JP3646771B2 - 有機けい素化合物及びその製造方法 - Google Patents

有機けい素化合物及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP3646771B2
JP3646771B2 JP23225298A JP23225298A JP3646771B2 JP 3646771 B2 JP3646771 B2 JP 3646771B2 JP 23225298 A JP23225298 A JP 23225298A JP 23225298 A JP23225298 A JP 23225298A JP 3646771 B2 JP3646771 B2 JP 3646771B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
formula
organosilicon compound
following general
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP23225298A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000053685A (ja
Inventor
健一 福田
博文 木下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP23225298A priority Critical patent/JP3646771B2/ja
Priority to EP99306190A priority patent/EP0982312B1/en
Priority to DE69907094T priority patent/DE69907094T2/de
Priority to US09/366,788 priority patent/US6114562A/en
Publication of JP2000053685A publication Critical patent/JP2000053685A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3646771B2 publication Critical patent/JP3646771B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、少なくとも1個のエチニル基を有し、ヒドロシリル化反応の制御剤として有用な含フッ素有機けい素化合物及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
付加硬化型シリコーンゴム組成物は、素反応として、次の式で示されるヒドロシリル化反応により架橋を起こし、エラストマーとなる。
【0003】
【化4】
Figure 0003646771
【0004】
従来、この反応を制御する(可使時間を必要としたり、保存性を得る)ために、下記に示すようなエチニル基含有化合物が使用されている。
【0005】
【化5】
Figure 0003646771
【0006】
しかしながら、これらの化合物は、フッ素含有率の高いフロロシリコーン、パーフルオロポリマーなどには相溶しないため、分離や反応系の不均一の原因となる可能性がある。
【0007】
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、−SiH基含有化合物と、−CH=CH2基含有化合物とのヒドロシリル化反応の反応制御剤として有用な、特に、フッ素含有率の高いフロロシリコーン、パーフルオロポリマーなどに完全に相溶するため、分離することもなく、付加反応制御効果の高い新規有機けい素化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】
本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、下記一般式(2)で示される含フッ素クロルシランと、下記一般式(3)で示されるエチニル基含有アルコール化合物とを反応させることにより、下記一般式(1)で示される含フッ素有機けい素化合物が得られること、そしてこの含フッ素有機けい素化合物がヒドロシリル化反応の制御剤として有用であることを知見し、本発明をなすに至ったものである。
【0009】
【化6】
Figure 0003646771
(但し、式中Rfは一価のパーフルオロポリエーテル基、R1は二価の有機基、R2は一価の炭化水素基、R3は二価の炭化水素基、aは0,1又は2である。)
【0010】
従って、本発明は上記式(1)の有機けい素化合物、及び、上記式(2)の含フッ素クロルシランと式(3)のエチニル基を有するアルコールとを反応させることからなる式(1)の有機けい素化合物を提供する。
【0011】
以下、本発明につき更に詳細に説明すると、本発明の新規有機けい素化合物は下記一般式(1)で示されるものである。
【0012】
【化7】
Figure 0003646771
【0013】
上記式(1)において、Rfは一価のパーフルオロポリエーテル基であり、例えば下記式で示されるものが挙げられる。
【0014】
【化8】
Figure 0003646771
(nは1〜8、特に1〜5の整数を示す。)
【0015】
1は二価の有機基であればよく、特に限定されるものではないが、間に酸素や窒素又はカルボニル基を介在させても又は末端に有してもよい炭素数1〜6の低級アルキレン基であり、例えば下記式で示されるものが挙げられる。
【0016】
【化9】
Figure 0003646771
(pは1〜6、特に2〜4の整数、qは0〜5、特に2〜4の整数を示す。)
【0017】
2は一価の炭化水素基であればよく、特に限定されるものではないが、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数1〜6の低級アルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基やフェニル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基などを挙げることができる。
【0018】
3は二価の炭化水素基であればよく、特に限定されるものではないが、下記に示すものが好ましい。
【0019】
【化10】
Figure 0003646771
【0020】
式中、R4,R5はそれぞれに独立した一価の炭化水素基であればよく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基等の炭素数1〜10のアルキル基などを挙げることができる。
【0021】
また、aは0,1又は2であり、1分子中に少なくとも1個のエチニル基を有するものとする。
【0022】
本発明の有機けい素化合物は、例えば、含フッ素クロルシラン化合物と、エチニル基含有アルコール化合物とを尿素などの受酸剤の存在下で合成することができる。
【0023】
この場合、出発原料となる含フッ素クロルシランとしては、下記一般式(2)で示されるものが好適に使用される。
【0024】
【化11】
Figure 0003646771
(式中、Rf、R1、R2及びaは前記に同じ。)
具体例としては、下記に示すもの等が挙げられる。
【0025】
【化12】
Figure 0003646771
【0026】
また、エチニル基含有アルコール化合物としては、下記一般式(3)で示されるものが好適に使用される。
HO−R3−C≡CH …(3)
(式中、R3は前記に同じ。)
具体例としては、下記に示すもの等が挙げられる。
【0027】
【化13】
Figure 0003646771
【0028】
なお、上記の反応において、式(2)のシランの塩素原子1モルに対し式(3)のアルコールは1〜2モルの割合で反応させることが好ましく、受散剤の使用量は式(2)のシランの塩素原子1モルに対して1〜2モルが好ましい。反応は次工程への進行の都合上無溶媒が好ましい。反応は窒素等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましく、反応温度は室温(20℃)〜100℃が好ましい。なお、反応時間は通常4〜24時間である。
【0029】
本発明の有機けい素化合物は、ヒドロシリル化反応の反応制御剤として使用され、特にアルケニル基含有化合物とSiH基含有化合物との白金系触媒の存在下でのヒドロシリル化反応において、アルケニル基含有化合物及びSiH基含有化合物のいずれか一方又は双方にフッ素原子を有する場合に、これら化合物に対する相溶性を有するため、そのヒドロシリル化の反応制御剤として有効に用いられる。
【0030】
【実施例】
以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
【0039】
〔実施例
下記式(4)で示されるエチニル基含有化合物4.4g(0.052モル)、尿素3.0g(0.049モル)を撹拌装置、冷却管、温度計を備えた100ml三つ口フラスコ内に仕込み、撹拌した。
【化20】
Figure 0003646771
【0040】
窒素置換後、内温50℃に加熱し、滴下ロートにて下記式(6)の含フッ素クロルシラン17.8g(0.0395モル)を滴下した。
【0041】
【化17】
Figure 0003646771
【0042】
7時間後冷却し、分液して下層を回収した。再び、上記と同様な装置に、分液により得られた生成物を仕込み、中和のためプロピレンオキシド0.04gを添加し、40℃,1時間撹拌した。
【0043】
撹拌後、バス温100℃,減圧度1mmHgにてストリップした。冷却後、塩を除去するため、加圧濾過を行った。得られた濾液を減圧蒸留し、下記に示す化合物8.4gを得た(収率42%、b.p.90℃/3mmHg)。
【0044】
【化18】
Figure 0003646771
【0045】
得られた留分の分子構造を確認するため、GC−MS分析、IRスペクトルを測定したところ、以下に示す結果を得た。
【0046】
【化19】
Figure 0003646771
【0047】
【発明の効果】
本発明の新規な有機けい素化合物は、−SiH基含有化合物と、−CH=CH2基含有化合物とのヒドロシリル化反応の反応制御剤として有用である。特に、フッ素含有率の高いフロロシリコーン、パーフルオロポリマーなどに完全相溶するため、分離することもなく、付加反応制御効果も高いものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施例1の化合物のIRスペクトルである。

Claims (2)

  1. 下記一般式(1)で示される有機けい素化合物。
    Figure 0003646771
    (但し、式中Rfは一価のパーフルオロポリエーテル基、R1は二価の有機基、R2は一価の炭化水素基、R3は二価の炭化水素基、aは0,1又は2である。)
  2. 下記一般式(2)
    Figure 0003646771
    (但し、式中Rfは一価のパーフルオロポリエーテル基、R1は二価の有機基、R2は一価の炭化水素基、aは0,1又は2である。)
    で示される含フッ素クロルシランと、下記一般式(3)
    HO−R3−C≡CH …(3)
    (但し、式中R3は二価の炭化水素基である。)
    で示されるエチニル基を有するアルコールとを反応させることを特徴とする下記一般式(1)
    Figure 0003646771
    (但し、式中Rf,R1,R2,R3,aは上記と同じ。)
    で示される有機けい素化合物の製造方法。
JP23225298A 1998-08-04 1998-08-04 有機けい素化合物及びその製造方法 Expired - Fee Related JP3646771B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23225298A JP3646771B2 (ja) 1998-08-04 1998-08-04 有機けい素化合物及びその製造方法
EP99306190A EP0982312B1 (en) 1998-08-04 1999-08-04 Organosilicon compounds and method of making
DE69907094T DE69907094T2 (de) 1998-08-04 1999-08-04 Organosiliziumverbindungen und deren Herstellung
US09/366,788 US6114562A (en) 1998-08-04 1999-08-04 Organosilicon compounds and method of making

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23225298A JP3646771B2 (ja) 1998-08-04 1998-08-04 有機けい素化合物及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000053685A JP2000053685A (ja) 2000-02-22
JP3646771B2 true JP3646771B2 (ja) 2005-05-11

Family

ID=16936370

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23225298A Expired - Fee Related JP3646771B2 (ja) 1998-08-04 1998-08-04 有機けい素化合物及びその製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6114562A (ja)
EP (1) EP0982312B1 (ja)
JP (1) JP3646771B2 (ja)
DE (1) DE69907094T2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10361893A1 (de) * 2003-12-19 2005-07-21 Degussa Ag Spezielles Verfahren zur Herstellung von Fluoralkylgruppen tragenden Siliciumverbindungen durch Hydrosilylierung
JP4471361B2 (ja) 2004-06-07 2010-06-02 信越化学工業株式会社 新規なフロロアルキル基含有アセチレンアルコールおよびその製造方法
US7067688B2 (en) 2004-11-09 2006-06-27 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Acetylene alcohol and method for preparing the same
JP5343911B2 (ja) * 2010-04-09 2013-11-13 信越化学工業株式会社 無溶剤型シリコーン粘着剤用離型剤組成物及び剥離シート

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4692537A (en) * 1981-10-16 1987-09-08 Mcalister Roy E Organosilicon compounds
US5011963A (en) * 1988-02-09 1991-04-30 Matsushita Electric Ind., Co., Ltd. Terminal perfluoroalkylsilane compounds
JP3098946B2 (ja) * 1995-09-21 2000-10-16 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 剥離性硬化皮膜形成性オルガノポリシロキサン組成物
US5834612A (en) * 1996-05-18 1998-11-10 Asahi Glass Company Ltd. Fluorine-containing organic compound
DE19644561C2 (de) * 1996-10-26 2003-10-16 Degussa Verfahren zur Herstellung von Fluoralkyl-Gruppen tragenden Silicium-organischen Verbindungen

Also Published As

Publication number Publication date
EP0982312A1 (en) 2000-03-01
US6114562A (en) 2000-09-05
DE69907094D1 (de) 2003-05-28
DE69907094T2 (de) 2004-02-19
EP0982312B1 (en) 2003-04-23
JP2000053685A (ja) 2000-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9951185B2 (en) Aminosiloxanes of high purity
JP2000026609A (ja) アルコキシ基末端ポリジオルガノシロキサンの製造方法
JPH10287685A (ja) イソシアナトオルガノシランの製造方法
JP2003335788A (ja) SiH基を含有する含窒素有機系化合物の製造方法
JP3646771B2 (ja) 有機けい素化合物及びその製造方法
JP3124913B2 (ja) 末端にビニル含有酸アミド基を有するフッ素化ポリエーテルの精製方法
JPH07247294A (ja) ケチミン構造含有有機けい素化合物の製造方法
JP3594113B2 (ja) 含フッ素アミド化合物
JPH0753719A (ja) 含フッ素オルガノポリシロキサン化合物の製造方法
JP3823337B2 (ja) γー(メタ)アクリロキシプロピルシラン化合物の製造方法
JP3022070B2 (ja) 含フッ素オルガノポリシロキサン及びその製造方法
JP2652304B2 (ja) 含フッ素有機ケイ素化合物
JPH0717752B2 (ja) アルコキシ官能性オルガノポリシロキサンの製造方法
JP2015515449A (ja) 有機ケイ素化合物及び親水性表面を生成するための該有機ケイ素化合物の使用
JP4055429B2 (ja) 含フッ素有機ケイ素化合物
JP2009215358A (ja) 含フッ素オルガノハイドロジェンシロキサン及びその製法
JP2625624B2 (ja) アミノ基含有オルガノポリシロキサンの製造方法
JP3580341B2 (ja) 有機フッ素化合物
JP3150576B2 (ja) 有機けい素化合物
JP3212248B2 (ja) アクリロキシ基含有オルガノポリシロキサンの製造方法
JP2003137891A (ja) 含フッ素有機ケイ素化合物
JPH08134084A (ja) 有機けい素化合物
JP2000226413A (ja) 含フッ素有機ケイ素化合物の製造方法
JP3257414B2 (ja) 環状エーテル基を有するオルガノポリシロキサン
JPH09216891A (ja) 有機ケイ素化合物

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040707

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040906

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041012

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20041104

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041214

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050119

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050201

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080218

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110218

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees