JP4296644B2 - 発光ダイオード - Google Patents
発光ダイオード Download PDFInfo
- Publication number
- JP4296644B2 JP4296644B2 JP22460899A JP22460899A JP4296644B2 JP 4296644 B2 JP4296644 B2 JP 4296644B2 JP 22460899 A JP22460899 A JP 22460899A JP 22460899 A JP22460899 A JP 22460899A JP 4296644 B2 JP4296644 B2 JP 4296644B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flip chip
- submount
- light emitting
- emitting diode
- center
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 51
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 49
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 68
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 28
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 28
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 21
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 9
- -1 gallium nitride compound Chemical class 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 5
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 5
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910021478 group 5 element Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 3
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N gallium phosphide Chemical compound [Ga]#P HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/36—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
- H01L33/38—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes with a particular shape
- H01L33/385—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes with a particular shape the electrode extending at least partially onto a side surface of the semiconductor body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
- H01L23/62—Protection against overvoltage, e.g. fuses, shunts
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/05001—Internal layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05575—Plural external layers
- H01L2224/0558—Plural external layers being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16135—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/16145—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/17—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of a plurality of bump connectors
- H01L2224/1701—Structure
- H01L2224/1703—Bump connectors having different sizes, e.g. different diameters, heights or widths
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48257—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a die pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/16—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
- H01L25/167—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits comprising optoelectronic devices, e.g. LED, photodiodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/102—Material of the semiconductor or solid state bodies
- H01L2924/1025—Semiconducting materials
- H01L2924/10251—Elemental semiconductors, i.e. Group IV
- H01L2924/10253—Silicon [Si]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
- Led Devices (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、活性層の発光面の大きなフリップチップを用いた発光ダイオードの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
図12、図13に示す従来のフリップチップ型半導体発光素子を用いた発光ダイオード5について説明する。図13は、従来のフリップチップ型半導体発光素子100(以下、フリップチップ100と記載する。)を用いた発光ダイオード5の外観及び、構造を模式的に表す縦断面図である。発光素子部材570は基台であるサブマウント520と、その上に配置したフリップチップ100とから成る。
【0003】
リードフレーム50はメタルポスト51とメタルステム53とから成り、発光素子部材570に電圧を印加するためのものである。メタルステム53は、反射部材55と、発光素子部材570を戴置する平坦部54とで構成されている。樹脂モールド40は、発光素子部材570を包囲している。発光素子部材570の裏面527は、メタルステム53に銀ペースト等で接着され電気的に接続されている。サブマウント520上の露出部分528に形成された電極521は他端子であるメタルポスト51と金線57によるワイヤボンデングにより接続されている。発光素子部材570は、樹脂モールド40でモールドされている。
【0004】
このフリップチップ100により発せられた光は、上面の正電極により光が反射され、光を透過する裏面のサファイア基板面から外部に出力される。従って、本フリップチップ100の上面を下向きにし、サブマウント520にフェイスダウンにより接続している。
【0005】
次に、基台であるサブマウント520について説明する。図12は、サブマウント520の平面図(a)、サブマウント520にフリップチップ100を配置した平面図(b)及び、断面図(c)である。
【0006】
サブマウント520は、例えば、導電性の半導体基板で構成され、上面はフリップチップ100の正電極と接続するためのAuよりなるマイクロバンプ533を溶着させる部分523を除いて、SiO2からなる絶縁膜524により覆われている。絶縁皮膜524上にはアルミ蒸着による負電極521が形成されている。負電極521上には、メタルポスト51とワイヤボンディングするためのパット形成領域と、フリップチップ100の負電極と接続するためのAuよりなるマイクロバンプ531を溶着させる領域とが存在する。
【0007】
従来、ワイヤボンディングするためには、少なくとも、直径100μm以上の円形状又は、1辺が100μm以上の正方形のボンディングパット形成領域が必要である。サブマウント520上の露出部分528に、この様なボンディングパットのための電極521をとり、矩形のサブマウント520に対して、正方形のフリップチップ100を配置するためには、図12(b)に示すように、片側に寄せて配置しなければならない。即ち、一定面積以上の露出部分528が必要なために、フリップチップ100の中心P2と、サブマウント520の中心P501、および、フリップチップ100の中心軸(図1に示す破線B−B)とサブマウント520中心軸(図12に示す破線A−A)とを一致させて配置することができない。さらに、発光素子部材570をそれと略同一面積の平坦部54に戴置すると、必然的に、パラボラの反射部材55の中心軸(図13に示す破線D−D)と、サブマウント520の中心軸A−Aとが一致することになる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、フリップチップ100への取り付け電極への配線の為に、サブマウント520上に、ボンディングパットとなる電極521を形成するための露出部分528が必要となるため、長方形のサブマウント520が用いられている。又、フリップチップ100は、サブマウント520上で偏って配置され、リードフレーム50の反射部材55の中心軸とフリップチップ100中心軸がずれている。このため、配光がランプの上下左右で均一ではないという問題が有った。さらに、リードフレーム50の平坦部54の面が小さく、スペースがとれないため、必然的にサブマウント520の面積も小さくならざるを得ない。このため、矩形のサブマウント520の中心軸とフリップチップ100の中心軸を一致させて配置し、取り付け電極形成のための露出部分を確保すると、フリップチップ100自身が小さくなってしまい、必要な輝度を確保できなくなるという問題が有った。
【0009】
したがって、本発明の目的は、フリップチップ100による配光を上下左右で均一にすることである。又、他の目的は、サブマウント520の電気的接続のための電極に必要な面積を確保しつつ、フリップチップ100の面積を最大限に大きくすることにより、高輝度を確保することである。即ち、フリップチップ100の光軸をランプの中心軸に一致させて、且つ、フリップチップ10の面積を最大限に確保できるようにすることである。又、他の目的は、発光ダイオード5全体の小型化を図り、製造工程においても簡略化し、さらに、発光ダイオード5の耐久性の向上を図ることである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決する第1の手段は、フリップチップ型半導体発光素子であるフリップチップを用いた発光ダイオードにおいて、正方形のフリップチップと、フリップチップを設置する正方形のサブマウントと、フリップチップの中心を通る中心軸と、サブマウントの中心を通る中心軸とをそれぞれ一致させ重ね合わせて、重ね合わせた中心を中心にして、フリップチップの中心軸をサブマウントの中心軸に対して、45度回転させて、サブマウントの上面露出領域が三角形状となるように、フリップチップをサブマウント上に設置させ、サブマウントの上面露出領域に、フリップチップに対する2つの取り出し電極が形成されていることを特徴とする。
【0011】
【0012】
サブマウントは半導体基板であって、半導体基板の中に過電圧防止のためのダイオードが形成されていても良い。
【0013】
第2の手段は、サブマウントは半導体基板から構成され、上面露出領域下の半導体基板に過電圧防止のためのダイオードが形成されていることを特徴とする。
また、第3の手段は、サブマウントは半導体基板から構成され、上面露出領域下であって、ワイヤボンディングされない位置の半導体基板に過電圧防止のためのダイオードが形成されていることを特徴とする。
【0014】
また、第4の手段は、サブマウントは、光を反射するリードフレームのパラボラ上に設置され、フリップチップの中心軸及びサブマウントの中心軸が、パラボラの中心軸に一致していることを特徴とする。
【0015】
また、サブマウントは絶縁性基板であって、フリップチップを配置したサブマウントの上面露出領域にフリップチップに対する2つの取り出し電極が形成されていても良い。
【0016】
また、第5の手段は、2つの取り出し電極は、フリップチップの下部に当たる部分及び上面露出領域の全面に形成されており、フリップチップからの発光を反射する反射膜を構成することを特徴とする。
サブマウント上にはフリップチップから発光した光を反射する反射膜を兼ねる、フリップチップに対する取り出し電極が形成されていても良い。
2つの取り出し電極は、フリップチップの下部に当たる部分にも形成されており、フリップチップからの発光を反射する反射膜を構成しても良い。
2つの取り出し電極は、サブマウント上のほぼ全面に形成されており、フリップチップからの発光を反射する反射膜を構成しても良い。
また、半導体基板の裏面がフリップチップに対する2つの取り出し電極のうち一方の電極となっており半導体基板が、半導体基板を戴置し、フリップチップに電圧を印加するためのリードフレームに直接接続されていても良い。
また、第6の手段は、上面露出領域における取り出し電極の一部がエッチンクされて、サブマウントの位置又は姿勢を判別するためのマークが形成されていることを特徴とする。
【0017】
【発明の作用効果】
本発明の第1の手段により、フリップチップ型発光ダイオードにおいて、正方形のフリップチップと、フリップチップを設置する正方形のサブマウントとを有し、フリップチップの中心を通る中心軸と、サブマウントの中心を通る中心軸とをそれぞれ一致させ重ね合わせて、重ね合わせた中心を中心にして、フリップチップの中心軸をサブマウントの中心軸に対して、45度回転させて、サブマウントの上面露出領域が三角形状となるように、フリップチップを前記サブマウント上に設置させ、サブマウントの上面露出領域に、フリップチップに対する2つの取り出し電極が形成されている。その結果、フリップチップを小さくすること無く、フリップチップの中心とサブマウントの中心を一致させて配置し尚且つ、取り出し電極を形成するサブマウントの三角形状の上面露出領域を確保することができるようになる。
【0018】
【0019】
さらに、フリップチップを配置したサブマウントをリードフレームに戴置するに当たって、サブマウントを正方形に形成しているので、例えば、リードフレームのパラボラの中心及び、中心軸にサブマウントの中心及び、中心軸を一致させて、戴置することができるようになる。この結果、上下左右均一の配光が得られ、さらに、同一のパラボラの面積に対して最大のサブマウントの面積を確保することができるようになるので、フリップチップ自身も大きくすることができるので発光ダイオード自身を大きくすること無く高輝度の発光ダイオードを得ることができるようになる。
【0020】
さらに、回転の角度が略45度とされるので、フリップチップの面積が、サブマウントに対して最も大きな面積とすることができるので、より高輝度の発光ダイオードを得ることができるようになる。
【0021】
さらに、第2の発明により、サブマウントは半導体基板であって、過電圧防止のためのダイオードは、サブマウントの上面露出領域下の半導体基板に形成されているので、放熱性が良く、このダイオードの熱破壊が効果的に防止される。このダイオード、例えば、ツエナーダイオードと発光ダイオードとが並列に接続され、過電圧による発光ダイオードの破壊が防止され、耐久性の向上が期待される。特に、フリップチップとサブマウントとを接続するバンプの外に設けられることになる結果、バンプによる発熱の影響を受けることがなく、熱破壊が効果的に防止される。
【0022】
【0023】
さらに、絶縁膜に電極を形成でき、また、半導体基板の中に、過電圧防止のためのダイオード等の半導体素子を形成することができる。
【0024】
さらに、サブマウントである半導体基板は絶縁性であって、フリップチップを配置したサブマウントの上面露出領域にフリップチップに対する2つの取り出し電極が形成される。サブマウントに用いる半導体基板は、絶縁性のものであってもよく、その構成材料の選択範囲が広がる。
【0025】
さらに、サブマウントは絶縁性基板であって、フリップチップを配置したサブマウントの上面露出領域にフリップチップに対する2つの取り出し電極が形成されるので、取り出し電極と、フリップチップに電圧を印加するリードフレームとが、ワイヤーボンディングにより接続することができるようになる。
【0026】
さらに、第6の発明により、サブマウントの上面露出領域には、サブマウントの位置又は姿勢を判別するためのマークが形成されているので、サブマウントに対するフリップチップの位置合わせ及びサブマウントとリードフレームとのワイヤボンデング時のサブマウントの位置及び姿勢の制御が容易となる。
【0027】
さらに、フリップチップから発光した光が反射膜で反射される結果、発光を有効に外部に出力することができる。また、第5の発明により、フリップチップに対する取り出し電極により発光を反射させているので、構造を簡単にして、有効に発光を外部に出力させることができる。
【0028】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を具体的な実施例に基づいて説明する。本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
先ず第1の実施例として、図1に示す発光ダイオード1について説明する。
その前に、本実施例で使われている窒化ガリウム系化合物半導体よりなるフリップチップ100の構造について説明する。図3にこのフリップチップ100の断面図(a)及び平面図(b)を示す。101はサファイア基板、102は窒化アルミニウム(AlN)からなるバッファ層、103はシリコン(Si)ドープの窒化ガリウム(GaN)からなる高キャリア濃度のn型窒化ガリウム系化合物半導体層、104はInx Ga1-x N (0<x<1)からなる活性層、107は、p型のAly Ga1-y N (0<y<1)からなるpクラッド層105とp型の窒化ガリウム(GaN)からなるpコンタクト層106より構成されたp型窒化ガリウム系化合物半導体層、110はニッケル(Ni)よりなる正電極、120はSiO2からなる絶縁性保護膜、130は、銀(Ag)からなる金属層131とニッケル(Ni)よりなる金属層132より構成された負電極である。
【0029】
即ち、フリップチップ100は、下層側に形成されたn型窒化ガリウム系化合物半導体の層103のエッチングによる側壁面10より、n型窒化ガリウム系化合物半導体の層103より上側に形成された各層の各側壁面10を経て、p 型窒化ガリウム系化合物半導体の層107の上に形成された正電極110の上部露出面にまで渡って形成された絶縁性保護膜120と、n 型窒化ガリウム系化合物半導体の層103の上部露出面より絶縁性保護膜120上に渡って形成された負電極130とを備えた構成となっている。
【0030】
図1において、(a)はサブマウント20の平面図。(b)はサブマウント20の(a)に示す破線A−Aによる縦断面図。破線A−Aは、中心P1を通る中心軸でもある。(c)はフリップチップ100を電極側である裏面より見た平面図。(d)は(c)に示すフリップチップ100を中心P2を中心に中心軸B−Bを角度R回転させた図。ここでは、角度Rは略45度である。図2において、(a)は、サブマウント20に、サブマウント20の中心軸A−Aと、フリップチップ100の中心軸B−Bを重ね合わせて、フリップチップ100を中心P2を中心に略45度回転させて、配置した発光素子部材70の平面図。(b)は、(a)に示す破線C−Cに沿う発光素子部材70の縦断面図。(c)は、発光素子部材70をリードフレーム50に戴置した第1の実施例である発光ダイオード1の外観及び、構造を模式的に表す縦断面図である。
【0031】
基台であるサブマウント20は、セラミックス、樹脂などの絶縁体で構成される。サブマウント20の表面には、アルミ蒸着による略帯状の正電極21、負電極23の電極配線が、フリップチップ100を略45度回転させて配置することにより形成される直角2等辺三角形状の上面露出領域28(図2(a)における斜線を付した領域)に、対角上からフリップチップ100の正電極110、負電極130が配置される領域に形成される。
【0032】
発光素子部材70は、サブマウント20の中心P1とフリップチップ100の中心P2をそれぞれ重ね合わせ、さらに、サブマウント20の中心軸A−Aと、フリップチップ100の中心軸B−Bを重ね合わせて、重ね合わせた中心P1を中心に中心軸B−Bを略45度回転させた位置において(図2(c)に示す)、フリップチップ100の正電極110と、Auによるマイクロバンプ31により、サブマウント20の正電極21が、同じくフリップチップ100の負電極130と、Auによるマイクロバンプ33により、負電極23が電気的に接続され、さらに溶着されることにより、固定配置され構成される。
【0033】
サブマウント20の表面に形成された正電極21上のボンディングパット25はメタルポスト51から伸ばされた金線57により、さらに、負電極23上のボンディングパット27は他端子であるメタルステム53から伸ばされた金線58によりその表面でワイヤボンドされている。発光素子部材70をパラボラ55の中心軸に戴置したリードフレーム50は、樹脂モールド40で、総ての中心軸(図2(c)に示す破線D−D)を一致させモールドされている。
【0034】
上記のように構成することにより、フリップチップ100、サブマウント20、パラボラ55、および樹脂モールド40総ての中心軸を一致させた発光ダイオード1を製造することができるようになり、上下左右で、即ち、発光ダイオード1の中心軸に垂直な平面上において、中心に対して一様、均一な配光が得られる。また、発光ダイオード1自身を大きくすること無く大きなフリップチップ100を配置することができるので、高輝度な発光ダイオード1を得ることができるようになる
【0035】
次に第2の実施例として、図4および、図5に示す発光ダイオード2について説明する。
図4において、(a)はサブマウント220の平面図。(b)はサブマウント220の(a)に示す破線A−Aによる縦断面図。(c)は、サブマウント220に、サブマウント220の中心P201を通る中心軸A−Aと、フリップチップ100の中心P2を通る中心軸B−Bを重ね合わせて、重ね合わせた中心P2を中心にフリップチップ100の中心軸B−Bを略45度回転させて、配置した発光素子部材270の平面図。(d)は、(c)に示す破線C−Cに沿う発光素子部材270の縦断面図。図5は、発光素子部材270をリードフレーム50に戴置した第2の実施例である発光ダイオード2の外観及び、構造を模式的に表す縦断面図である。尚、フリップチップ100の構成は、第1実施例における、図1、図3に示す構成と同一である。
【0036】
基台であるサブマウント220は、絶縁性の半導体、例えばシリコン(Si)基板240で構成され、シリコン基板240の中には、先ず3族元素のドープにより下層としてp層243を形成し、次にフリップチップ100の正電極110とマイクロバンプ231により溶着する部分に5族元素のドープによりn層241を形成する。この様にして構成されたp層n層によるpn接合のダイオードは、フリップチップ100の正電極110とn層241、負電極130とp層243を接続することによりツエナダイオードとして働く。ツエナダイオードの順方向動作電圧は、フリップチップ100の逆方向破壊電圧よりも小さく、逆方向ブレークダウン電圧は、フリップチップ100の動作電圧よりも大きくかつ順方向破壊電圧よりも小さいことが望ましい。
【0037】
つぎに、サブマウント220の上表面全体をSiO2よりなる絶縁皮膜224により一様に覆い、絶縁皮膜224上にアルミ蒸着による略帯状の正電極221、負電極223の電極配線がフリップチップ100を略45度回転させて配置することにより形成される三角形状の上面露出領域の対角上からフリップチップ100の正電極110、負電極130が配置される領域に形成される。さらに、アルミ蒸着による正電極221のマイクロバンプ231形成部分および、負電極223のマイクロバンプ233形成部分には、エッチングによりn層241および、p層243にそれぞれ届く窓が絶縁皮膜224に開けられている。
【0038】
発光素子部材270は、サブマウント220の中心P201を通る中心軸A−Aと、フリップチップ100の中心P2を通る中心軸B−Bを重ね合わせて、重ね合わせた中心P2を中心に中心軸B−Bを略45度回転させた位置において、Auによるマイクロバンプ231により、フリップチップ100の正電極110、サブマウント220の正電極221および、サブマウント220のn層241が、Auによるマイクロバンプ233によりフリップチップ100の負電極130、サブマウント220の負電極223および、サブマウント220のp層243が、電気的に接続され、さらに溶着されることにより、固定配置され構成される。
【0039】
サブマウント220の表面に形成された正電極221上のボンディングパット225はメタルポスト51から伸ばされた金線57により、さらに、負電極223上のボンディングパット227は他端子であるメタルステム53から伸ばされた金線58によりワイヤボンドされている。発光素子部材270を戴置したリードフレーム50は、総ての中心軸(図5に示す破線D−D)を一致させ樹脂モールド40でモールドされている。
【0040】
この様に構成することにより、実施例1と同様に、上下左右均一な配光が得られると共に、発光ダイオード2自身を大きくすること無く大きなフリップチップ100を配置することができるので、高輝度な発光ダイオード2を得ることができるようになる。さらに、サブマウント220の内部にツエナダイオードを組み込むことによりツエナダイオードとしての部品を配置すること無く、過電圧による破壊が防止され耐久性の向上が図られる。
【0041】
さらに第3の実施例として、図6および、図7に示す発光ダイオード3について説明する。
図6において、(a)はサブマウント320の平面図。(b)はサブマウント320の(a)に示す破線A−Aによる縦断面図。(c)は、サブマウント320に、サブマウント320の中心P301を通る中心軸A−Aと、フリップチップ100の中心P2を通る中心軸B−Bを重ね合わせて、フリップチップ100を略45度回転させて、配置した発光素子部材370の平面図。(d)は、(c)に示す破線C−Cに沿う発光素子部材370の縦断面図。図7は、発光素子部材370をリードフレーム50に戴置した第3の実施例である発光ダイオード3の外観及び、構造を模式的に表す縦断面図である。尚、フリップチップ100の構成は、第1実施例における、図1、図3に示す構成と同一である。
【0042】
基台であるサブマウント320は、p層により構成された半導体基板である。例えば3族元素の不純物を混入することにより製造されたシリコン(Si)基板343で構成され、基板343は下層としてp層343を形成し、次にフリップチップ100の正電極110とマイクロバンプ331により溶着する部分に5族元素のドープによりn層341を形成する。この様にして構成されたp層n層によるpn接合のダイオードは、実施例2で述べたとおりであるので省略する。
【0043】
つぎに、全体をSiO2よりなる絶縁皮膜324により覆い、絶縁皮膜324上にアルミ蒸着による略帯状の正電極321の電極配線がフリップチップ100を略45度回転させて配置することにより形成される三角形状の上面露出領域からフリップチップ100の正電極321が配置される領域に形成される。さらに、アルミ蒸着による正電極321のマイクロバンプ331形成部分および、マイクロバンプ333形成部分には、エッチングによりn層341および、p層343にそれぞれ届く窓が絶縁皮膜324に開けられている。
【0044】
発光素子部材370は、サブマウント320の中心P301を通る中心軸A−Aと、フリップチップ100の中心P2を通る中心軸B−Bを重ね合わせて、重ね合わせた中心P2を中心に中心軸B−Bを略45度回転させた位置において、Auによるマイクロバンプ331により、フリップチップ100の正電極110、サブマウント320の正電極321および、サブマウント320のn層341が、Auによるマイクロバンプ333によりフリップチップ100の負電極130、サブマウント320の負電極323および、サブマウント320のp層343が、電気的に接続され、さらに溶着されることにより、固定配置され構成される。
【0045】
サブマウント320の表面に形成された正電極321上のボンディングパット325はメタルポスト51から伸ばされた金線57によりワイヤボンドされている。さらに、負電極はサブマウント320が導電性の半導体基板で構成されているので、サブマウント320の裏面327と、他端子であるメタルステム53の平坦部54とが例えば、銀ペースト等で接着され電気的に接続され固定される。発光素子部材370は、パラボラ55の中心軸であるメタルステム53の中心軸に戴置され、さらに、樹脂モールド40により、総ての中心軸(図7に示す破線D−D)を一致させモールドされることにより、発光ダイオード3を構成する。
【0046】
この様に構成することにより、実施例1と同様に、上下左右均一な配光が得られると共に、発光ダイオード2自身を大きくすること無く大きなフリップチップ100を配置することができるので、高輝度な発光ダイオード2を得ることができるようになる。さらに、実施例2と同様にサブマウント320の内部にツエナダイオードを組み込むことによりツエナダイオードとしての部品を配置すること無く、過電圧による破壊が防止され耐久性の向上が図られる。さらに、サブマウント320を導電性の半導体基板により構成するので、サブマウント320の裏面327をメタルステム53と接続する一方の電極とすることができるので、電極形成及び、ワイヤボンディングによる配線を一方の電極だけすれば良くなり、発光ダイオード3の製造工程の軽減が望める。尚、サブマウント320の裏面327には必要により金が蒸着される。
【0047】
次に、第4実施例について図10、図11を参照して説明する。図10において、(a)はフリップチップ100の平面図、(b)は、サブマウント420の平面図、(c)はフリップチップ100の層構造を示した断面図である。図11において、(a)は、サブマウント420に、サブマウント420の中心P401を通る中心軸A−Aと、フリップチップ100の中心P2を通る中心軸B−Bを重ね合わせて、フリップチップ100を略45度回転させて、配置した発光素子部材470の平面図。(b)はサブマウント420の(a)に示す破線C−Cによる断面図である。
【0048】
フリップチップ100は、図10の(a)に示すように、正電極110と、負電極130が形成されている。電極材料は共に、ロジウム(Rh)/金(Au)の2層構造である。他の層は、図3の構成と同一であり、同一機能を有する層には同一番号が付されている。本実施例では、絶縁膜120は存在しない。尚、電極は、ロジウムと金の2層でも合金状態でも良い。
【0049】
基台であるサブマウント420は、n層により構成された半導体基板である。例えば5族元素の不純物を混入することにより製造されたシリコン(Si)基板443で構成され、基板443は下層としてn層443を形成し、次にフリップチップ100の負電極130とマイクロバンプ433により溶着する部分に3族元素のドープによりp層441を形成する。この様にして構成されたp層n層によるpn接合のダイオードは、実施例2、3で述べたのと、伝導型が反転しているだけで、他の構成及び作用は同一であのるので、説明を省略する。
【0050】
つぎに、全体をSiO2よりなる絶縁皮膜424により覆い、絶縁皮膜424上にアルミ蒸着により反射膜を兼ねる負電極421が、フリップチップ100を略45度回転させて配置することにより形成される上面露出領域に形成される。この負電極421はサブマウント420の上面の図11(a)に示す下半分のほぼ全面に形成されている。この負電極421上には、フリップチップ100の負電極130を接続するためのマイクロバンプ433が形成されている。さらに、サブマウント420の図11(a)上半分の略全面の絶縁皮膜424上にはアルミ蒸着により反射膜を兼ねる正電極422が形成されている。絶縁皮膜424には窓が形成されており、その窓を介して正電極422が半導体基板であるn層443に電気的に接続されている。その窓の部分には、フリップチップ100の正電極110と接続されるマイクロバンプ431a,431b(図示略),431c(図示略)が、正電極422上に形成されており、このバンプを介して、フリップチップ100の正電極100がn層443と電気的に接続されることになる。
また、p層441は、絶縁皮膜424に形成された窓を介して、負電極421と接続されている。
【0051】
また、負電極421の一部には、例えば、直角のマーク425が形成されている。このマーク425は、この形状部分だけアルミニウムを蒸着しないか、蒸着後にこの部分をエッチングするか、その他の色の異なるものをこの形状に蒸着するかして形成される。このマーク425の存在により、フリップチップとサブマウントとの位置合わせ、サブマウントに対するワイヤボンディグ時のサブマウントの位置及び姿勢の制御に用いることができる。よって、製造が簡単となる。
このように本実施例では、サブマウントである半導体基板上の絶縁膜の上に、アルミニウからなる負電極421と正電極422とがほぼ全面に形成されているのて、これらは反射膜を構成する。よって、フリップチップ100からの発光がこの反射膜で効率良く反射されて、サファイア基板の全面から光を効率良く出力することができる。
【0052】
発光素子部材470は、サブマウント420の中央部分に存在するP401を通る中心軸A−Aと、フリップチップ100の中心P2を通る中心軸B−Bを重ね合わせて、重ね合わせた中心P2を中心に中心軸B−Bを略45度回転させて接合することで構成されている。接合は、Auによるマイクロバンプ431a,431b(図示略),431c(図示略),433による溶着により行われる。
【0053】
サブマウント420の表面に形成された負電極421上のボンディングパット425は、図7に示すのと同様に、メタルポスト51から伸ばされた金線57によりワイヤボンドされている。さらに、サブマウント420が導電性の半導体基板で構成されているので、サブマウント420の裏面427に形成された金蒸着層と、他端子であるメタルステム53の平坦部54とが例えば、銀ペースト等で接着されることで、正電極はメタルステム53と接続される。発光素子部材470は、パラボラ55の中心軸であるメタルステム53の中心軸に戴置され、さらに、樹脂モールド40により、総ての中心軸(図7に示す破線D−D)を一致させモールドされることにより、発光ダイオード3を構成する。
【0054】
この様に構成することにより、実施例1〜3と同様に、上下左右均一な配光が得られると共に、発光ダイオード2自身を大きくすること無く大きなフリップチップ100を配置することができるので、高輝度な発光ダイオード2を得ることができるようになる。さらに、実施例2と同様にサブマウント320の内部にツエナダイオードを組み込むことによりツエナダイオードとしての部品を配置すること無く、図9に示す回路構成により、過電圧による破壊が防止され耐久性の向上が図られる。さらに、サブマウント420を導電性の半導体基板により構成するので、サブマウント420の裏面427をメタルステム53と接続する一方の電極とすることができるので、電極形成及び、ワイヤボンディングによる配線を一方の電極だけすれば良くなり、発光ダイオード3の製造工程の軽減が望める。
【0055】
本実施例では、ツエナーダイオードがフリップチップで覆われていない部分、特に、バンプの形成されていない部分に形成されている。よって、発光ダイオードによる発熱、特に、バンプによる発熱によりツナーダイオードが破壊されることが防止される。又、ツエナーダイオードは、ワイヤボンディグされない部分に形成されているため、ワイヤボンディング時の熱破壊、機械的歪みの印加が防止される。
又、サブマウント上にアルミニウムによる反射膜を形成しているので、光を取り出し面側に効果的に出力させることが可能となる。尚、この反射膜はサブマウント上において、フリップチップの下部に少なくとも形成されておれば良い。又、サブマウント上、フリップチップの下部以外に反射膜が形成されていれば、全体として背面を明るくすることができる。
又、この反射膜は、正電極422及び負電極421と兼用したが、電極とは別に反射膜を形成しても良い。
【0056】
本発明はフリップチップをサブマウントに対して回転して配置し、サブマウントの三角形状に露出している部分に、ワイヤボンディングのための配線電極を形成するようにしたものである。よって、フリップチップの面積を小さくすることな、その光軸をサブマウントの中央部に置くことができ、光の配光を一様且つ均一にすることができる。
【0057】
尚、第2〜第4実施例において、サブマウントを絶縁性の半導体とすることで、半導体の表面に絶縁性皮膜を形成することなく、配線電極を形成することができる。また、半導体基板の中にツエナーダイオードを形成するが可能となる。
【0058】
上記実施例において、フリップチップ100の正電極110は、ニッケル(Ni)又は、正電極及び負電極は、ロジウム(Rh)/金(Au)で構成されているが、正電極は、プラチナ(Pt)コバルト(Co)、金(Au)、パラジウム(Pd)、ニッケル(Ni)、マグネシウム(Mg)、銀(Ag)、アルミニウム(Al)、バナジウム(V )、マンガン(Mn)、ビスマス(Bi)、レニウム(Re)、銅(Cu)、すず(Sn)、又はロジウム(Rh)のうちの少なくとも1種類の金属を含んでいる単層構造の電極であっても、また、これらの金属を2種類以上含んだ多層構造の電極であっても良い。
【0059】
又、負電極130は、プラチナ(Pt)、コバルト(Co)、金(Au)、パラジウム(Pd)、ニッケル(Ni)、マグネシウム(Mg)、銀(Ag)、アルミニウム(Al)、バナジウム(V )、銅(Cu)、すず(Sn)、ロジウム(Rh)、チタン(Ti)、クロム(Cr)、ニオブ(Nb)、亜鉛(Zn)、タンタル(Ta)、モリブデン(Mo)、タングステン(W )又はハフニウム(Hf)のうちの少なくとも1種類の金属を含んでいる単層構造の電極であっても、また、これらの金属を2種類以上含んだ多層構造の電極であっても良い。
【0060】
さらに、回転の角度を略45度としたが、電極配線のための露出領域が確保されれば良くその角度は任意である。同様に、形成される露出領域も上記実施例では、略直角2等辺三角形であるが,三角形の形は任意である。
【0061】
さらに、絶縁皮膜224、324は、絶縁性の皮膜であれば良くSiO2に限らない。窒化硅素、酸化チタン等を用いることができる。同様に、マイクロバンプ及びワイヤは、導電性材料であれば良くAuに限らない。さらに、アルミ蒸着による反射膜、又は、反射膜を兼ねる正電極および、負電極は、それ以外の導電性があり光反射率が高い材料により形成されても良い。さらに実施例2におけるサブマウント220は、絶縁性のSi基板としたが、絶縁性の半導体基板であれば、Si以外の素材であっても良く、実施例3におけるサブマウント320は、導電性のSi基板としたが、p層を構成できる素材であればこれに限らない。
【0062】
さらに、メタルステム53を負極、メタルポスト51を正極としたが、一般的な構成であって、逆に構成しても良い。ただし、その場合は、p層、n層も逆に構成することとなる。
過電圧防止のためのダイオードは、ツエナーダイオードに限定されない。アバランシェダイオード、その他のダイオードを用いることができる。
この過電圧防止のためのダイオードの動作電圧(ツェナー電圧)は、使用環境下で発光素子の駆動電圧Vf より低くならず、且つ、できるだけ低い電圧に設定するのが良い。例えば、ツェナー電圧の下限値=発光素子の駆動電圧Vf +発光素子の製造による駆動電圧Vf のばらつき幅+発光素子の温度特性による駆動電圧Vf のばらつき幅+ツェナーダイオードの製造によるツェナー電圧のばらつき幅+ツェナーダイオードの温度特性によるツェナー電圧のばらつき幅で決定する。このような設計により、ツェナー電圧は6.2vにすることができ、静電耐圧を3000v以上を達成することができた。
発光ダイオードの層構造は、図3のものに限定されるものではない。発光層には単一量子井戸構造、多重量子井戸構造を用いても良い。
また、発光ダイオードはレーザであっても良い。即ち、面発光レーザであっても良い。発光ダイオードの基板はサファイア基板に限定されない。スピネル、シリコン、炭化シリコン、酸化亜鉛、リン化ガリウム、砒化ガリウム、酸化マグネシウム、酸化マンガン等の材料を用いることができる。
また、サブマウントを半導体で構成する場合には、シリコン、ガリウム砒素、炭化硅素、その他の半導体基板を用いることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1実施例に係る発光ダイオードの構成を示した説明図。
【図2】 同じく発光ダイオードの構成を示した説明図。
【図3】 本発明に用いるフリップチップ型発光素子の説明図。
【図4】 本発明の第2実施例に係る発光ダイオードの構造を示した説明図。
【図5】 同じく発光ダイオードの構造を示した説明図。
【図6】 本発明の第3実施例に係る発光ダイオードの構造を示した説明図。
【図7】 同じく発光ダイオードの構造を示した説明図。
【図8】 本発明の第1実施例の回路図。
【図9】 本発明の第2、第3及び第4実施例の回路図。
【図10】 本発明の第4実施例に係る発光ダイオードの構造を示した説明図。
【図11】 本発明の第4実施例に係る発光ダイオードの構造を示した説明図。
【図12】 従来技術に係る発光ダイオードの構造を示した説明図。
【図13】 同じく発光ダイオードの構造を示した説明図。
【符号の説明】
1、2、3、5…発光ダイオード
20、220、320、520…サブマウント
21、221、321、521…正電極
23、223、522…負電極
28、228、328、528…上面露出領域
31、231、331、431a、431b、431c、531…正電極を接続するマイクロバンプ
33、233、333、433、533…負電極を接続するマイクロバンプ
241…n層
243…p層
240…n層(半導体基板)
341…n層
343…p層(半導体基板)
441…p層
443…n層(半導体基板)
40…樹脂モールド
50…リードフレーム
51…メタルポスト
53…メタルステム
54…平坦部
55…パラボラ
57、58…金線
70、270、370、570…発光素子部材
100…フリップチップ
101…サファイア基板
102…バッファ層
103…n型窒化ガリウム系化合物半導体層
104…活性層
105…pクラッド層
106…pコンタクト層
107…p型窒化ガリウム系化合物半導体層
110…正電極
120…絶縁性保護膜
130…負電極
P1、P201、P301、P501…サブマウントの中心
破線A−A…P1、P201、P301、P501を通るサブマウントの中心軸P2…フリップチップの中心
破線B−B…P2を通るフリップチップの中心軸
Claims (6)
- フリップチップ型半導体発光素子であるフリップチップを用いた発光ダイオードにおいて、
正方形のフリップチップと、
前記フリップチップを設置する正方形のサブマウントと、
前記フリップチップの中心を通る中心軸と、前記サブマウントの中心を通る中心軸とをそれぞれ一致させ重ね合わせて、
前記重ね合わせた中心を中心にして、前記フリップチップの中心軸を前記サブマウントの中心軸に対して、45度回転させて、前記サブマウントの上面露出領域が三角形状となるように、前記フリップチップを前記サブマウント上に設置させ、
前記サブマウントの上面露出領域に、前記フリップチップに対する2つの取り出し電極が形成されている、
ことを特徴とするフリップチップ型発光ダイオード。 - 前記サブマウントは半導体基板から構成され、前記上面露出領域下の半導体基板に過電圧防止のためのダイオードが形成されていることを特徴とする請求項1に記載のフリップチップ型発光ダイオード。
- 前記サブマウントは半導体基板から構成され、前記上面露出領域下であって、ワイヤボンディングされない位置の半導体基板に過電圧防止のためのダイオードが形成されていることを特徴とする請求項1に記載のフリップチップ型発光ダイオード。
- 前記サブマウントは、光を反射するリードフレームのパラボラ上に設置され、前記フリップチップの中心軸及び前記サブマウントの中心軸が、前記パラボラの中心軸に一致していることを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか1項に記載のフリップチップ型発光ダイオード。
- 前記2つの取り出し電極は、前記フリップチップの下部に当たる部分及び前記上面露出領域の全面に形成されており、前記フリップチップからの発光を反射する反射膜を構成することを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れか1項に記載のフリップチップ型発光ダイオード。
- 前記上面露出領域における前記取り出し電極の一部がエッチンクされて、前記サブマウントの位置又は姿勢を判別するためのマークが形成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のフリップチップ型発光ダイオード。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22460899A JP4296644B2 (ja) | 1999-01-29 | 1999-08-06 | 発光ダイオード |
TW089101336A TW442983B (en) | 1999-01-29 | 2000-01-27 | Light-emitting diode |
EP00101575A EP1030377A3 (en) | 1999-01-29 | 2000-01-27 | Light-emitting diode |
US09/493,183 US6445011B1 (en) | 1999-01-29 | 2000-01-28 | Light-emitting diode |
CNB001016741A CN1194423C (zh) | 1999-01-29 | 2000-01-28 | 发光二极管 |
CNB2004100819334A CN100463236C (zh) | 1999-01-29 | 2000-01-28 | 发光二极管 |
US10/137,836 US6713877B2 (en) | 1999-01-29 | 2002-05-03 | Light-emitting diode |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2272799 | 1999-01-29 | ||
JP11-22727 | 1999-01-29 | ||
JP22460899A JP4296644B2 (ja) | 1999-01-29 | 1999-08-06 | 発光ダイオード |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000286457A JP2000286457A (ja) | 2000-10-13 |
JP4296644B2 true JP4296644B2 (ja) | 2009-07-15 |
Family
ID=26359997
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22460899A Expired - Fee Related JP4296644B2 (ja) | 1999-01-29 | 1999-08-06 | 発光ダイオード |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6445011B1 (ja) |
EP (1) | EP1030377A3 (ja) |
JP (1) | JP4296644B2 (ja) |
CN (2) | CN100463236C (ja) |
TW (1) | TW442983B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8633499B2 (en) | 2011-06-28 | 2014-01-21 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Light emitting device |
Families Citing this family (93)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4296644B2 (ja) * | 1999-01-29 | 2009-07-15 | 豊田合成株式会社 | 発光ダイオード |
US6573537B1 (en) | 1999-12-22 | 2003-06-03 | Lumileds Lighting, U.S., Llc | Highly reflective ohmic contacts to III-nitride flip-chip LEDs |
US6486499B1 (en) | 1999-12-22 | 2002-11-26 | Lumileds Lighting U.S., Llc | III-nitride light-emitting device with increased light generating capability |
US6903376B2 (en) | 1999-12-22 | 2005-06-07 | Lumileds Lighting U.S., Llc | Selective placement of quantum wells in flipchip light emitting diodes for improved light extraction |
US6514782B1 (en) | 1999-12-22 | 2003-02-04 | Lumileds Lighting, U.S., Llc | Method of making a III-nitride light-emitting device with increased light generating capability |
US6885035B2 (en) | 1999-12-22 | 2005-04-26 | Lumileds Lighting U.S., Llc | Multi-chip semiconductor LED assembly |
EP1276186B1 (en) * | 2000-02-16 | 2016-12-07 | Nichia Corporation | Method of manufacturing a nitride semiconductor laser device |
JP2002185049A (ja) * | 2000-11-08 | 2002-06-28 | Lumileds Lighting Us Llc | フリップチップ発光ダイオードおよびフリップチップ静電放電保護チップをパッケージにおける電極にダイレクトボンディングする方法 |
JP4148664B2 (ja) * | 2001-02-02 | 2008-09-10 | 三洋電機株式会社 | 窒化物系半導体レーザ素子およびその形成方法 |
US6841931B2 (en) | 2001-04-12 | 2005-01-11 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | LED lamp |
EP1398839B1 (en) * | 2001-04-23 | 2012-03-28 | Panasonic Corporation | Light emitting device comprising light emitting diode chip |
JP3912044B2 (ja) * | 2001-06-06 | 2007-05-09 | 豊田合成株式会社 | Iii族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法 |
JP2003008071A (ja) * | 2001-06-22 | 2003-01-10 | Stanley Electric Co Ltd | Led基板アセンブリを使用したledランプ |
JP4023121B2 (ja) * | 2001-09-06 | 2007-12-19 | 豊田合成株式会社 | n型電極、III族窒化物系化合物半導体素子、n型電極の製造方法、及びIII族窒化物系化合物半導体素子の製造方法 |
DE10203809B4 (de) * | 2002-01-31 | 2010-05-27 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement |
TW535307B (en) * | 2002-03-04 | 2003-06-01 | United Epitaxy Co Ltd | Package of light emitting diode with protective diode |
JP3877642B2 (ja) * | 2002-05-21 | 2007-02-07 | ローム株式会社 | 半導体チップを使用した半導体装置 |
CN100421266C (zh) | 2002-08-29 | 2008-09-24 | 首尔半导体股份有限公司 | 具有多个发光元件的发光装置 |
US7718451B2 (en) | 2003-02-28 | 2010-05-18 | Osram Opto Semiconductor Gmbh | Method for producing an optoelectronic device with patterned-metallized package body and method for the patterned metalization of a plastic-containing body |
WO2004077558A1 (de) * | 2003-02-28 | 2004-09-10 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches bauteil mit strukturiert metallisiertem gehäusekörper, verfahren zur herstellung eines derartigen bauteils und verfahren zur strukturierten metallisierung eines kunststoff enthaltenden körpers |
US10376711B2 (en) | 2003-03-14 | 2019-08-13 | Light Sciences Oncology Inc. | Light generating guide wire for intravascular use |
CN2885311Y (zh) * | 2006-01-18 | 2007-04-04 | 郑成福 | 经尿道光动力疗法***治疗仪 |
US7141828B2 (en) * | 2003-03-19 | 2006-11-28 | Gelcore, Llc | Flip-chip light emitting diode with a thermally stable multiple layer reflective p-type contact |
US20040191330A1 (en) * | 2003-03-31 | 2004-09-30 | Keefe Candace R. | Daily skin care regimen |
US6867436B1 (en) * | 2003-08-05 | 2005-03-15 | Protek Devices, Lp | Transient voltage suppression device |
JP3841092B2 (ja) | 2003-08-26 | 2006-11-01 | 住友電気工業株式会社 | 発光装置 |
KR101087854B1 (ko) * | 2003-09-19 | 2011-11-30 | 파나소닉 주식회사 | 반도체 발광장치 |
KR100799857B1 (ko) * | 2003-10-27 | 2008-01-31 | 삼성전기주식회사 | 전극 구조체 및 이를 구비하는 반도체 발광 소자 |
CN100375300C (zh) * | 2003-11-25 | 2008-03-12 | 葛世潮 | 大功率发光二极管 |
JP2005191530A (ja) | 2003-12-03 | 2005-07-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 発光装置 |
TWI227570B (en) * | 2003-12-11 | 2005-02-01 | South Epitaxy Corp | Light-emitting diode packaging structure |
US7321161B2 (en) * | 2003-12-19 | 2008-01-22 | Philips Lumileds Lighting Company, Llc | LED package assembly with datum reference feature |
JP4581407B2 (ja) * | 2004-01-16 | 2010-11-17 | 株式会社日立製作所 | 光源ユニットおよびそれを用いた投射型映像表示装置 |
JP4587675B2 (ja) * | 2004-01-23 | 2010-11-24 | 京セラ株式会社 | 発光素子収納パッケージおよび発光装置 |
CN100369275C (zh) * | 2004-01-29 | 2008-02-13 | 光磊科技股份有限公司 | 可增加发光作用区面积的发光元件 |
US7022550B2 (en) * | 2004-04-07 | 2006-04-04 | Gelcore Llc | Methods for forming aluminum-containing p-contacts for group III-nitride light emitting diodes |
KR100927256B1 (ko) | 2004-07-09 | 2009-11-16 | 엘지전자 주식회사 | 제너다이오드가 집적된 발광소자 서브마운트 제작방법 |
MY144425A (en) | 2004-08-18 | 2011-09-15 | Tokuyama Corp | A ceramic substrate for mounting a light emitting element and method for manufacturing the same |
JP2006086469A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体発光装置、照明モジュール、照明装置及び半導体発光装置の製造方法 |
US7081667B2 (en) * | 2004-09-24 | 2006-07-25 | Gelcore, Llc | Power LED package |
JP4796293B2 (ja) * | 2004-11-04 | 2011-10-19 | 株式会社 日立ディスプレイズ | 照明装置の製造方法 |
JP4176703B2 (ja) * | 2004-11-25 | 2008-11-05 | 松下電器産業株式会社 | 半導体発光装置、照明装置、携帯通信機器、カメラ、及び製造方法 |
CN1330011C (zh) * | 2004-12-17 | 2007-08-01 | 北京工业大学 | 低接触电阻、低光吸收、全角高反射的led电极 |
JP2006179511A (ja) | 2004-12-20 | 2006-07-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 発光装置 |
JP2008530235A (ja) * | 2005-02-17 | 2008-08-07 | ライト サイエンシーズ オンコロジー, インコーポレイテッド | 光反応システムおよびアテローム性動脈硬化の予防的治療法 |
KR100631976B1 (ko) * | 2005-03-30 | 2006-10-11 | 삼성전기주식회사 | 3족 질화물 발광 소자 |
EP1905088A4 (en) * | 2005-06-21 | 2012-11-21 | Univ California | PACKAGING TECHNIQUE FOR THE MANUFACTURE OF POLARIZED ELECTROLUMINESCENT DIODES |
KR101041843B1 (ko) * | 2005-07-30 | 2011-06-17 | 삼성엘이디 주식회사 | 질화물계 화합물 반도체 발광소자 및 그 제조방법 |
US20090118816A1 (en) * | 2005-09-06 | 2009-05-07 | Light Sciences Oncology, Inc. | Implantable Device for Therapeutic Treatment Within a Body Lumen |
WO2007034575A1 (ja) * | 2005-09-20 | 2007-03-29 | Matsushita Electric Works, Ltd. | 発光装置 |
JP3948483B2 (ja) * | 2005-09-20 | 2007-07-25 | 松下電工株式会社 | 発光装置 |
JP3963188B2 (ja) * | 2005-09-20 | 2007-08-22 | 松下電工株式会社 | 発光装置 |
JP3952075B2 (ja) * | 2005-09-20 | 2007-08-01 | 松下電工株式会社 | 発光装置 |
US7671468B2 (en) * | 2005-09-30 | 2010-03-02 | Tdk Corporation | Light emitting apparatus |
US20070129776A1 (en) * | 2005-10-20 | 2007-06-07 | Light Sciences Llc | External wearable light therapy treatment systems |
US20070142880A1 (en) * | 2005-11-07 | 2007-06-21 | Barnard William L | Light delivery apparatus |
US7772604B2 (en) | 2006-01-05 | 2010-08-10 | Illumitex | Separate optical device for directing light from an LED |
WO2007088104A1 (en) * | 2006-01-31 | 2007-08-09 | Ciba Holding Inc. | Coating composition for marking substrates |
KR100682878B1 (ko) * | 2006-02-09 | 2007-02-15 | 삼성전기주식회사 | 플립칩형 발광소자 |
US7928462B2 (en) | 2006-02-16 | 2011-04-19 | Lg Electronics Inc. | Light emitting device having vertical structure, package thereof and method for manufacturing the same |
US8057464B2 (en) | 2006-05-03 | 2011-11-15 | Light Sciences Oncology, Inc. | Light transmission system for photoreactive therapy |
JP2007305708A (ja) | 2006-05-10 | 2007-11-22 | Rohm Co Ltd | 半導体発光素子アレイおよびこれを用いた照明用器具 |
JP4172501B2 (ja) * | 2006-05-31 | 2008-10-29 | ソニー株式会社 | 発光ダイオード点灯回路、照明装置及び液晶表示装置 |
KR101314713B1 (ko) * | 2006-06-16 | 2013-10-07 | 신꼬오덴기 고교 가부시키가이샤 | 반도체 장치, 그 제조 방법, 및 기판 |
US7789531B2 (en) | 2006-10-02 | 2010-09-07 | Illumitex, Inc. | LED system and method |
US8685005B2 (en) | 2006-10-11 | 2014-04-01 | Purdue Pharmaceutical Products L.P. | Light delivery system |
US9149651B2 (en) | 2007-01-08 | 2015-10-06 | Purdue Pharmaceutical Products L.P. | Non-invasive vascular treatment systems, devices, and methods of using the same |
TWI389345B (zh) * | 2007-08-30 | 2013-03-11 | Kyocera Corp | Light emitting device |
DE102007061479A1 (de) * | 2007-12-20 | 2009-06-25 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Leuchtdiodenchip mit Überspannungsschutz |
US7829358B2 (en) | 2008-02-08 | 2010-11-09 | Illumitex, Inc. | System and method for emitter layer shaping |
JP2009239116A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Sharp Corp | 発光装置 |
US7993640B2 (en) | 2008-08-06 | 2011-08-09 | Light Sciences Oncology, Inc. | Enhancement of light activated therapy by immune augmentation using anti-CTLA-4 antibody |
TW201034256A (en) | 2008-12-11 | 2010-09-16 | Illumitex Inc | Systems and methods for packaging light-emitting diode devices |
US7875984B2 (en) * | 2009-03-04 | 2011-01-25 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Complaint bonding structures for semiconductor devices |
US20110008372A1 (en) * | 2009-07-08 | 2011-01-13 | Light Sciences Oncology, Inc. | Enhancement of light activated drug therapy through combination with other therapeutic agents |
DE102009032486A1 (de) | 2009-07-09 | 2011-01-13 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Bauelement |
US8449128B2 (en) | 2009-08-20 | 2013-05-28 | Illumitex, Inc. | System and method for a lens and phosphor layer |
US8585253B2 (en) | 2009-08-20 | 2013-11-19 | Illumitex, Inc. | System and method for color mixing lens array |
KR101124102B1 (ko) * | 2009-08-24 | 2012-03-21 | 삼성전기주식회사 | 발광 소자 패키지용 기판 및 이를 포함하는 발광 소자 패키지 |
DE102010027679A1 (de) * | 2010-07-20 | 2012-01-26 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Bauelement |
EP2605295A3 (en) * | 2011-12-13 | 2015-11-11 | LG Innotek Co., Ltd. | Ultraviolet light emitting device |
US9093621B2 (en) | 2011-12-28 | 2015-07-28 | Nichia Corporation | Molded package for light emitting device |
JP2013247340A (ja) | 2012-05-29 | 2013-12-09 | Toyoda Gosei Co Ltd | 発光装置 |
US9593138B2 (en) | 2012-10-05 | 2017-03-14 | Wayne State University | Nitrile-containing enzyme inhibitors and ruthenium complexes thereof |
DE102012218457A1 (de) * | 2012-10-10 | 2014-04-10 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches bauelement und verfahren zu seiner herstellung |
CN203456494U (zh) * | 2012-12-26 | 2014-02-26 | 东莞市正光光电科技有限公司 | 覆晶式led芯片 |
JP2014165225A (ja) * | 2013-02-21 | 2014-09-08 | Toshiba Lighting & Technology Corp | 発光モジュールおよび照明装置 |
US9171779B2 (en) | 2013-08-29 | 2015-10-27 | Industrial Technology Research Institute | Semiconductor laser structure |
US9419156B2 (en) * | 2013-08-30 | 2016-08-16 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Package and method for integration of heterogeneous integrated circuits |
CN104465931B (zh) * | 2013-09-12 | 2019-08-13 | 刘艳 | 覆晶式led芯片 |
JP6398381B2 (ja) * | 2014-06-30 | 2018-10-03 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置及びその製造方法 |
US11251635B2 (en) | 2017-12-19 | 2022-02-15 | Welch Allyn, Inc. | Vital signs monitor with a removable and dischargable battery |
JP7448832B2 (ja) | 2022-01-31 | 2024-03-13 | 日亜化学工業株式会社 | 発光素子 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5557115A (en) * | 1994-08-11 | 1996-09-17 | Rohm Co. Ltd. | Light emitting semiconductor device with sub-mount |
JP3627822B2 (ja) * | 1994-08-18 | 2005-03-09 | ローム株式会社 | 半導体発光素子、およびその製造方法 |
US5760479A (en) * | 1996-02-29 | 1998-06-02 | Texas Instruments Incorporated | Flip-chip die attachment for a high temperature die to substrate bond |
JP3656316B2 (ja) * | 1996-04-09 | 2005-06-08 | 日亜化学工業株式会社 | チップタイプled及びその製造方法 |
TW383508B (en) * | 1996-07-29 | 2000-03-01 | Nichia Kagaku Kogyo Kk | Light emitting device and display |
JP3421520B2 (ja) * | 1996-11-19 | 2003-06-30 | 三洋電機株式会社 | 発光装置及びその製造方法 |
US6054716A (en) * | 1997-01-10 | 2000-04-25 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor light emitting device having a protecting device |
US6121637A (en) * | 1997-10-03 | 2000-09-19 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor light emitting device with increased luminous power |
JPH11186326A (ja) * | 1997-12-24 | 1999-07-09 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
JP3985332B2 (ja) * | 1998-04-02 | 2007-10-03 | 松下電器産業株式会社 | 半導体発光装置 |
JPH11354848A (ja) * | 1998-06-10 | 1999-12-24 | Matsushita Electron Corp | 半導体発光装置 |
JP4296644B2 (ja) * | 1999-01-29 | 2009-07-15 | 豊田合成株式会社 | 発光ダイオード |
-
1999
- 1999-08-06 JP JP22460899A patent/JP4296644B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-01-27 TW TW089101336A patent/TW442983B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-01-27 EP EP00101575A patent/EP1030377A3/en not_active Withdrawn
- 2000-01-28 CN CNB2004100819334A patent/CN100463236C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-01-28 US US09/493,183 patent/US6445011B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-01-28 CN CNB001016741A patent/CN1194423C/zh not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-05-03 US US10/137,836 patent/US6713877B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8633499B2 (en) | 2011-06-28 | 2014-01-21 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Light emitting device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20020145205A1 (en) | 2002-10-10 |
TW442983B (en) | 2001-06-23 |
US6713877B2 (en) | 2004-03-30 |
CN100463236C (zh) | 2009-02-18 |
CN1645636A (zh) | 2005-07-27 |
EP1030377A3 (en) | 2006-11-22 |
CN1264181A (zh) | 2000-08-23 |
JP2000286457A (ja) | 2000-10-13 |
CN1194423C (zh) | 2005-03-23 |
US6445011B1 (en) | 2002-09-03 |
EP1030377A2 (en) | 2000-08-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4296644B2 (ja) | 発光ダイオード | |
KR100694784B1 (ko) | 다층 코팅으로 형성한 플립칩 전극 발광 소자 | |
US7405431B2 (en) | Light-emitting semiconductor device having an overvoltage protector | |
US6876008B2 (en) | Mount for semiconductor light emitting device | |
JP3130292B2 (ja) | 半導体発光装置及びその製造方法 | |
US5990500A (en) | Nitride compound semiconductor light emitting element and its manufacturing method | |
US6316792B1 (en) | Compound semiconductor light emitter and a method for manufacturing the same | |
EP2565944A2 (en) | Semiconductor light emitting device | |
JP2018121059A (ja) | 発光素子 | |
JP2007335793A (ja) | 半導体発光素子及びその製造方法 | |
JP2004006498A (ja) | Iii族窒化物系化合物半導体発光素子 | |
JP4065655B2 (ja) | フリップチップ型半導体発光素子とその製造方法及び発光ダイオードランプ並びに表示装置、フリップチップ型半導体発光素子用電極 | |
US9362446B2 (en) | Semiconductor light-emitting device | |
CN111725375A (zh) | 红光发光二极管及其制造方法 | |
JP2003017757A (ja) | フリップチップ形半導体発光素子 | |
CN112928188B (zh) | 一种发光二极管、光电模块及显示装置 | |
US10263140B2 (en) | Semiconductor light-emitting device and method for manufacturing the same | |
KR20170105319A (ko) | 반도체 발광 소자 | |
US8969907B2 (en) | Flip-chip light emitting diode | |
KR100674875B1 (ko) | 플립칩형 발광 장치 | |
US10396248B2 (en) | Semiconductor light emitting diode | |
KR20110119496A (ko) | 발광 디바이스 | |
JP7505057B2 (ja) | 発光素子 | |
US20230343896A1 (en) | Semiconductor device | |
KR101928328B1 (ko) | 반도체 발광소자 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060627 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081014 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081212 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081215 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20090115 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090115 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090324 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090406 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120424 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120424 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130424 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140424 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |