JP2007171667A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】マスクの破損を確実に防止することができる露光装置を提供する。
【解決手段】分割逐次近接露光装置PEは、マスクMの4箇所の頂点近傍に、マスクステージ1に保持されたマスクMの下面よりも下方に反応部30aを有する接触センサ30を設ける。
【選択図】図3
【解決手段】分割逐次近接露光装置PEは、マスクMの4箇所の頂点近傍に、マスクステージ1に保持されたマスクMの下面よりも下方に反応部30aを有する接触センサ30を設ける。
【選択図】図3
Description
本発明は、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのマスクパターンを分割逐次露光方式で近接(プロキシミティ)露光転写するのに好適な露光装置に関する。
従来、液晶ディスプレイ装置やプラズマディスプレイ装置等のフラットパネルディスプレイ装置のカラーフィルタを製造する露光装置が種々考案されている(例えば、特許文献1及び2参照。)。特許文献1に記載の露光装置は、被露光材としての基板より小さいマスクを用い、該マスクをマスクステージで保持すると共に基板をワークステージで保持して両者を近接して対向配置する。そして、この状態でワークステージをマスクに対してステップ移動させてステップ毎にマスク側から基板にパターン露光用の光を照射することにより、マスクに描かれた複数のマスクパターンを基板上に露光転写して一枚の基板に複数のディスプレイ等を作成している。また、基板とマスクを対向配置する場合には、基板の位置決め動作完了後、ギャップセンサを用いて基板とマスクのギャップを検知しながら、目標ギャップに対する調整動作を行っている。
また、特許文献2に記載の露光装置は、基板の移動経路の途中に非接触型測定装置とゲートを設け、基板が測定装置で検出されない位置でマスクと接触しようとする場合には、基板が金属製のゲートと接触し、マスクが保護される。
特開2000−35676号公報
特開2004−272139号公報
ところで、近年のフラットパネルディスプレイ装置の大型化に伴い、カラーフィルタを製造するためのマスクも大きくなっており(例えば、1400mm×1200mm)、マスク1枚あたりの価格も増加している。このため、基板がマスクと接触し、マスクが破損するのを確実に防止することが望まれている。
特許文献1に記載の露光装置は、基板とマスクのギャップを検知しながらギャップ調整を行っており、非接触型のギャップセンサのため読取誤差が生じたり、オペレーションミス等によって、基板がマスクと接触する可能性があった。
また、特許文献2に記載の露光装置は、非接触型のギャップセンサを使用しているため上記課題が存在すると共に、基板がゲートで接触した場合にはワークステージの移動をオペレータが確認して制御する必要があった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的は、マスクの破損を確実に防止することができる露光装置を提供することにある。
本発明の上記目的は、以下の構成によって達成される。
(1) 被露光材としての基板を保持するワークステージと、前記基板に対向配置されてマスクを保持するマスクステージと、前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、前記マスクのマスクパターンが前記基板上の複数の所定位置に対向するように前記ワークステージと前記マスクステージとを相対的にステップ移動させる送り機構と、を備えた露光装置であって、
前記マスクの縁部近傍の少なくとも4点には、前記マスクステージに保持された前記マスクの下面よりも下方に反応部を有する接触センサが設けられることを特徴とする露光装置。
(1) 被露光材としての基板を保持するワークステージと、前記基板に対向配置されてマスクを保持するマスクステージと、前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、前記マスクのマスクパターンが前記基板上の複数の所定位置に対向するように前記ワークステージと前記マスクステージとを相対的にステップ移動させる送り機構と、を備えた露光装置であって、
前記マスクの縁部近傍の少なくとも4点には、前記マスクステージに保持された前記マスクの下面よりも下方に反応部を有する接触センサが設けられることを特徴とする露光装置。
本発明によれば、マスクの縁部近傍の少なくとも4点には、マスクステージに保持されたマスクの最下面よりも下方に反応部を有する接触センサが設けられるので、接触センサから検出される危険信号を制御して送り機構の駆動を制御することができ、マスクと基板が接触するのを回避して、マスクの破損を確実に防止することができる。
以下、本発明の露光装置について、添付図面を参照しながら詳細に説明する。
先ず、本発明の分割逐次露光装置PEについて説明する。図1に示すように、本実施形態の分割逐次露光装置PEは、マスクMを保持するマスクステージ1と、ガラス基板(被露光材)Wを保持するワークステージ2と、パターン露光用の照射手段としての照明光学系3と、マスクステージ1及びワークステージ2を支持する装置ベース4とを備えている。
なお、ガラス基板W(以下、単に「基板W」という。)は、マスクMに対向配置されて該マスクMに描かれたマスクパターンPを露光転写すべく表面(マスクMの対向面)に感光剤が塗布されて透光性とされている。
説明の便宜上、照明光学系3から説明すると、照明光学系3は、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ31と、この高圧水銀ランプ31から照射された光を集光する凹面鏡32と、この凹面鏡32の焦点近傍に切替え自在に配置された二種類のオプチカルインテグレータ33と、平面ミラー35,36及び球面ミラー37と、この平面ミラー35とオプチカルインテグレータ33との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター34とを備えている。
露光時に露光制御用シャッター34が開制御されると、高圧水銀ランプ31から照射された光が、図1に示す光路Lを経て、マスクステージ1に保持されるマスクM、ひいてはワークステージ2に保持される基板Wの表面に対して垂直にパターン露光用の平行光として照射される。これにより、マスクMのマスクパクーンPが基板W上に露光転写されるようになっている。
次に、マスクステージ1及びワークステージ2の順に説明する。初めに、マスクステージ1はマスクステージベース10を備えており、該マスクステージベース10は装置ベース4から突設されたマスクステージ支柱11に支持されてワークステージ2の上方に配置されている。
マスクステージベース10は、図2に示すように、略矩形形状とされて中央部に開口10aを有しており、この開口10aにはマスク保持枠12がX,Y方向に移動可能に装着されている。
マスク保持枠12は、図3(a)に示すように、その上端外周部に設けられたフランジ12aをマスクステージベース10の開口10a近傍の上面に載置し、マスクステージベース10の開口10aの内周との間に所定のすき間を介して挿入されている。これにより、マスク保持枠12は、このすき間分だけX,Y方向に移動可能となる。
このマスク保持枠12の下面には、チャック部16が間座20を介して固定されており、マスク保持枠12とともにマスクステージベース10に対してX,Y方向に移動可能である。チャック部16には、マスクパターンPが描かれているマスクMの端部である周縁部を吸着するための複数の吸引ノズル16aが開設されている。これにより、マスクMは吸引ノズル16aを介して真空式吸着装置(図示せず。)によりチャック部16に着脱自在に保持される。
また、マスクステージベース10の上面には、図2において、後述のアライメントカメラ15による検出結果、又は後述するレーザ測長装置60による測定結果に基づき、マスク保持枠12をXY平面内で移動させて、このマスク保持枠12に保持されたマスクMの位置及び姿勢を調整するマスク位置調整手段13が設けられている。
マスク位置調整手段13は、マスク保持枠12のY軸方向に沿う一辺に取り付けられたX軸方向駆動装置13xと、マスク保持枠12のX軸方向に沿う一辺に取り付けられた二台のY軸方向駆動装置13yとを備えている。
図3(a)及び図3(b)に示すように、X軸方向駆動装置13xは、X軸方向に伸縮するロッド131rを有する駆動用アクチュエータ(例えば電動アクチュエータ)131と、マスク保持枠12のY軸方向に沿う辺部に取り付けられたリニアガイド(直動軸受案内)133とを備えている。リニアガイド133の案内レール133rは、Y軸方向に延びてマスク保持枠12に固定される。また、案内レール133rに移動可能に取り付けられたスライダ133sは、マスクステージベース10に固設されたロッド131rの先端に、ピン支持機構132を介して連結されている。
一方、Y軸方向駆動装置13yも、X軸方向駆動装置13xと同様の構成であって、Y軸方向に伸縮するロッド131rを有する駆動用アクチュエータ(例えば電動アクチュエータ)131と、マスク保持枠12のX軸方向に沿う辺部に取り付けられたリニアガイド(直動軸受案内)133とを備えている。リニアガイド133の案内レール133rはX軸方向に延びてマスク保持枠12に固定されている。また、案内レール133rに移動可能に取り付けられたスライダ133sは、ロッド131rの先端にピン支持機構132を介して連結されている。そして、X軸方向駆動装置13xによりマスク保持枠12のX軸方向の調整を、二台のY軸方向駆動装置13yによりマスク保持枠12のY軸方向及びθ軸方向(Z軸まわりの揺動)の調整を行う。
さらに、マスク保持枠12のX軸方向に互いに対向する二辺の内側には、図2に示すように、マスクMと基板Wとの対向面間のギャップを測定する手段としてのギャップセンサ14と、マスクMと位置合わせ基準との平面ずれ量を検出する手段としてのアライメントカメラ15とが配設されている。このギャップセンサ14及びアライメントカメラ15は、共に移動機構19を介してX軸方向に移動可能とされている。
移動機構19は、マスク保持枠12のX軸方向に互いに対向する二辺の上面側にはそれぞれギャップセンサ14及びアライメントカメラ15を保持する保持架台191がY軸方向に延びて配置されており、該保持架台191のY軸方向駆動装置13yから離間する側の端部はリニアガイド192によって支持されている。リニアガイド192は、マスクステージベース10上に設置されてX軸方向に沿って延びる案内レール192rと、案内レール192r上を移動するスライダ(図示せず)とを備えており、該スライダに保持架台191の前記端部が固定されている。
そして、スライダをモータ及びボールねじからなる駆動用アクチュエータ193によって駆動することにより、保持架台191を介してギャップセンサ14及びアライメントカメラ15がX軸方向に移動するようになっている。
アライメントカメラ15は、図4に示すように、マスクステージ1の下面に保持されているマスクMの表面のマスク側アライメントマーク101をマスク裏面側から光学的に検出するものであり、ピント調整機構151によりマスクMに対して接近離間移動してピント調整がなされるようになっている。
ピント調整機構151は、リニアガイド152,ボールねじ153,モータ154を備えている。リニアガイド152には、案内レール152rとスライダ152sを備えており、このうち案内レール152rはマスクステージ1の移動機構19の保持架台191に上下方向に延びて取り付けられている一方、該リニアガイド152のスライダ152sにはアライメントカメラ15がテーブル152tを介して固定されている。そして、ボールねじ153のねじ軸に螺合されたナットをテーブル152tに連結すると共に、そのねじ軸をモータ154で回転駆動するようにしている。
また、この実施形態では、図5に示すように、ワークステージ2に設けてあるワークチャック8の下方には、光源781及びコンデンサーレンズ782を有してワーク側アライメントマーク100を下から投影する投影光学系78がアライメントカメラ15の光軸に合わせてZ軸微動ステージ24と一体に配設されている。なお、ワークステージ2、Y軸送り台52には投影光学系78の光路に対応する貫通孔が形成されている。
さらに、この実施形態では、図6に示すように、マスクMのマスク側アライメントマーク101を有する面(マスクマーク面Mm)位置を検出してアライメントカメラ15のピントずれを防止するアライメント画像のベストフォーカス調整機構150を設けている。このベストフォーカス調整機構150は、アライメントカメラ15及びピント調整機構151に加えて、ピントずれ検出手段としてギャップセンサ14を利用している。即ち、このギャップセンサ14で計測したマスク下面位置の計測値を、制御装置80で予め設定したピント位置と比較して差を求め、その差から設定ピント位置からの相対ピント位置変化量を計算し、該計算変化量に応じてピント調整機構151のモータ154を制御してアライメントカメラ15を移動させ、これによりアライメントカメラ15のピントを調整するようにしている。
このベストフォーカス調整機構150を用いることにより、マスクMの板厚変化や板厚のばらつきとは無関係に、アライメント画像の高精度のフォーカス調整が可能となる。すなわち、複数種類のマスクMを交換して使用する場合に、個々のマスクの厚さが異なる場合でも常に適正なピントを得ることができる。なお、ピント調整機構151、投影光学系78、ベストフォーカス調整機構150等は、1層目分割パターンのアライメントの高精度化に対応するものであるばかりでなく、2層目以降のアライメントの高精度化にも寄与するものであり、また、マスクMの厚さがわかっていれば、ベストフォーカス調整機構150を省略して厚さに応じてピント調整機構を動かすようにしても良い。
さらに、図3及び図7に示すように、マスクMの4箇所の頂点近傍のチャック部16には、接触センサ用窓部16bが形成されており、この窓部16bには加圧センサのような接触センサ30が取り付けられている。接触センサ30は、ワークステージ2上の基板Wがマスクステージ1に保持されたマスクMと接触するよりも前に基板Wと接触するように、マスクMの下面よりも下方となる位置に反応部30aを有している。
例えば、マスクMと基板Wとのギャップgを150μmとして露光が行われている場合、マスクMの下面から反応部30aまでの距離lが80μmとなるように接触センサ30が取り付けられる。これにより、マスクMと基板Wとのギャップが80μm以下になった時点で、接触センサ30は、反応部30aが基板Wと接触し、マスクMと基板Wとの衝突危険状態と検知し、この危険信号を制御装置80に送信する。
なお、マスクステージベース10の開口10aのY軸方向の両端部にはマスクMの両端部を必要に応じて遮蔽するマスキングアパーチャ(遮蔽板)17がマスクMより上方に位置して配置されており、このマスキングアパーチャ17はモータ,ボールねじ及びリニアガイドよりなるマスキングアパーチャ駆動装置18によりY軸方向に移動可能とされてマスクMの両端部の遮蔽面積を調整できるようになっている。
次に、ワークステージ2は、図8に示すように、装置ベース4上に設置されており、真空式吸引装置(図示せず)等により基板Wを着脱自在に保持するチャック面8aを上面に有するワークチャック8と、マスクMと基板Wとの対向面間のすき間を所定量に調整するZ軸送り台(ギャップ調整手段)2Aと、このZ軸送り台2A上に配設されてワークステージ2をXY軸方向に移動させるワークステージ送り機構2Bとを備えている。
Z軸送り台2Aは、装置ベース4上に立設された上下粗動装置21によってZ軸方向に粗動可能に支持されたZ軸粗動ステージ22と、このZ軸粗動ステージ22の上に上下微動装置23を介して支持されたZ軸微動ステージ24とを備えている。上下粗動装置21には、例えばモータ及びボールねじ等からなる電動アクチュエータ、或いは空圧シリングが用いられており、単純な上下動作を行うことにより、Z軸粗動ステージ22を予め設定した位置まで、マスクMと基板Wとのすき間の計測を行うことなく昇降させる。
一方、図1に示す上下微動装置23は、モータとボールねじとくさびとを組み合わせてなる可動くさび機構を備えており、この実施形態では、例えばZ軸粗動ステージ22の上面に設置したモータ231によってボールねじのねじ軸232を回転駆動させるようにすると共に、ボールねじナット233をくさび状に形成してそのくさび状ナット233の斜面をZ軸微動ステージ24の下面に突設したくさび241の斜面と係合させ、これにより、可動くさび機構を構成している。
そして、ボールねじのねじ軸232を回転駆動させると、くさび状ナット233がY軸方向に水平微動し、この水平微動運動が両くさび233,241の斜面作用により高精度の上下微動運動に変換される。
この可動くさび機構からなる上下微動装置23は、Z軸微動ステージ24のY軸方向の一端側(図1の手前側)に2台、他端側に1台(図示せず)、合計3台設置されており、それぞれが独立に駆動制御されるようになっている。これにより、上下微動装置23は、チルト機能も兼ね備えていることになり、3台のギャップセンサ14によるマスクMと基板Wとのすき間の測定結果に基づき、マスクMと基板Wとが平行かつ所定のすき間を介して対向するように、Z軸微動ステージ24の高さを微調整するようになっている。なお、上下粗動装置21及び上下微動装置23はY軸送り台52の部分に設けるようにしてもよい。
ワークステージ送り機構2Bは、図8に示すように、Z軸微動ステージ24の上面に、Y軸方向に互いに離間配置されてそれぞれX軸方向に沿って延設された二組の転がり案内の一種であるリニアガイド41と、このリニアガイド41のスライダ41aに取り付けられたX軸送り台42と、X軸送り台42をX軸方向に移動させるX軸送り駆動装置43とを備えており、X軸送り駆動装置43のモータ431によって回転駆動されるボールねじ軸432に螺合されたボールねじナット433にX軸送り台42が連結されている。
また、このX軸送り台42の上面には、X軸方向に互いに離間配置されてそれぞれY軸方向に沿って延設された二組の転がり案内の一種であるリニアガイド51と、該リニアガイド51のスライダ51aに取り付けられたY軸送り台52と、Y軸送り台52をY軸方向に移動させるY軸送り駆動装置53とを備えており、Y軸送り駆動装置53のモータ531によって回転駆動するボールねじ軸532に螺合されたボールねじナット(図示せず)に、Y軸送り台52が連結されている。このY軸送り台52の上面には、ワークステージ2が取り付けられている。
そして、ワークステージ2のX軸,Y軸位置を検出する移動距離測定部としてのレーザ測長装置60が、装置ベース4に設けられている。上記のように構成されたワークステージ2では、ボールねじやリニアガイド自体の形状等の誤差や、これらの取り付け誤差などに起因し、ワークステージ2の移動に際し、位置決め誤差、ヨーイング、真直度などの発生は不可避である。そこで、これらの誤差の測定を目的とするのがこのレーザ測長装置60である。このレーザ測長装置60は、図1に示すように、ワークステージ2のY軸方向端部に対向して設けレーザを備えた一対のY軸干渉計62,63と、ワークステージ2のX軸方向端部に設けレーザを備えた一つのX軸干渉計64と、ワークステージ2のY軸干渉計62,63と対向する位置に配設されたY軸用ミラー66と、ワークステージ2のX軸干渉計64と対向する位置に配設されたX軸用ミラー68とで構成されている。
このように、Y軸方向についてY軸干渉計62,63を2台設けていることにより、ワークステージ2のY軸方向位置の情報のみでなく、Y軸干渉計62と63の位置データの差分によりヨーイング誤差を知ることもできる。Y軸方向位置については、両者の平均値に、ワークステージ2のX軸方向位置、ヨーイング誤差を加味して適宜、補正を加えることにより算出することができる。
そして、ワークステージ2のXY方向位置やY軸送り台52、ひいては前の分割パターンの露光に続いて次の分割パターンをつなぎ露光する際に、基板Wを次のエリアに送る段階で、各干渉計62〜64より出力する検出信号を、図9に示すように、制御装置80に入力するようにしている。この制御装置80は、この検出信号に基づいて分割露光のためのXY方向の移動量を調整するためにX軸送り駆動装置43及びY軸送り駆動装置53を制御すると共に、X軸干渉計64による検出結果及びY軸干渉計62,63による検出結果に基づき、つなぎ露光のための位置決め補正量を算出して、その算出結果をマスク位置調整手段13(及び必要に応じて上下微動装置23)に出力する。これにより、この補正量に応じてマスク位置調整手段13等が駆動され、X軸送り駆動装置43又はY軸送り駆動装置53による位置決め誤差、真直度誤差、及びヨーイング等の影響が解消される。
また、制御装置80は、アライメントカメラ15によって検出されたマスク側アライメントマーク101とワーク側アライメントマーク100との位置ずれ量によってマスク位置調整手段13を駆動制御しており、ギャップセンサ14によってマスクMと基板Wとのギャップを検出しながら上下微動装置23を駆動制御している。さらに、制御装置80は、接触センサ30によって基板WのマスクMとの衝突危険状態が検知されると、上下粗動装置21或いは上下微動装置23のモータ駆動を停止制御する。
なお、本実施形態の制御装置80は、露光制御シャッター34の開制御、ワークステージ2の送り制御、レーザ干渉計62〜64の検出値に基づく補正量の演算、マスク位置調整手段13の駆動制御の他に、アライメント調整時の補正量の演算、ワーク自動供給装置(図示せず)の駆動制御等、分割逐次近接露光装置に組み込まれた殆どのアクチュエータの駆動及び所定の演算処理を、マイクロコンピュータやシーケンサ等を用いたシーケンス制御を基本として実行する。
次に、本実施形態の分割逐次近接露光装置PEにおいて、基板WとマスクMとの衝突を回避する処理について図3を参照して説明する。
マスクMがマスクステージ1に保持され、アライメント調整が行われた状態で、ワークステージ2上に基板Wが搬送機構によって載置され、基板Wはワークチャックで真空吸着される。そして、ギャップ調整手段のZ軸送り台2Aを駆動して、マスクMの下面とワークW上面とのギャップが露光する際に必要な所定の値(例えば、150μm)となるようにギャップセンサ14で監視しながら調整される。
このZ軸送り台2Aの上昇動作中、接触センサ30の反応部30aが基板Wとの接触を検知すると、接触センサ30は衝突危険状態を検知し、危険信号を制御装置80に送信する。これにより、制御装置80は、Z軸送り台2Aのモータ駆動を停止制御して、基板WとマスクMとの接触が回避される。また、反応部30aは、マスクMの下面より所定の距離lだけ離れて位置付けられているので、接触センサ30が衝突危険状態を検知した時に、基板WもマスクMから距離lだけ離れており、基板WとマスクMとの接触が確実に回避される。さらに、接触センサ30は、マスクMの4箇所の頂点近傍に取り付けられているので、基板Wが傾いた状態でマスクMに近接する場合であっても、いずれかの接触センサ30が基板Wの一番高い部分と接触して衝突危険状態を検知し、基板WとマスクMとの接触をより確実に回避できる。
従って、本実施形態の分割逐次近接露光装置PEによれば、マスクMの4箇所の頂点近傍に、マスクステージ1に保持されたマスクMの下面よりも下方に反応部30aを有する接触センサ30が設けられるので、接触センサ30から検出される危険信号を制御してZ軸送り台2Aの駆動を制御することができ、マスクMと基板Wが接触するのを回避して、マスクMの破損を確実に防止することができる。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態に係る分割逐次近接露光装置PEについて、図10を参照して説明する。なお、本実施形態の露光装置PEは、接触センサの構成において第1実施形態のものと異なるのみであるため、第1実施形態と同様の構成については同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。
次に、本発明の第2実施形態に係る分割逐次近接露光装置PEについて、図10を参照して説明する。なお、本実施形態の露光装置PEは、接触センサの構成において第1実施形態のものと異なるのみであるため、第1実施形態と同様の構成については同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。
図10に示すように、本実施形態の接触センサ90は、マスクMの下面の4箇所の頂点近傍に直接取り付けられている。また、接触センサ90は、第1実施形態と同様、ワークステージ2上の基板Wがマスクステージ1に保持されたマスクMと接触するよりも前に基板Wと接触するように、マスクMの下面よりも下方となる位置に反応部90aを有しており、反応部90aが基板Wと接触すると、マスクMと基板Wとの衝突危険状態と検知して、この危険信号を制御装置80に送信する。
これにより、接触センサ90から検出される危険信号を制御してZ軸送り台2Aの駆動を制御することができ、マスクMと基板Wが接触するのを回避して、マスクMの破損を確実に防止することができる。また、接触センサ90がマスクMに直接取り付けられているので、マスクMの板厚にばらつきが有る場合であっても、マスクMと基板Wとの接触を確実に回避することができる。
その他の構成及び作用については第1実施形態のものと同様である。
その他の構成及び作用については第1実施形態のものと同様である。
なお、本発明は、上述した実施形態に何ら限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の形態で実施し得るものである。
本実施形態の接触センサ30は、マスクMの4箇所の頂点近傍のチャック部16に設けられているが、これに限定されるものでなく、マスク保持枠12等、マスクステージの形態に応じてマスクステージ側のいずれの部材に取り付けられてもよい。また、本実施形態の接触センサ30,90は、マスクMの4箇所の頂点近傍に配置されているが、これに限定されるものでなく、マスクMの縁部近傍のいずれの位置に少なくとも4箇所以上配置されていればよく、マスクMの外郭形状に応じて適宜配置されればよい。
本実施形態の接触センサ30は、マスクMの4箇所の頂点近傍のチャック部16に設けられているが、これに限定されるものでなく、マスク保持枠12等、マスクステージの形態に応じてマスクステージ側のいずれの部材に取り付けられてもよい。また、本実施形態の接触センサ30,90は、マスクMの4箇所の頂点近傍に配置されているが、これに限定されるものでなく、マスクMの縁部近傍のいずれの位置に少なくとも4箇所以上配置されていればよく、マスクMの外郭形状に応じて適宜配置されればよい。
また、マスクステージ1に保持されたマスクMの下面よりも下方となるように配置される反応部は、例えば、マスクMが中央部分で撓んでいる場合に、マスクMの中央部分の最下面の位置より下方となるよう、この最下面の位置やマスクMと基板Wとのギャップの大きさ等を考慮して適宜設定されればよい。
1 マスクステージ
2 ワークステージ
2A Z軸送り台(ギャップ調整手段)
2B ワークステージ送り機構
3 照明光学系(照射手段)
30,90 接触センサ
30a,90a 反応部
M マスク
PE 露光装置(分割逐次近接露光装置)
W ガラス基板(被露光材)
2 ワークステージ
2A Z軸送り台(ギャップ調整手段)
2B ワークステージ送り機構
3 照明光学系(照射手段)
30,90 接触センサ
30a,90a 反応部
M マスク
PE 露光装置(分割逐次近接露光装置)
W ガラス基板(被露光材)
Claims (1)
- 被露光材としての基板を保持するワークステージと、前記基板に対向配置されてマスクを保持するマスクステージと、前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、前記マスクのマスクパターンが前記基板上の複数の所定位置に対向するように前記ワークステージと前記マスクステージとを相対的にステップ移動させる送り機構と、を備えた露光装置であって、
前記マスクの縁部近傍の少なくとも4点には、前記マスクステージに保持された前記マスクの下面よりも下方に反応部を有する接触センサが設けられることを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2005370564A JP2007171667A (ja) | 2005-12-22 | 2005-12-22 | 露光装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005370564A JP2007171667A (ja) | 2005-12-22 | 2005-12-22 | 露光装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009210919A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板移動方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP2021099410A (ja) * | 2019-12-20 | 2021-07-01 | キヤノン株式会社 | 保持装置、リソグラフィ装置、および物品製造方法 |
-
2005
- 2005-12-22 JP JP2005370564A patent/JP2007171667A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009210919A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板移動方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP2021099410A (ja) * | 2019-12-20 | 2021-07-01 | キヤノン株式会社 | 保持装置、リソグラフィ装置、および物品製造方法 |
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