JP2007287909A - 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の制御方法並びに記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】検査ステーション40内の基板搬送手段4は、カセットステーション21と処理ステーションS1との間の基板の受け渡しを優先し、処理ステーションS1内の基板搬送手段26A,Bのサイクルタイム内の残り時間で検査モジュールE1に対して基板の受け渡しを行い、検査モジュールE1からの基板の搬出については、基板の追い越しを行える(処理の順番の大きい基板よりも処理の順番の小さい基板を搬出できる)ようにし、検査モジュールE1への基板の搬入については、基板の追い越しを禁止している。
【選択図】図1
Description
カセットから取り出された基板に対するレジストの塗布、レジストが塗布されかつ露光された後の基板に対する現像、またはその前後の処理を行う複数の処理モジュールと、これら処理モジュールに対し、循環路に沿って順次基板を搬送すると共に循環路を1周するサイクルタイムが予め決められている第1の基板搬送手段と、を備えた処理ステーションと、
処理を終えた基板に対して検査を行い、検査に要する時間が互いに異なる複数の検査モジュールと、前記カセットステーションと処理ステーションとの間の基板の受け渡し、及び検査モジュールに対して基板の受け渡しを行う第2の基板搬送手段と、を備えた検査ステーションと、
前記第2の基板搬送手段を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、第2の基板搬送手段に対して、
a)前記カセットステーションから処理ステーションへの間の基板の受け渡し及び処理ステーションからの基板の受け取りを優先し、
b)基板に割り当てられた処理の順番の小さい基板から検査モジュールに対して搬入を行い、
c)基板に割り当てられた処理の順番に拘わらず、検査が終了している基板を検査モジュールから搬出する
ように制御する機能を備えていることを特徴とする。
前記制御部は、処理ステーションにて処理を終えた基板をカセットに受け渡し、カセットから基板を取り出して前記一方の受け渡しモジュールに受け渡し、また検査が終了した基板を他方の受け渡しモジュールからカセットに受け渡すようにカセットステーション内の受け渡し手段を制御することが挙げられる。
前記カセットステーション内の受け渡し手段は、例えば前記サイクルタイム内において前記一方または他方の受け渡しモジュールのどちらかに1回だけ基板の受け渡しができる。
カセットから取り出された基板に対してレジストの塗布、現像またはその前後の処理を行う複数の処理モジュールと、これら処理モジュールに対し、循環路に沿って順次基板を搬送すると共に循環路を1周するサイクルタイムが予め決められている第1の基板搬送手段と、を備えた処理ステーションと、
この処理ステーションにて処理を終えた基板に対して検査を行い、検査に要する時間が互いに異なる複数の検査モジュールと、前記カセットステーションと処理ステーションとの間の基板の受け渡し、及び検査モジュールに対して基板の受け渡しを行う第2の基板搬送手段と、を備えた検査ステーションと、を備えた塗布、現像装置を制御する方法であって、
前記カセットステーションから処理ステーションへの基板の搬送準備を知らせるレディ信号が出力されたとき、または処理ステーションから搬送先への基板の搬送準備を知らせるレディ信号が出力されたときに、第2の基板搬送手段がその基板の搬送を優先して行う工程と、
基板に割り当てられた処理の順番の小さい基板から検査モジュールに対して、搬入を行う工程と、
基板に割り当てられた処理の順番に拘わらず、検査が終了している基板を検査モジュールから搬出する工程と、を含むことを特徴とする。
検査ステーション40は、4個の受け渡しモジュールTRSa〜TRSdと、検査モジュールE1〜E3と、これらモジュールTRSa〜TRSd、E1〜E3及び前記受け渡しモジュールTRS1、TRS4の間でウエハの受け渡しを行う第2の基板搬送手段をなす搬送アーム4と、を備えている。受け渡しモジュールTRSa〜TRSdは図3に示すように上下に積層されており、また検査モジュールE1〜E3についても上下に積層されている。検査ステーション40に関するより詳しい説明は後述することとし、処理ステーションS1について先に説明する。
a)前記カセットステーション21と処理ステーションS1との間のウエハWの受け渡しを優先するように制御される。
従って既述のサイクルタイムが24秒の場合、搬送アーム4の1回の搬送動作が5秒であるとすると、受け渡しモジュールTRSaからTRS1への搬送、及び受け渡しモジュールTRS4からTRSbへの搬送を優先しなければならないので、受け渡しモジュールTRSc、TRSdと検査モジュールE1(E2、E3)との間の搬送は、計算上は、1サイクル中に(1サイクルタイムの中で)2回しか行えない。しかし受け渡しモジュールTRSc、TRSdと検査モジュールE1(E2、E3)との間の搬送は、実際には各サイクルにおいて2回以上行える場合もある。例えば今、受け渡しモジュールTRS1上のウエハWがメインアーム26Aにより取り出され、続いて搬送アーム4により受け渡しモジュールTRSaからTRS1へ後続のウエハWが搬送されたとする。メインアーム26Aは、サイクルタイムが経過した後に、受け渡しモジュールTRS1から当該後続のウエハWを取り出していくが、この空になった受け渡しモジュールTRS1に更に後続のウエハWを搬入するタイミングは、次のサイクルタイムが経過する時点つまり次ぎにメインアーム26Aが受け渡しモジュールTRS1に取りにくるまでの時点であればよい。このためあるサイクルにおいてTRSdと検査モジュールE1(E2、E3)との間の搬送を3回行える場合もある。この例として、一のサイクルタイムが終了する直前に検査モジュールに対する基板の受け渡しが開始され、更にその直後に受け渡しモジュールTRSaからTRS1への基板の搬送が可能になった場合が挙げられる。
b)ウエハWに割り当てられた処理の順番の小さいウエハWから検査モジュールE1(E2、E3)に対して搬入を行い、
c)ウエハWに割り当てられた処理の順番に拘わらず、検査が終了しているウエハWを検査モジュールE1(E2、E3)から搬出する
ように制御される。従って例えば1番から13番までのウエハWに対して順番通りに受け渡しモジュールTRScから検査モジュールE1(E2、E3)に搬送されるが、あるサイクルタイムの中で、例えば11番のウエハWは処理が終わっているが、9番のウエハWは処理が終わっていない場合には、9番のウエハWを追い越して11番のウエハWを検査モジュールE1(E2、E3)から搬出する。
a)カセットCから処理前のウエハWを受け取って受け渡しモジュールTRSaに受け渡し、
b)受け渡しモジュールTRSbから処理済みのウエハWを受け取ってカセットCに戻し、
c)処理済みのウエハWをカセットCから受け渡しモジュールTRScに受け渡し、
d)検査されたウエハWを受け渡しモジュールTRSdからカセットCに戻す
役割を持っている。またa)、b)の搬送は、前記サイクルタイムの中で必ず行わなければならないので、サイクルタイムが24秒の場合には、1回の搬送動作に例えば8秒かかるとすると、1サイクルの中では、c)、d)のどちらか一方しか行えない。
次のサイクル2では、TRScにウエハ「1」が置かれる。これは既述のように受け渡しアーム24が1サイクル中に行える検査に関連する搬送動作が1回であることによる。
サイクル3では、TRScのウエハ「1」を搬送アーム4により検査モジュールE1に搬送し、その後受け渡しアーム24によりTRScにウエハ「2」が置かれる。
サイクル4では、TRScのウエハ「2」が搬送アーム4により検査モジュールE2に搬送され、続いて受け渡しアーム24によりTRScにウエハ「3」が置かれる。このとき検査モジュールE1ではウエハ「1」の検査が終了しないのでそのままの状態である。
サイクル5では、搬送アーム4は、TRScからウエハ「3」を検査モジュールE3に搬送し、次いで検査モジュールE1にて検査が終了したウエハ「1」をTRSdに搬送する。また受け渡しアーム24は、次のウエハ「4」をTRScに受け渡す。
C カセット
21 カセットステーション
24 受け渡しアーム
26A、26B メインアーム
40 検査ステーション
4 搬送アーム
TRSa〜TRSd 受け渡しモジュール
TRS1〜TRS4 受け渡しモジュール
E1〜E3 検査モジュール
200 制御部
S1 処理ステーション
Claims (13)
- 複数枚の基板を収納したカセットが載置され、カセットとの間で基板の受け渡しを行う受け渡し手段を備えたカセットステーションと、
カセットから取り出された基板に対するレジストの塗布、レジストが塗布されかつ露光された後の基板に対する現像、またはその前後の処理を行う複数の処理モジュールと、これら処理モジュールに対し、循環路に沿って順次基板を搬送すると共に循環路を1周するサイクルタイムが予め決められている第1の基板搬送手段と、を備えた処理ステーションと、
処理を終えた基板に対して検査を行い、検査に要する時間が互いに異なる複数の検査モジュールと、前記カセットステーションと処理ステーションとの間の基板の受け渡し、及び検査モジュールに対して基板の受け渡しを行う第2の基板搬送手段と、を備えた検査ステーションと、
前記第2の基板搬送手段を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、第2の基板搬送手段に対して、
a)前記カセットステーションから処理ステーションへの間の基板の受け渡し及び処理ステーションからの基板の受け取りを優先し、
b)基板に割り当てられた処理の順番の小さい基板から検査モジュールに対して搬入を行い、
c)基板に割り当てられた処理の順番に拘わらず、検査が終了している基板を検査モジュールから搬出する
ように制御する機能を備えていることを特徴とする塗布、現像装置。 - カセットステーション内の受け渡し手段と第2の基板搬送手段との間の基板の受け渡しのために設けられた一方の受け渡しモジュール及び他方の受け渡しモジュールを備え、
前記制御部は、処理ステーションにて処理を終えた基板をカセットに受け渡し、カセットから基板を取り出して前記一方の受け渡しモジュールに受け渡し、また検査が終了した基板を他方の受け渡しモジュールからカセットに受け渡すようにカセットステーション内の受け渡し手段を制御することを特徴とする請求項1記載の塗布、現像装置。 - 前記制御部は、処理ステーションにて処理を終えた基板をカセットから取り出して前記一方の受け渡しモジュールに受け渡すように受け渡し手段を制御することを特徴とする請求項2記載の塗布、現像装置。
- 前記制御部は、塗布、現像装置の外部から検査のために持ち込まれたカセットから基板を取り出して前記一方の受け渡しモジュールに受け渡すようにカセットステーション内の受け渡し手段を制御することを特徴とする請求項2記載の塗布、現像装置。
- 前記カセットステーション内の受け渡し手段は、前記サイクルタイム内において前記一方または他方の受け渡しモジュールのどちらかに1回だけ基板の受け渡しができることを特徴とする請求項2ないし4のいずれか一つに記載の塗布、現像装置。
- カセットステーションからの基板は第2の基板搬送手段により処理ステーションの処理モジュールに受け渡され、
前記制御部は、カセットステーションからの基板を処理ステーションに搬送する搬送時間と、処理ステーションからの基板を受け取って搬送する搬送時間と、を前記サイクルタイムから差し引いた残り時間の中で、検査モジュールに対して基板の受け渡しを行うように第2の基板搬送手段を制御することを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一つに記載の塗布、現像装置。 - 複数枚の基板を収納したカセットが載置され、カセットとの間で基板の受け渡しを行う受け渡し手段を備えたカセットステーションと、
カセットから取り出された基板に対してレジストの塗布、現像またはその前後の処理を行う複数の処理モジュールと、これら処理モジュールに対し、循環路に沿って順次基板を搬送すると共に循環路を1周するサイクルタイムが予め決められている第1の基板搬送手段と、を備えた処理ステーションと、
この処理ステーションにて処理を終えた基板に対して検査を行い、検査に要する時間が互いに異なる複数の検査モジュールと、前記カセットステーションと処理ステーションとの間の基板の受け渡し、及び検査モジュールに対して基板の受け渡しを行う第2の基板搬送手段と、を備えた検査ステーションと、を備えた塗布、現像装置を制御する方法であって、
前記カセットステーションから処理ステーションへの基板の搬送準備を知らせるレディ信号が出力されたとき、または処理ステーションから搬送先への基板の搬送準備を知らせるレディ信号が出力されたときに、第2の基板搬送手段がその基板の搬送を優先して行う工程と、
基板に割り当てられた処理の順番の小さい基板から検査モジュールに対して、搬入を行う工程と、
基板に割り当てられた処理の順番に拘わらず、検査が終了している基板を検査モジュールから搬出する工程と、を含むことを特徴とする塗布、現像装置の制御方法。 - カセットステーション内の受け渡し手段と第2の基板搬送手段との間の基板の受け渡しのために一方の受け渡しモジュール及び他方の受け渡しモジュールが設けられ、
処理ステーションにて処理を終えた基板を受け渡し手段によりカセットに受け渡す工程と、
カセットから基板を取り出して前記一方の受け渡しモジュールに受け渡す工程と、
検査が終了した基板を受け渡し手段により他方の受け渡しモジュールからカセットに受け渡す工程と、
を含むことを特徴とする請求項7記載の塗布、現像装置の制御方法。 - 前記一方の受け渡しモジュールに受け渡される基板は、塗布、現像装置の外部から検査のために持ち込まれたカセットから取り出された基板であることを特徴とする請求項8記載の塗布、現像装置の制御方法。
- 前記一方の受け渡しモジュールに受け渡される基板は、処理ステーションで処理された基板であることを特徴とする請求項8記載の塗布、現像装置の制御方法。
- 前記カセットステーション内の受け渡し手段は、前記サイクルタイム内において前記一方または他方の受け渡しモジュールのどちらかに1回だけ基板の受け渡しができることを特徴とする請求項8ないし10のいずれか一つに記載の塗布、現像装置の制御方法。
- カセットステーションからの基板は第2の基板搬送手段により処理ステーションの処理モジュールに受け渡され、
検査モジュールに対して基板の受け渡しを行う工程は、カセットステーションからの基板を処理ステーションに搬送する搬送時間と処理ステーションからの基板を受け取って搬送する搬送時間とを前記サイクルタイムから差し引いた残り時間の中で行われることを特徴とする請求項7ないし11のいずれか一つに記載の塗布、現像装置の制御方法。 - 基板に対するレジストの塗布、レジストが塗布されかつ露光された後の基板に対する現像を行う塗布、現像装置に用いられるコンピュータプログラムが記憶された記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項8ないし12のいずれか一つに記載の塗布、現像装置の制御方法を実施するためのものであることを特徴とする記憶媒体。
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A521 | Written amendment |
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A02 | Decision of refusal |
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A521 | Written amendment |
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