JP4942625B2 - 近接露光装置及び近接露光方法 - Google Patents
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Description
(1) 被露光材としての基板を保持可能なワークステージと、前記基板に対向配置されてマスクを保持可能なマスクステージと、前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、を備える近接露光装置であって、
前記ワークステージ上には、前記保持された基板の周囲を囲むように弾性変形可能なシール部材が設けられ、
該シール部材は、前記マスクと前記基板との間の隙間が露光隙間となるように前記ワークステージと前記マスクステージの一方を接近移動させた時に、前記保持されたマスクと当接可能であり、前記マスクと前記基板との間の隙間空間を密封して、該隙間空間の圧力を前記マスクの上方側の圧力よりも高くすることを特徴とする近接露光装置。
(2) 前記シール部材の高さは、前記マスクと前記シール部材とが密着し始めた位置から前記露光位置まで移動することで得られる圧力上昇に基づいて設定されることを特徴とする(1)に記載の近接露光装置。
(3) 前記シール部材を介して前記隙間空間と連通するチューブを有し、該チューブを介して前記隙間空間内の圧力を調節可能な圧力調節手段をさらに有することを特徴とする(1)又は(2)に記載の近接露光装置。
(4) 前記マスクは、前記シール部材と対向するように、前記基板より大きいことを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の近接露光装置。
(5) 被露光材としての基板を保持可能なワークステージと、前記基板に対向配置されてマスクを保持可能なマスクステージと、前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、前記ワークステージ上に、前記保持された基板の周囲を囲むように設けられる弾性変形可能なシール部材と、を備える近接露光装置を用いた近接露光方法であって、
前記マスクと前記基板との間の隙間が所定の距離となるように前記ワークステージと前記マスクステージの一方を接近移動させることで、前記シール部材を前記保持されたマスクに当接させ、前記マスクと前記基板との間の隙間空間を密封して、該隙間空間の圧力を前記マスクの上方側の圧力よりも高くする工程と、
前記マスクと前記基板との隙間が前記露光隙間となった状態で、前記照射手段によって前記基板に前記マスクのパターンを露光転写する工程と、
を備えることを特徴とする近接露光方法。
次に、本発明の第2実施形態に係る近接露光装置について図5を参照して説明する。なお、図5は、本実施形態の近接露光装置の要部のみを示し、また、第1実施形態と同等部分については、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。
例えば、本実施形態では、マスクMは、マスク保持枠32のチャック部33の下面に吸着保持されているが、チャック部33の上方にマスクMを配置してマスクMの落下を防止するようにしてもよい。
また、本発明の近接露光装置では、レーザー測長システムが必要に応じて設けられてもよい。
2 マスクステージ
3 照明光学系(照射手段)
23 シール部材
g 露光隙間
M マスク
P マスクパターン
PE 近接露光装置
W ガラス基板(被露光材)
Claims (5)
- 被露光材としての基板を保持可能なワークステージと、前記基板に対向配置されてマスクを保持可能なマスクステージと、前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、を備える近接露光装置であって、
前記ワークステージ上には、前記保持された基板の周囲を囲むように弾性変形可能なシール部材が設けられ、
該シール部材は、前記マスクと前記基板との間の隙間が露光隙間となるように前記ワークステージと前記マスクステージの一方を接近移動させた時に、前記保持されたマスクと当接可能であり、前記マスクと前記基板との間の隙間空間を密封して、該隙間空間の圧力を前記マスクの上方側の圧力よりも高くすることを特徴とする近接露光装置。 - 前記シール部材の高さは、前記マスクと前記シール部材とが密着し始めた位置から前記露光位置まで移動することで得られる圧力上昇に基づいて設定されることを特徴とする請求項1に記載の近接露光装置。
- 前記シール部材を介して前記隙間空間と連通するチューブを有し、該チューブを介して前記隙間空間内の圧力を調節可能な圧力調節手段をさらに有することを特徴とする請求項1又は2に記載の近接露光装置。
- 前記マスクは、前記シール部材と対向するように、前記基板より大きいことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の近接露光装置。
- 被露光材としての基板を保持可能なワークステージと、前記基板に対向配置されてマスクを保持可能なマスクステージと、前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、前記ワークステージ上に、前記保持された基板の周囲を囲むように設けられる弾性変形可能なシール部材と、を備える近接露光装置を用いた近接露光方法であって、
前記マスクと前記基板との間の隙間が露光隙間となるように前記ワークステージと前記マスクステージの一方を接近移動させることで、前記シール部材を前記保持されたマスクに当接させ、前記マスクと前記基板との間の隙間空間を密封して、該隙間空間の圧力を前記マスクの上方側の圧力よりも高くする工程と、
前記マスクと前記基板との隙間が前記露光隙間となった状態で、前記照射手段によって前記基板に前記マスクのパターンを露光転写する工程と、
を備えることを特徴とする近接露光方法。
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