JP2691651B2 - 反射鏡 - Google Patents
反射鏡Info
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- JP2691651B2 JP2691651B2 JP3291413A JP29141391A JP2691651B2 JP 2691651 B2 JP2691651 B2 JP 2691651B2 JP 3291413 A JP3291413 A JP 3291413A JP 29141391 A JP29141391 A JP 29141391A JP 2691651 B2 JP2691651 B2 JP 2691651B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は種々の光学系等において
用いられる反射鏡に関し、詳しくは銀層を有する銀反射
鏡に関するものである。
用いられる反射鏡に関し、詳しくは銀層を有する銀反射
鏡に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】種々の光学系において用いられる反射鏡
として基板上に銀膜を蒸着してなる銀反射鏡が知られて
いる。
として基板上に銀膜を蒸着してなる銀反射鏡が知られて
いる。
【０００３】銀反射鏡はアルミニウム反射鏡と比べて可
視光領域で反射率が高く分光反射特性に優れており、ま
た偏光特性においても優れているため注目されている。
視光領域で反射率が高く分光反射特性に優れており、ま
た偏光特性においても優れているため注目されている。
【０００４】銀反射鏡はこのような長所を有する一方で
耐久性等の強度面で問題があるため銀層上に酸化アルミ
ニウム等からなる保護層を設けたものが知られている。
耐久性等の強度面で問題があるため銀層上に酸化アルミ
ニウム等からなる保護層を設けたものが知られている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、銀層上
に上記保護層を設けた場合には分光反射特性が大幅に低
下するという問題があった。
に上記保護層を設けた場合には分光反射特性が大幅に低
下するという問題があった。
【０００６】酸化アルミニウム層の層厚を200nm 程度ま
で厚くすれば可視領域の長波長側（500nm 以上）におけ
る分光反射特性を良好とすることが可能であるが、その
一方で可視領域の短波長側（400 〜500nm ）における分
光反射特性が悪化してしまうという問題があった。
で厚くすれば可視領域の長波長側（500nm 以上）におけ
る分光反射特性を良好とすることが可能であるが、その
一方で可視領域の短波長側（400 〜500nm ）における分
光反射特性が悪化してしまうという問題があった。
【０００７】また、基板上に銀層を積層する際に、基板
と銀層との密着性の強化についても強い要請があった。
本発明はこのような事情に鑑みなされたもので銀層上に
保護層を設けた場合にも分光反射特性の低下を防止し得
るとともに、基板と銀層との密着性の強化を図り得る反
射鏡を提供することを目的とするものである。
と銀層との密着性の強化についても強い要請があった。
本発明はこのような事情に鑑みなされたもので銀層上に
保護層を設けた場合にも分光反射特性の低下を防止し得
るとともに、基板と銀層との密着性の強化を図り得る反
射鏡を提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の反射鏡は、基板
上にＣｒ層、Ｃｕ層、銀層、酸化アルミニウム層および
高屈折率誘電体層をこの順に積層してなることを特徴と
するものである。
上にＣｒ層、Ｃｕ層、銀層、酸化アルミニウム層および
高屈折率誘電体層をこの順に積層してなることを特徴と
するものである。
【０００９】ここで、基板、銀層、酸化アルミニウム層
および高屈折率誘電体物質層は各々直に設けてもよい
し、各々の間に他の層を設けてもよい。
および高屈折率誘電体物質層は各々直に設けてもよい
し、各々の間に他の層を設けてもよい。
【００１０】また、高屈折率誘電体とは屈折率が1.9 以
上の誘電体物質をいい、例えばＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｚ
ｎＳ等が含まれる。
上の誘電体物質をいい、例えばＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｚ
ｎＳ等が含まれる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。
【００１２】図１は、本発明の実施例に係る反射鏡の層
構成を示す概略図である。この反射鏡はガラス基板１上
に５〜15nm厚のＣｒ層２、10〜40nm厚のＣｕ層３、100n
m 厚のＡｇ層４、69nm厚のＡｌ2 Ｏ3 層５、57nm厚のＺ
ｒＯ2 （酸化ジルコニウム、屈折率1.98）層６および20
nm厚のＳｉＯ2 層７をこの順に積層してなるものであ
る。
構成を示す概略図である。この反射鏡はガラス基板１上
に５〜15nm厚のＣｒ層２、10〜40nm厚のＣｕ層３、100n
m 厚のＡｇ層４、69nm厚のＡｌ2 Ｏ3 層５、57nm厚のＺ
ｒＯ2 （酸化ジルコニウム、屈折率1.98）層６および20
nm厚のＳｉＯ2 層７をこの順に積層してなるものであ
る。
【００１３】上記Ｃｒ層２およびＣｕ層３は上記ガラス
基板１とＡｇ層４の密着性を強化するための密着強化層
として作用する。また、上記Ａｇ層４は入射光を反射す
るための層であり、上記Ａｌ2 Ｏ3 層５はこのＡｇ層４
の耐久性を向上させるための保護層である。また、Ｚｒ
Ｏ2 層６はＡｇ層４の耐久性向上のための保護層である
とともに反射特性を良好とするための高屈折率誘電体層
である。さらに、最上層のＳｉＯ2 層７は耐摩耗性を向
上させるための保護層である。
基板１とＡｇ層４の密着性を強化するための密着強化層
として作用する。また、上記Ａｇ層４は入射光を反射す
るための層であり、上記Ａｌ2 Ｏ3 層５はこのＡｇ層４
の耐久性を向上させるための保護層である。また、Ｚｒ
Ｏ2 層６はＡｇ層４の耐久性向上のための保護層である
とともに反射特性を良好とするための高屈折率誘電体層
である。さらに、最上層のＳｉＯ2 層７は耐摩耗性を向
上させるための保護層である。
【００１４】次に、図１に示す層構成の反射鏡を製造す
る方法について説明する。
る方法について説明する。
【００１５】まず、清浄化したガラス基板１を保持具に
取り付け、これを真空槽内に挿入し、固定する。真空槽
内を無加熱状態で１×10-6Torr程度となるまで真空排気
する。
取り付け、これを真空槽内に挿入し、固定する。真空槽
内を無加熱状態で１×10-6Torr程度となるまで真空排気
する。
【００１６】この後、電子ビーム蒸着法を用い、ガラス
基板１上に５〜15nm厚のＣｒ層２を形成する。次に、抵
抗加熱蒸着法を用い、このＣｒ層２上に10〜40nm厚のＣ
ｕ層３を形成する。
基板１上に５〜15nm厚のＣｒ層２を形成する。次に、抵
抗加熱蒸着法を用い、このＣｒ層２上に10〜40nm厚のＣ
ｕ層３を形成する。
【００１７】この後、抵抗加熱蒸着法を用い、このＣｕ
層３上に100nm 厚のＡｇ層４を形成する。次に、電子ビ
ーム蒸着法を用い、このＡｇ層４上に69nm厚のＡｌ2 Ｏ
3 層５を形成する。
層３上に100nm 厚のＡｇ層４を形成する。次に、電子ビ
ーム蒸着法を用い、このＡｇ層４上に69nm厚のＡｌ2 Ｏ
3 層５を形成する。
【００１８】この後、上記真空槽を、上記ガラス基板１
の温度が300 ℃となるように加熱する。この加熱処理に
より、この後に形成されるＺｒＯ2層６およびＳｉＯ2
層７の強度を高めることができる。
の温度が300 ℃となるように加熱する。この加熱処理に
より、この後に形成されるＺｒＯ2層６およびＳｉＯ2
層７の強度を高めることができる。
【００１９】なお、これよりも前の段階で加熱処理を行
なうとＡｇ層４やＣｕ層３等の金属層が結晶化してくも
り現象（白濁）が生じ、光反射率が低下するので好まし
くない。
なうとＡｇ層４やＣｕ層３等の金属層が結晶化してくも
り現象（白濁）が生じ、光反射率が低下するので好まし
くない。
【００２０】この後、電子ビーム蒸着法を用い、上記Ａ
ｌ2 Ｏ3層５上に57nm厚のＺｒＯ2 層６を形成する。
ｌ2 Ｏ3層５上に57nm厚のＺｒＯ2 層６を形成する。
【００２１】最後に、電子ビーム蒸着法を用い、このＺ
ｒＯ2 層６上に20nm厚のＳｉＯ2 層７を形成する。
ｒＯ2 層６上に20nm厚のＳｉＯ2 層７を形成する。
【００２２】なお、本発明の反射鏡としては上述した実
施例のものに限られるものではない。
施例のものに限られるものではない。
【００２３】例えば、ＺｒＯ2 層６を屈折率（ナトリウ
ムＤ線の屈折率）が1.9 以上の他の高屈折率誘電体物質
からなる層、例えばＴｉＯ2 （酸化チタン、屈折率2.3
）層やＺｎＳ（硫化亜鉛、屈折率2.37）層に代えるこ
とも可能である。
ムＤ線の屈折率）が1.9 以上の他の高屈折率誘電体物質
からなる層、例えばＴｉＯ2 （酸化チタン、屈折率2.3
）層やＺｎＳ（硫化亜鉛、屈折率2.37）層に代えるこ
とも可能である。
【００２４】また、ガラス基板１を金属基板に代えるこ
とも可能であり、ＳｉＯ2 層７を他の耐摩耗性の大きい
物質からなる層、例えばＭｇＦ2層に代えることも可能
である。
とも可能であり、ＳｉＯ2 層７を他の耐摩耗性の大きい
物質からなる層、例えばＭｇＦ2層に代えることも可能
である。
【００２５】また、ＳｉＯ２層８は適宜省略することも
可能である。
可能である。
【００２６】さらに、各層を形成する蒸着方法としては
上述した方法に限られず、例えば上述した説明で、層を
形成する際に、電子ビーム蒸着法を用いているものにつ
いてはこれに代えて抵抗加熱蒸着法を用いてもよいし、
抵抗加熱蒸着法を用いているものについてはこれに代え
て電子ビーム蒸着法を用いてもよい。
上述した方法に限られず、例えば上述した説明で、層を
形成する際に、電子ビーム蒸着法を用いているものにつ
いてはこれに代えて抵抗加熱蒸着法を用いてもよいし、
抵抗加熱蒸着法を用いているものについてはこれに代え
て電子ビーム蒸着法を用いてもよい。
【００２７】次に、下記実施例１〜３および比較例１，
２の各場合についてその分光反射特性を図２〜６に示
し、入射光の波長が400nm ，500nm ，700nm の場合にお
ける反射率を表１に示す。
２の各場合についてその分光反射特性を図２〜６に示
し、入射光の波長が400nm ，500nm ，700nm の場合にお
ける反射率を表１に示す。
【００２８】なお、図２〜６には分光反射特性を示す３
本の曲線が表わされている。記号Ｓが付されている曲線
はＳ成分の反射率を、記号Ｐが付されている曲線はＰ成
分の反射率を、これら両曲線の中間に位置する曲線はＳ
成分とＰ成分両者の反射率の平均値を表わす曲線であ
り、表１に示す値もこの平均値を表わす曲線に基づくも
のである。
本の曲線が表わされている。記号Ｓが付されている曲線
はＳ成分の反射率を、記号Ｐが付されている曲線はＰ成
分の反射率を、これら両曲線の中間に位置する曲線はＳ
成分とＰ成分両者の反射率の平均値を表わす曲線であ
り、表１に示す値もこの平均値を表わす曲線に基づくも
のである。
【００２９】実施例１ 清浄化されたガラス基板上に500nm 厚のＡｇ層、69nm厚
のＡｌ2 Ｏ3 層、57nm厚のＺｒＯ2 層および20nm厚のＳ
ｉＯ2 層をこの順に積層して反射鏡を製作した。
のＡｌ2 Ｏ3 層、57nm厚のＺｒＯ2 層および20nm厚のＳ
ｉＯ2 層をこの順に積層して反射鏡を製作した。
【００３０】分光反射特性は図２に示す。
【００３１】実施例２ 清浄化したガラス基板上に500nm 厚のＡｇ層、69nm厚の
Ａｌ2 Ｏ3 層、45nm厚のＴｉＯ2 層および20nm厚のＳｉ
Ｏ2 層をこの順に積層して反射鏡を製作した。
Ａｌ2 Ｏ3 層、45nm厚のＴｉＯ2 層および20nm厚のＳｉ
Ｏ2 層をこの順に積層して反射鏡を製作した。
【００３２】分光反射特性は図３に示す。
【００３３】実施例３ 清浄化したガラス基板上に500nm 厚のＡｇ層、69nm厚の
Ａｌ2 Ｏ3 層、49nm厚のＺｎＳ層および20nm厚のＳｉＯ
2 層をこの順に積層して反射鏡を製作した。
Ａｌ2 Ｏ3 層、49nm厚のＺｎＳ層および20nm厚のＳｉＯ
2 層をこの順に積層して反射鏡を製作した。
【００３４】分光反射特性は図４に示す。
【００３５】比較例１ 清浄化したガラス基板上に500nm 厚のＡｇ層、69nm厚の
Ａｌ2 Ｏ3 層、20nm厚のＳｉＯ2 層をこの順に積層して
反射鏡を製作した。
Ａｌ2 Ｏ3 層、20nm厚のＳｉＯ2 層をこの順に積層して
反射鏡を製作した。
【００３６】分光反射特性は図５に示す。
【００３７】比較例２ 清浄化したガラス基板上に500nm 厚のＡｇ層、138nm 厚
のＡｌ2 Ｏ3 層、20nm厚のＳｉＯ2 層をこの順に積層し
て反射鏡を製作した。
のＡｌ2 Ｏ3 層、20nm厚のＳｉＯ2 層をこの順に積層し
て反射鏡を製作した。
【００３８】分光反射特性は図６に示す。
【００３９】
【表１】
【００４０】表１および図２〜６に示されるように、実
施例１〜３のものはいずれも可視領域の長波長側（500n
m 以上）において高反射率を示し、短波長側（400 〜50
0nm）においてもある程度高い反射率を示す。
施例１〜３のものはいずれも可視領域の長波長側（500n
m 以上）において高反射率を示し、短波長側（400 〜50
0nm）においてもある程度高い反射率を示す。
【００４１】これに対し、比較例１のものでは可視領域
の長波長側においてそれ程高い反射率は示さず、逆に比
較例２のものでは可視領域の短波長側での反射率が大幅
に低下する。
の長波長側においてそれ程高い反射率は示さず、逆に比
較例２のものでは可視領域の短波長側での反射率が大幅
に低下する。
【００４２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の反射鏡に
よれば基板と銀層の間にＣｒ層およびＣｕ層をこの順に
積層しており、基板と銀層の密着性を強化することがで
きる。また、銀層および酸化アルミニウム層の上に高屈
折率誘電体層を形成しているので、可視領域の全範囲に
亘り分光反射特性を良好なものとすることができる。
よれば基板と銀層の間にＣｒ層およびＣｕ層をこの順に
積層しており、基板と銀層の密着性を強化することがで
きる。また、銀層および酸化アルミニウム層の上に高屈
折率誘電体層を形成しているので、可視領域の全範囲に
亘り分光反射特性を良好なものとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例に係る反射鏡の層構成を示す概
略図
略図
【図２】実施例１の反射鏡の分光反射特性を示すグラフ
【図３】実施例２の反射鏡の分光反射特性を示すグラフ
【図４】実施例３の反射鏡の分光反射特性を示すグラフ
【図５】比較例１の反射鏡の分光反射特性を示すグラフ
【図６】比較例２の反射鏡の分光反射特性を示すグラフ
１ ガラス基板 ２ Ｃｒ層 ３ Ｃｕ層 ４ Ａｇ層 ５ Ａｌ2 Ｏ3 層 ６ ＺｒＯ2 層 ７ ＳｉＯ2 層
Claims (1)
- 【請求項１】 基板上にＣｒ層、Ｃｕ層、銀層、酸化ア
ルミニウム層および高屈折率誘電体層をこの順に積層し
てなることを特徴とする反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3291413A JP2691651B2 (ja) | 1991-11-07 | 1991-11-07 | 反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3291413A JP2691651B2 (ja) | 1991-11-07 | 1991-11-07 | 反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05127004A JPH05127004A (ja) | 1993-05-25 |
| JP2691651B2 true JP2691651B2 (ja) | 1997-12-17 |
Family
ID=17768570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3291413A Expired - Fee Related JP2691651B2 (ja) | 1991-11-07 | 1991-11-07 | 反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2691651B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3563955B2 (ja) | 1998-02-26 | 2004-09-08 | キヤノン株式会社 | ハーフミラーを有した観察系及び該ハーフミラーの製造方法 |
| JP2003114313A (ja) * | 2001-10-03 | 2003-04-18 | Kiyousera Opt Kk | 反射鏡およびこれを用いた映像プロジェクタ装置 |
| JP4307921B2 (ja) | 2002-11-19 | 2009-08-05 | フジノン株式会社 | 反射鏡 |
| KR20050001425A (ko) | 2003-06-27 | 2005-01-06 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 고반사경 |
| JP4351678B2 (ja) * | 2003-09-22 | 2009-10-28 | 株式会社村上開明堂 | 銀鏡およびその製造方法 |
| US8497015B2 (en) * | 2008-03-11 | 2013-07-30 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Reflective article |
| JP5853638B2 (ja) * | 2011-11-24 | 2016-02-09 | セイコーエプソン株式会社 | ハーフミラー及び画像表示装置 |
| US9932663B2 (en) | 2011-12-23 | 2018-04-03 | Hong Kong Baptist University | Sapphire thin film coated substrate |
| US11713503B2 (en) | 2011-12-23 | 2023-08-01 | Hong Kong Baptist University | Sapphire coated substrate with a flexible, anti-scratch and multi-layer coating |
| US11535926B2 (en) | 2011-12-23 | 2022-12-27 | Hkbu R&D Licensing Limited | Sapphire thin film coated substrate |
| CN107109623B (zh) * | 2014-09-12 | 2019-02-15 | 香港浸会大学 | 经蓝宝石薄膜涂覆的可挠基板 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60195502A (ja) * | 1984-03-19 | 1985-10-04 | Canon Inc | 金属回転多面鏡 |
| JP3034017B2 (ja) * | 1990-11-21 | 2000-04-17 | 旭光学工業株式会社 | 表面高反射鏡 |
-
1991
- 1991-11-07 JP JP3291413A patent/JP2691651B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05127004A (ja) | 1993-05-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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