JP2015222417A - 露光装置及び露光方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(1) ワークを支持するワーク支持部と、
マスクを支持するマスク支持部と、
光源及び該光源からの露光光を反射する反射鏡を有する照明光学系と、
前記反射鏡の曲率を補正可能なミラー曲げ機構と、
を備え、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写する露光装置であって、
前記ワークに照射される露光光の照度を測定する照度計を備え、
前記ワークを露光する前に、前記反射鏡を介して前記ワークに照射される前記露光光の露光エリアの照度分布を、前記照度計を用いて測定することを特徴とする露光装置。
(2) 前記ワークと前記マスクとを水平方向に相対移動させるように、前記ワーク支持部を移動する送り機構を備え、
前記照度計は、前記送り機構を駆動して、前記露光エリアの全域を移動可能であることを特徴とする(1)に記載の露光装置。
(3) 前記反射鏡は、前記照度計によって測定された前記露光エリアの照度分布に応じて、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正することを特徴とする(1)又は(2)に記載の露光装置。
(4) 前記照明光学系は、複数の前記反射鏡を備えると共に、
前記ミラー曲げ機構は、前記複数の反射鏡の曲率をそれぞれ補正可能な複数のミラー曲げ機構を含み、
前記複数の反射鏡のいずれか一つに対して、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正し、
前記複数の反射鏡のいずれか他方は、前記いずれか一つの反射鏡の曲率を補正した状態で、前記照度計によって測定された前記露光エリアの照度分布に応じて、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正することを特徴とする(1)又は(2)に記載の露光装置。
(5) (3)に記載の露光装置を用いて、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写する露光方法であって、 前記反射鏡を介して前記ワークに照射される前記露光光の露光エリアの照度分布を、前記照度計を用いて測定する工程と、
前記照度計によって測定された前記露光エリアの照度分布に応じて、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、前記反射鏡の曲率を補正する工程と、
を備えることを特徴とする露光方法。
(6) (4)に記載の露光装置を用いて、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写する露光方法であって、 前記複数の反射鏡のいずれか一つに対して、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正する工程と、
前記ミラー曲げ機構によって前記曲率が補正された前記いずれか一つの反射鏡を介して
前記ワークに照射される前記露光光の露光エリアの照度分布を、前記照度計を用いて測定する工程と、
前記複数の反射鏡のいずれか他方は、前記いずれか一つの反射鏡の曲率を補正した状態で、前記照度計によって測定された前記露光エリアの照度分布に応じて、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正する工程と、
を備えることを特徴とする露光方法。
以下、本発明に係る露光装置の一実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明の露光装置を示す図である。
図1に示すように、近接露光装置PEは、被露光材としてのワークWより小さいマスクMを用い、マスクMをマスクステージ1で保持すると共に、ワークWをワークステージ(ワーク支持部)2で保持し、マスクMとワークWとを近接させて所定の露光ギャップで対向配置した状態で、照明光学系3からパターン露光用の光をマスクMに向けて照射することにより、マスクMのパターンをワークW上に露光転写する。また、ワークステージ2をマスクMに対してX軸方向とY軸方向の二軸方向にステップ移動させて、ステップ毎に露光転写が行われる。
なお、上下微動装置8は、モータ17とボールねじによってスライド体12を駆動する代わりに、リニアモータによってスライド体12を駆動するようにしてもよい。
なお、上下微動装置8によってワークステージ2の高さを十分に調整できる場合には、上下粗動装置7を省略してもよい。
また、照度計40は、照度測定開始前にて、ブラインド41によって照度計40への光を遮断することで、ゼロ点調整を行っている。
まず、露光位置にワークWを搬送し、露光用光を照射する(ステップS1)。次に、照度計40によって、露光エリアA全体の照度分布を測定する(ステップS3)。ここで、初期状態の各ミラー66、67、68は、反射率や曲率において若干のばらつきが生じやすく、その場合、各ミラー66、67、68で反射された露光光の照度分布にもばらつきが生じる。
なお、本発明において、照度計40の数は、複数であってもよく、複数の照度計40によって同時に露光エリアAにおける各位置での照度を測定し、測定時間を短縮するようにしてもよい。
次に、図7を参照して、本発明の第2実施形態に係る露光装置について説明する。なお、本実施形態の照明光学系3は、第1実施形態の照明光学系と同様の構成を有するので、第1実施形態と同一又は同等部分については、図面に同一符号を付してその説明を省略或いは簡略化する。
なお、ミラー変形ユニット70は、コリメーションミラー67の裏側にも取り付けられてもよい。
その他の構成及び作用効果については、上記第1実施形態と同様である。
2 ワークステージ(ワーク支持部)
3 照明光学系
5 X軸ステージ送り機構
6 Y軸ステージ送り機構
40 照度計
60 マルチランプユニット(光源)
65 オプティカルインテグレータ
66,68 平面ミラー(ミラー曲げ機構を備える反射鏡)
70 ミラー変形ユニット(ミラー曲げ機構)
EL 光路
M マスク
PE 露光装置
W ワーク
Claims (6)
- ワークを支持するワーク支持部と、
マスクを支持するマスク支持部と、
光源及び該光源からの露光光を反射する反射鏡を有する照明光学系と、
前記反射鏡の曲率を補正可能なミラー曲げ機構と、
を備え、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写する露光装置であって、
前記ワークに照射される露光光の照度を測定する照度計を備え、
前記ワークを露光する前に、前記反射鏡を介して前記ワークに照射される前記露光光の露光エリアの照度分布を、前記照度計を用いて測定することを特徴とする露光装置。 - 前記ワークと前記マスクとを水平方向に相対移動させるように、前記ワーク支持部を移動する送り機構を備え、
前記照度計は、前記送り機構を駆動して、前記露光エリアの全域を移動可能であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記反射鏡は、前記照度計によって測定された前記露光エリアの照度分布に応じて、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正することを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記照明光学系は、複数の前記反射鏡を備えると共に、
前記ミラー曲げ機構は、前記複数の反射鏡の曲率をそれぞれ補正可能な複数のミラー曲げ機構を含み、
前記複数の反射鏡のいずれか一つに対して、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正し、
前記複数の反射鏡のいずれか他方は、前記いずれか一つの反射鏡の曲率を補正した状態で、前記照度計によって測定された前記露光エリアの照度分布に応じて、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正することを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。 - 請求項3に記載の露光装置を用いて、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写する露光方法であって、
前記反射鏡を介して前記ワークに照射される前記露光光の露光エリアの照度分布を、前記照度計を用いて測定する工程と、
前記照度計によって測定された前記露光エリアの照度分布に応じて、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、前記反射鏡の曲率を補正する工程と、
を備えることを特徴とする露光方法。 - 請求項4に記載の露光装置を用いて、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写する露光方法であって、
前記複数の反射鏡のいずれか一つに対して、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正する工程と、
前記ミラー曲げ機構によって前記曲率が補正された前記いずれか一つの反射鏡を介して
前記ワークに照射される前記露光光の露光エリアの照度分布を、前記照度計を用いて測定する工程と、
前記複数の反射鏡のいずれか他方は、前記いずれか一つの反射鏡の曲率を補正した状態で、前記照度計によって測定された前記露光エリアの照度分布に応じて、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正する工程と、
を備えることを特徴とする露光方法。
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