JP5407383B2 - 露光装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、液体を介して基板を露光する露光装置、及びデバイス製造方法に関する。

フォトリソグラフィ工程で使用される露光装置において、下記特許文献に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。液浸露光装置は、投影光学系の終端光学素子の周囲に液浸部材を有し、その液浸部材を用いて露光光の光路を液体で満たす。

米国特許出願公開第２００７／０１３２９７６号明細書

液浸露光装置において、終端光学素子と液浸部材との間のギャップに存在する液体が、例えば液体の存在が望まれない部位に浸入したり残留したりすると、その液体の気化熱により、露光装置内の部材が熱変形したり、基板が熱変形したりする可能性がある。そのような不具合が生じると、基板に形成されるパターンに欠陥が生じる等、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。

本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供することを目的とする。また本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が入射される入射面、露光光が射出される射出面、及び射出面のエッジから入射面側に向かって延びる外周面を有する光学部材と、少なくとも一部が外周面とギャップを介して対向する側部を有し、射出面と射出面からの露光光を照射可能な位置に配置される物体との間の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成可能な液浸部材と、を備え、液浸部材は、側部の少なくとも一部に配置され、外周面と側部との間の液体の少なくとも一部を回収可能な第１回収口を有する露光装置が提供される。

本発明の第２の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が入射される入射面、露光光が射出される射出面、及び射出面のエッジから入射面側に向かって延びる外周面を有する光学部材と、少なくとも一部が外周面とギャップを介して対向する側部を有し、射出面と射出面からの露光光を照射可能な位置に配置される物体との間の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成可能な液浸部材と、を備え、側部は、外周面の周囲に配置される第１面と、第１面に対して射出面側に配置される第２面とを含み、外周面に対して第１面及び第２面の少なくとも一方が傾斜し、且つ外周面と第１面とがなす第１角度は、外周面と第２面とがなす第２角度より大きい露光装置が提供される。

本発明の第３の態様に従えば、第１，第２の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明によれば、露光不良の発生を抑制でき、不良デバイスの発生を抑制できる。

第１実施形態に係る露光装置の一例を示す概略構成図である。 第１実施形態に係る終端光学素子及び液浸部材の近傍を示す側断面図である。 図２の一部を拡大した図である。 第１実施形態に係る終端光学素子及び液浸部材の近傍を示す図である。 第２実施形態に係る終端光学素子及び液浸部材の近傍を示す図である。 第３実施形態に係る終端光学素子及び液浸部材の近傍を示す図である。 第４実施形態に係る終端光学素子及び液浸部材の近傍を示す図である。 第５実施形態に係る終端光学素子及び液浸部材の近傍を示す図である。 第６実施形態に係る終端光学素子及び液浸部材の近傍を示す図である。 マイクロデバイスの製造工程の一例を説明するためのフローチャートである。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ及びθＺ方向とする。

＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。

図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、露光光ＥＬの光路の少なくとも一部が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成可能な液浸部材３と、マスクステージ１及び基板ステージ２の位置情報を計測可能な干渉計システム４と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置５とを備えている。

マスクＭは、投影光学系ＰＬにより基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光膜を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。

基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。

照明系ＩＬは、所定の照明領域ＩＲを均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬを照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ_２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、ＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。

マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で、第１定盤６のガイド面６Ｇ上を移動可能である。マスクステージ１は、ガイド面６Ｇ上において、照明領域ＩＲに対して移動可能である。ガイド面６Ｇは、ＸＹ平面とほぼ平行である。マスクステージ１は、例えばリニアモータ等のアクチュエータを含む駆動システム（不図示）の作動により、ガイド面６Ｇ上を移動する。本実施形態において、マスクステージ１は、駆動システムの作動により、Ｘ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向の３つの方向に移動可能である。

投影光学系ＰＬは、所定の投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬを照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。投影光学系ＰＬの複数の光学素子は、鏡筒７に保持されている。

本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、又は１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態において、投影光学系ＰＬの光軸はＺ軸と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。

基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、第２定盤８のガイド面８Ｇ上を移動可能である。基板ステージ２は、ガイド面８Ｇ上において、投影領域ＰＲに対して移動可能である。ガイド面８Ｇは、ＸＹ平面とほぼ平行である。基板ステージ２は、例えばリニアモータ等のアクチュエータを含む駆動システム（不図示）の作動により、ガイド面８Ｇ上を移動する。本実施形態において、基板ステージ２は、駆動システムの作動により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。

基板ステージ２は、基板Ｐをリリース可能に保持する基板保持部２Ｈを有する。本実施形態において、基板保持部２Ｈは、基板Ｐの表面（露光面）とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、基板Ｐを保持する。また、基板ステージ２は、基板保持部２Ｈの周囲に配置される上面２Ｔを有する。本実施形態において、上面２Ｔは、平坦な平面である。本実施形態において、上面２Ｔは、ＸＹ平面とほぼ平行である。本実施形態において、基板保持部２Ｈに保持された基板Ｐの表面と上面２Ｔとは、ほぼ同一平面内に配置される（面一である）。

液浸部材３は、露光光ＥＬの光路の少なくとも一部が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成可能である。液浸空間ＬＳは、液体ＬＱで満たされた部分（空間、領域）である。液浸部材３は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い終端光学素子９の近傍に配置される。本実施形態において、液浸部材３は、環状の部材であり、露光光ＥＬの光路の周囲に配置される。本実施形態においては、液浸部材３の少なくとも一部が、終端光学素子９の周囲に配置される。

終端光学素子９は、投影光学系ＰＬの物体面（照明系ＩＬ）からの露光光ＥＬが入射される入射面１０と、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬが射出される射出面１１と、射出面１１のエッジから入射面１０側に向かって延びる外周面１２とを有する。本実施形態において、投影領域ＰＲは、終端光学素子９の射出面１１からの露光光ＥＬを照射可能な位置を含む。

液浸部材３は、終端光学素子９の射出面１１と、射出面１１からの露光光ＥＬを照射可能な位置（投影領域ＰＲ）に配置される物体との間の露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成可能である。本実施形態において、投影領域ＰＲに配置可能な物体は、基板ステージ２、及び基板ステージ２に保持された基板Ｐの少なくとも一方を含む。基板Ｐの露光中、液浸部材３は、終端光学素子９と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。

本実施形態において、液浸部材３は、投影領域ＰＲに配置される物体と対向可能な下面１３を有する。液浸部材３は、下面１３と、投影領域ＰＲ側に配置される物体との間に、液体ＬＱを保持可能な空間を形成する。一方側の射出面１１及び下面１３と、他方側の物体の表面との間に保持された液体ＬＱによって、終端光学素子９と物体との間の露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。

本実施形態においては、基板Ｐの露光中、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域が液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。基板Ｐの露光中、液体ＬＱの界面（メニスカス、エッジ）ＬＧは、液浸部材３の下面１３と基板Ｐの表面との間に形成される。すなわち、本実施形態の露光装置ＥＸは、局所液浸方式を採用する。

干渉計システム４は、マスクステージ１の位置情報を計測する第１干渉計ユニット４Ａと、基板ステージ２の位置情報を計測する第２干渉計ユニット４Ｂとを有する。第１干渉計ユニット４Ａは、マスクステージ１に配置された計測ミラー１Ｒを用いて、マスクステージ１の位置情報を計測する。第２干渉計ユニット４Ｂは、基板ステージ２に配置された計測ミラー２Ｒを用いて、基板ステージ２の位置情報を計測する。基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置５は、干渉計システム４の計測結果に基づいて、駆動システムを作動し、マスクステージ１（マスクＭ）、及び基板ステージ２（基板Ｐ）の位置制御を実行する。

本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。基板Ｐの露光時、制御装置５は、液浸空間ＬＳが形成された状態で、マスクステージ１及び基板ステージ２を制御して、マスクＭ及び基板Ｐを、射出面１１と基板Ｐの表面との間の光路と交差するＸＹ平面内の所定の走査方向に移動する。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。

基板Ｐには、露光対象領域であるショット領域がマトリクス状に複数配置されている。例えば基板Ｐの第１ショット領域を露光するために、制御装置５は、基板Ｐ（第１ショット領域）を投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して第１ショット領域に露光光ＥＬを照射する。これにより、マスクＭのパターンの像が基板Ｐの第１ショット領域に投影され、その第１ショット領域は、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。第１ショット領域の露光が終了した後、制御装置５は、次の第２ショット領域の露光を開始するために、液浸空間ＬＳを形成した状態で、基板ＰをＸ軸方向（あるいはＸＹ平面内においてＸ軸方向に対して傾斜する方向）に移動する動作（ステッピング動作）を実行し、第２ショット領域を露光開始位置に移動する。そして、制御装置５は、第２ショット領域の露光を開始する。制御装置５は、投影領域ＰＲに対してショット領域をＹ軸方向に移動しながらそのショット領域を露光するスキャン露光動作と、そのショット領域の露光が終了した後、次のショット領域を露光開始位置に移動するためのステッピング動作とを繰り返しながら、基板Ｐ上の複数のショット領域を順次露光する。

図２は、本実施形態に係る終端光学素子９及び液浸部材３の一例を示す側断面図、図３は、図２の一部を拡大した側断面図である。なお、以下においては、説明を簡単にするために、主に、終端光学素子９及び液浸部材３と基板Ｐとが対向している状態を例にして説明する。なお、上述のように、終端光学素子９及び液浸部材３と対向する位置には、基板ステージ２等、基板Ｐ以外の物体を配置することができる。

図２及び図３において、終端光学素子９は、投影光学系ＰＬの物体面からの露光光ＥＬが入射される入射面１０と、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬが射出される射出面１１と、射出面１１のエッジから入射面１０側に向かって延びる外周面１２とを有する。終端光学素子９の光軸は、Ｚ軸とほぼ平行である。本実施形態において、投影光学系ＰＬの像面は、ＸＹ平面とほぼ平行である。

本実施形態において、入射面１０は、投影光学系ＰＬの物体面に凸面を向けた形状を有する。本実施形態において、入射面１０は、投影光学系ＰＬの物体面側に凸な曲面である。本実施形態において、射出面１１は、ＸＹ平面とほぼ平行な平面である。本実施形態において、外周面１２の少なくとも一部は、終端光学素子９（投影光学系ＰＬ）の光軸に対する放射方向において、投影光学系ＰＬの像面（基板Ｐの表面）から徐々に離れるように傾斜している。

入射面１０は、投影光学系ＰＬの物体面側を向く面であり、露光光ＥＬは、その入射面１０の少なくとも一部を通過する。なお、入射面１０の全てを露光光ＥＬが通過しなくてもよい。射出面１１は、投影光学系ＰＬの像面側を向く面であり、露光光ＥＬは、その射出面１１の少なくとも一部を通過する。なお、射出面１１の全てを露光光ＥＬが通過しなくてもよい。

投影光学系ＰＬは、終端光学素子９を保持する保持機構１４を有する。本実施形態において、保持機構１４は、鏡筒７に支持されている。終端光学素子９は、保持機構１４を介して、鏡筒７に保持される。

本実施形態において、終端光学素子９は、外周面１２の上端と入射面１０のエッジとの間に配置されたフランジ１５を有する。本実施形態においては、保持機構１４は、フランジ１５の少なくとも一部を保持する。本実施形態において、入射面１０は、鏡筒７の内部空間に面するように配置される。保持機構１４は、終端光学素子９の光軸とＺ軸方向とがほぼ平行となり、射出面１１とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、終端光学素子９を保持する。

本実施形態において、終端光学素子９の投影光学系ＰＬの像面側の光路を含む空間が液体ＬＱで満たされ、射出面１１及び外周面１２の少なくとも一部は、液体ＬＱと接触する。また、本実施形態において、終端光学素子９の投影光学系ＰＬの物体面側の光路を含む空間に液体ＬＱが無く、入射面１０は、気体と接触する。

本実施形態において、液浸部材３は、環状の部材である。本実施形態において、液浸部材３は、本体部材１６と、多孔部材１７とを含む。本実施形態において、本体部材１６は、チタン製である。多孔部材１７は、複数の孔(openingsあるいはpores)を含むプレート状の部材である。本実施形態において、多孔部材１７は、網目状に多数の小さい孔が形成されたメッシュプレートである。本実施形態において、多孔部材１７は、チタン製である。なお、多孔部材１７として、多数の孔（pore）が形成された焼結部材（例えば、焼結金属）、発泡部材（例えば、発泡金属）などを用いてもよい。

本体部材１６は、Ｚ軸方向に関して少なくとも一部が終端光学素子９の射出面１１と基板Ｐの表面との間に配置されるプレート部１８と、少なくとも一部が終端光学素子９の外周面１２とギャップＧを介して対向する側部１９と、側部１９の少なくとも一部に配置され、外周面１２と側部１９との間の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能な第１回収口２１とを備えている。側部１９の少なくとも一部は、外周面１２の周囲に配置される。本実施形態において、第１回収口２１は、外周面１２の周囲に配置される。

側部１９は、外周面１２の周囲に配置される第１部分１９１と、第１部分１９１に対して射出面１１側（基板Ｐ側）に配置される第２部分１９２とを有する。また、側部１９は、少なくとも一部が外周面１２とギャップＧを介して対向する内周面２０を有する。内周面２０は、外周面１２の周囲に配置される第１面２０１と、第１面２０１に対して射出面１１側に配置される第２面２０２とを有する。本実施形態において、第１面２０１は、第１部分１９１における内周面２０の一部の領域である。第２面２０２は、第２部分１９２における内周面２０の一部の領域である。第１部分１９１（第１面２０１）の射出面１１側のエッジと、第２部分１９２（第２面２０２）の入射面１０側のエッジとは、隣接している。

第１回収口２１は、第１部分１９１（第１面２０１）に配置されている。第１部分１９１は、第１回収口２１により、液体ＬＱを回収可能である。第２部分１９２（第２面２０２）は、液体ＬＱを回収不可能である。本実施形態において、側部１９は、基板Ｐ上に液体ＬＱを供給可能な供給口２３を有する。供給口２３は、第２部分１９２に配置される。

また、本体部材１６は、第１回収口２１に配置される多孔部材２４を有する。多孔部材２４は、複数の孔(openingsあるいはpores)を含むプレート状の部材である。本実施形態において、多孔部材２４は、網目状に多数の小さい孔が形成されたメッシュプレートである。本実施形態において、多孔部材２４は、チタン製である。メッシュプレートは、外周面１２に沿って曲げられている。外周面１２と対向する多孔部材２４の表面は、内周面２０（第１面２０１）の一部を構成する。なお多孔部材２４として、多数の孔（pore）が形成された焼結部材（例えば、焼結金属）、発泡部材（例えば、発泡金属）などを用いてもよい。

本実施形態において、外周面１２と内周面２０とは、ほぼ平行である。外周面１２と第１部分１９１の内周面２０（第１面２０１）との間に形成される第１ギャップＧ１と、外周面１２と第２部分１９２の内周面２０（第２面２０２）との間に形成される第２ギャップＧ２とは、ほぼ同じである。

プレート部１８は、中央に開口２５を有する。また、プレート部１８は、開口２５の周囲に配置され、投影領域ＰＲに配置される基板Ｐ（物体）と対向可能な下面２６と、下面２６の反対側の上面２７とを有する。上面２７の少なくとも一部は、射出面１１の一部とギャップを介して対向する。射出面１１から射出された露光光ＥＬは、開口２５を通過可能である。例えば、基板Ｐの露光中、射出面１１から射出された露光光ＥＬは、開口２５を通過し、液体ＬＱを介して基板Ｐの表面に照射される。

本体部材１６は、基板Ｐの表面と対向可能な位置に、基板Ｐ上の液体ＬＱを回収可能な第２回収口２２を備えている。第２回収口２２は、本体部材１６に形成され、基板Ｐに面する開口を含む。

供給口２３は、流路２８を介して、液体供給装置２９と接続されている。液体供給装置２９は、清浄で温度調整された液体ＬＱを供給口２３に供給可能である。流路２８は、本体部材１６の内部に形成された供給流路、及びその供給流路と液体供給装置２９とを接続する供給管で形成される流路を含む。液体供給装置２９から送出された液体ＬＱは、流路２８を介して供給口２３に供給される。供給口２３は、光路の近傍において、光路に面する本体部材１６の所定位置に配置されている。本実施形態において、供給口２３は、射出面１１と上面２７との間の空間に液体ＬＱを供給する。供給口２３から供給された液体ＬＱは、開口２５を介して、基板Ｐ上に供給される。

第１回収口２１は、流路３０を介して、第１液体回収装置３１と接続されている。第１液体回収装置３１は、真空システムを含み、第１回収口２１より液体ＬＱを吸引して回収可能である。流路３０は、本体部材１６の内部に形成された回収流路、及びその回収流路と第１液体回収装置３１とを接続する回収管で形成される流路を含む。第１回収口２１から回収された液体ＬＱは、流路３０を介して、第１液体回収装置３１に回収される。

第２回収口２２は、流路３２を介して、第２液体回収装置３３と接続されている。第２液体回収装置３３は、真空システムを含み、第２回収口２２より液体ＬＱを吸引して回収可能である。流路３２は、本体部材１６の内部に形成された回収流路、及びその回収流路と第２液体回収装置３３とを接続する回収管で形成される流路を含む。第２回収口２２から回収された液体ＬＱは、流路３２を介して、第２液体回収装置３３に回収される。

本実施形態においては、第２回収口２２は、露光光ＥＬの光路の周囲に配置されている。第２回収口２２は、基板Ｐの表面と対向可能な本体部材１６の所定位置に配置されている。第２回収口２２は、液浸部材３の下面１３に対向する基板Ｐの表面上の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。

多孔部材１７は、第２回収口２２に配置されている。本実施形態において、液浸部材３の下面１６は、プレート部１８の下面２６と、その下面２６の周囲に配置され、基板Ｐと対向可能な多孔部材１７の下面３４とを含む。下面１３は、投影領域ＰＲに配置される基板Ｐ（物体）と面する。

本実施形態において、制御装置５は、供給口２３を用いる液体供給動作と並行して、第２回収口２２を用いる液体回収動作を実行することによって、一方側の終端光学素子９及び液浸部材３と、終端光学素子９及び液浸部材３と対向する他方側の基板Ｐとの間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳを形成する。

本実施形態においては、外周面１２と側部１９（内周面２０）との間のギャップＧの一部に、液浸空間ＬＳの液体ＬＱが保持される。図３に示すように、本実施形態においては、基板Ｐが第１移動状態のとき、外周面１２と内周面２０との間に形成されるギャップＧ内の液体ＬＱの上面（界面、メニスカス）ＬＨが、外周面１２と第２面２０２（第２部分１９２）との間に形成される第２ギャップＧ２に配置されるように、供給口２３の液体供給条件、及び第２回収口２２の液体回収条件が定められる。第１移動状態は、例えば基板Ｐが静止している状態、基板Ｐが所定速度以下で移動している状態、及び基板ＰがＸＹ平面内において所定距離以下で直線移動している状態の少なくとも一つを含む。液体供給条件は、供給口２３からの単位時間当たりの液体供給量を含む。液体回収条件は、第２回収口２２からの単位時間当たりの液体回収量を含む。

次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸの動作の一例について説明する。

制御装置５は、基板Ｐの露光動作を実行するために、終端光学素子９及び液浸部材３と基板Ｐの表面との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳを形成する。制御装置５は、基板Ｐの複数のショット領域を、投影光学系ＰＬ及び液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して順次露光する。本実施形態においては、基板Ｐの露光時、ギャップＧ内の液体ＬＱの界面ＬＨの位置が、外周面１２と第２面２０２との間（第２ギャップＧ２）に維持されるように、基板Ｐの移動条件が予め定められている。

図４は、液浸空間ＬＳを形成した状態で、終端光学素子９及び液浸部材３に対して基板ＰをＸＹ平面内の所定方向に移動したときの液浸空間ＬＳの状態を示す模式図である。図４には、一例として、終端光学素子９及び液浸部材３に対して基板Ｐが−Ｙ方向に移動している状態が示されている。

基板Ｐの移動により、液浸部材３の下面１３と基板Ｐとの間の液体ＬＱの界面ＬＧが−Ｙ方向に移動する。また、基板Ｐの移動により、外周面１２と第２面２０２との間（第２ギャップＧ２）の液体ＬＱの界面ＬＨが、入射面１０側に移動する可能性がある。基板Ｐの移動条件に応じて、あるいは外周面１２及び内周面２０の少なくとも一方の表面状態に応じて、基板Ｐの移動により、第２ギャップＧ２の液体ＬＱの界面ＬＨが、入射面１０側に大きく移動する可能性がある。例えば、基板Ｐを第１移動状態と異なる第２移動状態で移動した場合、液体ＬＱの界面ＬＨが入射面１０側に大きく移動する可能性がある。例えば、基板Ｐが所定速度以上で移動したり、ＸＹ平面内における第１位置から第２位置へ移動するときの基板Ｐの直線移動距離が所定距離以上になったりすると、液体ＬＱが所定状態を維持できず、液体ＬＱの界面ＬＨが入射面１０側へ大きく移動する可能性がある。その結果、第２ギャップＧ２の液体ＬＱが、外周面１２と第１面２０１との間（第１ギャップＧ１）を介して、外周面１２と内周面２０の上端との間の開口３５からギャップＧの外側に漏出したり、その漏出した液体ＬＱが、例えば液体ＬＱの存在が望まれない部位に浸入したり残留したりする可能性がある。そのような液体ＬＱの漏出、浸入、残留等が生じると、その液体ＬＱの気化熱により、露光装置ＥＸ内の部材が熱変形したり、基板Ｐが熱変形したりする可能性がある。

本実施形態においては、液浸部材３に第１回収口２１が設けられており、外周面１２と側部１９との間の液体ＬＱの少なくとも一部を回収することができる。第１回収口２１は、多孔部材２４の表面に接触した液体ＬＱを回収可能である。多孔部材２４の表面は、第１部分１９１に配置されており、第１回収口２１は、外周面１２と第１部分１９１（第１面２０１）との間（第１ギャップＧ１）に存在する液体ＬＱを回収可能である。したがって、外周面１２と第２部分１９２（第２面２０２）との間（第２ギャップＧ２）に存在する液体ＬＱが入射面１０側（開口３５側）に移動しようとしても、その液体ＬＱは、開口３５に到達する前に、第１ギャップＧ１に移動したときに、第１回収口２１によって回収される。したがって、液体ＬＱが開口３５から外側に漏出することが抑制される。

本実施形態においては、基板Ｐの露光中、制御装置５は、第１液体回収装置３１を作動し続ける。これにより、基板Ｐの移動状態の変化など、何らかの原因によって、液体ＬＱの界面ＬＨが入射面１０側に大きく移動しても、その液体ＬＱを第１回収口２１で回収することができる。

なお、制御装置５は、液体ＬＱの界面ＬＨが第２ギャップＧ２に配置されているとき、第１液体回収装置３１の作動を停止し、第２ギャップＧ２の液体ＬＱが第１ギャップＧ１に移動するときに、第１液体回収装置３１の作動を開始してもよい。例えば、第１面２０１の射出面１１側のエッジに液体ＬＱを検出可能なセンサを配置する。センサは、液体ＬＱの界面ＬＨが第２ギャップＧ２に配置されているとき、液体ＬＱを検出せず、第２ギャップＧ２の液体ＬＱが第１ギャップＧ１に移動したとき、液体ＬＱを検出する。センサは、検出結果を制御装置５に出力する。制御装置５は、そのセンサの検出結果に基づいて、第２ギャップＧ２の液体ＬＱが第１ギャップＧ１に移動したと判断したとき、第１液体回収装置３１の作動を開始して、第１回収口２１を用いる液体回収動作を開始する。こうすることによっても、液体ＬＱの漏出を未然に防ぐことができる。

また、制御装置５は、基板Ｐ（基板ステージ２）の移動状態（移動速度及び直線移動距離の少なくとも一方を含む）に応じて、第１液体回収装置３１の動作を制御することができる。例えば、干渉計システム４の計測結果に基づいて、基板ステージ２の移動速度が、予め定められている所定速度以上であると判断したり、基板ステージ２の直線移動距離が、予め定められている所定距離以上であると判断したりした場合、制御装置５は、第１液体回収装置３１の作動を開始して、第１回収口２１を用いる液体回収動作を開始する。一方、基板ステージ２の移動速度が、所定速度以下であると判断したり、基板ステージ２の直線移動距離が、所定距離以下であると判断した場合、制御装置５は、第１液体回収装置３１の作動を停止する。

以上説明したように、本実施形態によれば、外周面１２と側部１９（内周面２０）との間の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能な第１回収口２１を設けたので、液体ＬＱの漏出を抑制することができる。したがって、露光不良の発生、不良デバイスの発生を抑制することができる。

また、本実施形態によれば、ギャップＧにおける液体ＬＱの界面ＬＨの位置の変動を抑制することができる。液体ＬＱの界面ＬＨの位置が大きく変動すると、液体ＬＱが終端光学素子９に与える力が変動する可能性がある。その結果、終端光学素子９の位置が変動したり、終端光学素子９の光学特性が変化したりして、露光不良が発生する可能性がある。本実施形態によれば、露光不良の発生を抑制することができる。

なお、本実施形態においては、外周面１２が、終端光学素子９の光軸に対する放射方向において、投影光学系ＰＬの像面（基板Ｐの表面）から徐々に離れるように傾斜している場合を例にして説明したが、例えば像面に対して垂直でもよい。

＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図５は、第２実施形態に係る液浸部材３Ｂの一例を示す図である。図５に示すように、液浸部材３Ｂは、プレート部１８と、少なくとも一部が外周面１２とギャップＧを介して対向する側部１９Ｂとを有する。側部１９Ｂは、外周面１２の周囲に配置される第１面２０１Ｂ、及び第１面２０１Ｂに対して射出面１１側に配置される第２面２０２Ｂを含む内周面２０Ｂを有する。液浸部材３Ｂは、基板Ｐ上に液体ＬＱを供給可能な供給口２３と、基板Ｐ上の液体ＬＱを回収可能な第２回収口２２とを備えている。本実施形態において、液浸部材３Ｂには、第１回収口が設けられていない。

外周面１２に対して第１面２０１Ｂ及び第２面２０２Ｂの少なくとも一方が傾斜している。外周面１２と第１面２０１Ｂとがなす第１角度θ１は、外周面１２と第２面２０２Ｂとがなす第２角度θ２より大きい。本実施形態において、第１面２０１Ｂの射出面１１側のエッジと第２面２０２Ｂの入射面１０側のエッジとは隣接している。

本実施形態において、外周面１２と第２面２０２Ｂとはほぼ平行である。第１面２０１Ｂは、第２面２０２に対して傾斜している。第１面２０１Ｂは、外周面１２と第１面２０１Ｂとの間の空間が入射面１０側に向かって徐々に拡がるように傾斜している。

本実施形態に係る液浸部材３Ｂにおいても、外周面１２と内周面２０Ｂの上端との間の開口３５Ｂからの液体ＬＱの漏出を抑制することができる。本実施形態によれば、例えば外周面１２と第２面２０２Ｂとの間に存在する液体ＬＱが、例えば基板Ｐの移動によって、入射面１０側（開口３５Ｂ側）に移動しようとしても、外周面１２と第１面２０１Ｂとの間に形成される第１ギャップＧ１が、外周面１２と第２面２０２Ｂとの間に形成される第２ギャップＧ２より大きいので、外周面１２と第１面２０１Ｂとの間において、液体ＬＱが入射面１０側に移動することが抑制される。したがって、開口３５Ｂからの液体ＬＱの漏出を抑制するすることができる。

また、本実施形態によれば、例えば第１ギャップＧ１の少なくとも一部に存在する気体が、気泡となって液体ＬＱに混入しても、その気泡が第２ギャップＧ２に存在する液体ＬＱ（ひいては射出面１１と基板Ｐの表面との間に存在する液体ＬＱ）に移動することが抑制される。換言すれば、光路を満たす液体ＬＱ中に気泡が混入することが抑制される。したがって、露光不良の発生を抑制することができる。

＜第３実施形態＞
次に、第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図６は、第３実施形態に係る液浸部材３Ｃの一例を示す図である。第３実施形態に係る液浸部材３Ｃは、上述の第１実施形態に係る液浸部材３の要件と第２実施形態に係る液浸部材３Ｂの要件とを組み合わせた構成を有する。図６において、液浸部材３Ｃは、外周面１２とほぼ平行な第２面２０２Ｃ、及び第２面２０２Ｃに対して傾斜する第１面２０１Ｃを含む内周面２０Ｃと、第１面２０１Ｃに配置され、外周面１２と側部１９Ｃとの間の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能な第１回収口２１とを備えている。外周面１２と第１面２０１Ｃとの間に形成される第１ギャップＧ１は、外周面１２と第２面２０２Ｃとの間に形成される第２ギャップＧ２より大きい。本実施形態においても、液体ＬＱの漏出等の不具合の発生を抑制し、露光不良の発生を抑制することができる。

なお、上述の第２，第３実施形態においては、第２面２０２Ｂ（２０２Ｃ）が外周面１２と平行であり、その第２面２０２Ｂ（２０２Ｃ）に対して第１面２０１Ｂ（２０１Ｃ）が傾斜している場合を例にして説明したが、外周面１２と第２面２０２Ｂ（２０２Ｃ）とが非平行でもよい。例えば、外周面１２と第２面２０２Ｂ（２０２Ｃ）との間の空間が入射面１０側に向かって徐々に拡がるように、第２面２０２Ｂ（２０２Ｃ）が傾斜していてもよいし、徐々に狭くなるように、第２面２０２Ｂ（２０２Ｃ）が傾斜していてもよい。その場合においても、外周面１２と第１面２０１Ｂ（２０１Ｃ）とがなす第１角度θ１を、外周面１２と第２面２０２Ｂ（２０２Ｃ）とがなす第２角度θ２より大きくしておくことで、液体ＬＱの漏出を抑制することができる。

＜第４実施形態＞
次に、第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

上述の第１，第２、及び第３実施形態においては、第１面２０１（２０１Ｂ，２０１Ｃ）の射出面１１側のエッジと第２面２０２（２０２Ｂ，２０２Ｃ）の入射面１０側のエッジとが隣接している場合を例にして説明した。第４実施形態の特徴的な部分は、第１面と第２面との間に、第３面を設けた点にある。

図７は、第４実施形態に係る液浸部材３Ｄの一例を示す図である。図７において、液浸部材３Ｄは、第１面２０１Ｄ、第１面２０１Ｄに対して射出面１１側に配置される第２面２０２Ｄ、及び第１面２０１Ｄと第２面２０２Ｄとの間に配置される第３面２０３Ｄを含む内周面２０Ｄを有する。第３面２０３Ｄは、第１面２０１Ｄの射出面１１側のエッジと第２面２０２Ｄの入射面１０側のエッジとの間に配置されている。第１面２０１Ｄの射出面１１側のエッジと第３面２０３Ｄの入射面１０側のエッジとは隣接している。第２面２０２Ｄの入射面１０側のエッジと第３面２０３Ｄの射出面１１側のエッジとは隣接している。

外周面１２と第１面２０１Ｄとがなす角度は、第１角度θ１である。外周面１２と第２面２０２Ｄとがなす角度は、第２角度θ２である。外周面１２と第３面２０３Ｄとがなす角度は、第３角度θ３である。本実施形態において、第３角度θ３は、第１角度θ１及び第２角度θ２と異なる。

本実施形態において、第１角度θ１と第２角度θ２とはほぼ同じである。本実施形態において、外周面１２と第１面２０１Ｄとは、ほぼ平行である。外周面１２と第２面２０２Ｄとは、ほぼ平行である。

また、本実施形態においては、外周面１２と第１面２０１Ｄとの間に形成される第１ギャップＧ１は、外周面１２と第２面２０２Ｄとの間に形成される第２ギャップＧ２より大きい。また、第１面２０１Ｄに、外周面１２と側部１９Ｄとの間の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能な第１回収口２１が配置されている。第１回収口２１には、多孔部材２４が配置されている。

本実施形態においても、液体ＬＱの漏出等を抑制し、露光不良の発生を抑制できる。

なお、本実施形態において、第１角度θ１と第２角度θ２とが異なってもよい。例えば、第１角度θ１が第２角度θ２より大きくてもよい。

なお、本実施形態において、終端光学素子９の光軸を含む断面において、第３面２０３Ｄが円弧状でもよい。また、第１回収口２１の少なくとも一部が第３面２０３Ｄに配置されてもよい。

なお、本実施形態において、第１回収口２１が省略されてもよい。

＜第５実施形態＞
次に、第５実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図８は、第５実施形態に係る液浸部材３Ｅの一例を示す図である。図８において、液浸部材３Ｅは、第１部分１９１Ｅ及び第２部分１９２Ｅを含む側部１９Ｅを有する。第２部分１９２Ｅの第２面２０２Ｅは、外周面１２とほぼ平行である。第１部分１９１Ｅ（第１面２０１Ｅ）は、外周面１２との間の空間が入射面１０側に向かって徐々に狭まるように傾斜している第１傾斜面８１と、拡がるように傾斜している第２傾斜面８２とを有する。本実施形態において、第１傾斜面８１と第２傾斜面８２とは、射出面１１側から入射面１０側に向かって交互に配置されている。本実施形態においても、液体ＬＱの漏出を抑制できる。

＜第６実施形態＞
次に、第６実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図９は、第６実施形態に係る終端光学素子９Ｆ及び液浸部材３を示す図である。図９に示すように、終端光学素子９Ｆの外周面１２Ｆは、射出面１１のエッジに隣接する第３面４１と、第３面４１に対して入射面１０側に配置され、第３面４１に対して傾斜する第４面４２とを有する。終端光学素子９Ｆの周囲には、上述の第１実施形態で説明した液浸部材３が配置される。外周面１２Ｆの第４面４２と液浸部材３の第１面２０１とがなす角度θ１Ｆは、外周面１２Ｆの第３面４１と液浸部材３の第２面２０２とがなす角度θ２Ｆより大きい。こうすることによっても、液体ＬＱの漏出等の不具合の発生を抑制することができる。

なお、本実施形態において、第１回収口２１が省略されてもよい。

なお、上述の第１〜第６実施形態において、終端光学素子９の光軸を含む断面において、第１面２０１の少なくとも一部が円弧状でもよいし、第２面２０２の少なくとも一部が円弧状でもよい。

なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子９の射出側（像面側）の光路が液体ＬＱで満たされているが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているように、終端光学素子９の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系を採用することもできる。

なお、上述の各実施形態の液体ＬＱは水であるが、水以外の液体であってもよい。例えば、液体ＬＱとして、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等を用いることも可能である。また、液体ＬＱとして、種々の流体、例えば、超臨界流体を用いることも可能である。

なお、上述の各実施形態の基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。

露光装置ＥＸとしては、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。

さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光してもよい（スティッチ方式の一括露光装置）。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。

また、例えば対応米国特許第６６１１３１６号明細書に開示されているように、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。また、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明を適用することができる。

また、上述の各実施形態の要件は、米国特許第６３４１００７号明細書、米国特許第６２０８４０７号明細書、米国特許第６２６２７９６号明細書等に開示されているような複数の基板ステージを備えたマルチステージ型の露光装置にも適用できる。基板ステージは、３つ以上配置することができる。

露光装置ＥＸの種類としては、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。

なお、上述の各実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。可変成形マスクは、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）等を含む。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしても良い。自発光型画像表示素子としては、例えば、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）、無機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ：Organic Light Emitting Diode）、ＬＥＤディスプレイ、ＬＤディスプレイ、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Field Emission Display）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ：Plasma Display Panel）等が挙げられる。

上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬを備えた露光装置を例に挙げて説明してきたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に本発明を適用することができる。このように投影光学系ＰＬを用いない場合であっても、露光光はレンズ等の光学部材を介して基板に照射され、そのような光学部材と基板との間の所定空間に液浸空間が形成される。

また、上述の各実施形態の要件は、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって、基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）にも適用できる。

以上のように、本実施形態の露光装置ＥＸは、本願請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１０に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ３０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ３０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ３０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンを用いて露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理ステップ３０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）３０５、検査ステップ３０６等を経て製造される。

なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。

２…基板ステージ、３…液浸部材、９…終端光学素子、１０…入射面、１１…射出面、１２…外周面、１８…プレート部、１９…側部、２０…内周面、２１…第１回収口、２２…第２回収口、２３…供給口、２４…多孔部材、１９１…第１部分、１９２…第２部分、２０１…第１面、２０２…第２面、Ｇ…ギャップ、Ｇ１…第１ギャップ、Ｇ２…第２ギャップ、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板、ＰＬ…投影光学系

Claims (17)

1. 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
   前記露光光が入射される入射面、前記露光光が射出される射出面、及び前記射出面のエッジから前記入射面側に向かって延びる外周面を有し、前記露光光を照射する投影光学系のうち前記投影光学系の像面に最も近い光学部材と、
   少なくとも一部が前記外周面とギャップを介して対向する側部を有し、前記射出面と前記射出面からの前記露光光を照射可能な位置に配置される物体との間の光路が前記液体で満たされるように液浸空間を形成可能な液浸部材と、を備え、
   前記側部は、前記外周面の周囲に配置される第１部分と、前記第１部分に対して前記射出面側に配置される第２部分とを含み、
   前記外周面と前記第１部分との間に形成される第１ギャップは、前記外周面と前記第２部分との間に形成される第２ギャップより大きく、
   前記液浸部材は、前記側部の前記第１部分に配置され、前記外周面と前記側部との間の液体の少なくとも一部を回収可能な第１回収口と、前記第１回収口に配置される多孔部材とを有する露光装置。
2. 前記第２部分は、液体を回収不可能である請求項１記載の露光装置。
3. 前記第２部分に配置され、前記液体を供給可能な供給口を備える請求項１又は２記載の露光装置。
4. 前記第１部分の前記射出面側のエッジと前記第２部分の前記入射面側のエッジとは隣接している請求項１〜３のいずれか一項記載の露光装置。
5. 前記側部は、前記外周面の周囲に配置される第１面と、前記第１面に対して前記射出面側に配置される第２面とを含み、前記外周面に対して前記第１面及び前記第２面の少なくとも一方が傾斜し、且つ前記外周面と前記第１面とがなす第１角度は、前記外周面と前記第２面とがなす第２角度より大きい請求項１〜４のいずれか一項記載の露光装置。
6. 前記第１面の前記射出面側のエッジと前記第２面の前記入射面側のエッジとは隣接している請求項５記載の露光装置。
7. 前記側部は、前記第１面の前記射出面側のエッジと前記第２面の前記入射面側のエッジとの間に第３面を含む請求項５記載の露光装置。
8. 前記外周面と前記第３面とがなす第３角度は、前記第１角度および前記第２角度のいずれとも異なる請求項７記載の露光装置。
9. 前記第２面に対して前記第１面が傾斜している請求項５〜８のいずれか一項記載の露光装置。
10. 前記外周面と前記第１面との間の空間が前記入射面側に向かって除々に拡がるように前記第１面が傾斜する請求項５〜９のいずれか一項記載の露光装置。
11. 前記外周面と前記第２面とはほぼ平行である請求項５〜１０のいずれか一項記載の露光装置。
12. 前記第１回収口は、前記側部の前記第１面の前記入射面側に配置されている請求項５〜１１のいずれか一項記載の露光装置。
13. 前記ギャップにおける液体の界面の位置に応じて、前記第１回収口から液体が回収される請求項１〜１２のいずれか一項記載の露光装置。
14. 前記液浸部材は、前記液浸部材の下面に配置され、前記下面に対向する前記物体の表面上の液体を回収可能な第２回収口を備える請求項１〜１３のいずれか一項記載の露光装置。
15. 前記物体は、前記液浸空間が形成された状態で、前記射出面と前記物体の表面との間の光路と交差する方向に移動する請求項１〜１４のいずれか一項記載の露光装置。
16. 前記物体は、前記基板を含む請求項１〜１５のいずれか一項記載の露光装置。
17. 請求項１〜１６のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
    露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。

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