JP2000053685A - 有機けい素化合物及びその製造方法 - Google Patents

有機けい素化合物及びその製造方法

Info

Publication number
JP2000053685A
JP2000053685A JP10232252A JP23225298A JP2000053685A JP 2000053685 A JP2000053685 A JP 2000053685A JP 10232252 A JP10232252 A JP 10232252A JP 23225298 A JP23225298 A JP 23225298A JP 2000053685 A JP2000053685 A JP 2000053685A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
formula
fluorine
embedded image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10232252A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3646771B2 (ja
Inventor
Kenichi Fukuda
健一 福田
Hirobumi Kinoshita
博文 木下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP23225298A priority Critical patent/JP3646771B2/ja
Priority to US09/366,788 priority patent/US6114562A/en
Priority to DE69907094T priority patent/DE69907094T2/de
Priority to EP99306190A priority patent/EP0982312B1/en
Publication of JP2000053685A publication Critical patent/JP2000053685A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3646771B2 publication Critical patent/JP3646771B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 下記一般式(1)で示される有機けい素
化合物。 【化1】 (但し、式中Rfは一価のパーフルオロアルキル基又は
パーフルオロポリエーテル基、R1は二価の有機基、R2
は一価の炭化水素基、R3は二価の炭化水素基、aは
0,1又は2である。) 【効果】 本発明の新規な有機けい素化合物は、−Si
H基含有化合物と、−CH=CH2基含有化合物とのヒ
ドロシリル化反応の反応制御剤として有用である。特
に、フッ素含有率の高いフロロシリコーン、パーフルオ
ロポリマーなどに完全相溶するため、分離することもな
く、付加反応制御効果も高いものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも1個の
エチニル基を有し、ヒドロシリル化反応の制御剤として
有用な含フッ素有機けい素化合物及びその製造方法に関
する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】付加硬
化型シリコーンゴム組成物は、素反応として、次の式で
示されるヒドロシリル化反応により架橋を起こし、エラ
ストマーとなる。
【0003】
【化4】
【0004】従来、この反応を制御する(可使時間を必
要としたり、保存性を得る)ために、下記に示すような
エチニル基含有化合物が使用されている。
【0005】
【化5】
【0006】しかしながら、これらの化合物は、フッ素
含有率の高いフロロシリコーン、パーフルオロポリマー
などには相溶しないため、分離や反応系の不均一の原因
となる可能性がある。
【0007】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、−SiH基含有化合物と、−CH=CH2基含有化
合物とのヒドロシリル化反応の反応制御剤として有用
な、特に、フッ素含有率の高いフロロシリコーン、パー
フルオロポリマーなどに完全に相溶するため、分離する
こともなく、付加反応制御効果の高い新規有機けい素化
合物及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結
果、下記一般式(2)で示される含フッ素クロルシラン
と、下記一般式(3)で示されるエチニル基含有アルコ
ール化合物とを反応させることにより、下記一般式
(1)で示される含フッ素有機けい素化合物が得られる
こと、そしてこの含フッ素有機けい素化合物がヒドロシ
リル化反応の制御剤として有用であることを知見し、本
発明をなすに至ったものである。
【0009】
【化6】 (但し、式中Rfは一価のパーフルオロアルキル基又は
パーフルオロポリエーテル基、R1は二価の有機基、R2
は一価の炭化水素基、R3は二価の炭化水素基、aは
0,1又は2である。)
【0010】従って、本発明は上記式(1)の有機けい
素化合物、及び、上記式(2)の含フッ素クロルシラン
と式(3)のエチニル基を有するアルコールとを反応さ
せることからなる式(1)の有機けい素化合物を提供す
る。
【0011】以下、本発明につき更に詳細に説明する
と、本発明の新規有機けい素化合物は下記一般式(1)
で示されるものである。
【0012】
【化7】
【0013】上記式(1)において、Rfは一価のパー
フルオロアルキル基又はパーフルオロポリエーテル基で
あり、例えば下記式で示されるものが挙げられる。
【0014】
【化8】 (mは1〜15、特に3〜10の整数、nは1〜8、特
に1〜5の整数を示す。)
【0015】R1は二価の有機基であればよく、特に限
定されるものではないが、間に酸素や窒素又はカルボニ
ル基を介在させても又は末端に有してもよい炭素数1〜
6の低級アルキレン基であり、例えば下記式で示される
ものが挙げられる。
【0016】
【化9】 (pは1〜6、特に2〜4の整数、qは0〜5、特に2
〜4の整数を示す。)
【0017】R2は一価の炭化水素基であればよく、特
に限定されるものではないが、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素
数1〜6の低級アルキル基、シクロヘキシル基等のシク
ロアルキル基やフェニル基等のアリール基、ベンジル基
等のアラルキル基などを挙げることができる。
【0018】R3は二価の炭化水素基であればよく、特
に限定されるものではないが、下記に示すものが好まし
い。
【0019】
【化10】
【0020】式中、R4,R5はそれぞれに独立した一価
の炭化水素基であればよく、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、デシル基等の炭素数1〜10のアルキル基などを
挙げることができる。
【0021】また、aは0,1又は2であり、1分子中
に少なくとも1個のエチニル基を有するものとする。
【0022】本発明の有機けい素化合物は、例えば、含
フッ素クロルシラン化合物と、エチニル基含有アルコー
ル化合物とを尿素などの受酸剤の存在下で合成すること
ができる。
【0023】この場合、出発原料となる含フッ素クロル
シランとしては、下記一般式(2)で示されるものが好
適に使用される。
【0024】
【化11】 (式中、Rf、R1、R2及びaは前記に同じ。) 具体例としては、下記に示すもの等が挙げられる。
【0025】
【化12】
【0026】また、エチニル基含有アルコール化合物と
しては、下記一般式(3)で示されるものが好適に使用
される。 HO−R3−C≡CH …(3) (式中、R3は前記に同じ。)具体例としては、下記に
示すもの等が挙げられる。
【0027】
【化13】
【0028】なお、上記の反応において、式(2)のシ
ランの塩素原子1モルに対し式(3)のアルコールは1
〜2モルの割合で反応させることが好ましく、受散剤の
使用量は式(2)のシランの塩素原子1モルに対して1
〜2モルが好ましい。反応は次工程への進行の都合上無
溶媒が好ましい。反応は窒素等の不活性ガス雰囲気で行
うことが好ましく、反応温度は室温(20℃)〜100
℃が好ましい。なお、反応時間は通常4〜24時間であ
る。
【0029】本発明の有機けい素化合物は、ヒドロシリ
ル化反応の反応制御剤として使用され、特にアルケニル
基含有化合物とSiH基含有化合物との白金系触媒の存
在下でのヒドロシリル化反応において、アルケニル基含
有化合物及びSiH基含有化合物のいずれか一方又は双
方にフッ素原子を有する場合に、これら化合物に対する
相溶性を有するため、そのヒドロシリル化の反応制御剤
として有効に用いられる。
【0030】
【実施例】以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明
するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではな
い。
【0031】〔実施例1〕下記式(4)で示されるエチ
ニル基含有化合物19.5g(0.23モル)と尿素1
9.5g(0.21モル)を撹拌装置、冷却管、温度計
を備えた100ml三つ口フラスコ内に仕込み、撹拌し
た。
【0032】窒素置換後、内温50℃に加熱し、滴下ロ
ートにて下記式(5)の含フッ素ジクロルシラン50.
0g(0.089モル)を滴下した。
【0033】
【化14】
【0034】内温60℃にて16時間撹拌し、冷却後、
分液により下層を取り出した。再び、上記と同様な装置
に、分液により得られた生成物を仕込み、中和のためプ
ロピレンオキシド0.3gを添加し、40℃,1時間撹
拌した。
【0035】撹拌後、バス温100℃,減圧度1mmH
gにてストリップした。冷却後、塩を除去するため、加
圧濾過を行った。得られた濾液を減圧蒸留し、下記に示
す化合物34.4gを得た(収率59%、b.p.11
5℃/1mmHg)。
【0036】
【化15】
【0037】得られた留分の分子構造を確認するため、
GC−MS分析、IRスペクトルを測定したところ、以
下に示す結果を得た。
【0038】
【化16】
【0039】〔実施例2〕実施例1にて使用したエチニ
ル基含有化合物4.4g(0.052モル)、尿素3.
0g(0.049モル)を実施例1と同様な装置に仕込
み、撹拌した。
【0040】窒素置換後、内温50℃に加熱し、滴下ロ
ートにて下記式(6)の含フッ素クロルシラン17.8
g(0.0395モル)を滴下した。
【0041】
【化17】
【0042】7時間後冷却し、分液して下層を回収し
た。これを実施例1と同様にプロピレンオキシド0.0
4gを添加し、中和を行った。
【0043】更に、実施例1と同様な後処理を行い、減
圧蒸留により下記に示す化合物8.4gを得た(収率4
2%、b.p.90℃/3mmHg)。
【0044】
【化18】
【0045】得られた留分の分子構造を確認するため、
GC−MS分析、IRスペクトルを測定したところ、以
下に示す結果を得た。
【0046】
【化19】
【0047】
【発明の効果】本発明の新規な有機けい素化合物は、−
SiH基含有化合物と、−CH=CH2基含有化合物と
のヒドロシリル化反応の反応制御剤として有用である。
特に、フッ素含有率の高いフロロシリコーン、パーフル
オロポリマーなどに完全相溶するため、分離することも
なく、付加反応制御効果も高いものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1の化合物のIRスペクトルである。
【図2】実施例2の化合物のIRスペクトルである。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成11年11月17日(1999.11.
17)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0044
【補正方法】変更
【補正内容】
【0044】
【化18】
フロントページの続き Fターム(参考) 4H049 VN01 VP01 VQ20 VR20 VR40 VS12 VT40 VT43 VT45 VU32 VW02

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1)で示される有機けい素
    化合物。 【化1】 (但し、式中Rfは一価のパーフルオロアルキル基又は
    パーフルオロポリエーテル基、R1は二価の有機基、R2
    は一価の炭化水素基、R3は二価の炭化水素基、aは
    0,1又は2である。)
  2. 【請求項2】 下記一般式(2) 【化2】 (但し、式中Rfは一価のパーフルオロアルキル基又は
    パーフルオロポリエーテル基、R1は二価の有機基、R2
    は一価の炭化水素基、aは0,1又は2である。)で示
    される含フッ素クロルシランと、下記一般式(3) HO−R3−C≡CH …(3) (但し、式中R3は二価の炭化水素基である。)で示さ
    れるエチニル基を有するアルコールとを反応させること
    を特徴とする下記一般式(1) 【化3】 (但し、式中Rf,R1,R2,R3,aは上記と同
    じ。)で示される有機けい素化合物の製造方法。
JP23225298A 1998-08-04 1998-08-04 有機けい素化合物及びその製造方法 Expired - Fee Related JP3646771B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23225298A JP3646771B2 (ja) 1998-08-04 1998-08-04 有機けい素化合物及びその製造方法
US09/366,788 US6114562A (en) 1998-08-04 1999-08-04 Organosilicon compounds and method of making
DE69907094T DE69907094T2 (de) 1998-08-04 1999-08-04 Organosiliziumverbindungen und deren Herstellung
EP99306190A EP0982312B1 (en) 1998-08-04 1999-08-04 Organosilicon compounds and method of making

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23225298A JP3646771B2 (ja) 1998-08-04 1998-08-04 有機けい素化合物及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000053685A true JP2000053685A (ja) 2000-02-22
JP3646771B2 JP3646771B2 (ja) 2005-05-11

Family

ID=16936370

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23225298A Expired - Fee Related JP3646771B2 (ja) 1998-08-04 1998-08-04 有機けい素化合物及びその製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6114562A (ja)
EP (1) EP0982312B1 (ja)
JP (1) JP3646771B2 (ja)
DE (1) DE69907094T2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1604968A1 (en) 2004-06-07 2005-12-14 Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. Acetylene alcohols having a fluoroalkyl group and methods for preparing the same
US7067688B2 (en) 2004-11-09 2006-06-27 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Acetylene alcohol and method for preparing the same

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10361893A1 (de) * 2003-12-19 2005-07-21 Degussa Ag Spezielles Verfahren zur Herstellung von Fluoralkylgruppen tragenden Siliciumverbindungen durch Hydrosilylierung
JP5343911B2 (ja) * 2010-04-09 2013-11-13 信越化学工業株式会社 無溶剤型シリコーン粘着剤用離型剤組成物及び剥離シート

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4692537A (en) * 1981-10-16 1987-09-08 Mcalister Roy E Organosilicon compounds
US5011963A (en) * 1988-02-09 1991-04-30 Matsushita Electric Ind., Co., Ltd. Terminal perfluoroalkylsilane compounds
JP3098946B2 (ja) * 1995-09-21 2000-10-16 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 剥離性硬化皮膜形成性オルガノポリシロキサン組成物
US5834612A (en) * 1996-05-18 1998-11-10 Asahi Glass Company Ltd. Fluorine-containing organic compound
DE19644561C2 (de) * 1996-10-26 2003-10-16 Degussa Verfahren zur Herstellung von Fluoralkyl-Gruppen tragenden Silicium-organischen Verbindungen

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1604968A1 (en) 2004-06-07 2005-12-14 Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. Acetylene alcohols having a fluoroalkyl group and methods for preparing the same
US7335785B2 (en) 2004-06-07 2008-02-26 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Acetylene alcohols having a fluoroalkyl group and methods for preparing the same
US7067688B2 (en) 2004-11-09 2006-06-27 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Acetylene alcohol and method for preparing the same

Also Published As

Publication number Publication date
US6114562A (en) 2000-09-05
JP3646771B2 (ja) 2005-05-11
DE69907094T2 (de) 2004-02-19
EP0982312B1 (en) 2003-04-23
DE69907094D1 (de) 2003-05-28
EP0982312A1 (en) 2000-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4499342B2 (ja) SiH基を含有する含窒素有機系化合物の製造方法
US9951185B2 (en) Aminosiloxanes of high purity
JPH10287685A (ja) イソシアナトオルガノシランの製造方法
JP3121245B2 (ja) 含フッ素有機ケイ素化合物及びその製造方法並びにそれを含有する室温硬化性シリコーン組成物
JP2000053685A (ja) 有機けい素化合物及びその製造方法
JP3124913B2 (ja) 末端にビニル含有酸アミド基を有するフッ素化ポリエーテルの精製方法
JPH07247294A (ja) ケチミン構造含有有機けい素化合物の製造方法
EP0423686B1 (en) Silacyclobutanes and process for preparation
JP3823337B2 (ja) γー(メタ)アクリロキシプロピルシラン化合物の製造方法
JP3137439B2 (ja) 1−アザ−2−シラシクロブタン化合物及びその製造法
JPH10330386A (ja) 有機シリル基及びカルバメート結合含有アルコキシシラン化合物
JPH0717752B2 (ja) アルコキシ官能性オルガノポリシロキサンの製造方法
JPH06228161A (ja) イソシアネート基含有オルガノポリシロキサンの製造方法
JPH04128292A (ja) γ―メタクリロキシプロピルシラン化合物の製造方法
JP4055429B2 (ja) 含フッ素有機ケイ素化合物
JP2002012597A (ja) 有機ケイ素化合物
JP3212248B2 (ja) アクリロキシ基含有オルガノポリシロキサンの製造方法
JP3124910B2 (ja) シクロトリシロキサン及びその製造方法
JP2625624B2 (ja) アミノ基含有オルガノポリシロキサンの製造方法
JP3150576B2 (ja) 有機けい素化合物
JP2644160B2 (ja) イソシアネート基含有オルガノポリシロキサンの製造方法
JP4791276B2 (ja) ジシラノール化合物の製造方法及び保存方法
JP2003137891A (ja) 含フッ素有機ケイ素化合物
JPH06228163A (ja) ゲル化性シラン化合物の蒸留方法
JP2554412B2 (ja) シラン架橋性アルキレンオキシド重合体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040707

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040906

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041012

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20041104

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041214

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050119

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050201

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080218

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110218

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees