JP3011806B2 - 角状被処理体のフォトレジスト除去装置 - Google Patents
角状被処理体のフォトレジスト除去装置Info
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- JP3011806B2 JP3011806B2 JP3302450A JP30245091A JP3011806B2 JP 3011806 B2 JP3011806 B2 JP 3011806B2 JP 3302450 A JP3302450 A JP 3302450A JP 30245091 A JP30245091 A JP 30245091A JP 3011806 B2 JP3011806 B2 JP 3011806B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、角状被処理体のフォト
レジスト除去装置に関する。
レジスト除去装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体デバイスを製造する工程
において、パターンの微細加工を行うためのリソグラフ
ィ技術は重要であるが、このリソグラフィ技術のフォト
レジスト塗布工程においてスピンコータ等により円形の
半導体ウエハ上に塗布されたフォトレジストは、図5に
示すように半導体ウエハ2の端部においてフォトレジス
ト4の盛り上がり部6を発生する傾向にある。この半導
体ウエハ2には、その後、ベーキイング処理、露光処理
とが順次施されることになるが、その過程でこのウエハ
2はキャリアへ収納されたり、搬送系によってはウエハ
の周辺部を把持して搬送されたりすることから、上記盛
り上がり部6が各操作を行うときに剥離してパーティク
ルとなって、歩留まり低下の原因となっている。
において、パターンの微細加工を行うためのリソグラフ
ィ技術は重要であるが、このリソグラフィ技術のフォト
レジスト塗布工程においてスピンコータ等により円形の
半導体ウエハ上に塗布されたフォトレジストは、図5に
示すように半導体ウエハ2の端部においてフォトレジス
ト4の盛り上がり部6を発生する傾向にある。この半導
体ウエハ2には、その後、ベーキイング処理、露光処理
とが順次施されることになるが、その過程でこのウエハ
2はキャリアへ収納されたり、搬送系によってはウエハ
の周辺部を把持して搬送されたりすることから、上記盛
り上がり部6が各操作を行うときに剥離してパーティク
ルとなって、歩留まり低下の原因となっている。
【0003】そのため、このフォトレジスト塗布時にウ
エハ4の周辺部に溶剤を付着してフォトレジスト4の盛
り上がり部6を溶解し、遠心力によりこれを除去した
り、或いは露光時に不要な周辺部のフォトレジストのみ
を露光し、この部分を現像液で除去することなどがなさ
れている。
エハ4の周辺部に溶剤を付着してフォトレジスト4の盛
り上がり部6を溶解し、遠心力によりこれを除去した
り、或いは露光時に不要な周辺部のフォトレジストのみ
を露光し、この部分を現像液で除去することなどがなさ
れている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このようなフォトレジ
ストの盛り上がり部6の発生は半導体ウエハのみならず
液晶ディスプレイ(LCD)装置を製造するときのフォ
トレジスト塗布工程においても見られる。このLCD基
板の形状は、円形の半導体ウエハと異なり、通常4角形
状乃至矩形状であるのでウエハにおいて採用された方
法、すなわちこれを回転させながら溶剤を付着させて遠
心力により除去する方法を採用することができない。ま
た、露光時に4角形のLCD基板の不要な周辺フォトレ
ジストのみを露光して現像液で除去することも考えられ
るが、この場合にはフォトレジストの塗布工程を終了し
た後、ベーキング工程等を行うことからLCD基板を搬
送系によりベーキング装置等へ移動させなければなら
ず、この移動の際に、前記フォトレジストの盛り上がり
部6が剥離してパーティクルとなってしまうという改善
点を有している。
ストの盛り上がり部6の発生は半導体ウエハのみならず
液晶ディスプレイ(LCD)装置を製造するときのフォ
トレジスト塗布工程においても見られる。このLCD基
板の形状は、円形の半導体ウエハと異なり、通常4角形
状乃至矩形状であるのでウエハにおいて採用された方
法、すなわちこれを回転させながら溶剤を付着させて遠
心力により除去する方法を採用することができない。ま
た、露光時に4角形のLCD基板の不要な周辺フォトレ
ジストのみを露光して現像液で除去することも考えられ
るが、この場合にはフォトレジストの塗布工程を終了し
た後、ベーキング工程等を行うことからLCD基板を搬
送系によりベーキング装置等へ移動させなければなら
ず、この移動の際に、前記フォトレジストの盛り上がり
部6が剥離してパーティクルとなってしまうという改善
点を有している。
【0005】特に、LCD基板が大型化している今日の
状況において、上記した問題点の解決が強く望まれてい
る。本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有
効に解決すべく創案されたものである。本発明の目的
は、円形以外の形状の被処理体の周辺部から迅速に不要
なフォトレジストを除去することができる角状被処理体
のフォトレジスト除去装置を提供することにある。
状況において、上記した問題点の解決が強く望まれてい
る。本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有
効に解決すべく創案されたものである。本発明の目的
は、円形以外の形状の被処理体の周辺部から迅速に不要
なフォトレジストを除去することができる角状被処理体
のフォトレジスト除去装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を
解決するために、フォトレジストを塗布した角状の被処
理体の周辺部から不要なフォトレジストを除去するフォ
トレジスト除去装置において、前記被処理体に対して相
対移動しつつ前記被処理体の周辺部に前記フォトレジス
トに対する溶剤を吐出させる溶剤吐出手段を設け、この
溶剤吐出手段は、これを前記被処理体に沿って移動させ
る走査手段に設けられ、前記走査手段は、一対の案内レ
ールと、この上を移動自在に設けられた基台よりなるよ
うに構成したものである。
解決するために、フォトレジストを塗布した角状の被処
理体の周辺部から不要なフォトレジストを除去するフォ
トレジスト除去装置において、前記被処理体に対して相
対移動しつつ前記被処理体の周辺部に前記フォトレジス
トに対する溶剤を吐出させる溶剤吐出手段を設け、この
溶剤吐出手段は、これを前記被処理体に沿って移動させ
る走査手段に設けられ、前記走査手段は、一対の案内レ
ールと、この上を移動自在に設けられた基台よりなるよ
うに構成したものである。
【0007】
【作用】本発明は、以上のように構成したので、溶剤吐
出手段は被処理体の周辺部に沿って移動しつつこの部分
に溶剤を吐出させてこれを溶解し、溶解した溶剤を被処
理体の表面から排除する。特に、吸引手段を設けること
により、フォトレジストが溶解した溶剤を迅速に排除す
ることができる。
出手段は被処理体の周辺部に沿って移動しつつこの部分
に溶剤を吐出させてこれを溶解し、溶解した溶剤を被処
理体の表面から排除する。特に、吸引手段を設けること
により、フォトレジストが溶解した溶剤を迅速に排除す
ることができる。
【0008】
【実施例】以下に、本発明に係る角状被処理体のフォト
レジスト除去装置の一実施例を添付図面に基づいて詳述
する。図1は本発明に係るフォトレジスト除去装置を示
す斜視図、図2は本発明に係るフォトレジスト除去装置
の動作を説明するための動作説明図、図3は図1に示す
フォトレジスト除去装置を示す要部拡大図、図4は被処
理体を示す平面図、図6はフォトレジスト除去装置など
が搭載された処理装置集合ユニットを示す斜視図であ
る。本実施例において処理対象となる被処理体としては
図4に示すように矩形状、すなわち4角形状に成形され
たLCD基板10が使用され、この基板10の表面全体
に渡って塗布されたフォトレジスト4のうち基板の周辺
部11に形成された不要なフォトレジスト4aが本発明
の除去装置により除去されることになる。
レジスト除去装置の一実施例を添付図面に基づいて詳述
する。図1は本発明に係るフォトレジスト除去装置を示
す斜視図、図2は本発明に係るフォトレジスト除去装置
の動作を説明するための動作説明図、図3は図1に示す
フォトレジスト除去装置を示す要部拡大図、図4は被処
理体を示す平面図、図6はフォトレジスト除去装置など
が搭載された処理装置集合ユニットを示す斜視図であ
る。本実施例において処理対象となる被処理体としては
図4に示すように矩形状、すなわち4角形状に成形され
たLCD基板10が使用され、この基板10の表面全体
に渡って塗布されたフォトレジスト4のうち基板の周辺
部11に形成された不要なフォトレジスト4aが本発明
の除去装置により除去されることになる。
【0009】図6に示すようにこのフォトレジスト除去
装置8は、処理装置集合ユニット50に搭載されてお
り、この集合ユニット50には他の関連装置として、キ
ャリアステーション51側より被処理体としてのLCD
基板をブラシ洗浄するための一対のブラシスクラバ5
2、52、このブラシ洗浄の後に高圧ジェット水により
洗浄を施すための一対の高圧ジェット洗浄機54、5
4、LCD基板を加熱するために複数のホットプレート
機56、LCD基板にフォトレジストを塗布する前にこ
れを疎水化処理するアドヒュージョン処理機58及び疎
水化処理後の基板表面にフォトレジストを塗布するコー
タ60等が設けられている。上記各装置間にLCD基板
を搬送して受け渡しを行うために、この集合ユニット5
0の中央部には、爪を有した一対のメインアーム62、
62がユニット長手方向に沿って移動可能に設けられて
いる。本発明に係る上記フォトレジスト除去装置7は、
全体が開閉可能なケースにより被われており、内部にフ
ォトレジスト除去ユニット8を収容している。このフォ
トレジスト除去ユニット8は、被処理体である例えばL
CD基板10に対して相対移動しつつ基板10の周辺部
に向けてフォトレジスト4に対する溶剤12を吐出する
溶剤吐出手段14と、フォトレジストが溶解した溶剤を
基板10の表面から吸引して排除する吸引手段16とに
より主に構成されている。具体的には、上記フォトレジ
スト除去ユニット8の全体は、基板10の両端辺より適
宜離間させてこれに沿って配置された一対の案内レール
18上を移動自在になされた基台20に取付けられてお
り、また、この案内レール18自体も基板10に対して
接近離間移動自在になされ、基板10までの距離を自由
に調整し得るようになされている。すなわち、上記一対
の案内レール18とこれに沿って移動する基台20とに
より走査手段が構成されている。
装置8は、処理装置集合ユニット50に搭載されてお
り、この集合ユニット50には他の関連装置として、キ
ャリアステーション51側より被処理体としてのLCD
基板をブラシ洗浄するための一対のブラシスクラバ5
2、52、このブラシ洗浄の後に高圧ジェット水により
洗浄を施すための一対の高圧ジェット洗浄機54、5
4、LCD基板を加熱するために複数のホットプレート
機56、LCD基板にフォトレジストを塗布する前にこ
れを疎水化処理するアドヒュージョン処理機58及び疎
水化処理後の基板表面にフォトレジストを塗布するコー
タ60等が設けられている。上記各装置間にLCD基板
を搬送して受け渡しを行うために、この集合ユニット5
0の中央部には、爪を有した一対のメインアーム62、
62がユニット長手方向に沿って移動可能に設けられて
いる。本発明に係る上記フォトレジスト除去装置7は、
全体が開閉可能なケースにより被われており、内部にフ
ォトレジスト除去ユニット8を収容している。このフォ
トレジスト除去ユニット8は、被処理体である例えばL
CD基板10に対して相対移動しつつ基板10の周辺部
に向けてフォトレジスト4に対する溶剤12を吐出する
溶剤吐出手段14と、フォトレジストが溶解した溶剤を
基板10の表面から吸引して排除する吸引手段16とに
より主に構成されている。具体的には、上記フォトレジ
スト除去ユニット8の全体は、基板10の両端辺より適
宜離間させてこれに沿って配置された一対の案内レール
18上を移動自在になされた基台20に取付けられてお
り、また、この案内レール18自体も基板10に対して
接近離間移動自在になされ、基板10までの距離を自由
に調整し得るようになされている。すなわち、上記一対
の案内レール18とこれに沿って移動する基台20とに
より走査手段が構成されている。
【0010】上記吸引手段16は、円筒体状に成形され
て上記基台20へ固定された吸引管22を有しており、
この端部には可撓性ライン24を介して吸引装置26が
接続されており、この吸引管22内の雰囲気を吸引し得
るように構成されている。そして、この吸引装置26
は、後述するように吸引された溶剤を除去するためのト
ラップタンク27を有している。上記2個の吸引管2
2、22は、アーム23等により機械的に接続されてお
り、上記走査手段により同時に動くように構成されてい
る。この場合、走査手段は上記吸引管22、22の位置
及び走査速度を任意に設定し得るように構成されてい
る。また、この吸引管22の先端部は、前記基板10の
周辺部11を収容すべく断面凹部状に切り欠いた基板収
容部28が形成されている。本実施例にあっては、基板
10の厚さL1=1.1mmに対して、上記基板収容部
28の最大幅L2=2〜3mm、この深さL3=10m
mに設定している。このように構成された吸引管22の
先端部の近傍には、前記溶剤吐出手段14のニードル管
30が、上記吸引管22を貫通して上記基板収容部28
に臨ませて設けられると共に、このニードル管30に
は、例えばアセトンやECA(エチルセロソルブアセテ
ート)等のフォトレジストに対する溶剤を供給するため
の溶剤供給管32が接続されており、上記基板収容部2
8に収容された基板周辺部11に向けて加圧圧送方式に
より溶剤を噴射乃至吐出するように構成されている。
て上記基台20へ固定された吸引管22を有しており、
この端部には可撓性ライン24を介して吸引装置26が
接続されており、この吸引管22内の雰囲気を吸引し得
るように構成されている。そして、この吸引装置26
は、後述するように吸引された溶剤を除去するためのト
ラップタンク27を有している。上記2個の吸引管2
2、22は、アーム23等により機械的に接続されてお
り、上記走査手段により同時に動くように構成されてい
る。この場合、走査手段は上記吸引管22、22の位置
及び走査速度を任意に設定し得るように構成されてい
る。また、この吸引管22の先端部は、前記基板10の
周辺部11を収容すべく断面凹部状に切り欠いた基板収
容部28が形成されている。本実施例にあっては、基板
10の厚さL1=1.1mmに対して、上記基板収容部
28の最大幅L2=2〜3mm、この深さL3=10m
mに設定している。このように構成された吸引管22の
先端部の近傍には、前記溶剤吐出手段14のニードル管
30が、上記吸引管22を貫通して上記基板収容部28
に臨ませて設けられると共に、このニードル管30に
は、例えばアセトンやECA(エチルセロソルブアセテ
ート)等のフォトレジストに対する溶剤を供給するため
の溶剤供給管32が接続されており、上記基板収容部2
8に収容された基板周辺部11に向けて加圧圧送方式に
より溶剤を噴射乃至吐出するように構成されている。
【0011】また、前記LCD基板10は、例えば真空
チャックなどによるチャック手段34を有する回転機構
36に吸引固定されており、上記基板10を所望の角
度、例えば90°だけ回転し得るように構成されてい
る。
チャックなどによるチャック手段34を有する回転機構
36に吸引固定されており、上記基板10を所望の角
度、例えば90°だけ回転し得るように構成されてい
る。
【0012】次に、以上のように構成された本実施例の
動作について説明する。まず、本実施例においては図4
に示すような4角形状のLCD基板10が使用され、そ
の大きさは例えば縦横がそれぞれ300mm、400m
mに設定されている。まず、前段の工程で処理されたL
CD基板10は、処理装置集合ユニット50のキャリア
ステーション51からメインアーム62により保持され
てブラシスクラバ52内へ搬入され、この中でブラシ洗
浄を行う。更に、この基板は高圧ジェット洗浄機54に
て高圧ジェット水により洗浄され、ホットプレート機5
6により乾燥される。その後、基板はアドヒュージョン
処理機56にて疎水化処理が施された後に、コータ60
にてフォトレジストが塗布される。このように、フォト
レジストが塗布された基板10は、フォトレジスト除去
装置8内へ導入され、その中心部をチャック手段34に
より吸引保持する。上述のように塗布されたフォトレジ
スト4は、図5にも示すように基板の周辺部において不
