JP2010074187A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の液浸リソグラフィ装置用の液体供給システムは、投影システムの最終要素と基板の間に浸漬液の層流を提供する。制御システムはオーバーフローの変化を最小限に抑え、抽出装置は振動を最小限に抑えるように構成された出口のアレイを含む。
【選択図】図6
Description
(1)ステップ・モードでは、放射線ビームに与えられたパターン全体を1回でターゲット部分Cに投影しながらマスク・テーブルMTおよび基板テーブルWTが本質的に静止した状態に保たれる(すなわち、ただ1回の静止露光)。次いで、異なるターゲット部分Cを露光することができるように、基板テーブルWTをXおよび/またはY方向に移動させる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の静止露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
(2)走査モードでは、放射線ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影しながらマスク・テーブルMTおよび基板テーブルWTが同期して走査される(すなわち、ただ1回の動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの拡大(縮小)率、および像の反転特性によって決定することができる。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の動的露光におけるターゲット部分の(非走査方向の)幅が制限され、走査移動の長さによってターゲット部分の(走査方向の)高さが決定される。
(3)他のモードでは、マスク・テーブルMTを本質的に静止した状態に保ってプログラム可能なパターン付与デバイスを保持し、放射線ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影しながら基板テーブルWTが移動または走査される。このモードでは、一般にパルス式の放射線源が使用され、基板テーブルWTが移動するたびに、または走査中の連続する放射線パルスの合間に、プログラム可能なパターン付与デバイスが必要に応じて更新される。この動作モードは、先に言及したタイプのプログラマブル・ミラー・アレイなど、プログラム可能なパターン付与デバイスを利用したマスクレス・リソグラフィに簡単に適用することができる。
B 放射線ビーム
BD ビーム伝達システム
C、TP ターゲット部分
IF 位置センサ
IL 照明器
M1、M2 マスク・アライメント・マーク
MA パターン付与デバイス、マスク
MT マスク・テーブル、支持体
P1、P2 基板アライメント・マーク
PS 投影システム
PM、PW 位置決めデバイス
RF 基準フレーム
SO 放射線源
W 基板
WT 基板テーブル
IN 入口
OUT 出口
d オリフィスの直径
t 壁の厚さ
11 空間
12 シール部材、バリア部材
80 底面
120、122 チャンバ
121 オリフィス、孔
123 プレート
124 液体入口、オリフィス
126 外側プレート、外壁
128 入口、供給部、入力部
180 液体除去デバイス、液体抽出ユニット、抽出装置
184、324、328 出口
220 障壁
222 オーバーフロー領域、オーバーフロー、溝
223 頂部プレート
224 孔のアレイ、メッシュ、抽出システム
228 抽出装置、出口、ポート
320 陥凹部
322、1248 入口
330 ボリューム
340 隙間
420 ガス・ナイフ
500 浸漬液
1128、1228、1148、1184、1328 弁
1500 リザーバ
2228、2148、2328 低圧源
Claims (20)
- 基板のための基板テーブルと、
放射線ビームを投影する投影システムと、
前記投影システムの最終要素と前記基板テーブルの間の空間を取り囲む面を有し、前記基板、前記基板テーブル、またはこれら双方と前記最終要素との間の空間に液体を包含するように構成され、液体を前記空間から除去する液体出口を有するバリア部材と、を備え、
前記液体出口は、前記バリア部材の壁における不均一な孔のアレイであるリソグラフィ装置。 - 単位面積当たりの孔の数が、基板から最も遠い最小値から基板に最も近いまたは最低位置における最大値まで増加する請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 単位面積当たりの孔のサイズが、基板から最も遠い最小値から基板に最も近いまたは最低位置における最大値まで増加する請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記不均一な孔のアレイは、孔の分布に垂直方向の勾配を有する請求項1から3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記不均一な孔のアレイは、少なくとも部分的に垂直方向を向いている請求項1から4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記液体出口は前記面の内周の一部分の周りに延びている請求項1から5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記液体出口が、前記内周をたどる方向の位置によって異なる液体抽出速度を提供するように構成されている請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 基板のための基板テーブルと、
放射線ビームを投影する投影システムと、
前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間に液体を供給する液体供給システムであって、液体を前記空間から除去する抽出装置を有し、該抽出装置は2次元アレイのオリフィスを有し、該オリフィスを介して液体を前記空間から抽出することができる液体供給システムとを有するリソグラフィ装置。 - 前記アレイが前記リソグラフィ装置の光軸の方向に延びている請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アレイが前記空間の外周の周りの少なくとも一部に延びている請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アレイが前記外周の一部分に沿って延びている請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アレイが、前記空間に液体を供給するように構成された前記液体供給システムの入口の向かい側に配置されている請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アレイは、前記空間内の液体レベルが高いほど、抽出される液体が通過するオリフィスが多くなるように配置および方向付けられている請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 液体が前記アレイの通過後に通る少なくとも1つの経路が、前記アレイから液体を引き出す毛管力が作用するような大きさに作製されており、それによって単相の抽出を促す請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記液体供給システムが前記空間を取り囲む面を提供し、また液体を包含するように構成されたバリア部材を有しており、前記抽出装置が前記面内に形成されている請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記バリア部材が垂直に延びる突起部を有し、前記空間内の液体レベルが該突起部の頂部の高さより高くなると、液体が該突起部を越えて流れる請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記突起部より低い高さにあるオーバーフロー領域が前記突起部と前記アレイの間に位置するように、前記アレイが前記突起部の半径方向外側に、前記突起部から間隔をあけて配置されている請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アレイが、実質的に前記オーバーフロー領域の最も低い高さまで延びている請求項17に記載のリソグラフィ装置。
- 投影システムを用いて放射線ビームを基板に投影するステップを含むデバイス製造方法であって、
投影システムの最終要素と前記基板の間の空間に液体が供給され、液体が、2次元アレイのオリフィスを有する抽出装置を介して空間から抽出される方法。 - 基板のための基板テーブルと、
放射線ビームを投影する投影システムと、
前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間にある供給速度で液体を供給し、および/または前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間からある抽出速度で液体を抽出する液体流供給システムと、
前記抽出速度および供給速度の少なくとも一方を動的に変化させて前記空間内の液体レベルを制御する制御システムと
を有するリソグラフィ装置。
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