JP2007101134A - 調理器用トッププレート - Google Patents

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Abstract

【課題】調理器用トッププレートの強度や耐熱性を低下させることなく、調理器用トッププレートに防眩性を付与するとともに、汚れ等の清掃性を向上させ、美観の向上を図る。
【解決手段】結晶化ガラスを基材とする調理器用トッププレートにおいて、結晶化ガラスの表面に酸化物被膜を形成し、前記酸化物被膜の表面粗さ(Ra)を0.1〜20μmとする。
【選択図】図1

Description

本発明は、調理器用トッププレート、特にラジエントヒーターやハロゲンヒーターを用いた赤外線加熱調理器、電磁加熱(IH)調理器、ガス調理器のトッププレートに関するものである。
家庭用や業務用の調理器として、従来からのガスコンロを採用したガス調理器だけでなく、ラジエントヒーターやハロゲンヒーターを採用した赤外線加熱調理器、電磁加熱調理器が使用されるようになってきた。例えば、電磁加熱調理器に用いられるトッププレートには、熱効率、安全性、熱衝撃性の点から、電磁誘導加熱量が小さく、低熱膨張であるガラス、セラミックス、結晶化ガラス等の材料が使用されてきた。
また、トッププレートとして、琺瑯やステンレスを使用していたガス調理器においても、材料の美観や清掃性が優れていることから、低熱膨張のガラス、セラミックス、結晶化ガラス等の非金属系材料が使用されるようになってきた。
特に、結晶化ガラスは、熱衝撃に強く、機械強度や美観も良好であることから、調理器用トッププレートの基板(基材)として理想的な特性を備えている。
ところで、調理器用トッププレートの本来の役割は、加熱装置に対して、水、調味料、食品等が飛散するのを防止することである。それに加えて、近年、調理器用トッププレートの多機能化、美観向上等のため、結晶化ガラス等の基板の表面(調理器の外部側に臨む面および調理器の内部側に臨む面)に種々の処理や膜付け等が行われるのが通例となっている。
例えば、加熱装置や配線等の調理器の内部構造を隠蔽して美観を向上させる目的のため、透明な低膨張ガラスからなる基板の表面に印刷法を用いて遮光膜を形成する方法が利用されている。下記の特許文献1には、透明な低膨張結晶化ガラス基板の表面に、貴金属と卑金属からなるラスター彩の被膜を設けたトッププレートが記載されている。
しかし、結晶化ガラス基板自体が光沢を有することに加えて、特許文献1記載のラスター彩の被膜等は、被膜自体が光沢を有するため、調理器用トッププレートの表面で室内の照明等の光が反射し、眩しくなる等の問題があった。光の反射により眩しくなると、調理器用トッププレートを用いて調理を行う場合、作業がしにくいとともに、操作ミス等でヤケド等を引き起こす原因ともなり得るため、調理器用トッププレートに光の反射を抑制する効果(防眩性)を付与することは重要な技術的課題であった。なお、室内の照明等の強度を低下させれば、光の反射をある程度抑制することは可能であるが、上述の作業がしにくいといった問題点は依然として残存することとなる。
この問題を解決する方法として、防眩性を持った散乱膜を結晶化ガラス基板の表面に形成することが最も簡便な方法であると考えられるが、そのような膜は技術的に困難であり、未だ実用化に至っていないのが実情である。
そこで、従来、結晶化ガラス基板の表面にサンドブラスト処理を施すことで、その表面に凹凸を形成する方法が用いられてきた。この凹凸形状を利用することにより、室内の照明等から生じる光を散乱させ、眩しくなる等の問題を回避することが可能となる。
また、別の方法として、有機樹脂被膜によって結晶化ガラス基板の表面に凹凸を形成する方法が用いられている。上記と同様に、この凹凸形状を利用することにより、室内の照明等から生じる光を散乱させ、眩しくなる等の問題を回避することが可能となる。
さらに、別の方法として、特許文献2によると、結晶化ガラス基板の表面をフッ酸等の強酸でエッチングすることにより、結晶化ガラス基板の表面に凹凸を形成する方法が用いられている。
一方、近年、消費者の志向も多様となり、調理器用トッププレートの外観も重要な要素となっている。とりわけ、乳白色の調理器用トッププレートは、消費者に好まれている。上述の通り、調理器の外部側に臨む結晶化ガラスの表面(使用面)に凹凸を形成すると、その表面で照明等の光が散乱する。その光の散乱の影響で調理器用トッププレート全体が乳白色となり、外観意匠性や美観が向上するとともに、乳白色は消費者や需要者に対して清潔感を与えるため、調理器用トッププレートの付加価値の向上といった付随的効果も期待できることとなる。
特公平7―17409号公報 特開2005−179132号公報
上述のサンドブラスト処理により結晶化ガラス基板の表面に凹凸を形成する方法は、SiCや炭酸カルシウム等で構成されるブラスト材を結晶化ガラス基板の表面に物理的に衝突させ、表面を荒らす方法であるため、この物理的な衝突の作用として、結晶化ガラス基板の表面に微細なクラック等が不可避的に発生し、基板の機械強度を低下させるばかりでなく、微細なクラックの間隙に汚れ、異物等が滞留しやすくなり、調理器用トッププレートの美観が損なわれやすくなるとともに、調理器用トッププレートから汚れ、異物等を除去することが極めて困難となる。
さらに、上述のブラスト処理は、ブラスト材の残渣や結晶化ガラスの破壊片等が必然的に発生するため、それらの除去が必要であり、ブラスト材の残渣や結晶化ガラスの破壊片等が微細粒であることを勘案すると、結晶化ガラス基板を入念に洗浄する必要があった。加えて、結晶化ガラス基板に発生した微細クラック内にブラスト材の残渣や結晶化ガラスの破壊片等の微細粒が入り込むため、結晶化ガラス基板を洗浄することが困難となっていた。
図2にサンドブラスト処理により、調理器の外部側に臨む結晶化ガラス11からなる基板の表面11aに凹凸を形成した時の調理器用トッププレート10の概念図を示す。図2から明らかなように、表面11aに形成された凹凸は、凹凸の山の部分(先端部分)が鋭いため、その部分が物理的衝突等によって破壊されやすくなっているとともに、凹凸の先端が先鋭であるために、この部分に手が触れると切創する危険性が否定できないことになる。さらに、表面11aに形成された凹凸の谷の部分に微細クラックが入りやすく、このクラックを起点として、調理器用トッププレートの機械強度が低下し、ひいては破壊に至るといった深刻な事態を生じる。
上述の通り、上記の不具合を解消する目的で結晶化ガラス基板の表面に有機樹脂被膜を形成し、凹凸形状を付与する方法も検討されている。しかし、調理器用トッププレートはその使用時(つまり、調理時)に結晶化ガラスの表面が加熱され、部分的に表面温度が最高400℃に上昇することもあり、一般的に、耐熱性樹脂は、このような高温で軟化変形するため、結晶化ガラスの表面に形成した凹凸形状が次第に平滑になり、照明等の光を散乱する機能が次第に失われるばかりでなく、有機樹脂自身が燃焼し、火災やヤケド等の深刻な事態を招来し得る。さらには、有機樹脂の燃焼によって、調理器用トッププレートが黒色化し、美観面が著しく損なわれる問題も生じていた。したがって、結晶化ガラス基板の表面に有機樹脂の被膜を形成する方法は、その使用および適用範囲が制約される。
さらに、結晶化ガラス基板の表面をフッ酸等の強酸でエッチングする方法は、凹凸の形成に強酸を使用するため、作業の安全性の観点から望ましくないことは明らかであるとともに、フッ酸等のエッチングは凹凸形状が滑らかになりすぎる傾向があり、光の散乱を効率よく行うことが困難である。また、この方法は、結晶化ガラス基板の表面粗さを適切に制御することも困難である。
本発明者は、上記問題点を解決するために種々検討した結果、結晶化ガラス基板の表面に酸化物被膜を形成し、その酸化物被膜の表面粗さ(Ra)を0.1〜20μmとすることで上記課題を解決し、本発明を提案するに至った。なお、本発明の表面粗さは、中心線粗さを指す。
このようにすることにより、結晶化ガラス基板の表面に容易に凹凸を形成でき、照明等から発生する光を散乱させることができ、調理器用トッププレートに防眩性を付与することができる。一方、酸化物被膜で表面に凹凸を形成する方法は、微視的には滑らかな表面となる(凹凸の山部と谷部が鋭角ではない)ため、調理で発生する油汚れや鍋等の吹きこぼれ等によって調理器用トッププレートが汚染されても、汚れや異物が滞留するスポットがないため、調理器用トッププレートの清掃を簡単に行うことができる。その上、サンドブラストによる方法と異なって、調理器用トッププレートの破壊やクラックの起点になるようなスポットが存在しないため、調理器用トッププレートの機械強度の向上に寄与することができる。また、酸化物被膜は、耐熱性を有するため、有機樹脂被膜で発生した上述の問題も生じない。さらに、酸化物被膜で表面に凹凸を形成する方法は、フッ酸エッチングによる方法と異なって、強酸を使用する必要がないため、安全性や環境上の観点から有利である。
また、上述の通り、結晶化ガラスの表面に凹凸を形成すると照明等の光を散乱する。その散乱の影響で、結晶化ガラスの表面が乳白色となり、外観意匠性が向上し、調理器用トッププレート全体が乳白色となり、美観が向上するとともに、乳白色は消費者や需要者に対して清潔感を与えるため、調理器用トッププレートの付加価値の向上といった付随的効果も期待できる。
図1に本発明の概念図を示す。図1は、調理器の外部に臨む結晶化ガラス11の表面11aに酸化物被膜12が形成されている。サンドブラストによる方法によって形成された表面の凹凸に比べて、酸化物被膜によって形成された表面の凹凸は、凹凸の山部および谷部が滑らかになっている。さらにサンドブラストによる方法と異なり、凹凸の谷部でクラックが発生していない。このように微視的に調理器用トッププレート10の表面が滑らかであるため、上述の効果が得られることが分かる。
具体的には、上記の目的を達成するために、本発明は、結晶化ガラスを基材とする調理器用トッププレートにおいて、結晶化ガラスの表面に酸化物被膜が形成され、前記酸化物被膜の表面粗さ(Ra)が0.1〜20μmとした調理器用トッププレートであることに特徴付けられる。
第二に、本発明の調理器用トッププレートは、調理器の外部側に臨む結晶化ガラスの表面に酸化物被膜が形成されていることに特徴付けられる。
第三に、本発明の調理器用トッププレートは、上記酸化物被膜がSiO2またはTiO2であることに特徴付けられる。
第四に、本発明の調理器用トッププレートは、グロス値が30〜90%であることに特徴付けられる。なお、本発明でいう「グロス値」は、JIS−Z8741に準拠した方法により測定した値を指す。
第五に、本発明の調理器用トッププレートは、上記酸化物被膜の平均膜厚が10〜2000nmであることに特徴付けられる。
第六に、本発明の調理器用トッププレートは、上記酸化物被膜が調理器の外部側に臨む結晶化ガラスの全面に形成されていることに特徴付けられる。
第七に、本発明の調理器用トッププレートは、上記結晶化ガラスがSiO2−Al23−Li2O系透明結晶化ガラスであることに特徴付けられる。
第八に、本発明の調理器用トッププレートは、上記結晶化ガラスが質量%表示で、SiO2 63〜75%、Al23 15〜25%、Li2O 1〜5%、MgO 0〜4%、ZnO 0〜5%、TiO2 0〜6%、ZrO2 0〜3%、P25 0〜2%、Na2O 0〜2%、K2O 0〜2%の組成を含有することに特徴付けられる。
第九に、本発明は、上記の特徴を有する調理器用トッププレートの製造方法であって、スプレーコート法を用いて、結晶化ガラスの表面にアルコシキド化合物を吹き付けた後、アルコシキド化合物を400〜600℃で焼成することによって、酸化物被膜を結晶化ガラスの表面に形成することを特徴とする調理器用トッププレートの製造方法である。
第十に、本発明は、上記方法において、上記アルコシキド化合物がSiアルコキシドまたはTiアルコキシドであることに特徴付けられる。
以下、本発明について、詳細に説明する。
本発明の調理器用トッププレートは、結晶化ガラスの表面に酸化物被膜を形成する。酸化物被膜は、耐熱性に優れるとともに結晶化ガラスと酸化物被膜の間に強固な結合を形成することができるため、調理器用トッププレートの使用時に酸化物被膜が剥がれる等の不具合が発生せず、耐久性が優れている。さらに、酸化物被膜は、有機物被膜に比べて耐湿性、耐水性も優れている。
本発明において、酸化物被膜の表面粗さは、0.1〜20μm、好ましくは0.1〜15μm、より好ましくは0.1〜10μm、さらに好ましくは0.1〜7μm、最も好ましくは0.2〜4μmである。酸化物被膜の表面粗さが0.1μmよりも小さいと、調理器用トッププレートの防眩性が乏しくなる。また、表面粗さが小さいと、調理器用トッププレートの使用時に発生する油汚れや鍋等の吹きこぼれによる汚れ等が浸入した場合、これらを清掃することが困難になる。さらに、光の散乱が乏しくなり、調理器用トッププレートが乳白色の色合いにならず、結果として美観が損なわれる等の問題が生じる。一方、酸化物被膜の表面粗さが20μmよりも大きいと、膜厚が大きいため安定した膜特性を確保することが困難になるとともに、酸化物被膜の焼成時間等を長くしなければならないため、製造効率が悪化する等の不具合がある。
酸化物被膜は、400〜600℃の焼成によって形成することが好ましい。焼成温度が400℃未満であると、結晶化ガラスと酸化物被膜の強固な結合が得られない。また、焼成温度が600℃より大きいと、膜厚がばらつきやすくなり、加えてエネルギー効率の観点からも好ましくない。また、焼成時間は、ピーク温度で1〜20分保持することが好ましい。焼成温度が1分よりも短いと、結晶化ガラスと酸化物被膜の強固な結合が得られない。また、焼成温度が20分よりも長いと、膜厚がばらつきやすくなり、加えてエネルギー効率の観点からも好ましくない。なお、焼成は、各種の焼成炉が使用可能であり、例えばベルト炉、コンベア炉等が使用可能である。
酸化物被膜は、調理器の外部側に臨む結晶化ガラスの表面に形成することが好ましい。需要者の視覚に訴える効果は、使用面の方が大きいため、調理器用トッププレートの防眩性や美観向上の効果を最大限に享受することができる。
なお、本発明は、酸化物被膜を調理器の内部側に臨む結晶化ガラスの表面(非使用面)に形成する態様を排除するものではない。調理器の内部側に臨む結晶化ガラスの表面に酸化物被膜を形成すると、調理器の外部側に臨む結晶化ガラスの表面が平滑にすることができるため、そうすることで油汚れや調理なべの吹き零れ等の清掃が行いやすくなる利点はあるが、調理器の外部側に臨む結晶化ガラスの表面に酸化物被膜を形成する態様に比べ、照明等からの光を散乱する効果が劣ることに加え、調理器用トッププレートの美観向上の効果も劣ることになる。
本発明において、酸化物被膜はSiO2またはTiO2であることが好ましい。SiO2またはTiO2の酸化物被膜は、有機樹脂被膜に比べて耐熱性が高く、調理時において熱変形や成分の溶け出し等の不具合が発生しない。また、SiO2またはTiO2の酸化物被膜は、光を散乱させる効果が高く、防眩性が優れている。さらに、SiO2またはTiO2の酸化物被膜は、原材料(SiアルコキシドまたはTiアルコキシド等)が安価に入手できる等の利点もある。そのうえ、SiO2またはTiO2の酸化物被膜は、平均線熱膨張係数が小さいため、結晶化ガラス基板と酸化物被膜の熱膨張差が小さくなり、結晶化ガラス基板と酸化物被膜の間に不当な応力が発生しないため好ましい。
本発明の調理器用トッププレートは、グロス値が30〜90%であることが好ましく、40〜70%であるとより好ましい。グロス値が30%未満であると乳白色の光沢がなくなり、見栄えが悪くなり、調理器用トッププレートの美観が損なわれる。また、グロス値が90%より大きいと、室内の照明等の反射が多くなり、調理時等において眩しくなる等の不具合が生じる。
本発明において、酸化物被膜の平均膜厚は、好ましくは10〜2000nm、より好ましくは30〜1000nm、さらに好ましくは50〜500nmである。酸化物被膜の平均膜厚が、10nm未満であれば、防眩性が得られにくくなる。また、酸化物被膜の平均膜厚が2000nmより大きいと、形成した酸化物被膜が剥がれやすくなるとともに、材料コストや膜の焼成時間が長くなる等の不具合が生じる。
本発明において、酸化物被膜が結晶化ガラスの全面に形成されていることが好ましい。酸化物被膜を全面に形成する場合、スプレーコート法でSiアルコキシド等をスプレーする際、マスク等を使用する必要がないといった製造上の利点や防眩性の向上を最大限に享受できるといった特性上の利点が得られるからである。
SiO2−Al23−Li2O系透明結晶化ガラスは、重量%表示で、SiO2が63〜75%、Al23が15〜25%、Li2Oが1〜5%、MgOが0〜4%、ZnOが0〜5%、TiO2が0〜6%、ZrO2が0〜3%、P25が0〜2%、Na2Oが0〜2%、K2Oが0〜2%の組成を有することが好ましい。
本発明における結晶化ガラスの組成範囲を上記のように限定したのは以下の理由による。
SiO2はガラスのネットワークフォーマーであるとともに、結晶を構成するための必須成分である。しかし、SiO2が63%より少ない場合はガラスが失透しやすくなり、化学的耐久性が悪くなる。また、SiO2が75%より多い場合はガラスの溶融性が悪くなる。
Al23は結晶を構成するための必須成分である。しかし、Al23が15%より少ない場合はガラスが失透しやすくなり化学的耐久性が悪くなる。また、Al23が25%より多い場合はガラスの溶融性が悪くなる。
Li2Oは結晶を構成するための必須成分である。しかし、Li2Oが1%より少ない場合は所望の結晶が析出しにくくなる。また、Li2Oが5%より多い場合はガラスの化学的耐久性が悪くなりクラック、剥離等が起こりやすくなる。
MgOは結晶を構成するための成分である。しかし、MgOが4%より多い場合は、熱膨張係数が大きくなりすぎる。
ZnOも結晶を構成するための成分であるが、5%より多い場合はガラスが失透しやすくなる。
TiO2は核形成剤として作用するが、6%より多い場合は色調が褐色になり透明性が損われる。ZrO2は核形成剤として作用するが、3%より多い場合はガラスが失透しやすくなり化学的耐久性が悪くなる。
TiO2とZrO2の合量が3%より少ない場合は核形成の働きが充分でないため粗大結晶となって化学的耐久性が悪くなる。また、TiO2とZrO2の合量が9%より多い場合はガラスの溶融性が悪くなるとともに、色調が褐色になり透明性が損なわれる。
25が2%より多い場合は化学的耐久性が悪くなる。
Na2OおよびK2Oはフラックス剤として作用するが各々2%より多い場合は化学的耐久性が著しく悪くなる。さらに、As23、Sb23、SnO2、Cl、SO3等の清澄剤等を合計で2%まで添加することができる。また、その他の成分も特性を損なわない範囲で添加することも可能である。
特に、調理器用トッププレートは、SiO2−Al23−Li2O系透明結晶化ガラスとして、日本電気硝子株式会社製ネオセラムN−0を使用するのが好ましい。ネオセラムN−0は、透明で赤外線透過特性や機械強度に優れ、熱膨張係数が30〜750℃の温度範囲で−3.0×10-7/℃であり、熱膨張係数が0に近いため800℃の熱衝撃を加えても割れない特長を有している。
結晶化ガラスの表面に酸化物被膜を形成する方法として、種々の方法を採用することが可能であるが、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法によってSiアルコキシド等を結晶化ガラスの表面に被覆する方法が好適である。特に、スプレーコート法は、生産性、製造コストの面で優れている。具体的には、Siアルコキシド等を簡易に吹き付けることが可能であることに加えて、Siアルコキシドを焼成する等の操作を行うだけで結晶化ガラスの表面に容易に凹凸を形成することができるため好ましい。また、スプレーコート法は、スプレー条件を適宜変更することができ、スプレー溶液のドライ−ウェットの状態を適宜変更することで、酸化物被膜の凹凸状態を適宜変更することが可能である。さらに、スプレーコート法は、原料粒子径を調節することにより、酸化物被膜の凹凸状態を適宜変更することも可能である。
Siアルコキシドを含む溶液として、種々の態様が考えられるが、Si(OR)m(R'n(m=1〜4、n=0〜3、R、R'は炭素数1〜4のアルキル基)で示されるSiアルコキシドは、低温短時間で焼結し、SiO2酸化物被膜を形成することができるため、好ましい。特に、Si(OCH2CH34が特性、コストの面で最も好ましい。なお、Siアルコキシドと同様に、Ti、Zr、Al等のアルコキシドを使用することも可能である。
さらに、酸化物被膜は、焼成によって微視的には滑らかな表面となる。その結果、調理器用トッププレートの使用時に油汚れや鍋等の吹きこぼれ等によって汚染されても、それらの汚れや異物が滞留するスポットがないため、調理器用トッププレートの清掃を簡単に行うことができる。また、微視的に滑らかな表面であるため、調理器用トッププレートに破壊(クラック)の起点が存在せず、調理器用トッププレートの機械強度が向上することになる。
本発明の調理器用トッププレートは、調理器の外部側に臨む結晶化ガラスの表面及び調理器の内部側に臨む結晶化ガラスの表面に遮光膜等の機能膜を形成することができる。また、酸化物被膜上に遮光膜等を形成することもできる。遮光膜は、種々の材料が使用可能であるが、Si、Ti、Al、Nb、W、Mo、Sn、Cr、Pt及びAuからなる群より選ばれた1種の金属、ステンレス、ハステロイ、インコネル及びニクロムからなる群より選ばれた1種の合金、ステンレス、ハステロイ、インコネル及びニクロムからなる群より選ばれた1種の合金の窒化物、又はTi、Nb、W、及びMoからなる群より選ばれた1種もしくは2種以上の金属の窒化物を含むことが好ましい。このような遮光層を有する調理器用トッププレートは、遮光能力に優れるため、加熱装置、配線等の調理器の内部構造を隠蔽することができ、また、正反射率が高く、金属光沢を有する外観となるため、調理器周囲にあるステンレス等の金属製の調理台や壁と良く調和する。さらに、この遮光層は化学的耐久性に優れるため、水、洗剤、調味料等によって変色したり、浸食されたりすることがない。
本発明の調理器用トッププレートは、遮光膜と同様にして、酸化防止膜を形成することができる。酸化防止膜は、種々の材料が使用可能であるが、Si、Ti、Al、Nb、W、Mo、Ta及びSnからなる群より選ばれた1種もしくは2種以上の金属の窒化物、又は、Si、Al及びTiからなる群より選ばれた1種の金属の酸化物を含むと、遮光膜の酸化防止能力が高いため好ましい。
本発明の調理器用トッププレートは、文字又は図形、装飾膜を形成することも可能である。文字又は図形、装飾膜は、蒸着法や印刷法のいずれの方法を用いて形成しても構わない。例えば、文字又は図形をスクリーン印刷法で形成すると、メッシュ(孔版)の種類やインクを変えるだけで、多種類の文字や図形を形成することが可能であるので、製品の品種を容易に増やすことができて好ましい。
(実施例)
本発明の実施例を表1に示し、本発明の比較例を表2に示す。
実施例および比較例において、基板(基材)として、200mm×200mm×3.8mm厚の結晶化ガラスを使用した。結晶化ガラスは、質量%で、SiO2 66%、Al23 22%、Li2O 4%、TiO2 2%、ZrO2 2%、BaO 1.5%、Na2O 0.5%、K2O 0.5%、P25 1%、As23 0.4%、Sb23 0.1%の組成を有し、30〜500℃における平均熱膨張係数が−5×10-7/℃である透明結晶化ガラスを使用した。
結晶化ガラスの酸化物被膜は、スプレーコート法によってSiアルコキシドまたはTiアルコキシドを調理器の外部側に臨む結晶化ガラスの表面にスプレーした後、450℃20分で焼成することによって形成した。なお、酸化物被膜の表面粗さは、スプレーの液体状態(ドライ−ウェット)等を調節することによって調製した。
一方、比較例のサンドブラスト法は、ブラスト材としてSiCを使用し、調理器の外部側に臨む結晶化ガラスの表面にサンドブラスト処理を実行し、その表面に凹凸を形成した。結晶化ガラスの表面粗さは、ブラスト材の粒径およびブラストレート、ブラスト圧を調節することで調製した。
平均膜厚は、走査型電子顕微鏡(5000倍)によって測定した。
表面粗さは、表面粗さ計(小坂研究所製サーフコーダSE−30H)によって測定した。
グロス値は、JIS−Z8741に準拠した方法により測定した。
「清掃性」は、調理器用トッププレートにレッドインク10mlを均一に5点滴下した上で、市販の調理布にアルコールをしみ込ませたものを用いて、レッドインクをふき取った。なお、ふき取り回数は、清掃箇所当たり往復5回とした。レッドインクの痕跡を残すことなく、清掃できたものを「○」とし、レッドインクの痕跡が残存し、調理器用トッププレートが赤くなっているものを「×」とした。
「機械強度」は、20mm×200mm×3.8mm厚の調理器用トッププレートを試験片とし、周知の抗折強度の試験を行い、抗折強度が100MPa以上のものを「○」とし、100MPa未満のものを「×」とした。なお、スパンは50mm、加圧冶具の幅は2mmとした。
表1から分かるように、実施例1〜4の酸化物被膜は、平均膜厚が90〜400nmであり、表面粗さが0.3〜10μmであった。その結果、本発明の調理器用トッププレートは、グロス値が54〜66%であり、良好な防眩性を有していた。さらに本発明の調理器用トッププレートは、清掃性や機械強度も良好であった。
図3に実施例1の酸化物被膜の表面拡大写真を示す。図3から明らかなように、実施例1の酸化物被膜は、巨視的には表面に凹凸があるが、微視的には表面が滑らかである。したがって、防眩性のみならず、清掃性や機械強度が良好であると判断できる。
表2から分かるように、比較例1は酸化物被膜の表面粗さが0.05μmと小さかったため、グロス値が92%と高く、防眩性が劣っていた。また、比較例2、3は、結晶化ガラス基板の表面の凹凸をサンドブラストによって形成したため、清掃性が劣っており、かつ機械強度が小さかった。
図4に比較例2の結晶化ガラス基板の表面拡大写真を示す。図4から明らかなように、結晶化ガラス基板に凹凸が形成されているが、凹凸の山部および谷部が鋭角であることが分かる。したがって、凹凸の山部が鋭いため、その部分が物理的衝突等によって破壊されやすくなっているとともに、凹凸の先端が先鋭であるために、この部分に手が触れると切創する危険性が否定できないことになる。さらに、凹凸の谷部に汚れ成分等が滞留しやすく、清掃しにくいため、清掃性が劣ることが分かる。さらに、結晶化ガラス基板の凹凸の谷部にクラックが発生しやすくなっていることも分かり、調理器用トッププレートの機械強度が低下していると判断できる。
本発明の結晶化ガラストッププレートは、結晶化ガラス基板の表面に酸化物被膜を形成し、その酸化物被膜の表面粗さを0.1〜20μmとしたことにより、照明等から発生する光を散乱させることができ、調理器用トッププレートに防眩性を付与することができる。一方、酸化物被膜は、微視的には滑らかな表面となるため、調理で発生する油汚れや鍋等の吹きこぼれ等によって汚染されても、それらの汚れや異物が滞留するスポットがないため、調理器用トッププレートの清掃を簡単に行うことができる。その上、サンドブラストによる方法と異なって、調理器用トッププレートの破壊やクラックの起点になるようなスポットが存在しないため、調理器用トッププレートの機械強度の向上に寄与することができる。また、酸化物被膜は、耐熱性を有するため、有機樹脂被膜で発生した問題も生じない。さらに、酸化物被膜で表面に凹凸を形成する方法は、フッ酸エッチングによる方法と異なって、強酸を使用する必要がないため、安全性や環境上有利である。その結果、本発明の調理器用トッププレートは、ラジエントヒーターやハロゲンヒーターを用いた赤外線加熱調理器、電磁加熱調理器、ガス調理器のトッププレートに好適である。
本発明に係る調理器用トッププレートの断面概念図である。 従来技術に係る調理器用トッププレートの断面概念図である。 本発明の比較例に係る調理器用トッププレートの表面拡大写真である。 本発明の実施例に係る調理器用トッププレートの表面拡大写真である。
符号の説明
10 調理器用トッププレート
11 結晶化ガラス
11a 調理器の外部側に臨む結晶化ガラスの表面(使用面)
12 酸化物被膜

Claims (10)

  1. 結晶化ガラスを基材とする調理器用トッププレートにおいて、
    結晶化ガラスの表面に酸化物被膜が形成され、前記酸化物被膜の表面粗さ(Ra)が0.1〜20μmであることを特徴とする調理器用トッププレート。
  2. 調理器の外部側に臨む結晶化ガラスの表面に酸化物被膜が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の調理器用トッププレート。
  3. 前記酸化物被膜がSiO2またはTiO2であることを特徴とする請求項1または2に記載の調理器用トッププレート。
  4. グロス値が30〜90%であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の調理器用トッププレート。
  5. 前記酸化物被膜の平均膜厚が10〜2000nmであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の調理器用トッププレート。
  6. 前記酸化物被膜が調理器の外部側に臨む結晶化ガラスの全面に形成されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の調理器用トッププレート。
  7. 前記結晶化ガラスがSiO2−Al23−Li2O系透明結晶化ガラスであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の調理器用トッププレート。
  8. 前記結晶化ガラスが質量%表示で、SiO2 63〜75%、Al23 15〜25%、Li2O 1〜5%、MgO 0〜4%、ZnO 0〜5%、TiO2 0〜6%、ZrO2 0〜3%、P25 0〜2%、Na2O 0〜2%、K2O 0〜2%の組成を含有することを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の調理器用トッププレート。
  9. 請求項1〜8のいずれかに記載の調理器用トッププレートの製造方法であって、
    スプレーコート法を用いて、結晶化ガラスの表面にアルコキシド化合物を吹き付けた後、前記アルコキシド化合物を400〜600℃で焼成することによって、酸化物被膜を結晶化ガラスの表面に形成することを特徴とする調理器用トッププレートの製造方法。
  10. 前記アルコキシド化合物がSiアルコキシドまたはTiアルコキシドであることを特徴とする請求項9に記載の調理器用トッププレートの製造方法。
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