JP3550954B2 - 高ヒステリシス幅入力回路 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明はMOSFETをもちいた半導体集積回路装置において、入力信号のノイズによる誤動作や不安定さを除去するために入力回路の入力信号が高電位から低電位へ、あるいは低電位から高電位へ遷移する際にロジックレベルにヒステリシスを設けた入力回路において、低電圧の電源の場合においてもヒステリシス幅を充分に大きく確保する回路の構成に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来のヒステリシスを有する入力回路は、インバータ回路と等価な回路を構成し、入力信号に必ず支配され、かつそのロジックレベルを決定する大きな要因であるP型MOSFETのコンダクタンス定数βPとN型MOSFETのコンダクタンス定数βNの比を2種設け、該2種のβPとβNの比を前の状態によって変える回路構成をとっていた。例えば図7は入力信号が入力したインバータ回路を2個設け、その内の1個を前の状態を記憶した信号によってオン(ON)、オフ(OFF)することによりβPとβNの比を変えロジックレベルを変化させることにより、前の状態によってロジックレベルに差をつけていた。つまりヒステリシスを作り出していた。また、図6は別の回路例であり、特開昭58−182914号公報に示されたものであるが、この回路もβ比の差によるインバータ回路としてのロジックレベルの差を利用してヒステリシスを作り出していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
さて、前述した従来のヒステリシスを有する入力回路は等価回路としてインバータ回路であるが、インバータ回路のロジックレベルは図5のように、P型MOSFETとN型MOSFETのコンダクタンス定数をそれぞれβP、βNとし、またスレッショルド電圧をそれぞれVTP、VTNとする。また電源電圧VDD、基準の接地電位0、ロジックレベルをVGLとすると、
このとき、
1/2・βP(VDD−VGL−VTP)2=1/2・βN(VGL−VTN)2が成立ち、ロックレベルVGLは
VGL={VDD−VTP+(βN/βP)1/2・VTN}/{1+(βN/βP)1/2}
となる。したがって、P型MOSFETとN型MOSFETの形状を変えて、
(βN/βP)を0から無限大まで変えればロジックレベルが変わるので、
VTN≦VGL≦VDD−VTP
の範囲に限定され、高い方のロジックレベルVIHは(βN/βP)が0のときで
VIH=VDD−VTP
となり、また低い方のロジックレベルVILは(βN/βP)が無限大のときでVIL=VTN
である。したがってヒステリシス幅VWHLは
VWHL=VDD−VTP−VTN
となる。ただし、(βN/βP)を0や無限大にすることは実態として不可であるため、実際にはこれより更にヒステリシス幅は小さくなる。したがって電源電圧VDDが低い電圧、例えば1.5V程度になるとVTPやVTNは0.5Vから0.7V程度であるのでヒステリシス幅は非常に小さくなり、当初の目的を果たさなくなる。なお、この様子を示したのが図4である。したがって従来のヒステリシスを有する入力回路は低電圧ではヒステリシス幅が大きくとれないという問題点があった。
【0004】
また、(βN/βP)を変えるためにP型MOSFETとN型MOSFETの形状を不自然な程、変える必要があるため大きなチップ面積を占有したり、駆動能力を小さくして応答性が低下したりする問題点があった。
【0005】
そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、その目的とするところは低電圧においても比較的に大きなヒステリシス幅を有する入力回路を提供することである。
【0006】
また、比較的に大きなヒステリシス幅を有する入力回路を妥当なチップ面積で具現化できる回路を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決し本発明の目的を達成するために、請求項1〜請求項3に記載の各発明は、以下の様に構成した。
すなわち請求項1に記載の発明は、絶縁ゲート電界効果型トランジスタ(以下MOSFETと略す)を用いた半導体集積回路装置の高ヒステリシス幅入力回路において、
ソース電極が正極の第1の電源に接続された第1のP型MOSFETとソース電極が負極の第2の電源に接続された第1のN型MOSFETとからなり、かつ前記第1のP型MOSFETと前記第1のN型MOSFETのそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞれのドレイン電極も互いに接続された構成による第1のインバータ回路と、
ソース電極が前記第1の電源に接続された第2のP型MOSFETとソース電極が前記第2の電源に接続された第2のN型MOSFETとからなり、かつ前記第2のP型MOSFETと前記第2のN型MOSFETのそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞれのドレイン電極も互いに接続された構成による第2のインバータ回路と、
ソース電極が前記第1の電源に接続され、ドレイン電極は前記第1のインバータ回路の前記第1のP型MOSFETのドレイン電極に接続された第3のP型MOSFETと、
ソース電極が前記第2の電源に接続され、ドレイン電極は前記第2のインバータ回路の前記第2のN型MOSFETのドレイン電極に接続された第3のN型MOSFETと、
第1の入力端子と第2の入力端子と出力端子を備えるラッチ回路とを、
有し、
前記第1のインバータの入力が前記第2のインバータの入力に接続され、前記第3のP型MOSFETのドレインが前記ラッチ回路の前記第1の入力に接続され、前記第3のN型MOSFETのドレインが前記ラッチ回路の前記第2の入力に接続され、前記第3のP型MOSFETのゲートと前記第3のN型MOSFETのゲートが前記ラッチ回路の前記出力端子に接続されていることを特徴とするものである。
請求項2に記載の発明は、絶縁ゲート電界効果型トランジスタ(以下MOSFETと略す)を用いた半導体集積回路装置の高ヒステリシス幅入力回路において、
ソース電極が正極の第1の電源に接続された第1のP型MOSFETとソース電極が負極の第2の電源に接続された第1のN型MOSFETとからなり、かつ前記第1のP型MOSFETと前記第1のN型MOSFETのそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞれのドレイン電極も互いに接続された構成による第1のインバータ回路と、
ソース電極が前記第1の電源に接続された第2のP型MOSFETとソース電極が前記第2の電源に接続された第2のN型MOSFETとからなり、かつ前記第2のP型MOSFETと前記第2のN型MOSFETのそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞれのドレイン電極も互いに接続された構成による第2のインバータ回路と、
ソース電極が前記第1の電源に接続され、ドレイン電極は前記第1のインバータ回路の前記第1のP型MOSFETのドレイン電極に接続された第3のP型MOSFETと、
ソース電極が前記第2の電源に接続され、ドレイン電極は前記第2のインバータ回路の前記第2のN型MOSFETのドレイン電極に接続された第3のN型MOSFETと、
第1のNAND回路と第2のNAND回路と第3のインバータからなるラッチ回路であって、前記ラッチ回路の第1の入力端子が前記第1のNAND回路の一つの入力端子に接続され、前記第2のNAND回路の出力が前記第1のNAND回路の他のひとつの入力端子に接続され、前記ラッチ回路の第2の入力端子が第3のインバータを介して前記第2のNAND回路のひとつの入力端子に接続され、前記第1のNAND回路の出力が前記第2のNAND回路の他のひとつの入力端子に接続され、前記第1のNAND回路の出力端子が前記ラッチ回路の出力端子である前記ラッチ回路とを、
有し、
前記第1のインバータの入力が前記第2のインバータの入力に接続され、前記第3のP型MOSFETのドレインが前記ラッチ回路の第1の入力端子に接続され、前記第3のN型MOSFETのドレインが前記ラッチ回路の前記第2の入力端子に接続され、前記第3のP型MOSFETのゲートと前記第3のN型MOSFETのゲートが前記ラッチ回路の前記出力端子に接続されていることを特徴とするものである。
請求項3に記載の発明は、絶縁ゲート電界効果型トランジスタ(以下MOSFETと略す)を用いた半導体集積回路装置の高ヒステリシス幅入力回路において、
ソース電極が正極の第1の電源に接続された第1のP型MOSFETとソース電極が負極の第2の電源に接続された第1のN型MOSFETとからなり、かつ前記第1のP型MOSFETと前記第1のN型MOSFETのそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞれのドレイン電極も互いに接続された構成による第1のインバータ回路と、
ソース電極が前記第1の電源に接続された第2のP型MOSFETとソース電極が前記第2の電源に接続された第2のN型MOSFETとからなり、かつ前記第2のP型MOSFETと前記第2のN型MOSFETのそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞれのドレイン電極も互いに接続された構成による第2のインバータ回路と、
ソース電極が前記第1の電源に接続され、ドレイン電極は前記第1のインバータ回路の前記第1のP型MOSFETのドレイン電極に接続された第3のP型MOSFETと、
ソース電極が前記第2の電源に接続され、ドレイン電極は前記第2のインバータ回路の前記第2のN型MOSFETのドレイン電極に接続された第3のN型MOSFETと、
第1のNOR回路と第2のNOR回路と第3のインバータからなるラッチ回路であって、前記ラッチ回路の第1の入力端子が第3のインバータを介して前記第1のNOR回路の一つの入力端子に接続され、前記第2のNOR回路の出力が前記第1のNOR回路の他のひとつの入力端子に接続され、前記ラッチ回路の前記第2の入力端子が前記第2のNOR回路のひとつの入力端子に接続され、前記第1のNOR回路の出力が前記第2のNOR回路の他のひとつの入力端子に接続され、前記第2のNOR回路の出力端子が前記ラッチ回路の出力端子である前記ラッチ回路とを、
有し、
前記第1のインバータの入力が前記第2のインバータの入力に接続され、前記第3のP型MOSFETのドレインが前記ラッチ回路の第1の入力端子に接続され、前記第3のN型MOSFETのドレインが前記ラッチ回路の第2の入力端子に接続され、前記第3のP型MOSFETのゲートと前記第3のN型MOSFETのゲートが前記ラッチ回路の前記出力端子に接続されていることを特徴とするものである。
【0008】
【作用】
本発明の上記の構成によれば、ロジックレベルは入力信号によってのみ制御されるインバータ回路の(βN/βP)比だけではなく前の状態を記憶したラッチ回路の信号によってのみ制御されるMOSFETとの総合効果によって決定されので前述したインバータ回路のロジックレベルの制限が解除されることとなり、ロジックレベルの設定の自由度の範囲が増す。またP型MOSFETを付加した第1の入力回路とN型MOSFETを付加した第2の入力回路を設けることにより、(βN/βP)の設定の自由度が増し、設計が容易になると同時にヒステリシス幅を大きく出来る。またラッチ回路を設けたことにより、ヒステリシスを持たせられると同時に過渡状態による不安定さが少なくなる。また(βN/βP)を無理に極端な値に設定しなくともロジックレベルの値の設定が容易であるので、極端なMOSFETの形状が不要となり、妥当なチップ面積の回路が実現する。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、実施例により本発明の詳細を示す。図1は本発明の高ヒステリシス幅入力回路の第1の実施例を示す回路図である。図1において11はP型MOSFETであり、ソース電極は正極の電源+VDDに接続されている。12はN型MOSFETであり、ソース電極は負極の電源−VSSに接続されている。P型MOSFET11とN型MOSFET12のそれぞれのゲート電極は互いに接続され、またそれぞれのドレイン電極も互いに接続されインバータ回路13を構成している。
【0010】
また15はP型MOSFETであり、ソース電極は正極の電源+VDDに接続されている。16はN型MOSFETであり、ソース電極は負極の電源−VSSに接続されている。P型MOSFET15とN型MOSFET16のそれぞれのゲート電極は互いに接続され、またそれぞれのドレイン電極も互いに接続されインバータ回路17を構成している。21、22はNAND回路(非論理積回路)である。
【0011】
NAND回路21の出力はNAND回路22の第2ゲートに入力し、NAND回路22の出力はNAND回路21の第2ゲートに入力している。また、インバータ回路13の出力はNAND回路21の第1ゲートに入力している。23はインバータ回路である。インバータ回路17の出力はインバータ回路23のゲートに入力し、インバータ回路23の出力はNAND回路22の第1ゲートに入力している。NAND回路21、22およびインバータ回路23によって図の破線20に囲まれたラッチ回路を構成している。ラッチ回路の出力端子19はNAND回路21の出力に接続されている。14はP型MOSFETであり、ソース電極は正極の電源+VDDに接続され、ドレイン電極はインバータ回路13の出力に接続され、ゲート電極はNAND回路21の出力に接続されている。18はN型MOSFETであり、ソース電極は負極の電源−VSSに接続され、ドレイン電極はインバータ回路17の出力に接続され、ゲート電極はNAND回路21の出力に接続されている。インバータ回路13とインバータ回路17のそれぞれの入力は互いに接続され、入力回路としての入力信号端子10となっている。
【0012】
さて、入力信号端子10が初め低電位であるとする。このときラッチ回路20の出力19は低電位であり、P型MOSFET14はオン(ON)、N型MOSFET18はオフ(OFF)している。つぎに入力信号10の電位が除々に高くなっていくと、まずインバータ回路17の出力が高電位から低電位に変わるがNAND回路21の出力は低電位であるのでラッチ回路20としての出力は変化しない。そして更に入力信号10の電位が高くなって行き、N型MOSFET12の駆動能力がP型MOSFET11とP型MOSFET14の駆動能力の合計を上回ったとき、インバータ回路13の出力は高電位から低電位に変わり、ラッチ回路20の出力19は低電位から高電位に変わり、P型MOSFET14がオフし、またN型MOSFET18がオンする。この結果、インバータ回路13とP型MOSFET14から決まるロジックレベルは変化するとともに、インバータ回路17とN型MOSFET18から決まるロジックレベルも変化する。さて、つぎに入力信号10の電位が高電位から低電位になっていくと、N型MOSFET18がオンしているため、まずインバータ回路13の出力が低電位から高電位に変わるがNAND回路22の出力は低電位であるのでラッチ回路20としての出力は変化しない。そして更に入力信号10の電位が低くくなって行き、P型MOSFET15の駆動能力がN型MOSFET16とN型MOSFET18の駆動能力の合計を上回ったとき、インバータ回路17の出力は低電位から高電位に変わり、ラッチ回路20の出力19は高電位から低電位に変わり、P型MOSFET14がオンし、またN型MOSFET18がオフする。この結果、インバータ回路13とP型MOSFET14から決まるロジックレベルは再度変化するとともに、インバータ回路17とN型MOSFET18から決まるロジックレベルも再び変化する。このP型MOSFET14とN型MOSFET18のオン、オフによる相違分がヒステリシスを生じる要因である。
【0013】
さて、P型MOSFET11、14とN型MOSFET12のそれぞれのコンダクタンス定数をβP1、βP2、βNとし、またそれぞれのスレッショルド電圧をVTP、VTP、VTNとし、P型MOSFET14がオンしているときの、P型MOSFET14とインバータ回路13によるロジックレベルVGLは
1/2・βP1(VDD−VGL−VTP)2+1/2・βP2(VDD−VTP)2
=1/2・βN(VGL−VTN)2
が成立ち、ロックレベルVGL(VIH)は分かりやすさの観点からまず、VDDが低電圧、βP1≪βP2等の仮定を入れると
VIH≒VTN+(βP2/βN)1/2・(VDD−VTP)
となる。ここで(βP2/βN)の値を0から無限大まで変化させると
VTN≦VIN≦∞
の電源電位を越えての範囲まで設定できることが解る。また、このとき仮に
(βP2/βN)1/2=(VDD−VTN)/(VDD−VTP)
に設定すると
VIH≒VDD
となり、前述したインバータ回路のVIHの上限が(VDD−VTP)までしかないのに比較して広がったことが解る。また
(βP2/βN)1/2=(VDD−VTN)/(VDD−VTP)
の設定も容易にできるものであり、レイアウトパターンの設計においても自然なものであるので、チップ面積の増大や応答性の低下などの問題を引き起こさないことも解る。
【0014】
さて、N型MOSFET16、18とP型MOSFET15のそれぞれのコンダクタンス定数をβN1、βN2、βPとし、またそれぞれのスレッショルド電圧をVTN、VTN、VTPとし、N型MOSFET18がオンしているときの、N型MOSFET18とインバータ回路17によるロジックレベルVGLは
1/2・βN1(VGL−VTN)2+1/2・βN2(VDD−VTN)2
=1/2・βP(VDD−VGL−VTP)2
が成立ち、ロックレベルVGL(VIL)は分かりやすさの観点からまず、VD Dが低電圧、βN1≪βN2等の仮定を入れると
VIL≒VDD−VTP−(βN2/βP)1/2・(VDD−VTN)
となる。ここで(βP2/βN)の値を0から無限大まで変化させると
−∞≦VIL≦VDD−VTP
の電源電位を越えての範囲まで設定できることが解る。また、このとき仮に
(βN2/βP)1/2=(VDD−VTP)/(VDD−VIN)
に設定すると
VIL≒0
となり、前述したインバータ回路のVIHの下限がVTNまでしかないのに比較して広がったことが解る。また
(βN2/βP)1/2=(VDD−VTP)/(VDD−VTN)
の設定も容易にできるものであり、レイアウトパターンの設計においても自然なものであるので、チップ面積の増大や応答性の低下などの問題を引き起こさないことも解る。
【0015】
以上のVIH,VILをラッチ回路によって使いわければ
−∞≦VGL≦+∞
まで原理的には設定可能である。そこまで範囲を広げなくとも前述した自然な条件設定によって
0≦VGL≦+VDD
が容易に可能となる。これは従来のインバータ回路の切り替えによる
VTN≦VGL≦VDD−VTP
に比較すると範囲が大きく広がり、ヒステリシス幅が大きくとれることが解る。またこの効果は低電圧の際に大きい。なお、以上の様子を図示したのが図3である。
【0016】
さて、図1のラッチ回路は単なる一例であり、別のラッチ回路の例を図2に示す。
【0017】
また、図1の実施例のとき解り易さのために
βP1≪βP2やβN1≪βN2
の仮定を設けたが、これらの仮定は必ずしも必要はない。
【0018】
【発明の効果】
以上、述べたように本発明によれば、低電圧においてもヒステリシス幅の大きなヒステリシス入力回路が提供できるという効果がある。
【0019】
したがって、低電圧においてもノイズに強いヒステリシス入力回路が提供できるという効果がある。
【0020】
また、P型MOSFETを付加した第1の入力回路とN型MOSFETを付加した第2の入力回路を設けることにより、VIH、VILの設定が設計上、容易であり、かつ製造上の変動も安定するという効果がある。
【0021】
また、P型MOSFETを付加した第1の入力回路とN型MOSFETを付加した第2の入力回路とラッチ回路を設けることにより、過渡状態においても不安定さの少ないヒステリシス回路を提供できるという効果がある。
【0022】
また、P型MOSFETとN型MOSFETの形状比に無理がないので妥当なチップ面積と応答性で具現化できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示す回路図である。
【図2】本発明の中に用いるラッチ回路の第2の実施例を示す回路図である。
【図3】本発明の回路のヒステリシスを持つ様子を図示した電気特性図である。
【図4】従来の回路のヒステリシスを持つ様子を図示した電気特性図である。
【図5】本発明の回路および従来回路において用いるインバータ回路の構成を示す回路図である。
【図6】従来回路の例を示す回路図である。
【図7】従来回路の例を示す回路図である。
【符号の説明】
10・・・入力信号端子
11、14、15・・・P型MOSFET
12、16、18・・・N型MOSFET
13、17、23・・・インバータ回路
19・・・出力端子
20・・・ラッチ回路
21、22・・・NAND回路
Claims (3)
- 絶縁ゲート電界効果型トランジスタを用いた半導体集積回路装置の高ヒステリシス幅入力回路において、
ソース電極が正極の第1の電源に接続された第1のP型MOSFETとソース電極が負極の第2の電源に接続された第1のN型MOSFETとからなり、かつ前記第1のP型MOSFETと前記第1のN型MOSFETのそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞれのドレイン電極も互いに接続された構成による第1のインバータ回路と、
ソース電極が前記第1の電源に接続された第2のP型MOSFETとソース電極が前記第2の電源に接続された第2のN型MOSFETとからなり、かつ前記第2のP型MOSFETと前記第2のN型MOSFETのそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞれのドレイン電極も互いに接続された構成による第2のインバータ回路と、
ソース電極が前記第1の電源に接続され、ドレイン電極は前記第1のインバータ回路の前記第1のP型MOSFETのドレイン電極に接続された第3のP型MOSFETと、
ソース電極が前記第2の電源に接続され、ドレイン電極は前記第2のインバータ回路の前記第2のN型MOSFETのドレイン電極に接続された第3のN型MOSFETと、
第1の入力端子と第2の入力端子と出力端子を備えるラッチ回路とを、
有し、
前記第1のインバータの入力が前記第2のインバータの入力に接続され、前記第3のP型MOSFETのドレインが前記ラッチ回路の前記第1の入力に接続され、前記第3のN型MOSFETのドレインが前記ラッチ回路の前記第2の入力に接続され、前記第3のP型MOSFETのゲートと前記第3のN型MOSFETのゲートが前記ラッチ回路の前記出力端子に接続されていることを特徴とする高ヒステリシス幅入力回路。 - 絶縁ゲート電界効果型トランジスタを用いた半導体集積回路装置の高ヒステリシス幅入力回路において、
ソース電極が正極の第1の電源に接続された第1のP型MOSFETとソース電極が負極の第2の電源に接続された第1のN型MOSFETとからなり、かつ前記第1のP型MOSFETと前記第1のN型MOSFETのそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞれのドレイン電極も互いに接続された構成による第1のインバータ回路と、
ソース電極が前記第1の電源に接続された第2のP型MOSFETとソース電極が前記第2の電源に接続された第2のN型MOSFETとからなり、かつ前記第2のP型MOSFETと前記第2のN型MOSFETのそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞれのドレイン電極も互いに接続された構成による第2のインバータ回路と、
ソース電極が前記第1の電源に接続され、ドレイン電極は前記第1のインバータ回路の前記第1のP型MOSFETのドレイン電極に接続された第3のP型MOSFETと、
ソース電極が前記第2の電源に接続され、ドレイン電極は前記第2のインバータ回路の前記第2のN型MOSFETのドレイン電極に接続された第3のN型MOSFETと、
第1のNAND回路と第2のNAND回路と第3のインバータからなるラッチ回路であって、前記ラッチ回路の第1の入力端子が前記第1のNAND回路の一つの入力端子に接続され、前記第2のNAND回路の出力が前記第1のNAND回路の他のひとつの入力端子に接続され、前記ラッチ回路の第2の入力端子が第3のインバータを介して前記第2のNAND回路のひとつの入力端子に接続され、前記第1のNAND回路の出力が前記第2のNAND回路の他のひとつの入力端子に接続され、前記第1のNAND回路の出力端子が前記ラッチ回路の出力端子である前記ラッチ回路とを、
有し、
前記第1のインバータの入力が前記第2のインバータの入力に接続され、前記第3のP型MOSFETのドレインが前記ラッチ回路の第1の入力端子に接続され、前記第3のN型MOSFETのドレインが前記ラッチ回路の前記第2の入力端子に接続され、前記第3のP型MOSFETのゲートと前記第3のN型MOSFETのゲートが前記ラッチ回路の前記出力端子に接続されていることを特徴とする高ヒステリシス幅入力回路。 - 絶縁ゲート電界効果型トランジスタを用いた半導体集積回路装置の高ヒステリシス幅入力回路において、
ソース電極が正極の第1の電源に接続された第1のP型MOSFETとソース電極が負極の第2の電源に接続された第1のN型MOSFETとからなり、かつ前記第1のP型MOSFETと前記第1のN型MOSFETのそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞれのドレイン電極も互いに接続された構成による第1のインバータ回路と、
ソース電極が前記第1の電源に接続された第2のP型MOSFETとソース電極が前記第2の電源に接続された第2のN型MOSFETとからなり、かつ前記第2のP型MOSFETと前記第2のN型MOSFETのそれぞれのゲート電極は互いに接続され、かつそれぞれのドレイン電極も互いに接続された構成による第2のインバータ回路と、
ソース電極が前記第1の電源に接続され、ドレイン電極は前記第1のインバータ回路の前記第1のP型MOSFETのドレイン電極に接続された第3のP型MOSFETと、
ソース電極が前記第2の電源に接続され、ドレイン電極は前記第2のインバータ回路の前記第2のN型MOSFETのドレイン電極に接続された第3のN型MOSFETと、
第1のNOR回路と第2のNOR回路と第3のインバータからなるラッチ回路であって、前記ラッチ回路の第1の入力端子が第3のインバータを介して前記第1のNOR回路の一つの入力端子に接続され、前記第2のNOR回路の出力が前記第1のNOR回路の他のひとつの入力端子に接続され、前記ラッチ回路の前記第2の入力端子が前記第2のNOR回路のひとつの入力端子に接続され、前記第1のNOR回路の出力が前記第2のNOR回路の他のひとつの入力端子に接続され、前記第2のNOR回路の出力端子が前記ラッチ回路の出力端子である前記ラッチ回路とを、
有し、
前記第1のインバータの入力が前記第2のインバータの入力に接続され、前記第3のP型MOSFETのドレインが前記ラッチ回路の第1の入力端子に接続され、前記第3のN型MOSFETのドレインが前記ラッチ回路の第2の入力端子に接続され、前記第3のP型MOSFETのゲートと前記第3のN型MOSFETのゲートが前記ラッチ回路の前記出力端子に接続されていることを特徴とする高ヒステリシス幅入力回路。
Priority Applications (1)
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