都合な盛り上がり部6を形成することになるため、本発
明に係るフォトレジスト除去装置によりこの部分を基板
周辺部に位置する不必要なフォトレジストと伴に除去す
ることになる。
動作について説明する。まず、本実施例においては図4
に示すような4角形状のLCD基板10が使用され、そ
の大きさは例えば縦横がそれぞれ300mm、400m
mに設定されている。まず、前段の工程で処理されたL
CD基板10は、処理装置集合ユニット50のキャリア
ステーション51からメインアーム62により保持され
てブラシスクラバ52内へ搬入され、この中でブラシ洗
浄を行う。更に、この基板は高圧ジェット洗浄機54に
て高圧ジェット水により洗浄され、ホットプレート機5
6により乾燥される。その後、基板はアドヒュージョン
処理機56にて疎水化処理が施された後に、コータ60
にてフォトレジストが塗布される。このように、フォト
レジストが塗布された基板10は、フォトレジスト除去
装置8内へ導入され、その中心部をチャック手段34に
より吸引保持する。上述のように塗布されたフォトレジ
スト4は、図5にも示すように基板の周辺部において不
都合な盛り上がり部6を形成することになるため、本発
明に係るフォトレジスト除去装置によりこの部分を基板
周辺部に位置する不必要なフォトレジストと伴に除去す
ることになる。
【0013】まず、フォトレジスト除去ユニット8が搭
載された両側の案内レール18、18を基板10側に移
動させてこれに近付け、図3に示すように吸引管22の
先端部の基板収容部28へ基板周辺部11の角部を接触
しないように収容する。この場合、基台20に対して吸
引管22が移動可能となるように構成しておけば、案内
レール18を動かすことことなく基板収容部28へ基板
周辺部11を収容することができ、また、この吸引管2
2と基板10との間の距離も調整することができる。ま
た、案内レール18自体を上下方向に移動可能となるよ
うに構成しておけば、例えば基板10の寸法が大きくて
この周辺部が下方へ撓むような場合にあっても、これに
対応させて吸引管22の下方向への位置調整を行うこと
が可能となる。
載された両側の案内レール18、18を基板10側に移
動させてこれに近付け、図3に示すように吸引管22の
先端部の基板収容部28へ基板周辺部11の角部を接触
しないように収容する。この場合、基台20に対して吸
引管22が移動可能となるように構成しておけば、案内
レール18を動かすことことなく基板収容部28へ基板
周辺部11を収容することができ、また、この吸引管2
2と基板10との間の距離も調整することができる。ま
た、案内レール18自体を上下方向に移動可能となるよ
うに構成しておけば、例えば基板10の寸法が大きくて
この周辺部が下方へ撓むような場合にあっても、これに
対応させて吸引管22の下方向への位置調整を行うこと
が可能となる。
【0014】以上のようにして、基板周辺部11の収容
が完了したならば、次に、フォトレジスト除去ユニット
8を基板周辺部11に沿って走査しつつ、各溶剤吐出手
段14のニードル管12から溶剤を噴射乃至吐出すると
共に、吸引装置26を駆動して吸引手段16の吸引管2
2内の雰囲気を吸引する。これにより、ニードル管30
から噴射された溶剤12は基板周辺部11に噴き付けら
れ、ここに位置するフォトレジスト4a及び盛り上がり
部6を溶解しつつ吸引管22内へ吸引され、不必要なフ
ォトレジストが除去されることになる。このようにして
周辺部11の対向する一対の辺のフォトレジスト除去操
作が完了したならば、一旦フォトレジスト除去装置8を
基板10から離間させて、この状態で回転機構36を9
0°回転することにより基板10を90°回転し、再度
同じような除去操作を繰り返して行って、他の対向する
一対の辺のフォトレジスト除去操作を完了し、最終的に
基板10の全周辺部11に位置する不要なフォトレジス
トを除去する。このような除去操作は、LCD製造工程
におけるIT0(インジウムリン オキサイド)膜の形
成や電極形成のためのパターニング等のフォトレジスト
を使用する各工程で行なわれる。
が完了したならば、次に、フォトレジスト除去ユニット
8を基板周辺部11に沿って走査しつつ、各溶剤吐出手
段14のニードル管12から溶剤を噴射乃至吐出すると
共に、吸引装置26を駆動して吸引手段16の吸引管2
2内の雰囲気を吸引する。これにより、ニードル管30
から噴射された溶剤12は基板周辺部11に噴き付けら
れ、ここに位置するフォトレジスト4a及び盛り上がり
部6を溶解しつつ吸引管22内へ吸引され、不必要なフ
ォトレジストが除去されることになる。このようにして
周辺部11の対向する一対の辺のフォトレジスト除去操
作が完了したならば、一旦フォトレジスト除去装置8を
基板10から離間させて、この状態で回転機構36を9
0°回転することにより基板10を90°回転し、再度
同じような除去操作を繰り返して行って、他の対向する
一対の辺のフォトレジスト除去操作を完了し、最終的に
基板10の全周辺部11に位置する不要なフォトレジス
トを除去する。このような除去操作は、LCD製造工程
におけるIT0(インジウムリン オキサイド)膜の形
成や電極形成のためのパターニング等のフォトレジスト
を使用する各工程で行なわれる。
【0015】本実施例にあっては、溶剤としてECAを
20〜30cc/minの量で供給し、吸引装置26を
約100リットル/minの量で駆動して吸引管22内
を吸引し、適当な速度でスキャンした結果、不要なフォ
トレジストを略完全に除去することができ、また、溶解
除去されたフォトレジストの端辺も波打つこともなく直
線性の優れたラインに仕上げることができる。特に、本
実施例においては、フォトレジストの塗布工程終了後、
基板を移動することなくその場にて直ちに不要なフォト
レジストの除去作業を行うことができるので、フォトレ
ジストの剥離に伴うパーテイクルの発生を確実に抑制す
ることができる。
20〜30cc/minの量で供給し、吸引装置26を
約100リットル/minの量で駆動して吸引管22内
を吸引し、適当な速度でスキャンした結果、不要なフォ
トレジストを略完全に除去することができ、また、溶解
除去されたフォトレジストの端辺も波打つこともなく直
線性の優れたラインに仕上げることができる。特に、本
実施例においては、フォトレジストの塗布工程終了後、
基板を移動することなくその場にて直ちに不要なフォト
レジストの除去作業を行うことができるので、フォトレ
ジストの剥離に伴うパーテイクルの発生を確実に抑制す
ることができる。
【0016】尚、本実施例にあっては、相対向させて2
個のフォトレジスト除去ユニットを設けた場合について
説明したが、これを1個のみ設けるようにしても良い
し、また、生産性を向上させるために、1つの案内レー
ル18上に複数個設けるようにしてもよいし、或は溶剤
供給ニードルを複数設けても良いし、更に、上記フォト
レジスト除去ユニットの移動方向に直交する方向に移動
する別のフォトレジスト除去装置を設けるようにしても
よい。また、本実施例にあっては、4角形状のLCD基
板について説明したが、円形以外の三角形、五角形等の
多角形についてすべて適用することができ、また、LC
D基板に限らず他の基板、例えばプリント基板等にも適
用することができる。
個のフォトレジスト除去ユニットを設けた場合について
説明したが、これを1個のみ設けるようにしても良い
し、また、生産性を向上させるために、1つの案内レー
ル18上に複数個設けるようにしてもよいし、或は溶剤
供給ニードルを複数設けても良いし、更に、上記フォト
レジスト除去ユニットの移動方向に直交する方向に移動
する別のフォトレジスト除去装置を設けるようにしても
よい。また、本実施例にあっては、4角形状のLCD基
板について説明したが、円形以外の三角形、五角形等の
多角形についてすべて適用することができ、また、LC
D基板に限らず他の基板、例えばプリント基板等にも適
用することができる。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように、本実施例によれ
ば、次のような優れた作用効果を発揮することができ
る。溶剤吐出手段から吐出させた溶剤により不要なフォ
トレジストを溶解させたので、円形以外の多角形状の基
板の周辺部に付着する不要なフォトレジストを効率的に
除去することができる。従って、不要なフォトレジスト
の剥離に伴うパーティクルの発生を抑制することがで
き、製品の歩留まりを向上させることができる。また、
吸引手段を設けることによりフォトレジストを溶解した
溶剤を迅速に除去することができる。更に、溶剤吐出手
段及び吸引手段を操作手段により移動させることによ
り、被処理体の周辺部のフォトレジストを効率的に除去
することができる。また、吸引手段の吸引管の先端に基
板収容部を設けることにより、フォトレジストを溶解し
た溶剤を効率的に排除することができる。更に、吸引管
を基台に対して移動可能に設けておくことにより、吸引
管と基板との間の距離を調整することができる。また、
被処理体を吸着するチャック手段を回転機構上に設ける
ことにより、被処理体の一対の辺のフォトレジスト除去
処理を行なった後、これを90度回転させれば他の一対
の辺のフォトレジスト除去処理を迅速に行なうことがで
きる。
ば、次のような優れた作用効果を発揮することができ
る。溶剤吐出手段から吐出させた溶剤により不要なフォ
トレジストを溶解させたので、円形以外の多角形状の基
板の周辺部に付着する不要なフォトレジストを効率的に
除去することができる。従って、不要なフォトレジスト
の剥離に伴うパーティクルの発生を抑制することがで
き、製品の歩留まりを向上させることができる。また、
吸引手段を設けることによりフォトレジストを溶解した
溶剤を迅速に除去することができる。更に、溶剤吐出手
段及び吸引手段を操作手段により移動させることによ
り、被処理体の周辺部のフォトレジストを効率的に除去
することができる。また、吸引手段の吸引管の先端に基
板収容部を設けることにより、フォトレジストを溶解し
た溶剤を効率的に排除することができる。更に、吸引管
を基台に対して移動可能に設けておくことにより、吸引
管と基板との間の距離を調整することができる。また、
被処理体を吸着するチャック手段を回転機構上に設ける
ことにより、被処理体の一対の辺のフォトレジスト除去
処理を行なった後、これを90度回転させれば他の一対
の辺のフォトレジスト除去処理を迅速に行なうことがで
きる。
【図1】本発明に係るフォトレジスト除去装置を示す斜
視図である。
視図である。
【図2】本発明に係るフォトレジスト除去装置の動作を
説明するための動作説明図である。
説明するための動作説明図である。
【図3】図1に示すフォトレジスト除去装置を示す要部
拡大図である。
拡大図である。
【図4】被処理体を示す平面図である。
【図5】フォトレジストの盛り上がり部を説明するため
の説明図である。
の説明図である。
【図6】フォトレジスト除去装置などが搭載された処理
装置集合ユニットを示す斜視図である。
装置集合ユニットを示す斜視図である。
4 フォトレジスト 7 フォトレジスト除去装置 8 フォトレジスト除去ユニット 10 LCD基板(被処理体) 11 周辺部 12 溶剤 14 溶剤吐出手段 16 吸引手段 22 吸引管 26 吸引装置 28 基板収容部 30 ニードル管
Claims (9)
- 【請求項1】 フォトレジストを塗布した角状の被処理
体の周辺部から不要なフォトレジストを除去するフォト
レジスト除去装置において、前記被処理体に対して相対
移動しつつ前記被処理体の周辺部に前記フォトレジスト
に対する溶剤を吐出させる溶剤吐出手段を設け、この溶
剤吐出手段は、これを前記被処理体に沿って移動させる
走査手段に設けられ、前記走査手段は、一対の案内レー
ルと、この上を移動自在に設けられた基台よりなること
を特徴とする角状被処理体のフォトレジスト除去装置。 - 【請求項2】 フォトレジストを塗布した角状の被処理
体の周辺部から不要なフォトレジストを除去するフォト
レジスト除去装置において、前記被処理体に対して相対
移動しつつ前記被処理体の周辺部に前記フォトレジスト
に対する溶剤を吐出させる溶剤吐出手段を設け、この前
記溶剤吐出手段から吐出されて前記フォトレジストを溶
解した溶剤を、前記被処理体から吸引して排除する吸引
手段を設け、この吸引手段は、これを前記被処理体に沿
って移動させる走査手段に設けられると共にこの走査手
段は、一対の案内レールと、この上を移動自在に設けら
れた基台よりなることを特徴とする角状被処理体のフォ
トレジスト除去装置。 - 【請求項3】 前記吸引手段は、前記基台へ設けられた
吸引管と、これに接続されて吸引管内の雰囲気を吸引す
る可撓性ラインを有することを特徴とする請求項2記載
の角状被処理体のフォトレジスト除去装置。 - 【請求項4】 前記吸引管は、前記被処理体の両側に2
個配置されており、前記走査手段により同時に動くよう
に構成されていることを特徴とする請求項3記載の角状
被処理体のフォトレジスト除去装置。 - 【請求項5】 前記吸引管の先端には、前記被処理体の
周辺部を収容する基板収容部が設けられていることを特
徴とする請求項3または4記載の角状被処理体のフォト
レジスト除去装置。 - 【請求項6】 前記吸引管は、前記被処理体との間の距
離調整ができるように前記基台に対して移動可能に設け
られていることを特徴とする請求項3乃至5記載の角状
被処理体のフォトレジスト除去装置。 - 【請求項7】 前記溶剤吐出手段は、前記溶剤を加圧に
より吐出するためのニードル管を有しており、このニー
ドル管は前記基板収容部に臨ませて設けられていること
を特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の角状被
処理体のフォトレジスト除去装置。 - 【請求項8】 前記被処理体を吸引固定するチャック手
段を設けた回転機構を有し、前記被処理体の一対の辺の
フォトレジスト除去操作を行なった後に前記回転機構を
90度回転して前記被処理体の他の一対の辺のフォトレ
ジスト除去操作を行なうようにしたことを特徴とする請
求項1乃至7記載の角状被処理体のフォトレジスト除去
装置。 - 【請求項9】 前記吸引管は、それぞれ一対の案内レー
ル上を走査されることを特徴とする請求項2乃至8記載
の角状被処理体のフォトレジスト除去装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3302450A JP3011806B2 (ja) | 1991-10-22 | 1991-10-22 | 角状被処理体のフォトレジスト除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3302450A JP3011806B2 (ja) | 1991-10-22 | 1991-10-22 | 角状被処理体のフォトレジスト除去装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05114555A JPH05114555A (ja) | 1993-05-07 |
JP3011806B2 true JP3011806B2 (ja) | 2000-02-21 |
Family
ID=17909085
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3302450A Expired - Lifetime JP3011806B2 (ja) | 1991-10-22 | 1991-10-22 | 角状被処理体のフォトレジスト除去装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3011806B2 (ja) |
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JP3407835B2 (ja) * | 1995-03-09 | 2003-05-19 | 東京応化工業株式会社 | 基板端縁部被膜の除去方法及び除去装置 |
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TW419716B (en) * | 1997-04-28 | 2001-01-21 | Tokyo Electron Ltd | Processing apparatus |
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TWI626091B (zh) * | 2016-10-28 | 2018-06-11 | 旭東機械工業股份有限公司 | 板邊清洗系統 |
-
1991
- 1991-10-22 JP JP3302450A patent/JP3011806B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
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