JP3360655B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JP3360655B2
JP3360655B2 JP19396399A JP19396399A JP3360655B2 JP 3360655 B2 JP3360655 B2 JP 3360655B2 JP 19396399 A JP19396399 A JP 19396399A JP 19396399 A JP19396399 A JP 19396399A JP 3360655 B2 JP3360655 B2 JP 3360655B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
bare
bare chip
signal
electrodes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP19396399A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2001024151A (ja
Inventor
佳昭 森下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP19396399A priority Critical patent/JP3360655B2/ja
Priority to US09/611,830 priority patent/US6392292B1/en
Publication of JP2001024151A publication Critical patent/JP2001024151A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3360655B2 publication Critical patent/JP3360655B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0657Stacked arrangements of devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/481Internal lead connections, e.g. via connections, feedthrough structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0556Disposition
    • H01L2224/05568Disposition the whole external layer protruding from the surface
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05573Single external layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001Core members of the bump connector
    • H01L2224/1302Disposition
    • H01L2224/13025Disposition the bump connector being disposed on a via connection of the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16135Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/16145Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06513Bump or bump-like direct electrical connections between devices, e.g. flip-chip connection, solder bumps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06541Conductive via connections through the device, e.g. vertical interconnects, through silicon via [TSV]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06555Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06555Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking
    • H01L2225/06562Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking at least one device in the stack being rotated or offset
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06572Auxiliary carrier between devices, the carrier having an electrical connection structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06596Structural arrangements for testing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、IC、LSI等の
半導体ベアチップを積み重ねた多段スタック構造を有す
る半導体装置に関し、特に、各段の半導体ベアチップの
外部電極パターンが同じになるように工夫した半導体装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、メモリの半導体パッケージを実装
する場合、図7に示すようにDIMM(デュアルライン
メモリモジュール)構造を用いる場合がある。
【0003】図7において、DIMM構造では、TSO
P(thin small outline pack
age)、CSP等の半導体パッケージ100がDIM
M基板101の表面および裏面側に並列に実装されてい
る。
【0004】一方で、特に、実装面積を減らすために、
図7のようなDIMM構造の各半導体パッケージ100
に、複数の半導体パッケージを積み重ねた多段スタック
構造を使用することがある。
【0005】しかし、各半導体パッケージにおいて多段
接続の配線設計を行うと、各段の半導体パッケージで異
なるアドレス線、データ線用の配線を行わなくてはなら
ず、最下段のチップにスルーホールや外部端子を設ける
数が膨大になる。これに起因して積層する段数によって
チップの設計が異なるため半導体の設計・生産が非効率
になる。
【0006】一方、メモリ等の半導体パッケージを積層
する際、パッケージ各段の電極配線パターンの統一化及
び信号線数を効率化するために、各段を選択可能な信号
線(チップセレクト信号)を用いて、各段のアドレス
線、データ線等を共通化する手法がある。
【0007】たとえば、特許第2870530号に記載
されたスタックモジュールがそうである。そのスタック
モジュールは、図8に示すように、メモリ(DRAM)
ベアチップ105をインターポーザ106に実装したも
のをはんだボール107を介して多段に接続したもので
ある。
【0008】そのスタックモジュールでは、何段目のメ
モリベアチップにリードあるいはライトコマンドを実行
するかを選択するチップセレクト信号線を各インターポ
ーザ106に設け、そのチップセレクト信号線の配線を
工夫することで、メモリベアチップ105およびインタ
ーポーザ107のアドレス線、データ線を共通化してい
る。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来、ベアチ
ップだけを各ベアチップの外部接続電極の配線パターン
を同一化して多段に接続する半導体装置に関しては、発
明されていない。特許第2870530号では、配線を
工夫したインターポーザを使用することを前提としてお
り、ベアチップだけの多段接続を実現していない。
【0010】また、ベアチップ自体が薄型化してきてお
り、チップ間隔も狭くなる傾向にある。この場合、ベア
チップの積層後に各段の接続をプローブにより検査する
ことは困難になるものと考えられる。
【0011】本発明の目的は、半導体ベアチップの電極
(パッド)パターンおよび配線設計統一化を図り、チッ
プ積層時の信号線数の効率化及びチップ積層後の検査容
易化を実現した半導体装置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】こうした問題点を解決す
るために、本発明では、ベアチップをチップセレクトパ
ッド1ピッチ分ずらして実装することにより同一設計の
チップで各段専用のチップセレクト信号を供給すること
ができる。
【0013】本発明では、さらにアドレス信号、データ
線等の信号パッドも1ピッチ分ずれることにより、チッ
プ上のパッド及び配線を共通化することができる。
【0014】本発明による半導体装置は、ベアチップ
複数段積み重ね、上下の外部電極同士を接続した構成で
ある。ベアチップの外部電極としては、ベアチップを選
択するための所定の配列ピッチで配列された複数のチッ
プセレクト電極と、ベアチップを機能させる信号が供給
される複数の信号電極とを含む。
【0015】各ベアチップをチップセレクト電極の配列
ピッチと同じ距離だけその配列方向にずらして積み重ね
たとき、上下対向するベアチップの表面と裏面とで同一
の信号電極が重なり合うように配置されていることを特
徴とする。
【0016】具体的に、外部電極は、ベアチップを積み
重ねる方向の表面と裏面に形成され、前記表面と裏面の
各電極同士が互いに接続されている。
【0017】また、ベアチップは、前記複数のチップセ
レクト電極のうち、前記ベアチップの一辺に最も近い側
の第1のチップセレクト電極からのチップセレクト信号
を検出し、その他のチップセレクト電極は、他のベアチ
ップのチップセレクト電極に接続されるのみであること
を特徴とする。
【0018】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態について
図面を参照しながら詳細に説明する。
【0019】図1は本発明による半導体装置の第1の実
施の形態を示す斜視図、図2は図1の半導体装置におけ
るベアチップの平面図で、(a)は表面側、(b)は裏
面側の平面図、図3は図1のAA折線断面図、図4は図
1のBB折線断面図である。
【0020】なお、図3及び図4において、ベアチップ
の厚さが図1とは異なるように描かれているが、実際は
同じ厚さである。
【0021】図1に示すように本発明の第1の実施の形
態の半導体装置は、ベアチップ1、2、3を下から順に
ずらし接続バンプ8を介して積層したもので、その3層
半導体装置は、基板4に実装されている。ここで、ベア
チップ1、2、3をそれぞれ1段目、2段目、3段目ベ
アチップとも称することにする。
【0022】各ベアチップは、DRAM等のメモリベア
チップであり、同一サイズ、同一の外部電極パターンお
よび配線パターンを有する。ここで、配線パターンと
は、各外部電極に接続する内部配線あるいは半導体回路
のパターンを示す。接続バンプ8は、はんだバンプ、金
バンプ等の金属バンプである。
【0023】基板4には、3層半導体装置の外部電極に
接続する配線5が形成されている。配線5には、1段
目、2段目、3段目ベアチップ1、2、3をチップセレ
クトするための1段目、2段目、3段目セレクト信号S
1、S2、S3を入力する配線と、ベアチップのアドレ
ス信号、データ信号等を供給するための配線とを含む。
【0024】最初、各ベアチップの外部電極パターンに
ついて図2の1段目ベアチップ1を代表して説明する。
もちろん、2段目、3段目ベアチップについても、図2
と同じ外部電極パターンおよび配線パターン(図示略)
を有する。また、各ベアチップは、それぞれ異なる段で
も使用可能である。
【0025】図2(a)、(b)はベアチップ1の表
面、裏面を示しているが、ここではベアチップの上段側
の面を表面、基板5側の面を裏面としている。
【0026】図2(a)において、1段目ベアチップ1
の表面には、金、銅あるいはアルミニウムなどの2列の
信号パッド群7aと、1列のチップセレクトパッド群6
aとを有する。
【0027】信号パッド群7aは、アドレス信号電極パ
ッドA0,A1,A2,A4…と、データ信号電極パッ
ドD1からD8、電源電極パッドVcc及びグランドパ
ッドなど、チップセレクト以外の電極パッドから成る。
【0028】また、チップセレクトパッド群6aは、一
方向に等間隔の距離L1で配列された第1から第4のチ
ップセレクトパッド61a、62a、63a、64aを
有する。1段目ベアチップ1(2から4段目ベアチップ
も同様)は、第1のチップセレクトパッド61aの信号
からチップセレクト信号を検出し、これによりベアチッ
プ1の半導体回路が活性化する。しかし、第2から第4
のチップセレクトパッド62a、63a、64aの信号
は、検出されず(後述するが、単に下段からのチップセ
レクト信号を上段のベアチップのチップセレクトパッド
に供給するのみ)、半導体回路が活性化しない。
【0029】一方、図2(b)において、1段目ベアチ
ップ1の裏面には、表面の信号パッド群7aとチップセ
レクトパッド群6aに電気的接続する信号パッド群7b
とチップセレクトパッド群6bを有する。このうちチッ
プセレクトパッド群6bは、第1から第4のチップセレ
クトパッド61b、62b、63b、64bを有する。
【0030】図2(a)および(b)において、1段目
ベアチップ1の表面と裏面の各電極パッドは、上段また
は下段のベアチップにずらさずに表裏を一致させて重ね
合わせたときに互いに重なる位置にある。
【0031】したがって、1段目ベアチップ1を外部電
極面の真上から見た場合、表面側の信号パッド群7aと
チップセレクトパッド群6aが、裏面側の信号パッド群
7bとチップセレクトパッド群6bと重なる位置にあ
る。
【0032】前述したように、本実施の形態のベアチッ
プ1、2、3は、第1のチップセレクトパッド61a
(61b)の信号からチップセレクト信号を検出し、半
導体回路が活性化するが、第2から第4のチップセレク
トパッド62a、63a、64a(62b、63b、6
4b)の信号では、半導体回路が活性化しない。
【0033】このため、各ベアチップを個別にチップセ
レクトする場合、図1および図3、図4に示すように、
ベアチップをチップセレクトパッド群6a、6bの各パ
ッド間隔(1ピッチ分)の距離L1だけ、ずらして重ね
る。ずらす方向は、チップセレクトパッド群の配列方向
である。
【0034】図3に示すように、ベアチップ1、2、3
を距離L1ずらすことにより、チップセレクトパッド群
6a、6bの各チップセレクトパッドが1ピッチずつず
れて上下に接続される。本実施の形態の場合、図3に示
すように各チップセレクトパッドの表裏は、貫通ビアを
介してベアチップ表面に垂直な方向に直線的に電気的接
続されているが、必ずしも直線的に電気的接続されてい
なくてもよい。また、内部の半導体回路を経由してベア
チップ表裏のチップセレクトパッドが接続されていても
よい。
【0035】図3において、前述したように、各ベアチ
ップは、第1のチップセレクトパッド61a(61b)
のみが、チップセレクトとして機能し、第2から第4の
チップセレクトパッド62a(62b),63a(63
b)、64a(64b)は、他のベアチップと接続する
だけの機能で、内部の半導体回路機能とは独立である。
【0036】したがって、図1の基板5から1段目、2
段目、3段目セレクト信号S1、S2、S3が図3に示
すように下段からチップセレクトパッド61b、62
b、63bに供給された場合、1段目、2段目、3段目
ベアチップ1、2、3がそれぞれのセレクト信号によっ
てチップセレクトされる。これにより何段目のベアチッ
プにリード(READ)あるいはライト(WRITE)
コマンドを実行するかを選択する。
【0037】なお、本実施の形態の場合、ベアチップ
は、最大4段まで積層可能なよう、第4のチップセレク
トパッド64a(64b)が設けられている。
【0038】さらに、図4に示すように、信号パッド群
7a、7bの各電極パッド(A0,A1,A3…、D
1、D2、D3…、ただし、図4では、電極パッドA0
からA5しか示していない)においては、チップセレク
トパッドのピッチと同じ距離L1だけ隣接する2つのベ
アチップの同一電極パッド接続位置がずれている。
【0039】信号パッド群7a、7bの各電極パッドの
ずれの方向は、チップセレクトパッド群6a、6bの配
列方向と同一である。
【0040】すなわち、信号パッド群7a,7bにおけ
る各電極パッドのベアチップ間の接続点が、1段目から
3段目に渡って、チップセレクトパッドの配列方向に順
次距離L1だけずれている。
【0041】このように、ベアチップ1、2、3が距離
L1だけずれることに対応して信号パッド群の各電極パ
ッドが同一距離だけずれて形成されているので、図1の
基板5からの各アドレス信号、データ信号等は、1段目
ベアチップ1から3段目ベアチップ3に共通して供給さ
れる。
【0042】この結果、チップセレクト信号によってセ
レクトされる段のベアチップが、他の段のベアチップと
同じ信号経路によってメモリとして動作する。
【0043】なお、図4に示すように、ベアチップの信
号パッド群の各表裏の電極パッドは、貫通ビアを介して
電気的に接続されているが、貫通ビアでなくても、内部
の半導体回路の配線を経由して接続されていてもよい。
【0044】以上のように、本発明の第1の実施の形態
によれば、各段のベアチップの外部電極パターン(信号
パッド群7a、7bとチップセレクトパッド群6a、6
b)が各段で共通である。
【0045】したがって、ベアチップを何段目に配置す
るかにこだわらず同一ベアチップを設計し、製造すれば
良く、経済的である。また、信号配線をベアチップの段
数毎に変える必要がないので、信号線数の効率化が可能
である。
【0046】また、ベアチップ間の配線設計すなわち接
続バンプの配置を各段で同一にでき、同一のバンプ形成
工程をベアチップの各段で行うことができる。よって、
製造の効率化が図れる。なお、最上段のベアチップの表
面には、接続バンプを形成する必要はない。
【0047】さらに、図5に示すように、第1のチップ
セレクトパッド61aに測定プローブ20を当て、ベア
チップの各信号パッド群7a、7bに検査信号を供給す
ることにより、他の段のベアチップに邪魔されずに容易
に検査できる利点がある。
【0048】よって、本発明ではベアチップの間隔が狭
くなってもプローブによる検査が容易であるという特徴
を持つ。
【0049】図6は本発明の第2の実施の形態を示す斜
視図である。
【0050】本実施の形態では、表側と裏側のチップセ
レクトパッド群6a、6bのうち、チップセレクト信号
を検出しない第2から第4のチップセレクトパッドの表
裏接続を、ベアチップ表面に形成された外部配線パター
ン6cによって実現したものである。
【0051】そのほかの構成は、図1と同一である。こ
のように、各ベアチップ表裏のパッド間の接続は、ベア
チップの内部を通してもベアチップ表面の配線を介して
も良い。
【0052】本発明は、以上の実施の形態に限定しな
い。たとえば、図1、図2において、信号パッド群7
a、7bがベアチップの真ん中にあったが、ベアチップ
の縁の近くに配置されていてもよい。この場合、図6の
第2の実施の形態におけるチップセレクトパッドのよう
に、表裏の信号パッド群7a、7bの各電極パッドをベ
アチップの外面に形成された配線パターンを介し接続し
てもよい。これによって、ベアチップ内部に裏表側パッ
ドを接続する配線を設ける必要がなくなる。
【0053】また、チップセレクトパッド群6a、6b
の配列方向と信号パッド群7a、7bの配列方向が同一
である必要はない。本発明では、(1)各ベアチップ
が、チップセレクトパッド群6a、6bの配列ピッチと
同じ距離だけ、その配列方向にずれていること、および
(2)信号パッド群7a,7bにおける各電極パッドの
対向ベアチップ間の接続点が、チップセレクトパッドの
配列方向にチップセレクトパッドの配列ピッチ分ずれて
いること、が満たされていればよい。
【0054】図1及び図6の実施の形態では、ベアチッ
プ表裏の電極配置および形状が同一であるが、電極の形
状は必ずしも表裏で一致させる必要が無い。前述の
(2)の条件を満たしながら接続バンプによって接続可
能な配置であればよい。
【0055】さらに、ベアチップは、メモリに限らず、
CPUなどの他の半導体チップでもよい。
【0056】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
積層したベアチップ各段の設計を統一でき、また任意の
段数まで積層できる。また、信号線数を効率化できる。
さらに各段のベアチップの接続部の検査が容易になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体装置の第1の実施の形態を示す
斜視図である。
【図2】図1の半導体装置に使用するベアチップの平面
図で、(a)は表面側の平面図、(b)は裏面側の平面
図である。
【図3】図3は図1のAA折線断面図である。
【図4】図4は1のBB折線断面図である。
【図5】図5は本発明による第1の実施の形態の検査方
法を示す断面図である。
【図6】本発明の半導体装置の第2の実施の形態を示す
斜視図である。
【図7】従来のDIMM構造を示す斜視図である。
【図8】インターポーザを使用した従来のスタックモジ
ュールを示す斜視図である。
【符号の説明】
1 1段目ベアチップ 2 2段目ベアチップ 3 3段目ベアチップ 4 基板 5 配線 6a、6b チップセレクトパッド群 7a、7b 信号パッド群

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ベアチップを複数段積み重ね、上下の外部
    電極同士を接続した半導体装置において、ベアチップを選択するための信号が供給されるチップセ
    レクト電極と、当該ベアチップの裏面と表面とを導通状
    態にする複数の電極とが所定の配列ピッチで配列された
    チップセレクト電極群と、 ベアチップを機能させる信号が供給される複数の信号電
    極であって、各ベアチップを前記チップセレクト電極群
    の配列ピッチと同じ距離だけその配列方向にずらして積
    み重ねたとき、上下対向するベアチップの表面と裏面と
    で同一の信号電極が重なり合うように配置された信号電
    極群と、 を有することを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記上下対向するベアチップの信号電極
    同士が互いに接続されていることを特徴とする請求項1
    に記載された半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記ベアチップは、前記チップセレクト
    電極群のうち、前記ベアチップの一辺に最も近い側の第
    1のチップセレクト電極からのチップセレクト信号を検
    出し、その他のチップセレクト電極は、他のベアチップ
    のチップセレクト電極に接続されるのみであることを特
    徴とする請求項1または2に記載された半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記ベアチップの各段の外部電極は、接
    続バンプを介して接続されていることを特徴とする請求
    項1、2または3に記載された半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記ベアチップの表面と裏面の各電極同
    士が前記ベアチップ内で電気的に接続されていることを
    特徴とする請求項1から3のいずれかに記載された半導
    体装置。。
  6. 【請求項6】 前記ベアチップの表面と裏面の各電極同
    士が前記ベアチップ内およびベアチップ表面の配線によ
    って電気的に接続されていることを特徴とする請求項
    から3のいずれかに記載された半導体装置。
JP19396399A 1999-07-08 1999-07-08 半導体装置 Expired - Lifetime JP3360655B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19396399A JP3360655B2 (ja) 1999-07-08 1999-07-08 半導体装置
US09/611,830 US6392292B1 (en) 1999-07-08 2000-07-07 Multi-level stacked semiconductor bear chips with the same electrode pad patterns

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19396399A JP3360655B2 (ja) 1999-07-08 1999-07-08 半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001024151A JP2001024151A (ja) 2001-01-26
JP3360655B2 true JP3360655B2 (ja) 2002-12-24

Family

ID=16316687

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19396399A Expired - Lifetime JP3360655B2 (ja) 1999-07-08 1999-07-08 半導体装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6392292B1 (ja)
JP (1) JP3360655B2 (ja)

Families Citing this family (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6445603B1 (en) * 2000-08-21 2002-09-03 Micron Technology, Inc. Architecture, package orientation and assembly of memory devices
DE10044148A1 (de) * 2000-09-06 2002-03-21 Infineon Technologies Ag Elektronisches Bauteil mit gestapelten Bausteinen und Verfahren zu seiner Herstellung
JP3925615B2 (ja) * 2001-07-04 2007-06-06 ソニー株式会社 半導体モジュール
JP2003060053A (ja) * 2001-08-10 2003-02-28 Fujitsu Ltd 半導体チップ及びそれを用いた半導体集積回路装置及び半導体チップ選択方法
US20030038356A1 (en) * 2001-08-24 2003-02-27 Derderian James M Semiconductor devices including stacking spacers thereon, assemblies including the semiconductor devices, and methods
JP4917225B2 (ja) * 2001-09-28 2012-04-18 ローム株式会社 半導体装置
KR100444173B1 (ko) * 2001-12-28 2004-08-11 동부전자 주식회사 입방체형 반도체 패키지
US7046522B2 (en) * 2002-03-21 2006-05-16 Raymond Jit-Hung Sung Method for scalable architectures in stackable three-dimensional integrated circuits and electronics
US6979904B2 (en) * 2002-04-19 2005-12-27 Micron Technology, Inc. Integrated circuit package having reduced interconnects
WO2004038798A2 (en) * 2002-10-22 2004-05-06 Unitive International Limited Stacked electronic structures including offset substrates
JP2004200965A (ja) * 2002-12-18 2004-07-15 Sanyo Electric Co Ltd カメラモジュール及びその製造方法
KR100497111B1 (ko) * 2003-03-25 2005-06-28 삼성전자주식회사 웨이퍼 레벨 칩 스케일 패키지, 그를 적층한 적층 패키지및 그 제조 방법
JP4580730B2 (ja) * 2003-11-28 2010-11-17 ルネサスエレクトロニクス株式会社 オフセット接合型マルチチップ半導体装置
JP2005209239A (ja) * 2004-01-20 2005-08-04 Nec Electronics Corp 半導体集積回路装置
JP5087009B2 (ja) * 2006-03-06 2012-11-28 インテル・コーポレーション チップレベルの集積化高周波受動素子、その製造方法、および、それを含むシステム
KR100753415B1 (ko) * 2006-03-17 2007-08-30 주식회사 하이닉스반도체 스택 패키지
US7701045B2 (en) 2006-04-11 2010-04-20 Rambus Inc. Point-to-point connection topology for stacked devices
KR100874926B1 (ko) 2007-06-07 2008-12-19 삼성전자주식회사 스택 모듈, 이를 포함하는 카드 및 이를 포함하는 시스템
KR100909969B1 (ko) 2007-06-28 2009-07-29 삼성전자주식회사 반도체 소자 및 그 제조 방법, 및 반도체 소자를 포함하는스택 모듈, 카드 및 시스템
KR100900236B1 (ko) * 2008-01-25 2009-05-29 주식회사 하이닉스반도체 반도체 칩 및 이를 갖는 적층 반도체 패키지
JP2009246006A (ja) * 2008-03-28 2009-10-22 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置およびその製造方法ならびに半導体装置の実装構造
KR101001635B1 (ko) * 2008-06-30 2010-12-17 주식회사 하이닉스반도체 반도체 패키지, 이를 갖는 적층 반도체 패키지 및 적층반도체 패키지의 하나의 반도체 칩 선택 방법
KR20100096879A (ko) * 2009-02-25 2010-09-02 삼성전자주식회사 구리 패드를 포함하는 반도체 소자, 그 적층 구조 및 그 제조 방법
KR20100105147A (ko) 2009-03-20 2010-09-29 삼성전자주식회사 멀티 칩 패키지 및 관련된 장치
TWI366906B (en) * 2009-03-31 2012-06-21 Ind Tech Res Inst Die stacking structure and fabricating method thereof
WO2010138480A2 (en) 2009-05-26 2010-12-02 Rambus Inc. Stacked semiconductor device assembly
US8553420B2 (en) 2010-10-19 2013-10-08 Tessera, Inc. Enhanced stacked microelectronic assemblies with central contacts and improved thermal characteristics
US9899329B2 (en) * 2010-11-23 2018-02-20 X-Celeprint Limited Interconnection structures and methods for transfer-printed integrated circuit elements with improved interconnection alignment tolerance
US8952516B2 (en) * 2011-04-21 2015-02-10 Tessera, Inc. Multiple die stacking for two or more die
US8304881B1 (en) 2011-04-21 2012-11-06 Tessera, Inc. Flip-chip, face-up and face-down wirebond combination package
US8970028B2 (en) 2011-12-29 2015-03-03 Invensas Corporation Embedded heat spreader for package with multiple microelectronic elements and face-down connection
US8633576B2 (en) 2011-04-21 2014-01-21 Tessera, Inc. Stacked chip-on-board module with edge connector
US9013033B2 (en) 2011-04-21 2015-04-21 Tessera, Inc. Multiple die face-down stacking for two or more die
US8928153B2 (en) 2011-04-21 2015-01-06 Tessera, Inc. Flip-chip, face-up and face-down centerbond memory wirebond assemblies
KR101774938B1 (ko) 2011-08-31 2017-09-06 삼성전자 주식회사 지지대를 갖는 반도체 패키지 및 그 형성 방법
US8426981B2 (en) * 2011-09-22 2013-04-23 Headway Technologies, Inc. Composite layered chip package
US8710641B2 (en) * 2012-03-16 2014-04-29 Headway Technologies, Inc. Combination for composite layered chip package
CN104701292A (zh) * 2013-12-06 2015-06-10 上海北京大学微电子研究院 一种高速ic-qfn封装协同优化设计方法
US9559040B2 (en) 2013-12-30 2017-01-31 International Business Machines Corporation Double-sided segmented line architecture in 3D integration
US9799719B2 (en) 2014-09-25 2017-10-24 X-Celeprint Limited Active-matrix touchscreen
EP3420582A1 (en) 2016-02-25 2019-01-02 X-Celeprint Limited Efficiently micro-transfer printing micro-scale devices onto large-format substrates
ITUA20164724A1 (it) * 2016-06-28 2017-12-28 St Microelectronics Srl Dispositivo elettronico a semiconduttori con migliorate caratteristiche di testabilita' e relativo metodo di incapsulamento
TWI739949B (zh) 2016-11-15 2021-09-21 愛爾蘭商艾克斯展示公司技術有限公司 微轉印可印刷覆晶結構及方法
US10395966B2 (en) 2016-11-15 2019-08-27 X-Celeprint Limited Micro-transfer-printable flip-chip structures and methods
US10600671B2 (en) 2016-11-15 2020-03-24 X-Celeprint Limited Micro-transfer-printable flip-chip structures and methods
US11024608B2 (en) 2017-03-28 2021-06-01 X Display Company Technology Limited Structures and methods for electrical connection of micro-devices and substrates
US10297585B1 (en) 2017-12-21 2019-05-21 X-Celeprint Limited Multi-resolution compound micro-devices
KR20210158257A (ko) 2020-06-23 2021-12-30 삼성전자주식회사 패키지 신뢰성을 향상시킬 수 있는 칩 적층 반도체 패키지

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5261115A (en) * 1991-10-22 1993-11-09 Apple Computer, Inc. Multi-board system with shift board selection
FR2694840B1 (fr) * 1992-08-13 1994-09-09 Commissariat Energie Atomique Module multi-puces à trois dimensions.
JPH10270506A (ja) * 1997-03-21 1998-10-09 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP3644662B2 (ja) * 1997-10-29 2005-05-11 株式会社ルネサステクノロジ 半導体モジュール
US6141245A (en) * 1999-04-30 2000-10-31 International Business Machines Corporation Impedance control using fuses

Also Published As

Publication number Publication date
JP2001024151A (ja) 2001-01-26
US6392292B1 (en) 2002-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3360655B2 (ja) 半導体装置
US10804139B2 (en) Semiconductor system
US7791175B2 (en) Method for stacking serially-connected integrated circuits and multi-chip device made from same
US7944036B2 (en) Semiconductor device including mounting board with stitches and first and second semiconductor chips
US5995379A (en) Stacked module and substrate therefore
US7291907B2 (en) Chip stack employing a flex circuit
KR100340116B1 (ko) 반도체 장치
US9595489B2 (en) Semiconductor package with bonding wires of reduced loop inductance
US20200402959A1 (en) Stacked semiconductor package having an interposer
US6770980B2 (en) Semiconductor device having semiconductor element packaged on interposer
US20060202317A1 (en) Method for MCP packaging for balanced performance
US8004848B2 (en) Stack module, card including the stack module, and system including the stack module
JP2011222807A (ja) 半導体装置
JP2008182062A (ja) 半導体装置
US10679956B2 (en) Semiconductor memory chip, semiconductor memory package, and electronic system using the same
US7948073B2 (en) Three-dimensional package
KR100990937B1 (ko) 반도체 패키지
US20080185732A1 (en) Stacked structure using semiconductor devices and semiconductor device package including the same
JP2871608B2 (ja) 半導体記憶装置及びその製造方法
JPH10284682A (ja) メモリモジュール
WO1998038680A1 (fr) Module memoire
JPH02134837A (ja) 集積回路装置

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20020917

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3360655

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071018

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081018

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091018

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091018

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101018

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111018

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121018

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131018

Year of fee payment: 11

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S131 Request for trust registration of transfer of right

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313135

SZ02 Written request for trust registration

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313Z02

SZ02 Written request for trust registration

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313Z02

S631 Written request for registration of reclamation of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313631

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term