JP2016050324A - キャリア付銅箔の製造方法、銅張積層板の製造方法、プリント配線板の製造方法、及び、電子機器及びキャリア付銅箔 - Google Patents
キャリア付銅箔の製造方法、銅張積層板の製造方法、プリント配線板の製造方法、及び、電子機器及びキャリア付銅箔 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016050324A JP2016050324A JP2014174891A JP2014174891A JP2016050324A JP 2016050324 A JP2016050324 A JP 2016050324A JP 2014174891 A JP2014174891 A JP 2014174891A JP 2014174891 A JP2014174891 A JP 2014174891A JP 2016050324 A JP2016050324 A JP 2016050324A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier
- layer
- copper foil
- copper
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/022—Processes for manufacturing precursors of printed circuits, i.e. copper-clad substrates
- H05K3/025—Processes for manufacturing precursors of printed circuits, i.e. copper-clad substrates by transfer of thin metal foil formed on a temporary carrier, e.g. peel-apart copper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
- C25D1/04—Wires; Strips; Foils
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/382—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal
- H05K3/384—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal by plating
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/01—Tools for processing; Objects used during processing
- H05K2203/0147—Carriers and holders
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/02—Details related to mechanical or acoustic processing, e.g. drilling, punching, cutting, using ultrasound
- H05K2203/0264—Peeling insulating layer, e.g. foil, or separating mask
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0703—Plating
- H05K2203/0723—Electroplating, e.g. finish plating
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
Description
前記キャリア付銅箔と絶縁基板とを積層する工程、及び、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板とを積層した後に、前記キャリア付銅箔のキャリアを剥がす工程を経て銅張積層板を形成し、
その後、セミアディティブ法、サブトラクティブ法、パートリーアディティブ法又はモディファイドセミアディティブ法のいずれかの方法によって、回路を形成する工程を含むプリント配線板の製造方法である。
前記回路が埋没するように前記キャリア付銅箔の前記極薄銅層側表面又は前記キャリア側表面に樹脂層を形成する工程、
前記樹脂層上に回路を形成する工程、
前記樹脂層上に回路を形成した後に、前記キャリア又は前記極薄銅層を剥離させる工程、及び、
前記キャリアを剥離させた後に、前記極薄銅層又は前記キャリアを除去することで、前記極薄銅層側表面又は前記キャリア側表面に形成した、前記樹脂層に埋没している回路を露出させる工程
を含むプリント配線板の製造方法である。
キャリア、中間層、極薄銅層をこの順に備えたキャリア付銅箔の使用形態としては、まず、極薄銅層の表面を絶縁基板に貼り合わせて熱圧着後にキャリアを剥がす。次に、絶縁基板に接着した極薄銅層に所定パターンのレジストを設ける。続いて、所定のエッチング液でエッチング処理を行い、レジストに覆われていない部分の極薄銅層を除去することで、目的とする導体パターンを形成し、例えば、所定の回路を有するプリント配線板等を作製する。ここで、所定のエッチング液によりエッチング処理を行うとき、極薄銅層の樹脂基材との界面近傍部のエッチング液への濡れ性が悪いと、エッチング液の濡れ広がりが不十分となる。その場合、樹脂基材との界面近傍部においてエッチング不均一部が生じ、回路直線性が不良となる。
通常、キャリア付銅箔と樹脂基材を貼り合わせる時には160〜220℃の温度で50〜120分程度の加熱圧着を行うため、この時にも上記の相互拡散がある程度進行するが、条件によっては相互拡散が不十分な場合がある。したがって、上記加熱処理を樹脂基材との接着前に行うことにより、エッチング性ならびにその均一性の向上効果がより確実なものとなる。
なお、XPS等の表面分析により、キャリア付銅箔の極薄銅層側表面にSiが検出された場合には、シランカップリング処理層が存在すると判断できる。
上記加熱温度に到達するまので昇温速度は、70℃/時間〜200℃/時間がより好ましく、100℃/時間〜200℃/時間が更により好ましく、150℃/時間〜200℃/時間が更により好ましい。
当該張力は、より好ましくは10kgf/m以上、より好ましくは20kgf/m以上、より好ましくは20〜100kgf/mであり、更により好ましくは20〜50kgf/mであり、更により好ましくは20〜30kgf/mである。
当該キャリアの引張強度は350MPa以上であるのがより好ましく、380MPa以上であるのが更により好ましく、より典型的には350〜500MPaであり、更により典型的には380〜450MPaである。
以下、特に明記しない限り、キャリア付銅箔の実施形態は本発明に係る加熱処理前のものについて説明するが、当該実施形態は、加熱処理後のもの(本発明に係るキャリア付銅箔の製造方法によって作製されたキャリア付銅箔)にも同様に当てはまる。
本発明のキャリア付銅箔は、キャリアと、中間層と、極薄銅層と、表面処理層とをこの順で有する。キャリア付銅箔自体の使用方法は当業者に周知であるが、例えば極薄銅層の表面を紙基材フェノール樹脂、紙基材エポキシ樹脂、合成繊維布基材エポキシ樹脂、ガラス布・紙複合基材エポキシ樹脂、ガラス布・ガラス不織布複合基材エポキシ樹脂及びガラス布基材エポキシ樹脂、ポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム、液晶ポリマーフィルム、フッ素樹脂フィルム等の絶縁基板に貼り合わせて熱圧着後にキャリアを剥がし、絶縁基板に接着した極薄銅層を目的とする導体パターンにエッチングし、最終的にプリント配線板を製造することができる。
本発明に用いることのできるキャリアは典型的には金属箔または樹脂フィルムであり、例えば銅箔、銅合金箔、ニッケル箔、ニッケル合金箔、鉄箔、鉄合金箔、ステンレス箔、アルミニウム箔、アルミニウム合金箔、絶縁樹脂フィルム、ポリイミドフィルム、LCPフィルムの形態で提供される。
本発明に用いることのできるキャリアは典型的には圧延銅箔や電解銅箔の形態で提供される。一般的には、電解銅箔は硫酸銅めっき浴からチタンやステンレスのドラム上に銅を電解析出して製造され、圧延銅箔は圧延ロールによる塑性加工と熱処理を繰り返して製造される。銅箔の材料としてはタフピッチ銅(JIS H3100 合金番号C1100)や無酸素銅(JIS H3100 合金番号C1020またはJIS H3510 合金番号C1011)といった高純度の銅の他、例えばSn入り銅、Ag入り銅、Cr、Zr又はMg等を添加した銅合金、Ni及びSi等を添加したコルソン系銅合金のような銅合金も使用可能である。
また、電解銅箔としては、以下の電解液組成及び製造条件にて作製することができる。
なお、本明細書に記載されている銅箔の製造、銅箔の表面処理又は銅箔のめっき等に用いられる処理液の残部は特に明記しない限り水である。
<電解液組成>
銅:90〜110g/L
硫酸:90〜110g/L
塩素:50〜100ppm
レベリング剤1(ビス(3スルホプロピル)ジスルフィド):10〜30ppm
レベリング剤2(アミン化合物):10〜30ppm
上記のアミン化合物には以下の化学式のアミン化合物を用いることができる。
電流密度:70〜100A/dm2
電解液温度:50〜60℃
電解液線速:3〜5m/sec
電解時間:0.5〜10分間
なお、本明細書において用語「銅箔」を単独で用いたときには銅合金箔も含むものとする。
キャリア上には中間層を設ける。キャリアと中間層との間に他の層を設けてもよい。本発明で用いる中間層は、キャリア付銅箔が絶縁基板への積層工程前にはキャリアから極薄銅層が剥離し難い一方で、絶縁基板への積層工程後にはキャリアから極薄銅層が剥離可能となるような構成であれば特に限定されない。例えば、本発明のキャリア付銅箔の中間層はCr、Ni、Co、Fe、Mo、Ti、W、P、Cu、Al、Zn、これらの合金、これらの水和物、これらの酸化物、有機物からなる群から選択される一種又は二種以上を含んでも良い。また、中間層は複数の層であっても良い。また、中間層はキャリアの両面に設けてもよい。
キャリアとして電解銅箔を使用する場合には、ピンホールを減少させる観点からシャイニー面に中間層を設けることが好ましい。
また、クロメート処理層は、例えば電解クロメートや浸漬クロメート等で形成することができるが、クロム濃度を高くすることができ、キャリアからの極薄銅層の剥離強度が良好となるため、電解クロメートで形成するのが好ましい。
硫黄含有有機化合物には、メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾールナトリウム、チオシアヌル酸及び2−ベンズイミダゾールチオール等を用いることが好ましい。
カルボン酸としては、特にモノカルボン酸を用いることが好ましく、中でもオレイン酸、リノール酸及びリノレイン酸等を用いることが好ましい。
前述の有機物は厚みで25nm以上80nm以下含有するのが好ましく、30nm以上70nm以下含有するのがより好ましい。中間層は前述の有機物を複数種類(一種以上)含んでもよい。
なお、有機物の厚みは以下のようにして測定することができる。
キャリア付銅箔の極薄銅層をキャリアから剥離した後に、露出した極薄銅層の中間層側の表面と、露出したキャリアの中間層側の表面をXPS測定し、デプスプロファイルを作成する。そして、極薄銅層の中間層側の表面から最初に炭素濃度が3at%以下となった深さをA(nm)とし、キャリアの中間層側の表面から最初に炭素濃度が3at%以下となった深さをB(nm)とし、AとBとの合計を中間層の有機物の厚み(nm)とすることができる。
XPSの稼働条件を以下に示す。
・装置:XPS測定装置(アルバックファイ社、型式5600MC)
・到達真空度:3.8×10-7Pa
・X線:単色AlKαまたは非単色MgKα、エックス線出力300W、検出面積800μmφ、試料と検出器のなす角度45°
・イオン線:イオン種Ar+、加速電圧3kV、掃引面積3mm×3mm、スパッタリングレート2.8nm/min(SiO2換算)
中間層の上には極薄銅層を設ける。中間層と極薄銅層との間には他の層を設けてもよい。極薄銅層は、硫酸銅、ピロリン酸銅、スルファミン酸銅、シアン化銅等の電解浴を利用した電気めっきにより形成することができ、高電流密度での銅層形成が可能であることから硫酸銅浴が好ましい。極薄銅層の厚みは特に制限はないが、一般的にはキャリアよりも薄く、例えば12μm以下である。典型的には0.5〜12μmであり、より典型的には1〜5μmであり、更により典型的には1.5〜5μmであり、更により典型的には2〜5μmである。なお、極薄銅層はキャリアの両面に設けてもよい。
極薄銅層の表面には、例えば絶縁基板との密着性を良好にすること等のために粗化処理を施すことで粗化処理層を設けてもよい。粗化処理は、例えば、銅又は銅合金で粗化粒子を形成することにより行うことができる。粗化処理は微細なものであっても良い。粗化処理層は、銅、ニッケル、コバルト、リン、タングステン、ヒ素、モリブデン、クロム及び亜鉛からなる群から選択されたいずれかの単体又はいずれか1種以上を含む合金からなる層などであってもよい。また、銅又は銅合金で粗化粒子を形成した後、更にニッケル、コバルト、銅、亜鉛の単体または合金等で二次粒子や三次粒子を設ける粗化処理を行うこともできる。その後に、ニッケル、コバルト、銅、亜鉛の単体または合金等で耐熱層または防錆層を形成しても良く、更にその表面にクロメート処理、シランカップリング処理などの処理を施してもよい。または粗化処理を行わずに、ニッケル、コバルト、銅、亜鉛の単体または合金等で耐熱層又は防錆層を形成し、さらにその表面にクロメート処理、シランカップリング処理などの処理を施してもよい。すなわち、粗化処理層の表面に、耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された1種以上の層を形成してもよく、極薄銅層の表面に、耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された1種以上の層を形成してもよい。なお、上述の耐熱層、防錆層、クロメート処理層、シランカップリング処理層はそれぞれ複数の層で形成されてもよい(例えば2層以上、3層以上など)。ここでクロメート処理層とは前述のクロメート処理層であってもよく、そのほかのクロメート処理層であってもよい。
なお、上記シランカップリング処理層は、上記本発明の別の一側面に係るキャリア、中間層、極薄銅層、表面処理層をこの順に備えたキャリア付銅箔に対し、加熱温度に到達するまので昇温速度を50℃/時間超として、加熱温度100℃〜220℃で1時間〜8時間の加熱処理を行う加熱処理工程を含むキャリア付銅箔の製造方法においては、上述の通り必須の構成要素である。
なお、極薄銅層の一方の表面、又は、両方の表面に、粗化処理層、耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された1種以上の層を設けてもよく、表面処理層を設けてもよい。表面処理層は粗化処理層、耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された1種以上の層であってもよい。
また、前記粗化処理層上に、耐熱層、防錆層を備えてもよく、前記耐熱層、防錆層上にクロメート処理層を備えてもよく、前記クロメート処理層上にシランカップリング処理層を備えても良い。
また、前記キャリア付銅箔は前記極薄銅層上、あるいは前記粗化処理層上、あるいは前記耐熱層、防錆層、あるいはクロメート処理層、あるいはシランカップリング処理層の上に樹脂層を備えても良い。前記樹脂層は絶縁樹脂層であってもよい。
また、キャリア付銅箔は、キャリア上に粗化処理層を備えてもよく、キャリア上に粗化処理層、耐熱層、防錆層、クロメート処理層およびシランカップリング処理層からなる群から選択された層を一つ以上備えてもよい。前記粗化処理層、耐熱層、防錆層、クロメート処理層およびシランカップリング処理層は、公知の方法を用いて設けてもよく、本願明細書、特許請求の範囲、図面に記載の方法により設けてもよい。キャリアに前記粗化処理層、耐熱層、防錆層、クロメート処理層、シランカップリング処理層から選択された層を一つ以上設けることは、前記粗化処理層等を有する表面側から、キャリアを樹脂基板等の支持体に積層する場合に、キャリアと支持体が剥離しにくくなるという利点を有する。
前記リン含有エポキシ樹脂として公知のリンを含有するエポキシ樹脂を用いることができる。また、前記リン含有エポキシ樹脂は例えば、分子内に2以上のエポキシ基を備える9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイドからの誘導体として得られるエポキシ樹脂であることが好ましい。
前記樹脂層は誘電体(誘電体フィラー)を含んでもよい。
上記いずれかの樹脂層または樹脂組成物に誘電体(誘電体フィラー)を含ませる場合には、キャパシタ層を形成する用途に用い、キャパシタ回路の電気容量を増大させることができるのである。この誘電体(誘電体フィラー)には、BaTiO3、SrTiO3、Pb(Zr−Ti)O3(通称PZT)、PbLaTiO3・PbLaZrO(通称PLZT)、SrBi2Ta2O9(通称SBT)等のペブロスカイト構造を持つ複合酸化物の誘電体粉を用いる。
また、前記樹脂層はMIL規格におけるMIL−P−13949Gに準拠して測定したときのレジンフローが5%〜35%の範囲にある半硬化樹脂膜であることが好ましい。
本件明細書において、レジンフローとは、MIL規格におけるMIL−P−13949Gに準拠して、樹脂厚さを55μmとした樹脂付表面処理銅箔から10cm角試料を4枚サンプリングし、この4枚の試料を重ねた状態(積層体)でプレス温度171℃、プレス圧14kgf/cm2、プレス時間10分の条件で張り合わせ、そのときの樹脂流出重量を測定した結果から数1に基づいて算出した値である。
この樹脂層の厚みは0.1〜120μmであることが好ましい。
なお、樹脂層を有する表面処理銅箔が極薄の多層プリント配線板を製造することに用いられる場合には、前記樹脂層の厚みを0.1μm〜5μm、より好ましくは0.5μm〜5μm、より好ましくは1μm〜5μmとすることが、多層プリント配線板の厚みを小さくするために好ましい。
また、当該プリント配線板を用いて電子機器を作製してもよく、当該電子部品類が搭載されたプリント回路板を用いて電子機器を作製してもよく、当該電子部品類が搭載されたプリント基板を用いて電子機器を作製してもよい。以下に、本発明に係るキャリア付銅箔を用いたプリント配線板の製造工程の例を幾つか示す。
前記キャリア付銅箔と絶縁基板を積層する工程、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板を積層した後に、前記キャリア付銅箔のキャリアを剥がす工程、
前記キャリアを剥がして露出した極薄銅層を酸などの腐食溶液を用いたエッチングやプラズマなどの方法によりすべて除去する工程、
前記極薄銅層をエッチングにより除去することにより露出した前記樹脂にスルーホールまたは/およびブラインドビアを設ける工程、
前記スルーホールまたは/およびブラインドビアを含む領域についてデスミア処理を行う工程、
前記樹脂および前記スルーホールまたは/およびブラインドビアを含む領域について無電解めっき層を設ける工程、
前記無電解めっき層の上にめっきレジストを設ける工程、
前記めっきレジストに対して露光し、その後、回路が形成される領域のめっきレジストを除去する工程、
前記めっきレジストが除去された前記回路が形成される領域に、電解めっき層を設ける工程、
前記めっきレジストを除去する工程、
前記回路が形成される領域以外の領域にある無電解めっき層をフラッシュエッチングなどにより除去する工程、
を含む。
前記キャリア付銅箔と絶縁基板を積層する工程、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板を積層した後に、前記キャリア付銅箔のキャリアを剥がす工程、
前記キャリアを剥がして露出した極薄銅層と、前記絶縁樹脂基板とにスルーホールまたは/およびブラインドビアを設ける工程、
前記スルーホールまたは/およびブラインドビアを含む領域についてデスミア処理を行う工程、
前記キャリアを剥がして露出した極薄銅層を酸などの腐食溶液を用いたエッチングやプラズマなどの方法によりすべて除去する工程、
前記極薄銅層をエッチング等により除去することにより露出した前記樹脂および前記スルーホールまたは/およびブラインドビアを含む領域について無電解めっき層を設ける工程、
前記無電解めっき層の上にめっきレジストを設ける工程、
前記めっきレジストに対して露光し、その後、回路が形成される領域のめっきレジストを除去する工程、
前記めっきレジストが除去された前記回路が形成される領域に、電解めっき層を設ける工程、
前記めっきレジストを除去する工程、
前記回路が形成される領域以外の領域にある無電解めっき層をフラッシュエッチングなどにより除去する工程、
を含む。
前記キャリア付銅箔と絶縁基板を積層する工程、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板を積層した後に、前記キャリア付銅箔のキャリアを剥がす工程、
前記キャリアを剥がして露出した極薄銅層と、前記絶縁樹脂基板とにスルーホールまたは/およびブラインドビアを設ける工程、
前記キャリアを剥がして露出した極薄銅層を酸などの腐食溶液を用いたエッチングやプラズマなどの方法によりすべて除去する工程、
前記スルーホールまたは/およびブラインドビアを含む領域についてデスミア処理を行う工程、
前記極薄銅層をエッチング等により除去することにより露出した前記樹脂および前記スルーホールまたは/およびブラインドビアを含む領域について無電解めっき層を設ける工程、
前記無電解めっき層の上にめっきレジストを設ける工程、
前記めっきレジストに対して露光し、その後、回路が形成される領域のめっきレジストを除去する工程、
前記めっきレジストが除去された前記回路が形成される領域に、電解めっき層を設ける工程、
前記めっきレジストを除去する工程、
前記回路が形成される領域以外の領域にある無電解めっき層をフラッシュエッチングなどにより除去する工程、
を含む。
前記キャリア付銅箔と絶縁基板を積層する工程、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板を積層した後に、前記キャリア付銅箔のキャリアを剥がす工程、
前記キャリアを剥がして露出した極薄銅層を酸などの腐食溶液を用いたエッチングやプラズマなどの方法によりすべて除去する工程、
前記極薄銅層をエッチングにより除去することにより露出した前記樹脂の表面について無電解めっき層を設ける工程、
前記無電解めっき層の上にめっきレジストを設ける工程、
前記めっきレジストに対して露光し、その後、回路が形成される領域のめっきレジストを除去する工程、
前記めっきレジストが除去された前記回路が形成される領域に、電解めっき層を設ける工程、
前記めっきレジストを除去する工程、
前記回路が形成される領域以外の領域にある無電解めっき層及び極薄銅層をフラッシュエッチングなどにより除去する工程、
を含む。
前記キャリア付銅箔と絶縁基板を積層する工程、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板を積層した後に、前記キャリア付銅箔のキャリアを剥がす工程、
前記キャリアを剥がして露出した極薄銅層と絶縁基板にスルーホールまたは/およびブラインドビアを設ける工程、
前記スルーホールまたは/およびブラインドビアを含む領域についてデスミア処理を行う工程、
前記スルーホールまたは/およびブラインドビアを含む領域について無電解めっき層を設ける工程、
前記キャリアを剥がして露出した極薄銅層表面にめっきレジストを設ける工程、
前記めっきレジストを設けた後に、電解めっきにより回路を形成する工程、
前記めっきレジストを除去する工程、
前記めっきレジストを除去することにより露出した極薄銅層をフラッシュエッチングにより除去する工程、
を含む。
前記キャリア付銅箔と絶縁基板を積層する工程、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板を積層した後に、前記キャリア付銅箔のキャリアを剥がす工程、
前記キャリアを剥がして露出した極薄銅層の上にめっきレジストを設ける工程、
前記めっきレジストに対して露光し、その後、回路が形成される領域のめっきレジストを除去する工程、
前記めっきレジストが除去された前記回路が形成される領域に、電解めっき層を設ける工程、
前記めっきレジストを除去する工程、
前記回路が形成される領域以外の領域にある極薄銅層をフラッシュエッチングなどにより除去する工程、
を含む。
前記キャリア付銅箔と絶縁基板を積層する工程、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板を積層した後に、前記キャリア付銅箔のキャリアを剥がす工程、
前記キャリアを剥がして露出した極薄銅層と絶縁基板にスルーホールまたは/およびブラインドビアを設ける工程、
前記スルーホールまたは/およびブラインドビアを含む領域についてデスミア処理を行う工程、
前記スルーホールまたは/およびブラインドビアを含む領域について触媒核を付与する工程、
前記キャリアを剥がして露出した極薄銅層表面にエッチングレジストを設ける工程、
前記エッチングレジストに対して露光し、回路パターンを形成する工程、
前記極薄銅層および前記触媒核を酸などの腐食溶液を用いたエッチングやプラズマなどの方法により除去して、回路を形成する工程、
前記エッチングレジストを除去する工程、
前記極薄銅層および前記触媒核を酸などの腐食溶液を用いたエッチングやプラズマなどの方法により除去して露出した前記絶縁基板表面に、ソルダレジストまたはメッキレジストを設ける工程、
前記ソルダレジストまたはメッキレジストが設けられていない領域に無電解めっき層を設ける工程、
を含む。
前記キャリア付銅箔と絶縁基板を積層する工程、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板を積層した後に、前記キャリア付銅箔のキャリアを剥がす工程、
前記キャリアを剥がして露出した極薄銅層と絶縁基板にスルーホールまたは/およびブラインドビアを設ける工程、
前記スルーホールまたは/およびブラインドビアを含む領域についてデスミア処理を行う工程、
前記スルーホールまたは/およびブラインドビアを含む領域について無電解めっき層を設ける工程、
前記無電解めっき層の表面に、電解めっき層を設ける工程、
前記電解めっき層または/および前記極薄銅層の表面にエッチングレジストを設ける工程、
前記エッチングレジストに対して露光し、回路パターンを形成する工程、
前記極薄銅層および前記無電解めっき層および前記電解めっき層を酸などの腐食溶液を用いたエッチングやプラズマなどの方法により除去して、回路を形成する工程、
前記エッチングレジストを除去する工程、
を含む。
前記キャリア付銅箔と絶縁基板を積層する工程、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板を積層した後に、前記キャリア付銅箔のキャリアを剥がす工程、
前記キャリアを剥がして露出した極薄銅層と絶縁基板にスルーホールまたは/およびブラインドビアを設ける工程、
前記スルーホールまたは/およびブラインドビアを含む領域についてデスミア処理を行う工程、
前記スルーホールまたは/およびブラインドビアを含む領域について無電解めっき層を設ける工程、
前記無電解めっき層の表面にマスクを形成する工程、
マスクが形成されいない前記無電解めっき層の表面に電解めっき層を設ける工程、
前記電解めっき層または/および前記極薄銅層の表面にエッチングレジストを設ける工程、
前記エッチングレジストに対して露光し、回路パターンを形成する工程、
前記極薄銅層および前記無電解めっき層を酸などの腐食溶液を用いたエッチングやプラズマなどの方法により除去して、回路を形成する工程、
前記エッチングレジストを除去する工程、
を含む。
まず、図1−Aに示すように、表面に粗化処理層が形成された極薄銅層を有するキャリア付銅箔(1層目)を準備する。
次に、図1−Bに示すように、極薄銅層の粗化処理層上にレジストを塗布し、露光・現像を行い、レジストを所定の形状にエッチングする。
次に、図1−Cに示すように、回路用のめっきを形成した後、レジストを除去することで、所定の形状の回路めっきを形成する。
次に、図2−Dに示すように、回路めっきを覆うように(回路めっきが埋没するように)極薄銅層上に埋め込み樹脂を設けて樹脂層を積層し、続いて別のキャリア付銅箔(2層目)を極薄銅層側から接着させる。
次に、図2−Eに示すように、2層目のキャリア付銅箔からキャリアを剥がす。
次に、図2−Fに示すように、樹脂層の所定位置にレーザー穴あけを行い、回路めっきを露出させてブラインドビアを形成する。
次に、図3−Gに示すように、ブラインドビアに銅を埋め込みビアフィルを形成する。
次に、図3−Hに示すように、ビアフィル上に、上記図1−B及び図1−Cのようにして回路めっきを形成する。
次に、図3−Iに示すように、1層目のキャリア付銅箔からキャリアを剥がす。
次に、図4−Jに示すように、フラッシュエッチングにより両表面の極薄銅層を除去し、樹脂層内の回路めっきの表面を露出させる。
次に、図4−Kに示すように、樹脂層内の回路めっき上にバンプを形成し、当該はんだ上に銅ピラーを形成する。このようにして本発明のキャリア付銅箔を用いたプリント配線板を作製する。
以下の手順で、キャリア付銅箔を作製した。
まず、キャリアとして、表1に記載の厚さを有する長尺の電解銅箔又は圧延銅箔を用意した。
電解銅箔は、下記の条件にて製造した。
(電解浴組成)
Cu:80〜120g/L
H2SO4:80〜120g/L
Cl:20〜80mg/L
ニカワ:0.1〜6.0mg/L
(電解条件)
液温:55〜65℃
電流密度:100A/dm2
電解液流速:1.5m/秒
上記銅箔の光沢面(シャイニー面)に対して、以下の条件で、ロール・トウ・ロール型の連続めっきラインで電気めっきすることにより中間層を形成した。
・Ni層
硫酸ニッケル:250〜300g/L
塩化ニッケル:35〜45g/L
酢酸ニッケル:10〜20g/L
クエン酸三ナトリウム:15〜30g/L
光沢剤:サッカリン、ブチンジオール等
ドデシル硫酸ナトリウム:30〜100ppm
pH:4〜6
浴温:50〜70℃
電流密度:3〜15A/dm2
付着量:4000μg/dm2
・電解クロメート処理
液組成:重クロム酸カリウム1〜10g/L、亜鉛0〜5g/L
pH:3〜4
液温:50〜60℃
電流密度:0.1〜2.6A/dm2
クーロン量:0.5〜30As/dm2
引き続き、ロール・トウ・ロール型の連続めっきライン上で、中間層の上に厚み3μmの極薄銅層を以下の条件で電気めっきすることにより形成して、キャリア付銅箔を製造した。
・極薄銅層
銅濃度:30〜120g/L
H2SO4濃度:20〜120g/L
電解液温度:20〜80℃
電流密度:10〜100A/dm2
前述の極薄銅層の表面に、以下の表面処理条件にて表面処理を行った。表1に、当該表面処理によって形成した表面処理層の層構成を示す。
一部の実験例においては、上記極薄銅層の表面に、粗化処理として下記の条件でCu−W合金めっき、Cu−P合金めっき、Cu−Co−Ni合金めっきから選択される一つを行った。
液組成:Cu15g/リットル、硫酸100g/リットル、W 5mg/リットル
温度:25℃
(1段目)
電流密度(Dk):90A/dm2
時間:1.5秒
(2段目)
電流密度(Dk):20A/dm2
時間:3秒
液組成:Cu30g/リットル、硫酸100g/リットル、P 500mg/リットル
温度:30℃
(1段目)
電流密度(Dk):140A/dm2
時間:0.6秒
(2段目)
電流密度(Dk):20A/dm2
時間:2.0秒
液組成:Cu15g/リットル、Co8g/リットル、Ni8g/リットル
pH:1〜3
温度:40℃
(1段目)
電流密度(Dk):45A/dm2
時間:0.6秒
(2段目)
電流密度(Dk):30A/dm2
時間:0.8秒
液組成:Co1〜8g/リットル、Ni10〜20g/リットル
pH:2〜3
温度:40℃
電流密度(Dk):5A/dm2
時間:1.0秒
液組成:Ni15〜30g/リットル、Zn1〜10g/リットル
pH:2〜4
温度:40℃
電流密度(Dk):5A/dm2
時間:1.0秒
液組成:K2Cr2O7:1〜10g/リットル、Zn:0〜5g/リットル
pH:2〜4
温度:40℃
電流密度(Dk):1A/dm2
時間:1.0秒
被処理面に3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 1.0体積%水溶液を噴霧することでシランカップリング剤塗布処理を行った後、70℃以上200℃以下の雰囲気中で2秒以上乾燥を行い、表面の水分を除去した。
樹脂層の塗布は、極薄銅層側表面にグラビアコート法を用いて硬化前の樹脂を塗布した後、ドクターブレードを用いて樹脂塗膜の厚みを10μmに調節し、200℃の乾燥雰囲気中で溶剤を揮発させながら樹脂成分を硬化させた。なお、使用した樹脂はエポキシ系樹脂(DIC株式会社製ビスフェノールA型エポキシ樹脂)を用いた。
次に、各キャリア付銅箔に対し、加熱処理として、99.9%以上の純度を有する窒素ガス雰囲気下で、表2〜4に記載の条件にて加熱処理を行った。表2〜4の昇温速度は、熱処理条件に記載の温度(加熱温度)に初めに到達するまでの昇温速度である。熱処理後の常温までの冷却時間は1〜6時間とした。
また、例1〜16については、キャリア付銅箔をステンレス鋼製の中空管(外径11cm、厚さ0.5cm)に巻きつけた状態で加熱処理を行った。
また、例1〜16については、当該中空管に巻きつける際の張力を、それぞれ表2〜4に記載の設定として加熱処理を行った。
また、当該中空管の回転速度を、それぞれ表2〜4に記載の設定として加熱処理を行った。
上述のように作製した例1〜16のキャリア付銅箔について、加熱処理前と加熱処理後とでそれぞれ以下の評価試験を行った。評価結果を表2〜4に示す。なお、表2〜4の加熱後の実験例の番号の表記について、例えば、「例1−1」〜「例1−50」は、それぞれ加熱前のサンプルである「例1」を加熱した後のサンプルを示す。
水平面上にキャリア付銅箔(樹脂層を備えるものを除く)を極薄銅箔側の表面処理層を上面に置き、硫酸24重量%−過酸化水素15重量%(残部は水)の組成を有するエッチング液をピペットを用いて1か所に30μリットル滴下し、30秒間放置後にエッチング液を拭き取った。硫酸-過酸化水素系エッチング液は表面処理層ならびにその下地の極薄銅層を溶解しながら濡れ広がるため、液滴の跡が真円に近ければ表面近傍のエッチング液の濡れ性が均一であり、いびつな形状であれば不均一であると判断できる。また、液滴の跡の最大直径が大きいほどエッチング液濡れがよくエッチング液による除去性が良好であると言える。
そこで、液滴の跡の最大直径と最小直径を測定し、その差が10mm以下であればエッチング液の濡れ性が十分に均一であり(表2〜4:濡れ均一性欄「○」)、5mm以下であればより一層均一である(表2〜4:濡れ均一性欄「◎」)とした。また、液滴の跡の最大直径と最小直径との差が10mmよりも大きい場合には、エッチング液濡れ性は十分には均一ではない(表2〜4:濡れ均一性欄「×」)とした。ここで、表2〜4の「濡れ均一性 最大−最小」は、「液滴の跡の最大直径(mm)−液滴の跡の最小直径(mm)」で算出した。
液滴の跡の最大直径を測定し、最大直径が25mm以上であればエッチング液濡れ性が十分に良好であり(表2〜4:濡れ性欄「○」)、35mm以上であればより一層良好である(表2〜4:濡れ性欄「◎」)とした。また、最大直径が25mm未満である場合をエッチング液濡れ性が不十分(表2〜4:濡れ性欄「×」)とした。ここで、表2〜4の「濡れ性 最大直径」は、「液滴の跡の最大直径(mm)」とした。
なお、前述の「濡れ均一性」と「濡れ性」の評価において、液滴の跡を取り囲む円の最小直径を「液滴の跡の最大直径」とし、液滴の跡に含まれる円の最大直径を「液滴の跡の最小直径」とした。
加熱処理工程後に常温で測定したキャリアの引張強度を以下のようにして測定した。
まず、作製したキャリア付銅箔について、キャリアを剥がした。次に、当該キャリアについて、JIS Z 2241に準じて、引張り試験により抗張力(引張強度)を求めた。
キャリア付銅箔の極薄銅箔側を熱圧着によりビスマレイミドトリアジン樹脂プリプレグに貼り合わせた後、キャリアを剥離して除去し、続いて露出した極薄銅層表面に21μm幅のパターン銅めっき層をL/S=21μm/9μmとなるように形成し(極薄銅層とパターン銅めっき層との厚み合計16.5μm)、続いて以下のエッチング条件で、パターン銅めっき層を回路上端幅12〜15μmの銅めっき層となるまでフラッシュエッチングを行って回路を形成した。続いて、図5に示すように回路上面から見た回路下端幅の最大値と最小値の差(μm)を測定し、5箇所を測定した平均値とした。最大値と最小値の差が2μm以下であれば、良好な回路直線性を有すると判断し、◎とした。また、当該最大値と最小値の差が2μm超え且つ4μm以下のとき、〇とした。また、当該最大値と最小値の差が4μm超えのとき、×とした。
(エッチング条件)
・エッチング形式:スプレーエッチング
・スプレーノズル:フルコーン型
・スプレー圧:0.10MPa
・エッチング液温:30℃
・エッチング液組成:
H2O2 18g/L
H2SO4 92g/L
Cu 8g/L
添加剤 株式会社JCU製 FE−830IIW3C 適量
各実験例の加熱処理後の極薄銅層表面の長さ5mの範囲でのシワの有無を目視観察した。長さ10cm以上のシワが確認できた箇所が0箇所のときを◎、1箇所のときを〇、2箇所のときを△、3箇所以上のときを×とした。
各実験例について、加熱処理後、1巻巻きほぐして、2巻目の長さ1mのサンプルについて目視で観察した。このとき、酸化による変色面積が5%以下であるものを◎、酸化による変色面積が5%超え10%以下であるものを○○、酸化による変色面積が10%超え15%以下であるものを〇、酸化による変色面積が15%超え20%以下であるものを△、酸化による変色面積20%超えであるものを×とした。
試験条件及び評価結果を表1〜4に示す。
例1−1〜例1−48、例2−1〜例2−3、例3−5〜例3−13、例4−1〜例16−1は、いずれも回路直線性(回路形成性)が良好であった。例1〜例4、例7〜例10、例14〜例16については、加熱処理前は回路直線性(回路形成性)が不良であったが、適切な加熱処理により回路直線性(回路形成性)が改善されていることがわかる。
さらに、例1−1〜例1−48、例2−1〜例2−6、例3−5〜例3−13、例4−1〜例8−1、例11−1及び例16−1については、エッチング液の濡れ性についても良好であった。
例1−49は加熱処理の温度が低く、回路直線性(回路形成性)が不良であった。
例1−50は加熱処理の時間が短く、回路直線性(回路形成性)が不良であった。
例2−4は加熱処理の時間が長く、結晶粒の粗大化によって回路直線性(回路形成性)が不良となった。
例2−5及び2−6は加熱処理の温度が高く、結晶粒の粗大化によって回路直線性(回路形成性)が不良となった。
例3−1〜例3−4は加熱処理の昇温速度が小さく、回路直線性(回路形成性)が不良であった。
Claims (31)
- キャリア、中間層、極薄銅層、シランカップリング処理層を含む表面処理層をこの順に備えたキャリア付銅箔に対し、加熱温度100℃〜220℃で1時間〜8時間の加熱処理を行う加熱処理工程を含むキャリア付銅箔の製造方法。
- キャリア、中間層、極薄銅層、表面処理層をこの順に備えたキャリア付銅箔に対し、加熱温度に到達するまので昇温速度を50℃/時間超として、加熱温度100℃〜220℃で1時間〜8時間の加熱処理を行う加熱処理工程を含むキャリア付銅箔の製造方法。
- 前記加熱処理における前記昇温速度が200℃/時間以下である請求項2に記載のキャリア付銅箔の製造方法。
- 前記加熱処理工程において、加熱温度100℃〜220℃で1時間〜6時間の加熱処理を行う請求項1〜3のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔の製造方法。
- 前記加熱処理工程において、加熱温度160℃〜220℃で2時間〜4時間の加熱処理を行う請求項4に記載のキャリア付銅箔の製造方法。
- 前記加熱処理工程において、不活性ガス雰囲気下で加熱処理を行う請求項1〜5のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔の製造方法。
- 前記加熱処理工程において、キャリア付銅箔を金属製の中空管に巻きつけた状態で加熱処理を行う請求項1〜6のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔の製造方法。
- 前記加熱処理工程において、キャリア付銅箔を金属製の中空管に巻きつける際の張力を5〜100kgf/mとして加熱処理を行う請求項7に記載のキャリア付銅箔の製造方法。
- 前記加熱処理工程において、キャリア付銅箔を金属製の中空管に巻きつける際の張力を20〜100kgf/mとして加熱処理を行う請求項8に記載のキャリア付銅箔の製造方法。
- 前記加熱処理工程において、キャリア付銅箔を金属製の中空管に巻きつけた状態で前記中空管を0.01〜600回転/時間の速度で回転させながら加熱処理を行う請求項7〜9のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔の製造方法。
- 前記加熱処理工程後に常温で測定したキャリアの引張強度が300MPa以上である請求項1〜10のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔の製造方法。
- 前記加熱処理前のキャリア付銅箔が、さらに前記キャリア側の表面に中間層、極薄銅層をこの順で備える請求項1〜11のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔の製造方法。
- 前記加熱処理前のキャリア付銅箔が、さらに前記キャリア側の表面に表面処理層を有する請求項1〜12のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔の製造方法。
- 前記表面処理層が粗化処理層を含む請求項1〜13のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔の製造方法。
- 前記表面処理層が粗化処理層の表面に、さらに耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された1種以上の層を有する請求項14に記載のキャリア付銅箔の製造方法。
- 前記加熱処理前のキャリア付銅箔が、前記極薄銅層の表面に、表面処理層として粗化処理層、耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された1種以上の層を有する請求項1〜13のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔の製造方法。
- 前記加熱処理前のキャリア付銅箔が、前記表面処理層上に樹脂層を備える請求項1〜16のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔の製造方法。
- 請求項1〜17のいずれか一項に記載の方法によって作製したキャリア付銅箔を用いた銅張積層板の製造方法。
- 請求項1〜17のいずれか一項に記載の方法によって作製したキャリア付銅箔を用いたプリント配線板の製造方法。
- 請求項1〜17のいずれか一項に記載の方法によって作製したキャリア付銅箔と絶縁基板とを準備する工程、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板とを積層する工程、及び、
前記キャリア付銅箔と絶縁基板とを積層した後に、前記キャリア付銅箔のキャリアを剥がす工程を経て銅張積層板を形成し、
その後、セミアディティブ法、サブトラクティブ法、パートリーアディティブ法又はモディファイドセミアディティブ法のいずれかの方法によって、回路を形成する工程を含むプリント配線板の製造方法。 - 請求項1〜17のいずれか一項に記載の方法によって作製したキャリア付銅箔の前記極薄銅層側表面又は前記キャリア側表面に回路を形成する工程、
前記回路が埋没するように前記キャリア付銅箔の前記極薄銅層側表面又は前記キャリア側表面に樹脂層を形成する工程、
前記樹脂層上に回路を形成する工程、
前記樹脂層上に回路を形成した後に、前記キャリア又は前記極薄銅層を剥離させる工程、及び、
前記キャリアを剥離させた後に、前記極薄銅層又は前記キャリアを除去することで、前記極薄銅層側表面又は前記キャリア側表面に形成した、前記樹脂層に埋没している回路を露出させる工程
を含むプリント配線板の製造方法。 - 請求項19〜21のいずれか一項に記載の方法によって作製したプリント配線板を用いた電子機器の製造方法。
- 請求項1〜17のいずれか一項に記載の方法によって製造したキャリア付銅箔。
- キャリア、中間層、極薄銅層、シランカップリング処理層を含む表面処理層をこの順に備えたキャリア付銅箔であって、水平面上にキャリア付銅箔(樹脂層を備えるものを除く)を極薄銅箔側の表面処理層を上面として置き、硫酸24重量%−過酸化水素15重量%(残部は水)の組成を有するエッチング液をピペットを用いて1か所に30μリットル滴下し、30秒間放置後にエッチング液を拭き取った後、エッチング液の跡の最大直径と最小直径との差が10mm以下であるキャリア付銅箔。
- キャリア、中間層、極薄銅層、シランカップリング処理層を含む表面処理層をこの順に備えたキャリア付銅箔であって、水平面上にキャリア付銅箔(樹脂層を備えるものを除く)を極薄銅箔側の表面処理層を上面として置き、硫酸24重量%−過酸化水素15重量%(残部は水)の組成を有するエッチング液をピペットを用いて1か所に30μリットル滴下し、30秒間放置後にエッチング液を拭き取った後、エッチング液の跡の最大直径が25mm以上であるキャリア付銅箔。
- キャリア、中間層、極薄銅層、シランカップリング処理層を含む表面処理層をこの順に備えたキャリア付銅箔であって、水平面上にキャリア付銅箔(樹脂層を備えるものを除く)を極薄銅箔側の表面処理層を上面として置き、硫酸24重量%−過酸化水素15重量%(残部は水)の組成を有するエッチング液をピペットを用いて1か所に30μリットル滴下し、30秒間放置後にエッチング液を拭き取った後、エッチング液の跡の最大直径が25mm以上である請求項24に記載のキャリア付銅箔。
- キャリア、中間層、極薄銅層、表面処理層をこの順に備えたキャリア付銅箔であって、水平面上にキャリア付銅箔(樹脂層を備えるものを除く)を極薄銅箔側の表面処理層を上面として置き、硫酸24重量%−過酸化水素15重量%(残部は水)の組成を有するエッチング液をピペットを用いて1か所に30μリットル滴下し、30秒間放置後にエッチング液を拭き取った後、エッチング液の跡の最大直径と最小直径との差が10mm以下であるキャリア付銅箔。
- キャリア、中間層、極薄銅層、表面処理層をこの順に備えたキャリア付銅箔であって、水平面上にキャリア付銅箔(樹脂層を備えるものを除く)を極薄銅箔側の表面処理層を上面として置き、硫酸24重量%−過酸化水素15重量%(残部は水)の組成を有するエッチング液をピペットを用いて1か所に30μリットル滴下し、30秒間放置後にエッチング液を拭き取った後、エッチング液の跡の最大直径が25mm以上であるキャリア付銅箔。
- キャリア、中間層、極薄銅層、表面処理層をこの順に備えたキャリア付銅箔であって、水平面上にキャリア付銅箔(樹脂層を備えるものを除く)を極薄銅箔側の表面処理層を上面として置き、硫酸24重量%−過酸化水素15重量%(残部は水)の組成を有するエッチング液をピペットを用いて1か所に30μリットル滴下し、30秒間放置後にエッチング液を拭き取った後、エッチング液の跡の最大直径が25mm以上である請求項27に記載のキャリア付銅箔。
- 前記エッチング液の跡の最大直径と最小直径との差が5mm以下である請求項24〜29のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔。
- 前記エッチング液の跡の最大直径が35mm以上である請求項24〜30のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014174891A JP5823005B1 (ja) | 2014-08-29 | 2014-08-29 | キャリア付銅箔の製造方法、銅張積層板の製造方法、プリント配線板の製造方法、及び、電子機器及びキャリア付銅箔 |
TW104126677A TWI581684B (zh) | 2014-08-29 | 2015-08-17 | The preparation method of the copper foil, the method of making the copper clad sheet, the manufacturing method of the printed wiring board, the manufacturing method of the electronic machine, and the like |
KR1020150121073A KR20160026758A (ko) | 2014-08-29 | 2015-08-27 | 캐리어가 부착된 동박의 제조 방법, 구리 피복 적층판의 제조 방법, 프린트 배선판의 제조 방법, 및, 전자 기기의 제조 방법, 캐리어가 부착된 동박, 적층체, 프린트 배선판 및 전자 기기 |
CN201510535361.0A CN105392297B (zh) | 2014-08-29 | 2015-08-27 | 附载体铜箔的制法、覆铜积层板的制法、印刷配线板的制法、电子机器的制法及它们的制品 |
KR1020180000866A KR101937606B1 (ko) | 2014-08-29 | 2018-01-03 | 캐리어가 부착된 동박의 제조 방법, 구리 피복 적층판의 제조 방법, 프린트 배선판의 제조 방법, 및, 전자 기기의 제조 방법, 캐리어가 부착된 동박, 적층체, 프린트 배선판 및 전자 기기 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014174891A JP5823005B1 (ja) | 2014-08-29 | 2014-08-29 | キャリア付銅箔の製造方法、銅張積層板の製造方法、プリント配線板の製造方法、及び、電子機器及びキャリア付銅箔 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015046405A Division JP6073947B2 (ja) | 2015-03-09 | 2015-03-09 | キャリア付銅箔、銅張積層板の製造方法、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5823005B1 JP5823005B1 (ja) | 2015-11-25 |
JP2016050324A true JP2016050324A (ja) | 2016-04-11 |
Family
ID=54696266
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014174891A Active JP5823005B1 (ja) | 2014-08-29 | 2014-08-29 | キャリア付銅箔の製造方法、銅張積層板の製造方法、プリント配線板の製造方法、及び、電子機器及びキャリア付銅箔 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5823005B1 (ja) |
KR (2) | KR20160026758A (ja) |
CN (1) | CN105392297B (ja) |
TW (1) | TWI581684B (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020100614A1 (ja) * | 2018-11-16 | 2020-05-22 | 株式会社日本スペリア社 | はんだ接合部及びその製造方法 |
WO2023189565A1 (ja) * | 2022-03-29 | 2023-10-05 | 三井金属鉱業株式会社 | キャリア付金属箔、金属張積層板及びプリント配線板 |
WO2023189566A1 (ja) * | 2022-03-29 | 2023-10-05 | 三井金属鉱業株式会社 | キャリア付金属箔、金属張積層板及びプリント配線板 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101832607B1 (ko) * | 2016-05-13 | 2018-02-26 | 삼성전기주식회사 | 코일부품 및 그 제조방법 |
TWI631008B (zh) * | 2016-09-09 | 2018-08-01 | Jx金屬股份有限公司 | Metal foil with carrier, method for producing printed wiring board, method for producing electronic device, and method for producing metal foil with carrier |
WO2018181061A1 (ja) * | 2017-03-30 | 2018-10-04 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理銅箔及びこれを用いた銅張積層板 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6015654B2 (ja) * | 1980-11-18 | 1985-04-20 | 日本電解株式会社 | 銅箔のクロメ−ト処理層と樹脂基材との接着方法 |
JPS63161127A (ja) * | 1986-12-23 | 1988-07-04 | Kawasaki Steel Corp | 金属ストリツプコイルの焼鈍方法 |
MY128333A (en) * | 1998-09-14 | 2007-01-31 | Ibiden Co Ltd | Printed wiring board and its manufacturing method |
WO2004005588A1 (ja) | 2002-07-04 | 2004-01-15 | Mitsui Mining & Smelting Co.,Ltd. | キャリア箔付電解銅箔 |
JP4429979B2 (ja) | 2005-06-29 | 2010-03-10 | 古河電気工業株式会社 | キャリア付き極薄銅箔及びキャリア付き極薄銅箔の製造方法 |
JP4906332B2 (ja) * | 2005-12-06 | 2012-03-28 | 三井金属鉱業株式会社 | 複合箔のカール矯正方法、複合箔及び複合箔張積層板 |
JP2010006071A (ja) | 2009-08-21 | 2010-01-14 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 表面処理銅箔、キャリア付き極薄銅箔、フレキシブル銅張積層板及びポリイミド系フレキシブルプリント配線板 |
JP4951114B2 (ja) * | 2010-12-24 | 2012-06-13 | 三井金属鉱業株式会社 | 複合箔のカール矯正方法 |
KR101614624B1 (ko) * | 2011-08-31 | 2016-04-29 | 제이엑스 킨조쿠 가부시키가이샤 | 캐리어가 부착된 구리박 |
JP5204908B1 (ja) * | 2012-03-26 | 2013-06-05 | Jx日鉱日石金属株式会社 | キャリア付銅箔、キャリア付銅箔の製造方法、プリント配線板用キャリア付銅箔及びプリント配線板 |
JP5358739B1 (ja) * | 2012-10-26 | 2013-12-04 | Jx日鉱日石金属株式会社 | キャリア付銅箔、それを用いた銅張積層板、プリント配線板、プリント回路板、及び、プリント配線板の製造方法 |
-
2014
- 2014-08-29 JP JP2014174891A patent/JP5823005B1/ja active Active
-
2015
- 2015-08-17 TW TW104126677A patent/TWI581684B/zh active
- 2015-08-27 CN CN201510535361.0A patent/CN105392297B/zh active Active
- 2015-08-27 KR KR1020150121073A patent/KR20160026758A/ko active Application Filing
-
2018
- 2018-01-03 KR KR1020180000866A patent/KR101937606B1/ko active IP Right Grant
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020100614A1 (ja) * | 2018-11-16 | 2020-05-22 | 株式会社日本スペリア社 | はんだ接合部及びその製造方法 |
JPWO2020100614A1 (ja) * | 2018-11-16 | 2021-10-14 | 株式会社日本スペリア社 | はんだ接合部及びその製造方法 |
US11980974B2 (en) | 2018-11-16 | 2024-05-14 | Nihon Superior Co., Ltd. | Solder joint part and method for manufacturing the same |
JP7482415B2 (ja) | 2018-11-16 | 2024-05-14 | 株式会社日本スペリア社 | はんだ接合部及びその製造方法 |
WO2023189565A1 (ja) * | 2022-03-29 | 2023-10-05 | 三井金属鉱業株式会社 | キャリア付金属箔、金属張積層板及びプリント配線板 |
WO2023189566A1 (ja) * | 2022-03-29 | 2023-10-05 | 三井金属鉱業株式会社 | キャリア付金属箔、金属張積層板及びプリント配線板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN105392297B (zh) | 2019-05-17 |
TW201618619A (zh) | 2016-05-16 |
CN105392297A (zh) | 2016-03-09 |
KR101937606B1 (ko) | 2019-01-10 |
KR20160026758A (ko) | 2016-03-09 |
JP5823005B1 (ja) | 2015-11-25 |
KR20180005724A (ko) | 2018-01-16 |
TWI581684B (zh) | 2017-05-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6640796B2 (ja) | キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 | |
JP7055049B2 (ja) | 表面処理銅箔及びそれを用いた積層板、キャリア付銅箔、プリント配線板、電子機器、並びに、プリント配線板の製造方法 | |
KR101851882B1 (ko) | 표면 처리 동박, 캐리어가 형성된 동박, 기재, 수지 기재, 프린트 배선판, 구리 피복 적층판 및 프린트 배선판의 제조 방법 | |
WO2015108191A1 (ja) | 表面処理銅箔、キャリア付銅箔、プリント配線板、銅張積層板、積層体及びプリント配線板の製造方法 | |
JP5651811B1 (ja) | キャリア付銅箔、銅張積層板、プリント配線板、電子機器、及び、プリント配線板の製造方法 | |
JP5823005B1 (ja) | キャリア付銅箔の製造方法、銅張積層板の製造方法、プリント配線板の製造方法、及び、電子機器及びキャリア付銅箔 | |
JP6342356B2 (ja) | キャリア付銅箔、プリント配線板、積層体、積層板、電子機器及びプリント配線板の製造方法 | |
WO2015012376A1 (ja) | 表面処理銅箔、キャリア付銅箔、基材、樹脂基材、プリント配線板、銅張積層板及びプリント配線板の製造方法 | |
JP2016135917A (ja) | キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板、電子機器の製造方法及びプリント配線板の製造方法 | |
JP2017025409A (ja) | キャリア付銅箔、積層体、積層体の製造方法、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 | |
WO2015030256A1 (ja) | キャリア付銅箔、銅張積層板、プリント配線板、電子機器、及びプリント配線板の製造方法 | |
JP5746402B2 (ja) | キャリア付銅箔、銅張積層板、プリント配線板、電子機器、及び、プリント配線板の製造方法 | |
WO2014065430A1 (ja) | キャリア付銅箔、それを用いた銅張積層板、プリント配線板、プリント回路板、及び、プリント配線板の製造方法 | |
JP6236120B2 (ja) | キャリア付銅箔、積層体、積層体の製造方法、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 | |
JP2014193606A (ja) | キャリア付銅箔、それを用いた銅張積層板、プリント配線板、それを用いた電子機器及びプリント配線板の製造方法 | |
WO2014065431A1 (ja) | キャリア付銅箔、それを用いた銅張積層板、プリント配線板、プリント回路板、及び、プリント配線板の製造方法 | |
JP6236119B2 (ja) | キャリア付銅箔、積層体、積層体の製造方法、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 | |
JP5859078B1 (ja) | キャリア付銅箔の製造方法、銅張積層板の製造方法、プリント配線板の製造方法、及び、電子機器の製造方法 | |
JP6073947B2 (ja) | キャリア付銅箔、銅張積層板の製造方法、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 | |
JP6821370B2 (ja) | キャリア付金属箔、積層体、積層体の製造方法、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 | |
WO2014084321A1 (ja) | キャリア付銅箔、キャリア付銅箔の製造方法、プリント配線板及びプリント回路板 | |
JP5919345B2 (ja) | キャリア付銅箔の製造方法、銅張積層板の製造方法、プリント配線板の製造方法、電子機器の製造方法、キャリア付銅箔、銅張積層板、プリント配線板及び電子機器 | |
JP6178360B2 (ja) | 表面処理銅箔、キャリア付銅箔、プリント回路板の製造方法、銅張積層板の製造方法及びプリント配線板の製造方法 | |
JP2017020117A (ja) | キャリア付銅箔、銅張積層板の製造方法、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 | |
JP2014210431A (ja) | キャリア付銅箔、それを用いた銅張積層板、プリント配線板、電子機器及びプリント配線板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150820 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150908 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151006 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5823005 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |