11-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置及び処理液供給方法 |
| JP6987649B2 (ja) * | 2018-01-12 | 2022-01-05 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 処理液供給装置及びその脱気方法 |
| JP7164426B2 (ja) * | 2018-12-25 | 2022-11-01 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置およびフィルタの気泡抜き方法 |
| JP7274356B2 (ja) * | 2019-06-11 | 2023-05-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 |
-
2000
- 2000-06-26 JP JP2000191453A patent/JP3583058B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001077015A (ja) | 2001-03-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6238109B1 (en) | Processing solution supply apparatus | |
| JP3583058B2 (ja) | 処理液供給装置 | |
| JP3333121B2 (ja) | 塗布装置 | |
| US7472713B2 (en) | Substrate processing apparatus | |
| US6589359B2 (en) | Cleaning method and cleaning apparatus for substrate | |
| KR100556012B1 (ko) | 현상처리방법 및 현상처리장치 | |
| US20170200624A1 (en) | Substrate processing apparatus and method of cleaning substrate processing apparatus | |
| TW200302519A (en) | Processing apparatus and substrate processing method | |
| KR20030038425A (ko) | 기판처리장치 및 기판처리방법 | |
| JP4083682B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
| JP2004321971A (ja) | 洗浄装置および基板処理装置 | |
| JP3686822B2 (ja) | 現像処理装置および現像処理方法 | |
| KR19980024246A (ko) | 타겟 처리 기판용 처리 장치 | |
| JP4173349B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
| KR101023750B1 (ko) | 유체 흐름 개폐 유닛 및 이를 이용한 기판 처리 장치. | |
| JP2001319869A (ja) | 現像処理装置および現像処理方法 | |
| JP3892687B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
| JP2003197718A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
| KR20130015639A (ko) | 약액공급유닛 | |
| JP4353628B2 (ja) | 塗布装置 | |
| JP3576835B2 (ja) | 薬液供給システムおよび基板処理システム、ならびに液処理方法 | |
| JP3623284B2 (ja) | 洗浄処理装置およびその制御方法 | |
| US6119709A (en) | Feeding apparatus and replenishing method of processing solution | |
| JPH07106240A (ja) | 基板端縁処理装置 | |
| JP2000114152A (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040226 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040302 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040419 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040727 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040727 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3583058 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100806 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100806 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130806 Year of fee payment: 9 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |