JP2010062558A - 流体ハンドリング構造、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
流体ハンドリング構造、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010062558A JP2010062558A JP2009195469A JP2009195469A JP2010062558A JP 2010062558 A JP2010062558 A JP 2010062558A JP 2009195469 A JP2009195469 A JP 2009195469A JP 2009195469 A JP2009195469 A JP 2009195469A JP 2010062558 A JP2010062558 A JP 2010062558A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- fluid
- handling structure
- fluid handling
- opening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70341—Details of immersion lithography aspects, e.g. exposure media or control of immersion liquid supply
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2041—Exposure; Apparatus therefor in the presence of a fluid, e.g. immersion; using fluid cooling means
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70833—Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/87169—Supply and exhaust
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】流体ハンドリング構造は、投影システムの最終要素と基板及び/又は基板テーブルの間の空間に流体を提供する第一開口、流体ハンドリング構造と基板の間の空間から出る液体の流れを阻止するバリア、及び空間の半径方向外側の領域へと開き、流体ハンドリング構造から空間の半径方向外側の基板及び/又は基板テーブルの上面に流体の流れを提供する第二開口を有する。基板テーブルの中心に向かう流体の流れが、基板テーブルの中心から離れる方向の流体の流れより大きくなるように、コントローラを設けることができる。
【選択図】図7
Description
− 放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一ポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第二ポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
Claims (24)
- (i)投影システムと基板及び/又は基板テーブルの間の空間、及び(ii)前記空間の半径方向外側の基板及び/又は基板テーブルの上面、に流体を提供する流体ハンドリング構造であって、
前記流体ハンドリング構造から前記空間内への流体の流れを提供する前記空間への第一開口、
前記流体ハンドリング構造と前記基板の間の前記空間から出る流体の流れを阻止するバリア、及び
前記投影システムの光軸に対して前記バリアの半径方向外側にあり、前記流体ハンドリング構造から前記空間の半径方向外側の前記基板及び/又は基板テーブルの上面への流体の流れを提供する第二開口を備える、流体ハンドリング構造。 - 前記第一開口及び/又は前記第二開口から出る流体の流れを制御するコントローラをさらに備える、請求項1に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記コントローラが、前記流体ハンドリング構造から半径方向外側に流れる流体が0と2の間、望ましくは0と1の間のフルード数を有するように、前記第二開口を出る流体の流れを制御する、請求項2に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記コントローラが、基板テーブルに対する前記流体ハンドリング構造の位置に応じて、前記第二開口から出る流体の流量を変更する、請求項2又は3に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記コントローラが、基板テーブルの中心に向かう方向の流れが前記基板テーブルの前記中心から離れる方向の流れより大きくなるように、前記第二開口から出る流れを制御する、請求項4に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記コントローラが、前記第二開口を介して、及び/又は前記空間を囲む領域に対して開いている第三開口を介して、前記流体ハンドリング構造の外側で流体の流れを制御する、請求項2から5のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記コントローラが、前記流体ハンドリング構造の周囲の部分の周りから流体を除去する率を変更する、請求項6に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記コントローラが、前記空間内の流体の圧力が前記空間の外側及び前記流体ハンドリング構造に隣接する領域内にある流体の圧力に実質的に等しくなるように、前記第一開口を通る、及び前記第二開口を通る流体の流れを制御する、請求項2から7のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記コントローラが、流量及び/又は流れの方向及び/又は流れの角度を変更することによって前記圧力を制御する、請求項8に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記第二開口が、基板及び/又は基板テーブルの上面に平行であるか、前記基板及び/又は基板テーブルの面に対して0〜10°から選択された角度で傾斜している表面にあり、該表面が、前記投影システムの光軸付近では前記基板及び/又は基板テーブルに近づき、前記投影システムから離れると前記光軸からさらに離れる、前記請求項のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記流体ハンドリング構造が、前記第一開口を出た流体が前記第二流体開口を出た流体から実質的に分離されるように構成される、前記請求項のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記空間の半径方向外側の前記基板及び/又は基板テーブルの前記上面上の液体に対して開いている気体開口をさらに備える、前記請求項のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記気体開口が加湿された気体の源に接続され、加湿された気体を前記上面上に提供する、請求項12に記載の流体ハンドリング構造。
- 使用時に実質的に基板テーブル及び基板の上面全体が流体に覆われ、前記請求項のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造を備える、液浸リソグラフィ装置。
- 前記バリアと基板及び/又は基板テーブルの上面の間の距離が50μmと250μmの間である、請求項14に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記第二開口と前記基板及び/又は基板テーブルの間の距離が、少なくとも前記バリアと前記基板及び/又は基板テーブルの間の前記距離の5倍である、請求項14又は15に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記第二開口の幅が、少なくとも前記開口と前記基板及び/又は基板テーブルの間の距離を6で割った値より大きく、望ましくは前記距離を20で割った値より大きい、請求項14から16のいずれか1項に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記第二開口を出る流体の流速が、gの平方根に前記開口から前記基板及び/又は基板テーブルまでの距離を掛けた値の3倍未満であり、ここでgが重力定数である、請求項14から17のいずれか1項に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記第二開口から出る流体の流量が0.2〜6.0lpmの範囲から選択される、請求項14から18のいずれか1項に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 投影システムと基板の間の空間に、及び前記空間の半径方向外側の基板及び/又は基板テーブルの上面に流体を提供する流体ハンドリング構造であって、
前記流体ハンドリング構造から前記上面上に流体を提供する開口、及び
前記開口から出る流体の流れが、前記基板テーブルの中心から離れる方向よりも前記基板テーブルの中心に向かう方向で大きい流量になるように制御するコントローラを備える、流体ハンドリング構造。 - 使用時に実質的に基板テーブル及び基板の上面全体が流体に覆われ、請求項20に記載の流体ハンドリング構造を備える、液浸リソグラフィ装置。
- 流体ハンドリング構造の第一開口を通して投影システムと基板の間の空間に提供される液浸液を通して、放射ビームを基板テーブル上の前記基板の上面に投影することを含むデバイス製造方法であって、前記流体ハンドリング構造のバリアが、前記流体ハンドリング構造と前記基板の間の前記空間から出る液体の流れを阻止し、前記流体ハンドリング構造の第二開口が、前記空間の半径方向外側の前記基板及び/又は基板テーブルの上面へ流体を提供する、デバイス製造方法。
- 流体ハンドリング構造によって投影システムと基板の間の空間に提供された液浸液を通して、放射ビームを基板テーブル上の前記基板の上面に投影し、前記基板テーブルの中心に向かう方向の流体の流れが前記中心から離れる方向より大きくなるように、前記空間の半径方向外側の前記基板及び/又は基板テーブルの上面に流体を提供することを含む、デバイス製造方法。
- 使用時に投影システムと基板及び/又は基板テーブルの間の空間を画定する液浸リソグラフィ装置の流体ハンドリング構造であって、
前記流体ハンドリング構造の外面を画定する表面、
前記外面に画定され、前記空間の半径方向外側の基板テーブル及び/又は基板の表面の上面に流体を供給する開口、及び
前記外面と前記空間の間に配置され、前記流体が前記空間内に流れることを阻止するバリアを備える、流体ハンドリング構造。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13638008P | 2008-09-02 | 2008-09-02 | |
US61/136,380 | 2008-09-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010062558A true JP2010062558A (ja) | 2010-03-18 |
JP5112403B2 JP5112403B2 (ja) | 2013-01-09 |
Family
ID=41228267
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009195469A Expired - Fee Related JP5112403B2 (ja) | 2008-09-02 | 2009-08-26 | 流体ハンドリング構造、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100060868A1 (ja) |
EP (1) | EP2159639A1 (ja) |
JP (1) | JP5112403B2 (ja) |
KR (1) | KR101227636B1 (ja) |
CN (1) | CN101666983B (ja) |
SG (1) | SG159467A1 (ja) |
TW (1) | TW201024925A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210061473A (ko) * | 2016-12-14 | 2021-05-27 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2136250A1 (en) * | 2008-06-18 | 2009-12-23 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
NL2003638A (en) | 2008-12-03 | 2010-06-07 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
NL2004305A (en) | 2009-03-13 | 2010-09-14 | Asml Netherlands Bv | Substrate table, immersion lithographic apparatus and device manufacturing method. |
JP2010251745A (ja) * | 2009-04-10 | 2010-11-04 | Asml Netherlands Bv | 液浸リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
NL2004362A (en) * | 2009-04-10 | 2010-10-12 | Asml Netherlands Bv | A fluid handling device, an immersion lithographic apparatus and a device manufacturing method. |
NL2004363A (en) * | 2009-04-22 | 2010-10-26 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and a method of operating the apparatus. |
NL2004523A (en) * | 2009-05-08 | 2010-11-09 | Asml Netherlands Bv | Immersion lithographic apparatus and device manufacturing method. |
NL2004540A (en) * | 2009-05-14 | 2010-11-18 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and a method of operating the apparatus. |
EP2264529A3 (en) * | 2009-06-16 | 2011-02-09 | ASML Netherlands B.V. | A lithographic apparatus, a method of controlling the apparatus and a method of manufacturing a device using a lithographic apparatus |
EP2264528A1 (en) * | 2009-06-19 | 2010-12-22 | ASML Netherlands B.V. | Sensor and lithographic apparatus |
NL2004820A (en) * | 2009-06-30 | 2011-01-04 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and a method of measuring flow rate in a two phase flow. |
NL2004808A (en) * | 2009-06-30 | 2011-01-12 | Asml Netherlands Bv | Fluid handling structure, lithographic apparatus and device manufacturing method. |
NL2005009A (en) * | 2009-07-27 | 2011-01-31 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
NL2005322A (en) | 2009-09-11 | 2011-03-14 | Asml Netherlands Bv | A shutter member, a lithographic apparatus and device manufacturing method. |
NL2005208A (en) * | 2009-09-28 | 2011-03-29 | Asml Netherlands Bv | Heat pipe, lithographic apparatus and device manufacturing method. |
NL2005207A (en) * | 2009-09-28 | 2011-03-29 | Asml Netherlands Bv | Heat pipe, lithographic apparatus and device manufacturing method. |
NL2005167A (en) * | 2009-10-02 | 2011-04-05 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and a method of operating the apparatus. |
NL2005479A (en) * | 2009-11-17 | 2011-05-18 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, removable member and device manufacturing method. |
NL2005478A (en) * | 2009-11-17 | 2011-05-18 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, removable member and device manufacturing method. |
NL2005610A (en) | 2009-12-02 | 2011-06-06 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and surface cleaning method. |
NL2005717A (en) * | 2009-12-18 | 2011-06-21 | Asml Netherlands Bv | A lithographic apparatus and a device manufacturing method. |
NL2005951A (en) * | 2010-02-02 | 2011-08-03 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and a device manufacturing method. |
DE112011100812T5 (de) * | 2010-03-05 | 2013-03-07 | TeraDiode, Inc. | System und Verfahren zur Wellenlängenstrahlkombination |
NL2006648A (en) | 2010-06-01 | 2011-12-06 | Asml Netherlands Bv | A fluid supply system, a lithographic apparatus, a method of varying fluid flow rate and a device manufacturing method. |
NL2007182A (en) * | 2010-08-23 | 2012-02-27 | Asml Netherlands Bv | Fluid handling structure, module for an immersion lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method. |
NL2008183A (en) | 2011-02-25 | 2012-08-28 | Asml Netherlands Bv | A lithographic apparatus, a method of controlling the apparatus and a device manufacturing method. |
US9651873B2 (en) * | 2012-12-27 | 2017-05-16 | Nikon Corporation | Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method of manufacturing device, program, and recording medium |
KR102206979B1 (ko) | 2016-09-12 | 2021-01-25 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치를 위한 유체 처리 구조물 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006165562A (ja) * | 2004-12-07 | 2006-06-22 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2006253456A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2007013150A (ja) * | 2005-06-28 | 2007-01-18 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
JP2007053193A (ja) * | 2005-08-17 | 2007-03-01 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2008041822A (ja) * | 2006-08-03 | 2008-02-21 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法、並びに環境制御装置 |
WO2008026593A1 (fr) * | 2006-08-30 | 2008-03-06 | Nikon Corporation | Dispositif d'exposition, procédé de fabrication de dispositif, procédé de nettoyage et élément de nettoyage |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4509852A (en) | 1980-10-06 | 1985-04-09 | Werner Tabarelli | Apparatus for the photolithographic manufacture of integrated circuit elements |
AU2747999A (en) | 1998-03-26 | 1999-10-18 | Nikon Corporation | Projection exposure method and system |
US6934003B2 (en) * | 2002-01-07 | 2005-08-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method |
CN100395562C (zh) | 2002-06-11 | 2008-06-18 | 加利福尼亚大学董事会 | 采用垂直电场测量的海底地质勘测方法及*** |
SG121822A1 (en) | 2002-11-12 | 2006-05-26 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7372541B2 (en) * | 2002-11-12 | 2008-05-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1420300B1 (en) | 2002-11-12 | 2015-07-29 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
TWI232357B (en) | 2002-11-12 | 2005-05-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1571698A4 (en) * | 2002-12-10 | 2006-06-21 | Nikon Corp | EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD |
TWI295414B (en) * | 2003-05-13 | 2008-04-01 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US6867844B2 (en) * | 2003-06-19 | 2005-03-15 | Asml Holding N.V. | Immersion photolithography system and method using microchannel nozzles |
EP1498778A1 (en) * | 2003-06-27 | 2005-01-19 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7411653B2 (en) * | 2003-10-28 | 2008-08-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
US7394521B2 (en) | 2003-12-23 | 2008-07-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7486381B2 (en) * | 2004-05-21 | 2009-02-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7251013B2 (en) * | 2004-11-12 | 2007-07-31 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7161654B2 (en) * | 2004-12-02 | 2007-01-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7317507B2 (en) * | 2005-05-03 | 2008-01-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7701551B2 (en) * | 2006-04-14 | 2010-04-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7532309B2 (en) * | 2006-06-06 | 2009-05-12 | Nikon Corporation | Immersion lithography system and method having an immersion fluid containment plate for submerging the substrate to be imaged in immersion fluid |
US8208116B2 (en) * | 2006-11-03 | 2012-06-26 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Immersion lithography system using a sealed wafer bath |
NL1036194A1 (nl) * | 2007-12-03 | 2009-06-04 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
EP2131242A1 (en) * | 2008-06-02 | 2009-12-09 | ASML Netherlands B.V. | Substrate table, lithographic apparatus and device manufacturing method |
-
2009
- 2009-08-17 SG SG200905479-2A patent/SG159467A1/en unknown
- 2009-08-20 EP EP20090168275 patent/EP2159639A1/en not_active Withdrawn
- 2009-08-26 JP JP2009195469A patent/JP5112403B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-08-27 TW TW98128889A patent/TW201024925A/zh unknown
- 2009-08-31 US US12/550,481 patent/US20100060868A1/en not_active Abandoned
- 2009-09-01 KR KR1020090081965A patent/KR101227636B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2009-09-02 CN CN2009101686690A patent/CN101666983B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006165562A (ja) * | 2004-12-07 | 2006-06-22 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2006253456A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2007013150A (ja) * | 2005-06-28 | 2007-01-18 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
JP2007053193A (ja) * | 2005-08-17 | 2007-03-01 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2008041822A (ja) * | 2006-08-03 | 2008-02-21 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法、並びに環境制御装置 |
WO2008026593A1 (fr) * | 2006-08-30 | 2008-03-06 | Nikon Corporation | Dispositif d'exposition, procédé de fabrication de dispositif, procédé de nettoyage et élément de nettoyage |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210061473A (ko) * | 2016-12-14 | 2021-05-27 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 |
KR102328077B1 (ko) | 2016-12-14 | 2021-11-17 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101666983B (zh) | 2012-03-21 |
CN101666983A (zh) | 2010-03-10 |
TW201024925A (en) | 2010-07-01 |
KR20100027987A (ko) | 2010-03-11 |
EP2159639A1 (en) | 2010-03-03 |
KR101227636B1 (ko) | 2013-01-30 |
JP5112403B2 (ja) | 2013-01-09 |
SG159467A1 (en) | 2010-03-30 |
US20100060868A1 (en) | 2010-03-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5112403B2 (ja) | 流体ハンドリング構造、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP4903835B2 (ja) | 流体ハンドリング構造、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP5474524B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP5219993B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
JP4939283B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP4728382B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP5065432B2 (ja) | 流体ハンドリングデバイス、液浸リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP5290333B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP5412399B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP5155277B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP5291753B2 (ja) | 流体ハンドリング構造、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP5016705B2 (ja) | 流体ハンドリング構造 | |
JP5237322B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
JP5340435B2 (ja) | リソグラフィ装置、装置の制御方法及びデバイス製造方法 | |
JP2010192896A (ja) | 流体供給システム、リソグラフィ装置、流体流量を変動させる方法及びデバイス製造方法 | |
JP2010147466A (ja) | 流体ハンドリング構造、テーブル、リソグラフィ装置、液浸リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2009141359A (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP5503938B2 (ja) | 液浸リソグラフィ装置 | |
JP4990327B2 (ja) | リソグラフィ装置及びリソグラフィ装置を操作する方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110926 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110928 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111220 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120919 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121010 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151019 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |