JP2017503335A - 電子デバイスのオンウェーハ動的検査のためのシステムおよび方法。 - Google Patents

電子デバイスのオンウェーハ動的検査のためのシステムおよび方法。 Download PDF

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Abstract

電子デバイスのオンウェーハ動的検査のためのシステムおよび方法に関する。本システムは、プローブヘッドアセンブリ、プローブ側の接触構造体、チャック、およびチャック側の接触構造体を含む。プローブヘッドアセンブリは、検査対象デバイス(DUT)の第一の側に電気的に接触するように構成されたプローブを含む。プローブ側の接触構造体は、プローブ側の接触領域を含む。チャックは、DUTを含む基板を支持し、DUTの第二の側に電気的に接触するように構成された導電性の支持表面を含む。プローブヘッドアセンブリとチャックは、プローブとDUTとの間の電気的な接触を選択的に確立するために互いに対して並進移動するように構成される。チャック側の接触構造体は、導電性の支持表面と電気的に通信し、プローブ側の接触構造体に対向するチャック側の接触領域を含む。本方法は、1つ以上のシステムを作動させる方法を含む。【選択図】図8

Description

関連出願の相互参照
本願は、2015年2月18日に出願された米国特許出願第14/625,385号、及び2014年2月25日に出願された米国仮特許出願第61/944,461号の利益を主張し、これらの全体は参照により本明細書に組み込まれる。
本開示は、概して電子デバイスのオンウェーハ(on-wafer)検査に関するものであり、より具体的には電子デバイスの高電流および/または高電圧のオンウェーハ動的検査に関するものである。
縦型構造デバイス、電力制御デバイス、高電流ダイオード、高電流金属酸化物半導体電界効果トランジスタ(MOSFET)、高電流絶縁ゲートバイポーラトランジスタ(IGBT)、および/または高電流バイポーラ接合トランジスタ(BJT)等の電子デバイスは、電圧および/または電流の流れおよび/または受渡しを制御および/または調節するために利用されることがよくある。電子デバイスは半導体ウェーハといった基板上に製造することができる。その後、電子デバイスは、基板から個片化され、インテグレータ、コンシューマ、または他の中間もしくはエンドユーザによる使用のためにパッケージされる。このパッケージングは、複数の個々の電子デバイスを組み合わせてパッケージアセンブリにすることを含むこともできる。
慣習的に、電子デバイスの動作は、複数の個々の電子デバイスをパッケージアセンブリにパッケージングするまで検証および/または検査されない。これらの条件の下では、複数の個々の電子デバイスのうちの1つ以上のデバイスにおける誤動作は、パッケージアセンブリ全体を使用できなくすることがある。従って、誤動作している電子デバイスを交換するために大規模な再作業が必要とされる。あるいは、パッケージアセンブリ全体は、廃棄または他の方法で処分される。
このことを念頭において、電子デバイスを基板から個片化する前に、および/または複数の個々の電子デバイスをパッケージアセンブリに組み立てる前に電子デバイスの動作を検査することが望ましい。しかしながら、この検査は、数百あるいはそれよりずっと高い数千アンペアのオーダーの電流といった、大電流を電子デバイスに供給する必要がある。加えて、電子デバイスのスイッチング性能の正確な特徴付けが望まれることがよくある。これは、電子デバイスの動的な検査を必要とする。動的検査は、電流をパルス化することおよび/または電流を比較的高速度、または高頻度でオンおよびオフに切り替えることを含む。
これらの条件下では、電子デバイスに電流を提供するために、および/または電子デバイスから電流を受給するために利用される、検査システムの構成要素のインダクタンスが検査システム内でかなり大きな電圧降下を生む。これは検査精度を制限し、検査システムによって供給される電流の大きさを制限し、および/または検査システムによって供給される電流の変化速度(すなわち、時間導関数)を制限する。さらに、従来の検査システムは、概して、電力制御デバイスといった特定の電子デバイスの動作を特徴づけるために必要とされる大電流を動的に供給することができない。従って、電子デバイスのオンウェーハ動的検査のための改良されたシステムおよび方法が必要とされている。
電子デバイスのオンウェーハ動的検査のためのシステムおよび方法が開示される。本システムは、プローブヘッドアセンブリ、プローブ側の接触構造体、チャック、チャック側の接触構造体を含む。プローブヘッドアセンブリは、検査対象デバイス(DUT)の第一の側と電気的に接触するように構成されるプローブを含む。プローブ側の接触構造体はプローブ側の接触領域を含む。チャックは、DUTを含む基板を支持し、DUTの第二の側と電気的に接触するように構成された導電性の支持表面を含む。プローブヘッドアセンブリおよびチャックは、プローブとDUTとの間に電気的な接触を選択的に確立するために、互いに対して並進移動するように構成される。チャック側の接触構造体は、導電性の支持表面と電気的に通信し、プローブ側の接触構造体と対向するチャック側の接触領域を含む。プローブ側の接触構造体およびチャック側の接触構造体は、それらの間で電気的に通信を選択的に確立するように構成される。
本方法は、導電性の支持表面の上に基板を配置し、DUTの第二の側を導電性の支持表面と電気的に接触させるステップを含む。本方法は、プローブをDUTの第一の側と電気的に接触させるステップをさらに含む。本方法は、プローブ側の接触構造体をチャック側の接触構造体と電気的に接触させるステップをさらに含む。本方法は、電流をプローブ及びプローブ側の接触構造体の一つに供給し、他のプローブ及びプローブ側の接触領域から電流を受給するステップをさらに含む。
本開示による検査システムの一例を示す概略図である。 本開示による検査システムの一例を示す概略図である。 本発明によるチャックの一例を示す概略上面図である。 図3のチャックを示す概略側面図である。 本開示によるチャック側の接触構造体の一例を示す概略上面図である。 図5のチャック側の接触構造体を示す概略側面図である。 プローブヘッドアセンブリとチャックに支持される基板との間の接触前における、本開示による、別の検査システムの例を示す概略側面図である。 プローブヘッドアセンブリと基板との間の接触後における、図7の検査システムを示す概略側面図である。 本開示による検査システムを示す概略電気回路図である。 本開示による、検査システムの一例を示す概略図である。 本開示による検査システムの一例を示す概略図である。 本開示による、基板上に存在する1以上の検査対象デバイスの試験中における、プローブヘッドアセンブリに対する基板およびチャックの位置を例示している別の概略上面図である。 本開示による、検査対象デバイスの検査方法の一例を示すフローチャートである。
図1〜図13は、本開示による、検査対象デバイスのオンウェーハ動的検査のための検査システム20、その構成要素、および/または、方法の例を提供する。同様の、または少なくとも実質的に同様の目的で用いられる要素には、図1〜図13の各図において同様の番号が付され、これらの要素は、本明細書では、図1〜図13を参照して詳細には説明されない。同様に、図1〜図13の各図において、すべての要素に番号を付しているわけではないが、本明細書では、それらの要素に関連する参照番号は一貫して用いられる。本明細書にて、図1〜図13の1つ以上の図を参照して説明される要素、構成要素、特徴、および/またはステップは、本開示の範囲から逸脱することなく図1〜図13のいずれかに含まれる、および/または、図1〜図13のいずれかとともに用いられることができる。
概して、所与の(すなわち、特定の)実施形態に含まれる可能性の高い要素は、実線で例示され、一方で、所与の実施形態には任意である要素は破線で例示されている。しかしながら、実線で示されている実施形態が必ずしもすべての実施形態に必須であるとは限らず、実線で示される要素は本開示の範囲から逸脱することなく、所与の実施形態から取り除かれることもできる。
図1は、本開示による、電子デバイスのオンウェーハ動的検査のための検査システム20の例の概略図である。検査システム20は、基板30の上に位置する、基板30の上に形成される、および/または、基板30の一部を形成する検査対象デバイス(DUT)40(すなわち、電子デバイス)と電気的に接触するように構成されるプローブ104を含むプローブヘッドアセンブリ100を含む。検査システム20は、基板30を支持するように構成される導電性の支持表面202を含むチャック200をさらに含む。
本開示によるシステム及び方法では、検査システム20は、プローブヘッドアセンブリ100、プローブ104、DUT40及び、中間構造体50を含む電気回路90を形成するように構成されてもよい。電気回路90は、電流92がプローブヘッドアセンブリ100から、プローブ104、DUT40、及び中間構造体50を経て、プローブヘッドアセンブリ100に戻るように流れることを可能とする。
電流92は、任意の適切なソースからプローブヘッドアセンブリ100に供給される。例として、検査システム20は、さらに、1つ以上の電気的導管70を介す等して、電流92をプローブヘッドアセンブリ100に供給する、および/または電流92をプローブヘッドアセンブリ100から受給するために、電流92を発生させるように構成される信号発生および分析アセンブリ60を含んでもよく、および/または、それと電気的に通信してもよい。
電流92が任意の適切な方向に回路90内を流れるようにしてもよいということは本開示の範囲内である。例として、電流92は、その電流がDUT40から中間構造体50に流れるように供給されてもよい。別の例として、電流92は、その電流が中間構造体50からDUT40に流れるように供給されてもよい。
図1において破線で示すように、プローブヘッドアセンブリ100は、複数のプローブ104を含むプローブヘッド102を含んでもよい。例として、検査システム20は、DUT40と、4点、4端子(すなわち、準ケルビン)接続を形成するように構成されることができる。これらの条件の下では、第一のプローブ112は、DUT40との電気的な接触を形成し、DUT40とプローブヘッドアセンブリ100との間を電流92が流れることを可能とするように構成されることができる。第一のプローブ112は、本明細書では、付加的に又は代替的にフォース信号プローブ112、フォース信号供給プローブ112、フォース信号受給プローブ112、および/または、第一のフォース信号プローブ112と称される。加えて、第二のプローブ114は、第一のプローブ112によって接触されるDUT40の一部の電圧を測定するように構成されるのがよい。第二のプローブ114は、本明細書では、付加的に又は代替的にセンス信号プローブ114および/または第一のセンスプローブ114と称される。
検査システム20は、さらに、プローブ側の接触構造体120およびチャック側の接触構造体220を含む。プローブ側の接触構造体120およびチャック側の接触構造体220は個々に、および/または協同的に、中間構造体50とプローブヘッドアセンブリ100との間に1つ以上の電気的な接続を形成するように構成される。1つ以上の電気的な接続は、本明細書で詳細に説明するように、検査システム20の作動中に選択的に確立されてもよい。接触構造体120/220は、任意の適切な構造を含む、および/または、任意の適切な構造であってもよい。接触構造体120/220の例は、本明細書にてより詳細に説明される。
例として、プローブ側の接触構造体120および/またはチャック側の接触構造体220は、中間構造体50とプローブヘッドアセンブリ100との間に第一の電気接続116を形成するように、さらに、中間構造体とプローブヘッドアセンブリとの間に第二の電気接続118も形成するように構成されることができる。検査システム20がDUT40と4端子接続を形成する場合、第一の電気接続116は、電流92をプローブヘッドアセンブリ100と中間構造体50との間に伝達するように構成されるのがよい。加えて、第二の電気接続118は、DUT40と中間構造体50との間の界面の電圧を測定するように構成されるのがよい。4端子接続は、基板30と中間構造体50との間に存在する抵抗(接触抵抗等)のため、準ケルビン接続と称される。
第一の電気接続116は、本明細書では、付加的に又は代替的にフォース信号電気接続116、フォース信号供給電気接続116、フォース信号受給電気接続116、フォース信号プローブ116、フォース信号供給プローブ116、フォース信号受給プローブ116、および/または第二のフォース信号プローブ116と称される。第二の電気接続118は、本明細書では、付加的又は代替的にセンス電気接続118および/または第二のセンスプローブ118と称される。
中間構造体50は、DUT40とプローブヘッドアセンブリ100との間に電流92を伝達するように構成される任意の構造体を含んでもよい。例として、図2から図12を参照して、本明細書で詳細に説明されるように、中間構造体50は、チャック200および/もしくはその導電性の支持表面202を含む、チャック200および/もしくはその導電性の支持表面の一部を形成する、ならびに/または、チャック200および/もしくはその導電性の支持表面とすることができ、そのような理由から図1は、中間構造体50を破線で、チャック200と重複するような関係で例示している。
図1において破線で示すように、検査システム20は、さらにゲートバイアスプローブ170を含んでもよい。ゲートバイアスプローブ170は、電流92を受給するDUT40のトランジスタゲートにゲートバイアス電圧を供給するように構成されることができる。これは、検査システム20がトランジスタを電気絶縁状態と電気伝導状態との間で切り替えることを可能とする。電気絶縁状態は、付加的に又は代替的に開状態および/または「オフ」状態と称される。電気伝導状態は、付加的又は代替的に閉状態および/または「オン」状態と称される。
信号発生及び分析アセンブリ60は、電流92をプローブヘッドアセンブリ100に供給する、電流92をプローブヘッドアセンブリ100から受給する、第二のプローブ114および/または第二の電気接続118の電圧を検出する、2つ以上のプローブ104の電圧を比較する、および/またはDUT40の動作を検査、定量化、および/または測定するように構成される任意の適切な構造体を含んでもよい。例として、信号発生および分析アセンブリ60は、信号発生器、信号分析器、インピーダンス分析器、ネットワーク分析器、スペクトル分析器、電流源、電力源、DC電流源、AC電流源、および/もしくはスイッチング電源を含む、ならびに/または、それらとすることができる。
電気的導管70は、信号発生および分析アセンブリ60とプローブヘッドアセンブリ100との間に電流92を伝達するように構成されてもよく、および/または、信号発生および分析アセンブリ60とプローブヘッドアセンブリ100との間に1つ以上の電気的な接続を提供することができる任意の適切な構造体を含んでもよい。例として、電気的導管70は、導電性材料、金属材料、ワイヤ、複数のワイヤ、同軸ケーブル、トライアキシャルケーブル、および/もしくは伝送線を含むことができ、ならびに/または、それらであってもよい。
本明細書にて詳細に説明されるように、本開示による検査システム20および/または電気的導管70は、一本の伝送線72が信号発生および分析アセンブリ60からプローブヘッドアセンブリ100に電流92を供給し、かつ、その電流をプローブヘッドアセンブリ100から信号発生および分析アセンブリ60に戻すように構成されてもよい。これにより、電流92の伝送により電気的導管70内に発生する電界が少なくとも部分的に相殺されることによって、電流92の質を向上させ、および/または、電気回路90のインダクタンスおよび/またはキャパシタンスを低減させることができる。伝送線72の例は、任意の適切な同軸ケーブル、マイクロストリップ、および/またはストリップ線を含む。このような電界の相殺をさらに改善するために、電気的導管70は、例えばアルミニウムおよび/または銅を含む非磁性材料から形成されるのがよい。
検査対象デバイス40は、基板30の上に形成される、電気回路90の一部を形成する、および/または電流92を選択的に伝導することができる任意の適切な構造体を含んでもよい。例として、検査対象デバイス40は、半導体デバイス、電子デバイス、パワーデバイス、ダイオード、金属酸化物半導体電界効果トランジスタ、絶縁ゲートバイポーラトランジスタ、および/もしくはバイポーラ接合トランジスタを含んでもよく、並びに/または、それらであってもよい。検査対象デバイス40は、動作電流を選択的に伝導する、および/または、動作電流で作動するように構成されてもよい。DUT40のための動作電流の例は、少なくとも1アンペア(A)、少なくとも5A、少なくとも10A、少なくとも20A、少なくとも30A、少なくとも50A、少なくとも75A、少なくとも100A、少なくとも150A、少なくとも200A、少なくとも300A、少なくとも400A、少なくとも500A、少なくとも600A、少なくとも700A、少なくとも800A、少なくとも900A、または、少なくとも1000Aの動作電流を含む。
基板30は、1つ以上のDUT40を含む、1つ以上のDUT40の少なくとも一部分を画定する、および/または、その上に形成される1つ以上のDUT40を有する任意の適切な構造体を含んでもよい。例として、基板30は、ウェーハ、半導体ウェーハ、および/もしくはシリコンウェーハを含んでもよく、ならびに/または、それらであってもよい。DUT40は、その検査中、基板30の上に存在するので、本明細書で開示されるシステムおよび方法は、DUT40のオンウェーハ動的検査のためのシステムおよび方法と称される。
図2から図12は、本開示による、検査システム20および/または検査システム20の構成要素のより詳細な例を提供する。図2から図12の検査システム20は、図1の検査システム20を含む、および/または、それであってもよく、図1を参照して本明細書で説明される任意の構成要素および/または特徴は、本開示の範囲から逸脱することなく、図2から図12の検査システムに含んでもよく、および/または、それらとともに用いられてもよい。図2から図12の検査システム20は、DUT40を電気的に検査するように構成される。図2及び図7から図8に例示するように、DUT40は、第一の側42と、第一の側に対向し、基板30の上に存在する、および/またはその上に形成される第二の側44を画定し、基板30は複数のDUT40を含んでもよい。
図2を参照するに、検査システム20は、プローブ104を含むプローブヘッドアセンブリ100を含む。プローブ104は、DUT40の第一の側42と電気的に接触するように構成される。検査システム20は、プローブ側の接触領域122を含む、および/またはそれを画定するプローブ側の接触構造体120をさらに含む。検査システム20は、導電性の支持表面202を画定するチャック200も含む。導電性の支持表面202は、基板30を支持し、DUT40の第二の側44に電気的に接触するように構成される。導電性の支持表面202は、本明細書では、導電性の支持表面202および/または表面202とも称される。
プローブヘッドアセンブリ100及びチャック200は、プローブ104とDUT40との間の電気的な通信または接触を選択的に確立し、および/または、中止するように互いにに対して選択的に並進移動するように構成される。この並進移動は、プローブヘッドアセンブリ100を並進移動させる、および/もしくは、移動させるように構成されることができる任意の適切なプローブ並進移動構造体130、ならびに/または、チャック200を並進移動させる、および/もしくは、移動させるように構成される任意の適切なチャック並進移動構造体230を介して成される。
検査システム20は、さらに、チャック側の接触領域222を含む、および/または、それを画定するチャック側の接触構造体220を含む。チャック側の接触構造体220および/またはそのチャック側の接触領域222は、導電性の支持表面202と電気的に通信する。加えて、チャック側の接触構造体220は、プローブ側の接触構造体120と一列に整列して、および/または、対向する。従って、検査システム20は、その動作中、チャック側の接触領域222とプローブ側の接触領域122との間で電気的な通信を選択的に確立するように構成されるのがよい。
プローブ104が、DUT40と電気的に接触し、チャック側の接触構造体220がプローブ側の接触構造体120と電気的に接触すると、検査システム20は(図1および図9により明確に図示されるような)電気回路90を画定することができる。電気回路90は、プローブ104を含んでいるプローブヘッドアセンブリ100、DUT40、導電性の支持表面202、チャック側の接触構造体220、および、プローブ側の接触構造体120を含んでもよい。従って、検査システム20は、プローブ104とプローブ側の接触構造体120との間で、DUT40、導電性の支持表面202、およびチャック側の接触構造体220を介して、1つ以上の電気信号を伝達することができる。この電気信号は、本明細書では、テスト信号、および/または電流とも称される。チャック200、および/またはその導電性の支持表面202は、本明細書では、図1を参照して本明細書にて説明したように中間構造体50とも称される。
プローブヘッドアセンブリ100およびチャック200の、プローブ並進移動構造体130およびチャック並進移動構造体230を介するような互いに対する動きを利用して、プローブ104とDUT40との間の電気的な接触を形成し、かつチャック側の接触構造体220とプローブ側の接触構造体120との間の電気的な接触をも形成することは本開示の範囲内である。しかしながら、検査システム20は、チャック側の接触構造体220とプローブ側の接触構造体120との間に電気的な接触を選択的に確立するように構成される接触エンジン80を含んでもよいということも本開示の範囲内である。この接触は、プローブ104とDUT40との間に確立される電気的な接触とは別のものおよび/または独立したものとしてもよい。
接触エンジン80の例としては、任意の適切なソレノイド、圧電デバイス、回転機構、ボールねじ、ラック・アンド・ピニオンアセンブリ、電気機械式接触エンジン、空気圧式接触エンジン、および/または油圧式接触エンジンを含む。本明細書においてより詳細に説明するように、接触エンジン80は、プローブ104とDUT40との間の接触から独立したチャック側の接触構造体220とプローブ側の接触構造体120との間の接触を制御および/または調節するために用いられてもよい。例として、接触エンジン80は、プローブとDUTとの接触の後に、チャック側の接触構造体をプローブ側の接触構造体に接触させるために用いられることができる。別の例として、接触エンジン80は、プローブとDUTとの接触の前に、チャック側の接触構造体をプローブ側の接触構造体に接触させるために用いられることができる。さらに別の例として、接触エンジン80は、基板30をチャック200上に配置することを改善および/もしくは容易にする、ならびに/または、チャック200および/もしくはプローブヘッドアセンブリ100の洗浄を改善するおよび/または容易にするためといったように、チャック側の接触構造体220および/またはプローブ側の接触構造体120を引っ込めるおよび/または後退させるために用いられることができる。
図2において破線で示すように、検査システム20は、信号発生および分析アセンブリ60をさらに含んでもよい。信号発生および分析アセンブリ60は、1つ以上の電気的導管70を介す等して、プローブヘッド100および/またはチャック200と電気的に通信することもでき、それらに電流を供給することもでき、それらから電流を受給することもでき、および/または、それらの動作を制御することもできる。
プローブ側の接触構造体120および/またはチャック側の接触構造体220は、それらの間の電気的な通信および/または電気的な接続を選択的に、繰り返し、および/または再現性良く確立ように構成される任意の適切な構造体を含んでもよい。例として、プローブ側の接触領域122およびチャック側の接触領域222は、金属などの1つ以上の導電性材料から形成されることができる。そのような例では、プローブ側の接触領域とチャック側の接触領域との間の物理的な接触を確立することによって、プローブ側の接触構造体120とチャック側の接触構造体220との間の電気的な通信を確立することができる。
例として、プローブ側の接触構造体120および/またはチャック側の接触構造体220は、平面状の接触表面を画定することができる。別の例として、プローブ側の接触構造体120および/またはチャック側の接触構造体220は1つ以上の弾性導電性部材によって画定されてもよい。さらに別の例として、プローブ側の接触構造体120およびチャック側の接触構造体220のうちの一方は平面状の接触構造体120を画定するも、プローブ側の接触構造体120およびチャック側の接触構造体220のうちの他方は、1つ以上の弾性導電性部材によって画定し、弾性導電性部材は、平面状の接触表面と電気的に接触するように構成されてもよい。弾性導電性部材の例としては、任意の適切な可撓性の導電性部材、バネ、ボールプランジャ、弾性材料によって支持される導電性部材、バネ荷重ピン、ポゴピン、および/またはバイアスローラーアセンブリを含む。
厳密な構成を問わず、プローブ側の接触領域122はチャック側の接触領域222に面することができる。同様に、チャック側の接触領域222はプローブ側の接触領域122に面することができる。加えて、チャック側の接触領域222は、導電性の支持表面202と少なくとも実質的に同じ方向に面することができる。同様に、プローブ側の接触領域122は、プローブ104と少なくとも実質的に同じ方向に、および/または、プローブヘッドアセンブリ100のプラテン140の第二の側144と少なくとも実質的に同じ方向に面することができる。つまり、プローブ側の接触領域122は、プローブ104と接触するように構成されるDUT40の表面に面する、または、それと反対の方向を向き、一方で、チャック側の接触領域222は、プローブ104と接触するように構成される基板30の表面から離れる方向、または、それと同じ方向を向くことができる。
プローブ側の接触領域122が、プローブヘッドアセンブリ100に動作的に取り付けられ、それと電気的に通信し、および/または、その一部を形成してもよいことは本開示の範囲内である。同様に、チャック側の接触領域222が、チャック200に動作的に取り付けられ、それと電気的に通信し、および/または、その一部を形成してもよいことも本開示の範囲内である。
図3〜図6は、本開示による検査システム20に含まれる、および/または、それとともに用いられることができるチャック200および/またはその構成要素のさほど概略的ではない例を提示し、図1及び図2の検査システム20を含んでいる。図3はチャック200の概略上面図であり、一方で、図4はチャック200の概略側面図である。
図3から図4では、チャック200は、各々がそれぞれのチャック側の接触領域222を画定する複数のチャック側の接触構造体220を含む。チャック側の接触構造体220は、1以上の電気的リンケージ204を介す等して、チャック200の導電性の支持表面202と電気的に通信することもでき、そうでない場合は、(図4にて示すように)1つ以上の絶縁体210を介して残りのチャック200から電気的に隔離することができる。従って、基板30が、チャック200の上に位置する、および/または、導電性の支持表面202によって支持されると、チャック側の接触構造体220は、(図2にて例示するように)基板の上に存在するDUT40の第二の側44と電気的に通信することができる。図3及び図4にて例示するように、チャック側の接触構造体220は、導電性の支持表面202から、および/または、基板と接触するように構成される導電性の支持表面202の一部からオフセットされていてもよく、および/または空間的に離れていてもよい。
少なくとも一つのチャック側の接触構造体220は、残りのチャック側の接触構造体から独立して用いることができることは本開示の範囲内である。例として、1つのチャック側の接触構造体220は、(図1につき、本明細書にてより詳細に説明したように)電流をDUT40へ、および/または、DUT40から伝達するために用いられることができる第一の電気接続116として機能する、および/または、第一の電気接続116とすることができる。加えて、別のチャック側の接触構造体220は、(図1につき、本明細書にてより詳細に説明したように)導電性の支持表面202の電圧を測定する、および/または、決定するために用いることができる第二の電気接続118として機能する、および/または、第二の電気接続118とすることができる。
付加的に又は代替的に、少なくとも2つのチャック側の接触構造体220は、並列に用いられてもよいということは本開示の範囲内である。例として、図3にて例示するように、チャック200は、第一の電気接続116として機能することができる2つのチャック側の接触構造体220を含んでもよい。第一の電気接続116のために2つのチャック側の接触構造体220を用いることによって、第一の電気接続の通電容量を増大させることができる。
図5は、検査システム20のチャック側の接触構造体220の概略上面図であり、一方で、図6は図5のチャック側の接触構造体の概略側面図である。図5および図6では、チャック側の接触構造体220は、チャック側の接触領域222を画定する複数のバネ荷重ピン226といったような複数の弾性部材224を含む。
図7は、プローブヘッドアセンブリ100とチャック200によって支持される基板30との間の接触前の、本開示による別の検査システム20の例の概略側面図である。図8は、プローブヘッドアセンブリと基板との間の接触後の、図7の検査システムの概略側面図である。図9は、図7および図8の検査システム20の概略電気回路図である。図7から図9のチャック200は、図3から図6のチャック200を含んでもよく、および/または、それらであってもよい。加えて、図7から図9の検査システム20は、図1および図2の検査システム20を含んでもよく、および/または、それであってもよい。
図7および図8では、プローブヘッドアセンブリ100は、プローブ104を含むプローブヘッド102を含む。プローブヘッド102は、(図7および図8に示すように)開口領域150を画定するプラテン140の第一の側142に動作的に取り付けられる。開口領域150は、プラテン140の第一の側142と第二の側144との間に延在する。第二の側144は、概して第一の側142と対向し、プローブ104は開口領域を経て延在する。加えて、複数のプローブ側の接触構造体120が、プローブ側の接触構造体をプラテンから電気的に絶縁する複数の絶縁体210を介して第二の側144に動作的に取り付けられている。
説明したように、プローブ側の接触構造体120は、チャック200の対応しているチャック側の接触構造体220と整列および/または対向する。加えて、プローブ側の接触構造体120は、開口領域150から、少なくとも、チャック200の導電性の支持表面202と平行な方向に、および/または、プラテン140の第二の側144と平行な方向に、オフセットされ、および/または空間的に離れている。
図7から図9に例示するように、検査システム20は、少なくとも第一のプローブ側の接触構造体162および第二のプローブ側の接触構造体164を含んでいる複数のプローブ側の接触構造体を有する複数のプローブ側の接触構造体120を含んでもよい。加えて、検査システム20は、少なくとも第一のチャック側の接触構造体262および第二のチャック側の接触構造体264を含んでいる複数のチャック側の接触構造体を有する複数のチャック側の接触構造体220も含んでもよい。検査システム20は、第一のプローブ112と第二のプローブ114を含む複数のプローブを有する複数のプローブ104をさらに含んでもよい。
説明したように、検査システム20は、基板30の上に位置するDUT40と四端子、すなわち準ケルビン接続を形成するように構成されてもよい。例として、検査システム20は、(図9に例示される)信号発生および分析アセンブリ60の電源62からのフォース信号を、プローブヘッドアセンブリ100から、第一のプローブ側の接触構造体162、第一のチャック側の接触構造体262、および導電性の支持表面202を介して、DUT40に供給するように構成されることができる。加えて、検査システム20は、第一のプローブ112を介してプローブヘッドアセンブリ100でフォース信号を受給するように構成されることもできる。第一のプローブ側の接触構造体162は、伝送線72といった電気的導管70からフォース信号を受給することができる。例示したように、伝送線72は、74のところでは第一の伝送線として示される。第一のプローブ112は、第一の伝送線にフォース信号を供給することができる。(第一の)伝送線は、本明細書にてより詳細に説明されるように、プローブヘッドアセンブリと信号発生および分析アセンブリ60との間でフォース信号を伝達することができる。従って、検査システム20は、第一のプローブ112、DUT40、導電性の支持表面202、第一のチャック側の接触構造体262、および第一のプローブ側の接触構造体162を含む電気回路90を画定するように構成されることができる。第一のプローブ112を含むこの電気回路90は、第一の電気回路90として称される。
検査システム20は、さらに、第二のプローブ114と導電性の支持表面202との間の電圧を感知するように構成されてもよい。これは、第二のチャック側の接触構造体264および第二のプローブ側の接触構造体164を介して成されることもできる。これらの条件下では、第一のプローブ112と第二のプローブ114の両方は、DUT40の上に形成される接触パッドを有するような、DUT40の一部分(あるいは同じDUT40)と電気的に接触することができる。第二のプローブ側の接触構造体164および第二のプローブ114は、伝送線72を介して、信号発生および分析アセンブリと電気的に通信することができる。例示したように、そのような伝送線72は、76のところでは第二の伝送線として、78のところでは第三の伝送線としてそれぞれ示される。従って、検査システム20は、第二のプローブ114、DUT40、導電性の支持表面202、第二のチャック側の接触構造体264、および第二のプローブ側の接触構造体164を含む電気回路90を画定するように構成されることができる。第二のプローブ114を含むこの電気回路90は、第二の電気回路90として称される。
図7は、プローブヘッドアセンブリ100と基板30の間の接触の前に、プローブ側の接触構造体120および対応するチャック側の接触構造体220は互いに空間的に離れて配置されてもよく、および/または、それらの間で電気接続を形成していなくてもよいことを例示している。しかしながら、図8に示すように、プローブ側の接触構造体120および対応するチャック側の接触構造体220は、プローブヘッドアセンブリ100と基板30との接触後に(または少なくとも接触後およびDUT40の検査中に)互いに接触する。プローブ側の接触構造体120と対応するチャック側の接触構造体220との間の接触は、プローブヘッドアセンブリ100と基板30との間の接触と同時に、および/または、その接触の結果として生じる。付加的に又は代替的に、別個の接触エンジン80が、本明細書にてより詳細に説明されるように、プローブ側の接触構造体120と対応するチャック側の接触構造体220との間の接触を確立するために用いられてもよい。
図9に戻って、プローブヘッドアセンブリ100は、ゲートバイアスプローブ170の形で、付加的なプローブ104を含んでもよい。ゲートバイアスプローブ170は、トランジスタを電気絶縁状態(オフ)と電気導通状態(オン)との間で選択的に切り替えるためにDUT40のトランジスタ43にゲートバイアス信号を選択的に供給するように構成されてもよい。
続いて、図9を参照するに、信号発生および分析アセンブリ60は、負荷抵抗器64、電圧検出器66、および関数発生器68を含むように示される。しかし、信号発生及び分析アセンブリ60のための他の構成も本開示の範囲内である。
図10及び図11は、本開示による付加的な検査システム20の例の概略図を提供する。図10及び図11は、本開示によるチャック側の接触構造体220が、チャック側の接触構造体とプローブ側の接触構造体との間の相対移動中にプローブ側の接触構造体120と接触したままの状態になるように構成される、バイアスローラーアセンブリ228等の構造体を含んでもよく、および/または、それであってもよいことを例示している。
図10に例示するように、バイアスローラーアセンブリ228は、並進軸240に沿って並進移動するように構成される直線的に作用するバイアスローラーアセンブリ228とすることができ、それによって、チャック200とプローブヘッドアセンブリ100との間の距離の範囲に渡って、チャック側の接触構造体220とプローブ側の接触構造体120との間の接触を可能にする。図10はさらに、チャック側の接触構造体220が、チャック200をプローブヘッドアセンブリ100に対して並進移動させるように構成されるチャックステージ206に動作的に取り付けられてもよく、1つ以上の電気的リンケージ204を介してチャック200と電気的に接続することができることを例示している。
代替的に、図11に例示するように、バイアスローラーアセンブリ228は、ピボットポイント242の周りを回転するように構成される径方向に作用するバイアスローラーアセンブリ228であってもよく、それによって、チャック200とプローブヘッドアセンブリ100との間の距離の範囲に渡ってチャック側の接触構造体220とプローブ側の接触構造体120の間の接触を可能にする。図11はさらに、チャック側の接触構造体220は、直接に、および/または、1つ以上の電気的リンケージ204を介して、チャック200に動作的に取り付けられることを例示している。
検査システム20の厳密な構成を問わず、バイアスローラーアセンブリ228は、チャック200とプローブヘッドアセンブリ100との間の少なくとも所望の、特定の、および/または目標の距離の範囲にわたって、プローブ側の接触構造体120との接触を維持するように構成されることができる。これは、接触エンジン80を含む、および/または、図1から図9のチャック側の接触構造体220につき本明細書にてより詳細に説明したように、プローブ側の接触構造体120との電気的な接触を選択的に確立し、および断絶するように構成されるバイアスローラーアセンブリ228を含んでいてもよい。付加的に又は代替的に、これは、検査システム20の作動中にプローブ側の接触構造体120と電気的に接触したままのバイアスローラーアセンブリ228も含んでいてもよい。
図10及び図11のチャック側の接触構造体220は、バイアスローラーアセンブリ228として図示されている。しかしながら、チャック側の接触構造体は、チャック200とプローブヘッドアセンブリ100との間の距離の所望の範囲にわたって、プローブ側の接触構造体120との接触を維持する任意の適切な構造体を含んでもよく、および/または、それであってもよいということは本開示の範囲内である。例として、図10及び図11のチャック側の接触構造体220は、スライダー、ボールプランジャ、および/もしくは、バネ荷重接触を含んでもよく、ならびに/または、それらであってもよい。
チャック側の接触構造体220および/またはプローブ側の接触構造体120のための特定の構成の選択は、少なくとも部分的に、検査システム20によって行われる検査の種類および/または検査システム20によって検査されるDUTの種類に基づくことができる。例として、バイアスローラーアセンブリ228の形のチャック側の接触構造体220は、プローブ側の接触構造体120との接触のために、ローラーを含まないチャック側の接触構造体に比べて、摩耗の発生をより少なくすることができる。しかしながら、バイアスローラーアセンブリ228は、ローラーを含まないチャック側の接触構造体よりも多くの粒状物質を発生することがある。
別の例として、バイアスローラーアセンブリ228とプローブ側の接触構造体120との間の接触面積は、プローブ側の接触構造体120と、プローブ側の接触構造体と点接触するチャック側の接触構造体との間の接触面積よりも大きくすることもできる。そのため、バイアスローラーアセンブリ228を含むチャック側の接触構造体220の通電容量は、ローラーアセンブリを含まないチャック側の接触構造体の通電容量よりも大きくすることもできる。
図10及び図11は、バイアスローラーアセンブリ228の形のチャック側の接触構造体220および平面状の接触表面の形のプローブ側の接触領域122を含むプローブ側の接触構造体120を含む検査システム20を例示している。しかしながら、これらの構造体は、プローブ側の接触構造体120がバイアスローラーアセンブリを含む一方で、チャック側の接触構造体220が平面状の接触表面を画定するように、逆の構成としてもよいということは本開示の範囲内である。
図10及び図11に例示される、および/または、図10及び図11につき本明細書にて説明されるチャック側の接触構造体220は、任意の適切な検査システム20および/または本明細書で開示される方法に含まれてもよく、および/または、それらとともに用いられてもよく、図1〜図9の検査システム20および/または図13の方法300を含んでいる。例として、図10および図11のチャック側の接触構造体220は、検査システム20とDUTとの間の4端子、または準ケルビン接続の一部として、またはそれらを形成するために用いられることができる。別の例として、図10及び図11のチャック側の接触構造体220は、本明細書で開示されたチャック側の接触構造体を含まない検査システムと比較すると、4端子接続を形成するために用いられる電気回路のインダクタンスおよび/またはキャパシタンスを低減するのに用いられることができる。
図12は、本開示による、基板の上に存在する1つ以上の検査対象デバイス40の検査中における、接触構造体120/220の幾何学的配置、および/または、プローブヘッドアセンブリ100に対する基板30及びチャック200の位置の例の概略上面図である。図12では、検査システム20は、複数のプローブ側の接触構造体120および複数のチャック側の接触構造体220を含む。複数のプローブ側の接触構造体の各々は平面状の接触表面を含み、対応するチャック側の接触構造体220と電気的な接続を選択的に形成するように配置される。全ての実施形態において必ずしも必須ではないが、複数のプローブ側の接触構造体120の各々は、他のプローブ側の接触構造体に対して(実質的に)90度の角度で配置され、複数のチャック側の接触構造体220の各々は、他のチャック側の接触構造体に対して(実質的に)90度の角度で配置される。
図12では、上部および下部のプローブ側の接触構造体120および対応するチャック側の接触構造体220は、フォース信号をチャック200に伝えることができ、一方で、一番左のプローブ側の接触構造体120および対応するチャック側の接触構造体220はセンス信号を伝えることができる。フォース信号を伝える2対の接触構造体は、互いに対して(実質的に)180度の角度で配置され、フォース信号を伝える任意の電気的導管は、(少なくとも実質的に)直線に沿って配置され、および/または、フォース信号は2対の接触構造体の各々にて反対方向に流すのがよい。加えて、フォース信号(または、その電流)は、2対の接触構造体の間で(少なくとも実質的に)等分割するのがよい。このようにして、2対の接触構造体の一方を経て流れる電流により生成される電界は、2対の接触構造体の他方を経て流れる電流により生成される対応する電界と反対の向きとなり、および/または、それによって少なくとも一部相殺される。これにより、検査システム20のインダクタンスを減少させることができる。
図12は、プローブヘッドアセンブリ100とチャック200との間の相対的な動きを適応させるために、プローブ側の接触構造体120のサイズおよび/または広がり(または少なくとも最小のサイズおよび/または広がり)は、プローブヘッドアセンブリ100およびチャック200の動きの相対的な範囲に対応するのがよいことを例示している。例として、プローブヘッドアセンブリ100およびチャック200は、チャック200(または、その導電性の支持表面202)に平行な第一の方向280における動きの第一の最大相対範囲を画定することができる。加えて、プローブヘッドアセンブリ100およびチャック200は、チャック200に平行であるが、第一の方向280に垂直な第二の方向290における動きの第二の最大相対範囲を画定することができる。
例示したように、プローブ側の接触構造体120は1つ以上の平面状の接触表面を画定することができる。これらの条件下では、第一の方向の平面状の接触表面の長さは、動きの第一の最大相対範囲の閾値割合(threshold fraction)内に対する動きの第一の最大相対範囲に整合させるのがよい。同様に、第二の方向の平面状の接触表面の長さは、動きの第二の最大相対範囲の閾値割合内に対する、動きの第二の最大相対範囲に整合させるのがよい。動きの第一および/または第二の最大相対範囲の閾値割合の例は、動きの第一および/または第二の最大相対範囲の50%以内、40%以内、30%以内、20%以内、10%以内、5%以内、2.5%以内、1%以内の閾値割合を含む。
動きの第一および/または第二の最大相対範囲は、任意の適切な基準に基づいて選択することができる。例として、基板30が、少なくとも実質的に円形の基板30である場合、動きの第一および/または第二の最大相対範囲は、基板の直径の閾値割合に対応する、それと等しい、および/またはそれに整合させるのがよい。基板の直径の閾値割合の例は、基板の直径の50%以内、40%以内、30%以内、20%以内、10%以内、5%以内、2.5%以内、1%以内の閾値割合を含む。
説明したように、図12は、互いに対して(実質的に)90度の角度をなすように配置されることができる複数のプローブ側の接触構造体120および対応する複数のチャック側の接触構造体220を含む検査システム20を例示している。しかしながら、他の構成も本開示の範囲内である。例として、プローブ側の接触構造体120とチャック側の接触構造体220は、互いに対して(実質的に)120度の角度をなすといったように、異なる相対配向で配置されてもよい。別の例として、検査システム20は単一のプローブ側の接触構造体120および/または単一のチャック側の接触構造体220を含んでもよい。
図13は、DUTを検査する本開示による方法300の例を説明するフローチャートである。DUTは、複数のDUTを含む基板の上に位置され、その上に形成され、および/または、それ以外の場合は、その上に存在する。各々のDUTは、第一の側と、第一の側と概して対向する第二の側を画定することができる。方法300は、310で基板をチャック上に配置し、320でDUTを(第一の)プローブと電気的に接触させるステップを含む。方法300は、330でプローブ側の接触構造体をチャック側の接触構造体に電気的に接触させるステップをさらに含み、340でDUTを第二のプローブに電気的に接触させてもよい。方法300は、350で電流を供給するステップおよび360で電流を受給するステップをさらに含む。方法300は、370で電圧を測定するステップ、380で電気的な接触を選択的に断絶するステップ、および/または、390でDUTを特徴づけるステップをさらに含んでもよい。
310でチャックの上に基板を配置するステップは、チャックにより画定される導電性の支持表面上に基板を配置するステップを含んでもよい。付加的に又は代替的に、310における配置ステップは、DUTの第二の側を導電性の支持表面に電気的に接触させるステップを含んでもよい。この基板は、それから複数のDUTを個片化する前において、複数のDUTを含んでいてもよい。
320でDUTを(第一の)プローブに電気的に接触させるステップは、DUTの第一の側(および/または、DUTの第一の側の上に存在する接触パッド)を(第一の)プローブに電気的に接触させるステップを含んでよく、任意の適切な方法で成されることができる。例として、(第一の)プローブはプローブヘッドアセンブリの一部を形成することができ、電気的に接触させるステップは、DUTとプローブヘッドアセンブリとの間の電気的な通信を(第一の)プローブを介して確立するステップを含むことができる。別の例として、320で電気的に接触させるステップは、チャックを移動させる、および/または、プローブヘッドアセンブリを移動させるといったことによって、チャックおよびプローブヘッドアセンブリを互いに対して移動させるステップを含んでもよい。この移動させるステップによって、320での電気的に接触させるステップ、330での電気的に接触させるステップ、および/または、340での電気的に接触させるステップを生じさせてもよいということは本開示の範囲内である。
330で、プローブ側の接触構造体をチャック側の接触構造体に電気的に接触させるステップは、プローブ側の接触構造体とチャック側の接触構造体との間の電気的な通信を確立するステップを含んでもよい。例えば、330で電気的に接触させるステップは、プローブ側の接触構造体、チャック側の接触構造体、またはプローブ側の接触構造体とチャック側の接触構造体の両方を移動させる、および/またはそれらを並進移動させるといったことによって、プローブ側の接触構造体およびチャック側の接触構造体を互いに対して移動させる、および/または並進移動させることにより電気的な通信を確立するステップを含んでもよい。
チャック側の接触構造体は、導電性の支持表面と電気的に通信していてもよい。従って、330で電気的に接触させるステップは、プローブ側の接触構造体と導電性の支持基板との間の電気的な通信を確立するステップ、および/または、導電性の支持表面を介してプローブ側の接触構造体とDUTの第二の側との間の電気的な通信を確立するステップを含んでもよい。
プローブ側の接触構造体とチャック側の接触構造体を互いに対して移動させるステップ、および/または並進移動させるステップは、任意の適切な方法で成されることができる。例として、330で電気的に接触させるステップは、320で電気的に接触させるステップを介して、および/または、320で電気的に接触させるステップ中に実行される、チャックとプローブヘッドアセンブリを互いに対して移動させるステップ、および/または並進移動させるステップを介して成されることができる。別の例として、プローブ側の接触構造体とチャック側の接触構造体とを互いに対して移動させるステップ、および/または並進移動させるステップは、プローブ側の接触構造体および/またはチャック側の接触構造体と関連する独立した、および/または専用の接触エンジンを介す等して、320で電気的に接触させるステップから独立することができる。これらの条件下では、330で電気的に接触させるステップは、320で電気的に接触させる前に、その後に、および/または、それと同時に実行されることができる。
330で電気的に接触させるステップは、プローブ側の接触構造体とチャック側の接触構造体を、それらの間の電気的な接触を維持しながら、互いに対して並進移動させるステップを含んでもよいことは本開示の範囲内である。例として、330で電気的に接触させるステップは、バイアスローラーアセンブリと各々の平面状の接触表面との間の電気的な接触を維持しながら、バイアスローラーアセンブリを並進移動の軸に沿って並進移動させるステップ、および/またはバイアスローラーアセンブリをピボットポイントの周りで回転させるステップを含むことができる。
340でDUTを第二のプローブに電気的に接触させるステップは、DUTの第一の側をプローブヘッドアセンブリの第二のプローブと電気的に接触させるステップを含んでもよく、任意の適切な方法で成されることができる。例として、340で電気的に接触させるステップは、320で接触させるステップの間、第二のプローブを第一のプローブとも接触する接触パッドと電気的に接触させるステップを含むことができる。
方法300が340で電気的に接触させるステップを含む場合、チャック側の接触構造体は第一のチャック側の接触構造体であり、プローブ側の接触構造体は第一のプローブ側の接触構造体であり、方法300はさらに第二のプローブ側の接触構造体を第二のチャック側の接触構造体に電気的に接触させるステップを含んでもよい。第一のチャック側の接触構造体と同様に、第二のチャック側の接触構造体も、340で電気的に接触する前と後の両方において、導電性の支持表面と電気的に通信してもよい。そのような構成により第一のチャック側の接触構造体と第一のプローブ側の接触構造体はともにフォース電流を伝達するために用いられることができ、一方で、第二のチャック側の接触構造体と第二のプローブ側の接触構造体はともにセンス測定を実行するために用いられることができる。これにより検査システムは、本明細書で説明したように、DUTのケルビン、または準ケルビン測定を実行すること可能となる。
350で電流を供給するステップは、任意の適切な方法でDUTに任意の適切な電圧および/または電流を供給するステップを含んでもよい。例として、350における電流を供給するステップは、電圧および/もしくは電流を(第一の)プローブに供給するステップならびに/または電圧および/もしくは電流を(第一の)プローブを介してDUTに供給するステップを含むことができる。別の例として、350における電流を供給するステップは、電圧および/もしくは電流を(第一の)プローブ側の接触構造体に供給するステップならびに/または電圧および/もしくは電流を(第一の)プローブ側の接触構造体、(第一の)チャック側の接触構造体、および導電性の支持表面を介してDUTに供給するステップを含むことができる。
350における電流を供給するステップは、任意の適切な大きさの電流をDUTに供給するステップを含んでもよい。例として、350における電流を供給するステップは、少なくとも1アンペア(A)、少なくとも5A、少なくとも10A、少なくとも20A、少なくとも30A、少なくとも50A、少なくとも75A、少なくとも100A、少なくとも150A、少なくとも200A、少なくとも300A、少なくとも400A、少なくとも500A、少なくとも600A、少なくとも700A、少なくとも800A、少なくとも900A、または少なくとも1000Aの電流をDUTに供給するステップを含むことができる。
350における電流を供給するステップは、任意のパルス幅のパルス電圧および/または電流を供給するステップを含んでもよい。例として、パルス幅は、10ミリ秒(ms)未満、7.5ms未満、5ms未満、2.5ms未満、2ms未満、1ms未満、750マイクロ秒未満、500マイクロ秒未満、250マイクロ秒未満、100マイクロ秒未満、1マイクロ秒未満、750ナノ秒(ns)未満、500ns未満、250ns未満、100ns未満、または50ns未満とすることができる。
350における電流を供給するステップがパルス電圧および/または電流を供給するステップを含む場合、パルス電圧および/または電流は任意の適切な立ち上がり時間で供給される。例として、立ち上がり時間は、1000ナノ秒(ns)未満、750ns未満、500ns未満、250ns未満、200ns未満、100ns未満、75ns未満、50ns未満、40ns未満、30ns未満、20ns未満、15ns未満、10ns未満、5ns未満、または1ns未満とすることができる。
350における電流を供給するステップがパルス電圧および/または電流を供給するステップを含む場合、パルス電圧および/または電流は任意の適切なデューティサイクルで供給される。例として、パルス電圧および/または電流は20%未満、15%未満、10%未満、7.5%未満、5%未満、2.5%未満、1%未満、0.75%未満、0.5%未満、または0.1%未満のデューティサイクルで供給される。
360で電流を受給するステップは、任意の適切な方法でDUTから任意の適切な電圧および/または電流を受給するステップを含んでもよい。例として、350で電流を供給するステップが電圧および/または電流を(第一の)プローブに供給するステップを含む場合、360における電流を受給するステップは、(第一の)プローブからDUTに、DUTから導電性の支持表面に、導電性の支持表面から(第一の)チャック側の接触構造体に、および(第一の)チャック側の接触構造体から(第一の)プローブ側の接触構造体に電流を流すステップを含むことができる。別の例として、350における電流を供給するステップが電圧および/または電流を(第一の)プローブ側の接触構造体に供給するステップを含む場合、360にける電流を受給するステップは、(第一の)プローブ側の接触構造体から(第一の)チャック側の接触構造体に、(第一の)チャック側の接触構造体から導電性の支持表面に、導電性の支持表面からDUTに、DUTから(第一の)プローブに電流を流すステップを含むことができる。
方法300が340で電気的に接触させるステップを含む場合、方法300は370で電圧を測定するステップをさらに含んでもよい。370で電圧を測定するステップは、第二のチャック側の接触構造体と第二のプローブ側の接触構造体を介して第二のプローブと導電性の支持表面との間の電圧を測定するステップを含んでもよい。これは350における電流を供給するステップの結果として生じるDUT間の電圧降下を測定するステップを含んでもよく、これによって、DUT間の電圧降下の4端子、ケルビンまたは準ケルビン測定が可能となる。
方法300が340で電気的に接触させるステップを含む場合、方法300は380で電気的な接触を選択的に断絶する(および/または、そうでない場合は中断又は遮断する)ステップを含むことができる。380で選択的に断絶するステップは、第一のプローブ側の接触構造体と第一のチャック側の接触構造体との間の電気的な接触を選択的に断絶するステップを含んでもよく、方法300が、380で選択的に断絶するステップの間、第二のプローブ側の接触構造と第二のチャック側の接触構造との間の電気的な接触を維持するステップを含んでもよいことは本開示の範囲内である。
説明したように、第一のプローブ側の接触構造体と第一のチャック側の接触構造体は、第二のプローブ側の接触構造体と第二のチャック側の接触構造体との間の電気的な接触を維持しながら、380で断絶するステップを可能とするために用いられてもよい別個のおよび/または専用の接触エンジンを含んでもよい。そのような構成(すなわち、380で断絶するステップを可能とする、および/または容易にする構成)は、380で断絶するステップの後にDUTにかかる容量性負荷を低減させることができ、それによって、第二のプローブ、DUT、導電性の支持表面、第二のチャック側の接触構造体、および第二のプローブ側の接触構造体を含む電気回路を介してより小さな電流を伝導することによってなされるDUTの性能のより正確な低電流測定が可能となる。これは、DUTのオフ電流のリーク測定を実行することを含んでもよい。
390でDUTを特徴づけるステップは、DUTの任意の適切な特性を特徴づけるステップを含んでよい。例として、390における特徴付けステップは、DUTのスイッチング性能を特徴づけるステップを含むことができる。別の例として、390における特徴付けステップは、DUTの電力消費を特徴づけるステップを含むことができる。390における特徴付けステップは、実行されると、少なくとも部分的には、350における供給ステップ、360における受給ステップ、および/または370における測定ステップに基づくということは本開示の範囲内である。
本明細書で説明したように、本開示によるシステムおよび方法は、本明細書で開示されたプローブ側の接触構造体および/またはチャック側の接触構造体を含まない従来の検査システムに比べて、DUTを特徴づけるために用いられる測定回路のインダクタンスおよび/またはキャパシタンスを低減させることができる。従って、本開示によるシステムおよび方法は、従来の検査システムを用いることによって実行されるよりも、より早い立ち上がり時間の特徴付けを可能および/もしくは容易にし、より速い過渡電圧および/もしくは電流の観測を可能および容易にし、ならびに/または、より高周波の測定を可能および/もしくは容易にすることができる。
本開示では、いくつかの例が、フロー図またはフローチャートによって説明および/または提示され、フロー図やフローチャートでは、本方法は、一連のブロックやステップとして示され、説明されている。添付の説明において具体的に明らかにしない場合でも、ブロックの順序は、2以上のブロック(またはステップ)が異なる順序で起こる、および/または同時に起こることを含んで、フロー図において例示された順序から変更することができるということは本開示の範囲内である。ブロックやステップはロジックとして実装されてもよく、ブロックやステップをロジックとして実装しているとして説明されてもよい。いくつかの用途では、ブロックまたはステップは、機能的に等価な回路または他のロジックデバイスによって実行される表現および/または動作を表すことができる。例示されたブロックは、必須ではないが、コンピュータ、プロセッサ、および/または別のロジックデバイスに応答させる、動作を実行させる、状態を変化させる、出力または表示を生じさせる、および/または判断をさせる実行可能命令を表してもよい。
本明細書にて用いられているように、第一の実体と第二の実体との間に置かれる「および/または」という用語は、(1)第一の実体、(2)第二の実体、および(3)第一の実体および第二の実体、のうちの1つを意味する。「および/または」と共に列挙された複数の実体も同様な方法で、すなわち「1つ以上の」実体が結合されている、と解釈されるべきである。「および/または」という句で具体的に特定された実体以外に、具体的に特定されたこれらの実体に関連しているか関連していないにかかわらず、他の実体が任意に提示されることがある。したがって、非限定的な例として、「Aおよび/またはB」という表現は、「〜を備える(comprising)」などの非限定的な言語(open−ended language)と共に使用される場合には、一実施形態として、Aのみ(任意にB以外の実体を含む)を意味し;別の実施形態として、Bのみ(任意にA以外の実体を含む)を意味し;さらに別の実施形態として、AとBとの両方(任意に他の実体を含む)を意味する。これらの実体は、要素、行為、構造、ステップ、操作、値などを意味することがある。
本明細書にて用いられているように、1つ以上の実体のリストを参照する「少なくとも1つの」という句は、実体のリストの中の1つ以上の実体から選択される少なくとも1つの実体を意味すると理解されるべきで、実体のリストの中で具体的に列挙されたありとあらゆる実体の中の少なくとも1つを含むこと、および実体のリストの中の実体の任意の組み合わせを除外することを必ずしも意味しない。この定義により、具体的に特定されたこれらの実体に関連しているか関連していないにかかわらず、「少なくとも1つの」という句で参照される実体のリストの中で具体的に特定された実体以外にも、実体を任意に提示することができる。したがって、非限定的な例として、「AおよびBのうちの少なくとも1つ」(あるいは同じように「AまたはBのうちの少なくとも1つ」、あるいは同じように「Aおよび/またはBのうちの少なくとも1つ」)は、1つの実施形態として、「少なくとも1つの、任意に2つ以上のAを含み、Bは存在しない」(および任意にB以外の実体を含む)ことを意味し;別の実施形態として、「少なくとも1つの、任意に2つ以上のBを含み、Aは存在しない」(および任意にA以外の実体を含む)ことを意味し;さらに別の実施形態として、「少なくとも1つの、任意に2つ以上のA、および少なくとも1つの、任意に2つ以上のBを含む」(および任意に他の実体を含む)ことを意味する。言い換えると、「少なくとも1つの」「1つ以上の」「および/または」という句は、操作を接続する又は分離する非限定的な表現である。例えば、「A、BおよびCのうちの少なくとも1つ」、「A、BまたはCのうちの少なくとも1つ」、「A、BおよびCのうちの1つ以上」、「A、BまたはCのうちの1つ以上」、及び「A、B、および/またはC」という表現の各々は、「Aのみ」、「Bのみ」、「Cのみ」、「AおよびB共に」、「AおよびC共に」、「BおよびC共に」、「A、BおよびC共に」、さらに任意に少なくとも1つの他の実体と組み合わせた上述のいずれか、を意味する。
あらゆる特許、特許出願、または他の参考文献を参照する形で本明細書に含め、これらが用語をある様式で定義する場合、さもなければ、本開示のうち上記含めたもの以外の部分と矛盾するか、本明細書に含まれる他の参考文献のいずれかと矛盾するかのいずれかである場合、上記本開示のうち上記含めたもの以外の部分が支配的であり、そして、上記用語またはその中に含まれる開示は、上記用語を定義する参考文献、及び/または上記含まれる開示が元々存在する参考文献に対してのみ支配的である。
本明細書にて用いられているように、「適合された」および「構成された」という用語は、要素、コンポーネント、または他の主題が所与の機能を果たすように設計されている及び/又は意図されていることを意味する。このため、「適合された」および「構成された」という用語の使用は、所定の要素、構成要素、または他の主題が単純に所定の機能を「果たすことができる」ことを意味すると解釈すべきでなく、要素、構成要素、および/または他の主題が機能を果たす目的で特別に選択された、作製された、実装された、用いられた、プログラムされた、および/または設計されたものである。特定の機能を実行するように適合されているものとして記載されている要素、コンポーネント、および/または他の主題は、追加的に又は代替的に、そのような機能を実行するように構成されているものとして記載することができ、逆もまた可であることはまた、本開示の範囲内のことである。
本明細書にて用いられているように、「例えば」という句、「例として」という句、および/または単純に「例」という用語は、本開示による1つ以上のコンポーネント、特徴、細部、構造、実施形態、および/または方法を参照して用いられる場合、説明したコンポーネント、特徴、細部、構造、実施形態、および/または方法は、本開示によるコンポーネント、特徴、細部、構造、実施形態、および/または方法の例示的、非排他的な例であるということを伝えることが意図される。従って、説明したコンポーネント、特徴、細部、構造、実施形態、および/または方法は、限定的であり、必須であり、または排他的/網羅的であることが意図されるものではない。そして、構造的におよび/もしくは機能的に類似した、ならびに/または等価のコンポーネント、特徴、細部、構造、実施形態、および/もしくは方法を含む、他のコンポーネント、特徴、細部、構造、実施形態、および/または方法も本開示の範囲内である。
本開示によるシステムおよび方法の例は、以下に列挙する段落にて提示される。以下に列挙する段落を含む本明細書で列挙される方法の個々のステップは、付加的または代替的に記載された動作を実行する「ためのステップ」と称することができる。
A1. 複数の検査対象デバイス(DUT)を含む基板の上に形成されるDUTを電気的に検査するための検査システムであって、前記DUTは第一の側および前記第一の側に対向する第二の側を画定し、前記検査システムは、
前記DUTの前記第一の側と電気的に接触するように構成されたプローブを含むプローブヘッドアセンブリと、
プローブ側の接触領域を含むプローブ側の接触構造体と、
前記基板を支持し、前記DUTの前記第二の側と電気的に接触するように構成される導電性の支持表面を含むチャックであって、前記プローブヘッドアセンブリおよび前記チャックは前記プローブと前記DUTとの間で電気的な接触を選択的に確立するために互いに対して選択的に並進移動するように構成される、チャックと、
チャック側の接触領域を含むチャック側の接触構造体であって、前記チャック側の接触構造体は、前記導電性の支持表面と電気的に通信し、さらに前記チャック側の接触構造体およびプローブ側の接触構造体は互いに対向し、かつチャック側の接触領域とプローブ側の接触領域との間で電気的な接触を選択的に確立するように構成される、チャック側の接触構造体と、
を有することを特徴とする検査システム。
A2. 前記検査システムは、前記DUT、前記導電性の支持表面、および前記チャック側の接触構造体を介して、前記プローブと前記プローブ側の接触構造体との間で検査信号を伝達するように構成される、段落A1に記載の検査システム。
A3. 前記プローブ側の接触領域および前記チャック側の接触領域のうちの一方は平面状の接触表面を画定し、前記プローブ側の接触領域および前記チャック側の接触領域のうち他方は弾性導電部材および任意に複数の弾性導電部材により画定される、段落A1〜A2のいずれかに記載の検査システム。
A4. 前記弾性導電部材および任意の前記複数の弾性導電部材は、可撓性の導電部材、バネ、ボールプランジャ、弾性材料により支持される導電部材、バイアスローラーアセンブリ、およびバネ荷重ピンの少なくとも一つを含む、段落A3に記載の検査システム。
A5. 前記チャックおよび前記プローブヘッドアセンブリは、導電性の支持表面に平行な第一の方向の動きの第一の最大相対範囲、および導電性の支持表面に平行で、第一の方向に垂直な第二の方向の動きの第二の最大相対範囲を画定し、第一の方向の平面状の接触表面の長さは、動きの第一の最大相対範囲の第一の閾値割合内で、動きの第一の最大相対範囲に整合され、さらに、第二の方向の平面状の接触表面の長さは、動きの第二の最大相対範囲の第二の閾値割合内で、動きの第二の最大相対範囲に整合される、段落A3〜A4のいずれかに記載の検査システム。
A6. 前記第一の最大相対範囲の閾値割合は、前記動きの第一の最大相対範囲の50%以内、40%以内、30%以内、20%以内、10%以内、5%以内、2.5%以内、1%以内である、段落A5に記載の検査システム。
A7. 前記第二の最大相対範囲の閾値割合は、前記動きの第二の最大相対範囲の50%以内、40%以内、30%以内、20%以内、10%以内、5%以内、2.5%以内、1%以内である、段落A5〜A6のいずれかに記載の検査システム。
A8. 前記プローブ側の接触構造体は、(i)前記プローブヘッドアセンブリに動作的に取り付けられる、および、(ii)前記プローブヘッドアセンブリの一部分を形成する、の少なくとも一つである、段落A1〜A7のいずれかに記載の検査システム。
A9. 前記プローブ側の接触領域は、(i)前記チャック側の接触領域に面する、(ii)前記チャックの前記導電性の支持表面に面する、(iii)前記チャックの前記導電性の支持表面から反対方向に面する、(iv)DUT40に面する、および、(v)前記プローブと同じ方向に面する、の少なくとも1つである、段落A1〜A8のいずれかに記載の検査システム。
A10. 前記チャック側の接触構造体は、(i)前記チャックに動作的に取り付けられる、および、(ii)前記チャックの一部分を形成する、の少なくとも1つである、段落A1〜A9のいずれかに記載の検査システム。
A11. 前記チャック側の接触領域は、(i)前記プローブ側の接触領域に面する、(ii)前記導電性の支持表面と同じ方向に面する、(iii)前記プローブから反対方向に面する、および、(iv)前記プローブに面する、段落A1〜A10のいずれかに記載の検査システム。
A12. 前記プローブ側の接触領域は、(前記)平面状の接触表面を含む、段落A1〜A11のいずれかに記載の検査システム。
A13. 前記基板は、前記プローブヘッドアセンブリに面し、かつ、第一の支持表面積を画定する第一の基板表面を画定し、前記平面状の接触表面は平面状の接触表面積を画定し、さらに、前記平面状の接触表面積は、前記第一の基板表面積の閾値割合内に対する前記第一の基板表面積に整合される、段落A12に記載の検査システム。
A14. 前記閾値割合は、前記第一の基板表面積の50%以内、40%以内、30%以内、20%以内、10%以内、5%以内、2.5%以内、1%以内である、段落A13に記載の検査システム。
A15. 前記プローブヘッドアセンブリは、前記プローブと第一の側および第一の側に対向する第二の側を画定するプラテンとを含むプローブヘッドを含み、前記プローブヘッドは前記プラテンの第一の側に動作的に取り付けられ、前記プラテンは前記プラテンの第一の側と前記プラテンの第二の側との間に延在する開口領域を画定し、前記プローブは前記開口領域を経て延在し、さらに、前記プローブ側の接触構造体は、(i)前記プラテンの前記第二の側に動作的に取り付けられる、および、(ii)前記プラテンの前記第二の側の一部を形成する、の少なくとも1つである、段落A1〜A14のいずれかに記載の検査システム。
A16. 前記プローブ側の接触領域は、前記導電性の支持表面に平行な方向に、前記開口領域からオフセットされる、段落A15に記載の検査システム。
A17. 前記チャック側の接触構造体は、(前記)複数の弾性導電部材を含み、任意に前記複数の弾性導電部材は複数のバネ荷重ピンを含む、段落A1〜A16のいずれかに記載の検査システム。
A18. 前記チャック側の接触構造体は、前記導電性の支持表面に平行な(前記)方向に、前記導電性の支持表面からオフセットされる、段落A1〜A17のいずれかに記載の検査システム。
A19. 前記プローブは第一のプローブであり、前記検査システムはさらに第二のプローブを含んでおり、前記プローブ側の接触構造体は、第一のプローブ側の接触領域を画定する第一のプローブ側の接触構造体であり、前記検査システムは第二のプローブ側の接触領域を画定する第二のプローブ側の接触構造体をさらに含み、前記チャック側の接触構造体は第一のチャック側の接触領域を画定する第一のチャック側の接触構造体を含み、前記検査システムは第二のチャック側の接触領域を画定する第二のチャック側の接触構造体をさらに含む、段落A1〜A18のいずれかに記載の検査システム。
A20. 前記検査システムは、前記DUTの電気的な検査中に、前記DUTと準ケルビン接続を確立するように構成される、段落A19に記載の検査システム。
A21. 前記検査システムは、前記第一のプローブ側の接触構造体、前記第一のチャック側の接触構造体、および前記導電性の支持表面を介して前記DUTにフォース信号を供給し、かつ前記第一のプローブを介して前記DUTから前記フォース信号を受給するように構成される、段落A19〜A20のいずれかに記載の検査システム。
A22. 前記検査システムは、前記第二のチャック側の接触構造体および前記第二のプローブ側の接触構造体を介して、前記第二のプローブと前記導電性の支持表面との間の電圧を感知するように構成される、段落A19〜A21のいずれかに記載の検査システム。
A23. 前記検査システムは前記基板を含み、前記基板は前記導電性の支持表面の上に配置され、(前記)第一のプローブは前記DUTの接触パッドと電気的に接触し、さらに、(前記)第二のプローブは前記DUTの前記接触パッド--と電気的に接触している、段落A1〜A22のいずれかに記載の検査システム。
A24. A19に従属する場合、前記検査システムは、前記第一のプローブ、前記DUT、前記導電性の支持表面、前記第一のチャック側の接触構造体、および前記第一のプローブ側の接触構造体を含む第一の電気回路を画定する、段落A23に記載の検査システム。
A25. A19に従属する場合、前記検査システムは、前記第二のプローブ、前記DUT、前記導電性の支持表面、前記第二のチャック側の接触構造体、および前記第二のプローブ側の接触構造体を含む第二の電気回路を画定する、段落A23〜A24のいずれかに記載の検査システム。
A26. 前記DUTは、パワーデバイス、ダイオード、金属酸化物半導体電界効果トランジスタ、絶縁ゲートバイポーラトランジスタ、および/またはバイポーラ接合トランジスタの少なくとも一つを含む、段落A1〜A25のいずれかに記載の検査システム。
A27. 前記DUTは、少なくとも1アンペア(A)、少なくとも5A、少なくとも10A、少なくとも20A、少なくとも30A、少なくとも50A、少なくとも75A、少なくとも100A、少なくとも150A、少なくとも200A、少なくとも300A、少なくとも400A、少なくとも500A、少なくとも600A、少なくとも700A、少なくとも800A、少なくとも900A、または、少なくとも1000Aの動作電流で作動するように設計されている、段落A1〜A26のいずれかに記載の検査システム。
A28. 前記検査システムは、信号生成および分析アセンブリと前記プローブヘッドとの間に延在する伝送路をさらに含む、段落A1〜A27のいずれかに記載の検査システム。
A29. 前記信号生成および分析アセンブリは、前記伝送路を介して、前記プローブおよび前記プローブ側の接触構造体の一つに電流を供給し、他の前記プローブおよび前記プローブ側の接触構造体から電流を受給するように構成される、段落A28に記載の検査システム。
A30. 前記検査システムは、前記信号生成および分析アセンブリを含む、段落A28〜A29のいずれかに記載の検査システム。
A31. 前記伝送路は、内部導体と外部導体を含む同軸の伝送路を含む、段落A28〜A30のいずれかに記載の検査システム。
A32. 前記検査システムは、電気的な接触が前記プローブと前記DUTとの間に選択的に確立されると、前記プローブ側の接触領域および前記チャック側の接触領域は互いに電気的に接触するように構成される、段落A1〜A31のいずれかに記載の検査システム。
A33. 前記検査システムは、前記チャック側の接触領域と前記プローブ側の接触領域との間に電気的な通信を選択的に確立するように構成される接触エンジンをさらに含む、段落A1〜A32のいずれかに記載の検査システム。
A34. 前記接触エンジンは、ソレノイド、圧電デバイス、回転機構、ボールねじ、ラックピニオンアセンブリ、電気機械式接触エンジン、空気圧式接触エンジン、および油圧式接触エンジンの少なくとも一つを含む、段落A33に記載の検査システム。
A35. 前記接触エンジンは、前記チャック側の接触領域と前記プローブおよび前記DUTの間の接触から独立した前記プローブ側の接触領域との間に電気的な通信を確立するように構成される、段落A33〜A34のいずれかに記載の検査システム。
B1. 複数の検査対象デバイス(DUT)を含む基板の上に形成されるDUTを電気的に検査する方法であって、前記DUTは、第一の側および前記第一の側に対向する第二の側を画定し、前記方法は、
チャックによって画定される導電性の支持表面の上に前記基板を配置するステップであって、該配置ステップは、前記DUTの前記第二の側を前記導電性の支持表面に電気的に接触させることを含む、ステップと、
前記DUTの前記第一の側をプローブヘッドアセンブリのプローブと電気的に接触させるステップと、
プローブ側の接触構造体をチャック側の接触構造体に電気的に接触させるステップであって、前記チャック側の接触構造体は前記導電性の支持表面と電気的に通信する、ステップと、
前記プローブおよび前記プローブ側の接触構造体のうちの一方に電流を供給するステップと、
前記前記プローブおよび前記プローブ側の接触構造体のうちの他方から電流を受給するステップと、
を含む、DUTの電気的検査方法。
B2. 前記電流を供給するステップは、前記電流を前記プローブ側の接触構造体に供給するステップを含み、さらに、前記電流を受給するステップは、前記電流を前記プローブ側の接触構造体から前記チャック側の接触構造体に、前記チャック側の接触構造体から前記導電性の支持表面に、前記導電性の支持表面から前記DUTに、および前記DUTから前記プローブに流すステップを含む、段落B1に記載の方法。
B3. 前記電流を供給するステップは、前記電流を前記プローブに供給するステップを含み、さらに、前記電流を受給するステップは、前記電流を前記プローブから前記DUTに、前記DUTから前記導電性の支持表面に、前記導電性の支持表面から前記チャック側の接触構造体に、および前記チャック側の接触構造体から前記プローブ側の接触構造体に流すステップを含む、段落B1に記載の方法。
B4. 前記方法は、前記DUTの前記第一の側を前記プローブに電気的に接触させるために、及び、前記プローブ側の接触構造体を前記チャック側の接触構造体に電気的に接触させるために、前記チャックおよび前記プローブヘッドアセンブリを互いに対して移動させるステップを含む、段落B1〜B3に記載の方法。
B5. 前記方法は、前記DUTの前記第一の側を前記プローブに電気的に接触させるために、前記チャックおよび前記プローブヘッドアセンブリを互いに対して移動させるステップを含み、前記方法は、前記プローブ側の接触構造体を前記チャック側の接触構造体に電気的に接触させるために。前記プローブ側の接触構造体および前記チャック側の接触構造体を互いに対して移動させるステップをさらに含む、段落B1〜B4に記載の方法。
B6. 前記プローブ側の接触構造体および前記チャック側の接触構造体を互いに対して移動させるステップは、
(i)前記チャックおよび前記プローブヘッドアセンブリを互いに対して移動させるステップから独立する、
(ii)前記チャックおよび前記プローブヘッドアセンブリを互いに対して移動させるステップの前に実行される、および
(iii)前記チャックおよび前記プローブヘッドアセンブリを互いに対して移動させるステップの後に実行される、
のうち少なくとも1つである、段落B5に記載の方法。
B7. 前記プローブは第一のプローブであり、前記方法は前記DUTの前記第一の側を前記プローブヘッドアセンブリの第二のプローブに電気的に接触させるステップをさらに含み、前記プローブ側の接触構造体は第一のプローブ側の接触構造体であり、前記チャック側の接触構造体は第一のチャック側の接触構造体であり、さらに、前記方法は、第二のプローブ側の接触構造体を、導電性の支持表面と電気的に通信している第二のチャック側の接触構造体に電気的に接触させるステップを含む、段落B1〜B6のいずれかに記載の方法。
B8. 前記方法は、前記第二のチャック側の接触構造体および前記第二のプローブ側の接触構造体を介して、前記第二のプローブと前記導電性の支持表面との間の電圧を測定するステップをさらに含む、段落B7に記載の方法。
B9. 前記方法は、前記第二のプローブ側の接触構造体と前記第二のチャック側の接触構造体との間の電気的な接触を維持する間、前記第一のプローブ側の接触構造体と前記第一のチャック側の接触構造体との間の電気的な接触を選択的に絶つステップをさらに含む、段落B7〜B8のいずれかに記載の方法。
B10. 前記電流を供給するステップは、少なくとも1アンペア(A)、少なくとも5A、少なくとも10A、少なくとも20A、少なくとも30A、少なくとも50A、少なくとも75A、少なくとも100A、少なくとも150A、少なくとも200A、少なくとも300A、少なくとも400A、少なくとも500A、少なくとも600A、少なくとも700A、少なくとも800A、少なくとも900A、または少なくとも1000Aの電流を供給するステップを含む、段落B1〜B9に記載の方法。
B11. 前記電流を供給するステップは、10ミリ秒(ms)未満、7.5ms未満、5ms未満、2.5ms未満、2ms未満、1ms未満、750マイクロ秒未満、500マイクロ秒未満、250マイクロ秒未満、100マイクロ秒未満、1マイクロ秒未満、750ナノ秒(ns)未満、500ns未満、250ns未満、100ns未満、または50ns未満のパルス幅でパルス電流を供給するステップを含む、段落B1〜B10のいずれかに記載の方法。
B12. 前記パルス電流を供給するステップは、1000ナノ秒(ns)未満、750ns未満、500ns未満、250ns未満、200ns未満、100ns未満、75ns未満、50ns未満、40ns未満、30ns未満、20ns未満、15ns未満、10ns未満、5ns未満、または1ns未満の立ち上がり時間でパルス電流を供給するステップを含む、段落B11に記載の方法。
B13. 前記パルス電流を供給するステップは、前記パルス電流を20%未満、15%未満、10%未満、7.5%未満、5%未満、2.5%未満、1%未満、0.75%未満、0.5%未満、または0.1%未満の負荷サイクルで供給するステップを含む、段落B11〜B12のいずれかに記載の方法。
B14. 前記方法は、前記DUTを特徴付けるステップをさらに含み、前記特徴付けるステップは、前記DUTのスイッチング性能および前記DUTの電力消費の少なくとも一つを特徴付けるステップを含む、段落B1〜B13のいずれかに記載の方法。
本明細書にて開示されるシステムおよび方法は、電子デバイスの製造および/または検査の産業に適用可能である。
上記の開示は、独立した用途を有する複数の別個の発明を包含していると確信する。これらの発明の各々を好適な形態で開示したが、本明細書に開示し、例示された特定の実施形態は、多数の変形が可能であるので、限定的な意味で考慮されるべきではない。これらの発明の主題は、本明細書に開示する様々な要素、特徴、機能、および/または特性の、すべての新規かつ非自明な組合せおよび副次的な組合せを含む。同様に、特許請求の範囲が「1つの」、または「第一の」要素、またはこれらに等価なものを記載する場合、このような特許請求の範囲は1つ以上のこうした要素の組み入れを含み、2つ以上のこのような要素を要求することも除外することも含まないものとして理解すべきである。
以下の特許請求の範囲は、本開示による発明の1つに指向し、新規かつ非自明な特定の組合せまたは副次的組合せを特に指摘しているものと確信する。特徴、機能、要素、および/または特性の他の組み合わせ及び副次的組み合わせは、本願または関連出願の本請求項の補正、または新たな請求項の提示を通して特許請求することができる。このような補正された請求項または新たな請求項も、異なる発明に指向しているか、同じ発明に指向しているかにかかわらず、また、元の特許請求の範囲と異なるか、より広いか、より狭いか、または同等であるかにかかわらず、本開示の発明の主題の範囲内に含まれるものとみなされる。

Claims (21)

  1. 複数の検査対象デバイス(DUT)を含む基板の上に形成されるDUTを電気的に検査するための検査システムであって、前記DUTは第一の側および前記第一の側に対向する第二の側を画定し、前記検査システムは、
    前記DUTの前記第一の側と電気的に接触するように構成されるプローブを含むプローブヘッドアセンブリと、
    プローブ側の接触領域を含むプローブ側の接触構造体と、
    前記基板を支持し、前記DUTの前記第二の側と電気的に接触するように構成される導電性の支持表面を含むチャックであって、前記プローブヘッドアセンブリおよび前記チャックは、前記プローブと前記DUTとの間に電気的な接触を選択的に確立するために互いに対して選択的に並進移動するように構成される、チャックと、
    チャック側の接触領域を含むチャック側の接触構造体であって、前記チャック側の接触構造体は、前記導電性の支持表面と電気的に通信し、さらに前記チャック側の接触構造体およびプローブ側の接触構造体は互いに対向し、かつチャック側の接触領域とプローブ側の接触領域との間に電気的な通信を選択的に確立するように構成される、チャック側の接触構造体と、
    を有することを特徴とする検査システム。
  2. 前記検査システムは、前記DUT、前記導電性の支持表面、および前記チャック側の接触構造体を介して、前記プローブと前記プローブ側の接触構造体との間に検査信号を伝達するように構成される、請求項1に記載の検査システム。
  3. 前記プローブ側の接触領域および前記チャック側の接触領域のうちの一方は平面状の接触表面を画定し、さらに前記プローブ側の接触領域および前記チャック側の接触領域のうちの他方は弾性導電部材により画定される、請求項1に記載の検査システム。
  4. 前記弾性導電部材は、可撓性の導電部材、バネ、ボールプランジャ、弾性材料により支えられる導電部材、バイアスローラーアセンブリ、およびバネ荷重ピンの少なくとも1つを含む、請求項3に記載の検査システム。
  5. 前記プローブ側の接触領域は、前記チャック側の接触領域に面する、請求項1に記載の検査システム。
  6. 前記プローブ側の接触領域は平面状の接触表面を含み、前記基板は、前記プローブヘッドアセンブリに面し、かつ第一の基板表面積を画定する第一の基板表面を画定し、前記平面状の接触表面は平面状の接触表面積を画定し、さらに、前記平面状の接触表面積は前記第一の基板表面積の25%以内の範囲に対する前記第一の基板表面積に整合される、請求項1に記載の検査システム。
  7. 前記プローブヘッドアセンブリは、前記プローブと第一の側および前記第一の側に対向する第二の側を画定するプラテンとを含むプローブヘッドを含み、前記プローブヘッドは前記プラテンの第一の側に動作的に取り付けられ、前記プラテンは前記プラテンの第一の側と前記プラテンの第二の側との間に延在する開口領域を画定し、前記プローブは前記開口領域を経て延在し、さらに、前記プローブ側の接触構造体は、(i)前記プラテンの前記第二の側に動作的に取り付けられる、および、(ii)前記プラテンの前記第二の側の一部を形成する、の少なくとも1つである、請求項1に記載の検査システム。
  8. 前記プローブ側の接触領域は、前記導電性の支持表面に平行な方向に、前記開口領域からオフセットされる、請求項7に記載の検査システム。
  9. 前記プローブは第一のプローブであり、前記検査システムはさらに第二のプローブを含んでおり、前記プローブ側の接触構造体は、第一のプローブ側の接触領域を画定する第一のプローブ側の接触構造体であり、前記検査システムは第二のプローブ側の接触領域を画定する第二のプローブ側の接触構造体をさらに含み、前記チャック側の接触構造体は第一のチャック側の接触領域を画定する第一のチャック側の接触構造体を含み、前記検査システムは第二のチャック側の接触領域を画定する第二のチャック側の接触構造体をさらに含む、請求項1に記載の検査システム。
  10. 前記検査システムは、前記DUTの電気的な検査中に、前記DUTと準ケルビン接続を確立するように構成される、請求項9に記載の検査システム。
  11. 前記検査システムは、前記第一のプローブ側の接触構造体、前記第一のチャック側の接触構造体、および前記導電性の支持表面を介して前記DUTにフォース信号を供給し、かつ前記第一のプローブを介して前記DUTから前記フォース信号を受給するように構成される、請求項9に記載の検査システム。
  12. 前記検査システムは、前記第二のチャック側の接触構造体および前記第二のプローブ側の接触構造体を介して、前記第二のプローブと前記導電性の支持表面との間の電圧を感知するように構成される、請求項9に記載の検査システム。
  13. 前記検査システムは、信号生成および分析アセンブリと前記プローブヘッドとの間に延在する伝送路をさらに含み、前記信号生成および分析アセンブリは、前記伝送路を介して、前記プローブおよび前記プローブ側の接触構造体のうち一方に電流を供給し、かつ前記伝送路を介して、前記プローブおよび前記プローブ側の接触構造体のうち他方から電流を受給するように構成される、請求項1に記載の検査システム。
  14. 前記検査システムは、前記信号生成および分析アセンブリを含む、請求項13に記載の検査システム。
  15. 前記検査システムは、電気的な接触が前記プローブと前記DUTとの間に選択的に確立されると、前記プローブ側の接触領域および前記チャック側の接触領域は互いに電気的に接触するように構成される、請求項1に記載の検査システム。
  16. 前記検査システムは、前記チャック側の接触領域と前記プローブ側の接触領域との間に電気的な通信を選択的に確立するように構成される接触エンジンをさらに含む、請求項1に記載の検査システム。
  17. 前記接触エンジンは、前記チャック側の接触領域と前記プローブおよび前記DUT間の接触から独立した前記プローブ側の接触領域との間に電気的な通信を確立するように構成される、請求項16に記載の検査システム。
  18. 複数の検査対象デバイス(DUT)を含む基板の上に形成されるDUTを電気的に検査する方法であって、前記DUTは、第一の側および前記第一の側に対向する第二の側を画定し、前記方法は、
    チャックによって画定される導電性の支持表面の上に前記基板を配置するステップであって、該配置するステップは、前記DUTの前記第二の側を前記導電性の支持表面に電気的に接触させることを含む、ステップと、
    前記DUTの前記第一の側をプローブヘッドアセンブリのプローブに電気的に接触させるステップと、
    プローブ側の接触構造体をチャック側の接触構造体に電気的に接触させるステップであって、前記チャック側の接触構造体は前記導電性の支持表面と電気的に通信する、ステップと、
    前記プローブおよび前記プローブ側の接触構造体のうち一方に電流を供給するステップと、
    前記プローブおよび前記プローブ側の接触構造体のうち他方から電流を受給するステップと、
    を含む、DUTの電気的検査方法。
  19. 前記電流を供給するステップは、前記電流を前記プローブ側の接触構造体に供給するステップを含み、さらに、前記電流を受給するステップは、前記電流を前記プローブ側の接触構造体から前記チャック側の接触構造体に、前記チャック側の接触構造体から前記導電性の支持表面に、前記導電性の支持表面から前記DUTに、および前記DUTから前記プローブに流すステップを含む、請求項18に記載の方法。
  20. 前記電流を供給するステップは、前記電流を前記プローブに供給するステップを含み、さらに、前記電流を受給するステップは、前記電流を前記プローブから前記DUTに、前記DUTから前記導電性の支持表面に、前記導電性の支持表面から前記チャック側の接触構造体に、および前記チャック側の接触構造体から前記プローブ側の接触構造体に流すステップを含む、請求項18に記載の方法。
  21. 前記電流を供給するステップは、少なくとも10アンペアの電流を供給するステップを含む、請求項18に記載の方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020515865A (ja) * 2017-04-04 2020-05-28 フォームファクター ビーバートン インコーポレイテッド 電気接触検出を含むプローブシステム及びその利用方法

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2545496B (en) 2015-12-18 2020-06-03 Teraview Ltd A Test System
US10180486B2 (en) * 2016-03-16 2019-01-15 Formfactor Beaverton, Inc. Test standards and methods for impedance calibration of a probe system, and probe systems that include the test standards or utilize the methods
CN111492254A (zh) * 2017-12-26 2020-08-04 日本电产理德股份有限公司 基板检查装置
US11346883B2 (en) * 2019-11-05 2022-05-31 Formfactor, Inc. Probe systems and methods for testing a device under test
US11959937B2 (en) * 2019-12-06 2024-04-16 Keithley Instruments, Llc Triaxial power and control systems and methods
TWI745982B (zh) * 2020-05-27 2021-11-11 矽品精密工業股份有限公司 測試系統及其測試方法
EP4027150A1 (en) * 2021-01-07 2022-07-13 Afore Oy Testing device and method for reducing vibration in a testing device
CN115932518A (zh) * 2021-10-01 2023-04-07 致茂电子(苏州)有限公司 晶圆检测方法与检测设备
IT202200006356A1 (it) * 2022-03-31 2023-10-01 Crea Collaudi Elettr Automatizzati S R L Sistema di test per il test ad alta tensione ed alta corrente su una pluralità di dispositivi a semiconduttore di potenza compresi in un wafer, e sistema di contattazione

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011138865A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Micronics Japan Co Ltd 半導体デバイスの検査装置
JP2012058225A (ja) * 2010-03-12 2012-03-22 Tokyo Electron Ltd プローブ装置
WO2013018910A1 (ja) * 2011-08-01 2013-02-07 東京エレクトロン株式会社 パワーデバイス用のプローブカード

Family Cites Families (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1337866A (en) 1917-09-27 1920-04-20 Griffiths Ethel Grace System for protecting electric cables
US2142625A (en) 1932-07-06 1939-01-03 Hollandsche Draad En Kabelfab High tension cable
US2197081A (en) 1937-06-14 1940-04-16 Transit Res Corp Motor support
US2376101A (en) 1942-04-01 1945-05-15 Ferris Instr Corp Electrical energy transmission
US2389668A (en) 1943-03-04 1945-11-27 Barnes Drill Co Indexing mechanism for machine tables
US2471697A (en) 1946-11-08 1949-05-31 Merck & Co Inc Process for reducing carbonyl compounds to their corresponding methylene analogues
US2812502A (en) 1953-07-07 1957-11-05 Bell Telephone Labor Inc Transposed coaxial conductor system
CH364040A (fr) 1960-04-19 1962-08-31 Ipa Anstalt Dispositif de détection pour vérifier si un élément d'une installation électrique est sous tension
US3185927A (en) 1961-01-31 1965-05-25 Kulicke & Soffa Mfg Co Probe instrument for inspecting semiconductor wafers including means for marking defective zones
US3193712A (en) 1962-03-21 1965-07-06 Clarence A Harris High voltage cable
US3230299A (en) 1962-07-18 1966-01-18 Gen Cable Corp Electrical cable with chemically bonded rubber layers
US3256484A (en) 1962-09-10 1966-06-14 Tektronix Inc High voltage test probe containing a part gas, part liquid dielectric fluid under pressure and having a transparent housing section for viewing the presence of the liquid therein
US3176091A (en) 1962-11-07 1965-03-30 Helmer C Hanson Controlled multiple switching unit
US3192844A (en) 1963-03-05 1965-07-06 Kulicke And Soffa Mfg Company Mask alignment fixture
US3201721A (en) 1963-12-30 1965-08-17 Western Electric Co Coaxial line to strip line connector
US3289046A (en) 1964-05-19 1966-11-29 Gen Electric Component chip mounted on substrate with heater pads therebetween
US3333274A (en) 1965-04-21 1967-07-25 Micro Tech Mfg Inc Testing device
US6127831A (en) 1997-04-21 2000-10-03 Motorola, Inc. Method of testing a semiconductor device by automatically measuring probe tip parameters
US6838890B2 (en) 2000-02-25 2005-01-04 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
US7952373B2 (en) * 2000-05-23 2011-05-31 Verigy (Singapore) Pte. Ltd. Construction structures and manufacturing processes for integrated circuit wafer probe card assemblies
JP4592885B2 (ja) * 2000-07-31 2010-12-08 富士通セミコンダクター株式会社 半導体基板試験装置
JP2002168906A (ja) * 2000-11-28 2002-06-14 Ando Electric Co Ltd テストヘッドの接続装置
AU2003218348A1 (en) 2002-03-22 2003-10-13 Electro Scientific Industries, Inc. Test probe alignment apparatus
US7250779B2 (en) 2002-11-25 2007-07-31 Cascade Microtech, Inc. Probe station with low inductance path
JP4146839B2 (ja) * 2002-12-04 2008-09-10 株式会社アドバンテスト 押圧部材および電子部品ハンドリング装置
JP2004265895A (ja) * 2003-01-20 2004-09-24 Tokyo Electron Ltd 光学的測長器を備えたプローブ装置及びプローブ検査方法
JP5089166B2 (ja) * 2003-03-14 2012-12-05 ルドルフテクノロジーズ インコーポレイテッド プローブカードアナライザにおける部品のたわみの影響を軽減する方法
US7221172B2 (en) * 2003-05-06 2007-05-22 Cascade Microtech, Inc. Switched suspended conductor and connection
US7492172B2 (en) * 2003-05-23 2009-02-17 Cascade Microtech, Inc. Chuck for holding a device under test
KR100586675B1 (ko) * 2004-09-22 2006-06-12 주식회사 파이컴 수직형 전기적 접촉체의 제조방법 및 이에 따른 수직형전기적 접촉체
US7869184B2 (en) 2005-11-30 2011-01-11 Lam Research Corporation Method of determining a target mesa configuration of an electrostatic chuck
US7629804B2 (en) * 2006-08-04 2009-12-08 Vertical Test Inc. Probe head assembly for use in testing multiple wafer die
US7573283B2 (en) 2007-06-19 2009-08-11 Suss Micro Tec Test Systems Gmbh Method for measurement of a device under test
JP2009276215A (ja) * 2008-05-15 2009-11-26 Tokyo Electron Ltd プローブ装置及びコンタクト位置の補正方法
JP5406480B2 (ja) * 2008-08-08 2014-02-05 東京エレクトロン株式会社 プローブ方法及びプローブ用プログラム
US8222912B2 (en) * 2009-03-12 2012-07-17 Sv Probe Pte. Ltd. Probe head structure for probe test cards
US7977956B2 (en) * 2009-04-28 2011-07-12 Formfactor, Inc. Method and apparatus for probe card alignment in a test system
WO2011002709A1 (en) * 2009-06-29 2011-01-06 Hsio Technologies, Llc Compliant printed circuit semiconductor tester interface
US8587331B2 (en) 2009-12-31 2013-11-19 Tommie E. Berry Test systems and methods for testing electronic devices
TWI518339B (zh) * 2010-01-18 2016-01-21 佛姆費克特股份有限公司 用以測試電子裝置之測試系統及方法
US8218334B2 (en) * 2010-03-09 2012-07-10 Oracle America, Inc. Multi-chip module with multi-level interposer
US8154119B2 (en) * 2010-03-31 2012-04-10 Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. Compliant spring interposer for wafer level three dimensional (3D) integration and method of manufacturing
US9007082B2 (en) * 2010-09-07 2015-04-14 Johnstech International Corporation Electrically conductive pins for microcircuit tester
FR2967815A1 (fr) * 2010-11-22 2012-05-25 St Microelectronics Sa Procede de fabrication d'un dispositif a empilement de puces semiconductrices
WO2013002806A1 (en) * 2011-06-30 2013-01-03 Advantest (Singapore) Pte Ltd Methods, apparatus, and systems for contacting semiconductor dies that are electrically coupled to test access interface positioned in scribe lines of a wafer
US20130015871A1 (en) * 2011-07-11 2013-01-17 Cascade Microtech, Inc. Systems, devices, and methods for two-sided testing of electronic devices
TWI431291B (zh) * 2011-07-14 2014-03-21 Chroma Ate Inc 發光二極體量測裝置
TW201310039A (zh) 2011-08-26 2013-03-01 Ganepi Optotech Inc 探測頭及應用此探測頭之晶圓檢測裝置
JP5796870B2 (ja) * 2011-12-05 2015-10-21 株式会社日本マイクロニクス 半導体デバイスの検査装置とそれに用いるチャックステージ
JP2013191737A (ja) * 2012-03-14 2013-09-26 Tokyo Electron Ltd ウエハ検査装置
JP5970218B2 (ja) * 2012-03-26 2016-08-17 東京エレクトロン株式会社 プローブ装置
US9316685B2 (en) * 2012-11-12 2016-04-19 Mpi Corporation Probe card of low power loss

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011138865A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Micronics Japan Co Ltd 半導体デバイスの検査装置
JP2012058225A (ja) * 2010-03-12 2012-03-22 Tokyo Electron Ltd プローブ装置
WO2013018910A1 (ja) * 2011-08-01 2013-02-07 東京エレクトロン株式会社 パワーデバイス用のプローブカード

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020515865A (ja) * 2017-04-04 2020-05-28 フォームファクター ビーバートン インコーポレイテッド 電気接触検出を含むプローブシステム及びその利用方法
JP7148541B2 (ja) 2017-04-04 2022-10-05 フォームファクター ビーバートン インコーポレイテッド 電気接触検出を含むプローブシステム及びその利用方法

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