JP2005316386A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005316386A5 JP2005316386A5 JP2005012898A JP2005012898A JP2005316386A5 JP 2005316386 A5 JP2005316386 A5 JP 2005316386A5 JP 2005012898 A JP2005012898 A JP 2005012898A JP 2005012898 A JP2005012898 A JP 2005012898A JP 2005316386 A5 JP2005316386 A5 JP 2005316386A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- optical system
- optical
- approximately
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims 30
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N al2o3 Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L Magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N TiO Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 claims 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910001929 titanium oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
Claims (9)
- 光を透過する光透過部材と、絞りとを有し、
前記光透過部材は凹面状または平面状に形成された光学面を備え、前記絞りに対して前記凹面状または前記平面状に形成された前記光学面の少なくとも一面に反射防止膜が形成され、
前記反射防止膜は、ゾル−ゲル法を用いて形成された層を少なくとも１層以上含むことを特徴とする光学系。 - 光を透過する光透過部材と、絞りとを有し、
前記光透過部材は凹面状または平面状に形成された光学面を備え、前記絞りに対して前記凹面状または前記平面状に形成された前記光学面の少なくとも一面に反射防止膜が形成され、
前記反射防止膜は、１．３以下の屈折率を有する層を少なくとも１層以上含むことを特徴とする光学系。 - 前記光学系の焦点距離をｆとし、前記反射防止膜が形成された光学面の曲率半径をｒｓとするとき、次式
０ ≦ ｆ／ｒｓ ＜１０．０
但し、ｒｓの符号は、前記光学面が絞りに対して凹面状のとき正（ｒｓ＞０）とする
を満足することを特徴する請求項１または請求項２に記載の光学系。 - 前記光学系は、波長域が４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の光線に対して使用されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の光学系。
- 前記反射防止膜が形成された前記光学面は、
前記光学面に入射する波長域が４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の光線に対して、
前記光線の入射角が０度以上２５度以下のときは反射率が０．５％以下であり、且つ、前記光線の入射角が０度以上６０度以下のときは反射率が３．５％以下であることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の光学系。 - 基準とする光線の波長λを５５０ｎｍとするとき、
前記光透過部材の屈折率がほぼ１．５２であり、
前記反射防止膜は、前記光透過部材の前記光学面に形成され、屈折率がほぼ１．６５で且つ光学的膜厚がほぼ０．２７λの第１層と、
前記第１層上に形成され、屈折率がほぼ２．１２で且つ光学的膜厚がほぼ０．０７λの第２層と、
前記第２層上に形成され、屈折率がほぼ１．６５で且つ光学的膜厚がほぼ０．３０λの第３層と、
前記第３層上に形成され、屈折率がほぼ１．２５で且つ光学的膜厚がほぼ０．２６λの第４層とから構成されることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の光学系。 - 前記第１層は酸化アルミニウムが真空蒸着法で形成され、前記第２層は酸化チタンと酸化ジルコニウムの混合物が真空蒸着法で形成され、前記第３層は酸化アルミニウムが真空蒸着法で形成され、前記第４層はフッ化マグネシウムがゾル−ゲル法を用いて形成されたことを特徴とする請求項６に記載の光学系。
- 前記光学系は結像光学系として用いられることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれかに記載の光学系。
- 前記光学系は観察光学系として用いられることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれかに記載の光学系。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005012898A JP5201435B2 (ja) | 2004-03-30 | 2005-01-20 | 光学系 |
| US11/091,407 US7336421B2 (en) | 2004-03-30 | 2005-03-29 | Optical system with anti-reflection coating |
| EP05251963.4A EP1584955B1 (en) | 2004-03-30 | 2005-03-30 | Antireflective coating |
| EP17195764.0A EP3324221A1 (en) | 2004-03-30 | 2005-03-30 | Antireflective coating |
| TW094109956A TWI432770B (zh) | 2004-03-30 | 2005-03-30 | 光學系統 |
| CNB2005100625028A CN100443923C (zh) | 2004-03-30 | 2005-03-30 | 光学*** |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004099132 | 2004-03-30 | ||
| JP2004099132 | 2004-03-30 | ||
| JP2005012898A JP5201435B2 (ja) | 2004-03-30 | 2005-01-20 | 光学系 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005316386A JP2005316386A (ja) | 2005-11-10 |
| JP2005316386A5 true JP2005316386A5 (ja) | 2008-02-28 |
| JP5201435B2 JP5201435B2 (ja) | 2013-06-05 |
Family
ID=34914552
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005012898A Expired - Fee Related JP5201435B2 (ja) | 2004-03-30 | 2005-01-20 | 光学系 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7336421B2 (ja) |
| EP (2) | EP1584955B1 (ja) |
| JP (1) | JP5201435B2 (ja) |
| CN (1) | CN100443923C (ja) |
| TW (1) | TWI432770B (ja) |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20070195420A1 (en) * | 2006-02-23 | 2007-08-23 | Mark Fitchmun | Extraneous light reducing lens |
| JP4978836B2 (ja) * | 2007-03-19 | 2012-07-18 | 株式会社ニコン | ズームレンズ、光学機器、および結像方法 |
| JP4984231B2 (ja) * | 2007-03-22 | 2012-07-25 | 株式会社ニコン | ズームレンズ、光学機器、および結像方法 |
| JP5213424B2 (ja) * | 2007-12-10 | 2013-06-19 | キヤノン株式会社 | 光学系及びそれを有する光学機器 |
| JP5218902B2 (ja) * | 2008-09-10 | 2013-06-26 | 株式会社ニコン | 広角レンズおよび撮像装置 |
| JP5641718B2 (ja) | 2008-09-16 | 2014-12-17 | キヤノン株式会社 | 撮影レンズ |
| JP5266019B2 (ja) * | 2008-11-10 | 2013-08-21 | 学校法人慶應義塾 | 反射防止膜、その形成方法、光学素子、交換レンズ及び撮像装置 |
| JP5522955B2 (ja) * | 2009-02-17 | 2014-06-18 | キヤノン株式会社 | 光学素子の製造方法 |
| JP2010271374A (ja) * | 2009-05-19 | 2010-12-02 | Canon Inc | 光学系及びそれを有する光学機器 |
| JP2010271502A (ja) * | 2009-05-21 | 2010-12-02 | Nikon Corp | コンバーターレンズ及びこのコンバーターレンズを有する光学装置 |
| US8736960B2 (en) * | 2009-09-15 | 2014-05-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Structure with observation port |
| JP5621636B2 (ja) * | 2010-03-15 | 2014-11-12 | 株式会社ニコン | 撮影レンズ、この撮影レンズを備えた光学機器、撮影レンズの製造方法 |
| JP2013527873A (ja) | 2010-04-29 | 2013-07-04 | バテル メモリアル インスティチュート | 高屈折率組成物 |
| JP5561256B2 (ja) * | 2011-08-09 | 2014-07-30 | 株式会社ニコン | 光学系、この光学系を有する光学機器、及び、光学系の製造方法 |
| US8908273B2 (en) * | 2010-09-21 | 2014-12-09 | Nikon Corporation | Imaging lens, optical apparatus equipped therewith and method for manufacturing imaging lens |
| DE102010048089B4 (de) * | 2010-10-01 | 2016-09-01 | Carl Zeiss Vision International Gmbh | Verfahren zur Erzeugung einer mehrere Schichten aufweisenden antistatischen Beschichtung für ein Linsenelement |
| US8717686B2 (en) * | 2010-11-22 | 2014-05-06 | Nikon Corporation | Optical system, optical apparatus and optical system manufacturing method |
| RU2618490C2 (ru) | 2012-01-30 | 2017-05-03 | Кова Компани, Лтд. | Оправа объектива |
| KR102047392B1 (ko) | 2012-03-26 | 2019-11-21 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 | 나노구조화된 재료 및 그의 제조방법 |
| JP5986454B2 (ja) | 2012-08-16 | 2016-09-06 | キヤノン株式会社 | レンズ装置及びそれを有する撮像装置 |
| JP6991706B2 (ja) * | 2016-11-30 | 2022-02-03 | キヤノン株式会社 | 光学素子およびそれを有する光学系 |
| WO2019012762A1 (ja) * | 2017-07-12 | 2019-01-17 | 日本電産株式会社 | レンズ、レンズユニットおよび撮像装置 |
| WO2022255791A1 (ko) * | 2021-06-01 | 2022-12-08 | 엘지이노텍 주식회사 | 렌즈 모듈 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 |
Family Cites Families (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2042777A1 (ja) * | 1969-08-28 | 1971-05-13 | ||
| US3781090A (en) | 1972-11-06 | 1973-12-25 | Minolta Camera Kk | Four layer anti-reflection coating |
| US4128303A (en) | 1976-04-05 | 1978-12-05 | Kabushiki Kaisha Hoya Lens | Anti reflection coating with a composite middle layer |
| JPS6027963B2 (ja) * | 1980-02-19 | 1985-07-02 | キヤノン株式会社 | 撮影レンズ |
| JPS6029701A (ja) | 1983-07-26 | 1985-02-15 | Asahi Glass Co Ltd | ５層反射防止膜 |
| JPH04138402A (ja) * | 1990-09-28 | 1992-05-12 | Minolta Camera Co Ltd | 写真レンズ |
| JP2991554B2 (ja) * | 1990-11-09 | 1999-12-20 | 旭光学工業株式会社 | 広波長域ゴースト防止光学系 |
| JPH063501A (ja) | 1992-06-23 | 1994-01-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 多孔質光学材料 |
| JPH07128501A (ja) * | 1993-11-01 | 1995-05-19 | Olympus Optical Co Ltd | 結像光学系 |
| JPH10123670A (ja) * | 1996-10-21 | 1998-05-15 | Konica Corp | レンズ付きフィルムユニット |
| JPH10221502A (ja) | 1997-02-07 | 1998-08-21 | Nikon Corp | 光学薄膜の製造方法および光学薄膜 |
| US5993898A (en) * | 1997-05-19 | 1999-11-30 | Nikon Corporation | Fabrication method and structure for multilayer optical anti-reflection coating, and optical component and optical system using multilayer optical anti-reflection coating |
| US6066401A (en) * | 1998-02-25 | 2000-05-23 | National Research Council Of Canada | Wide-band two-layer antireflection coating for optical surfaces |
| JP2000010042A (ja) * | 1998-06-19 | 2000-01-14 | Canon Inc | 画像観察装置 |
| JP2000357654A (ja) | 1998-10-13 | 2000-12-26 | Nikon Corp | 反射防止膜、光学素子、露光装置、及び電子物品 |
| EP0994368A3 (en) | 1998-10-13 | 2000-05-03 | Nikon Corporation | Anti-reflective films, optical elements and reduction-projection exposure apparatus utilizing same |
| JP2000249820A (ja) | 1999-02-26 | 2000-09-14 | Canon Inc | フィルターおよびレンズ鏡筒 |
| JP2000275526A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-10-06 | Konica Corp | ズームレンズ |
| JP2000356704A (ja) | 1999-06-16 | 2000-12-26 | Asahi Optical Co Ltd | 反射防止膜の形成方法および光学素子 |
| JP2001074903A (ja) * | 1999-09-03 | 2001-03-23 | Nikon Corp | 反射防止膜及び光学素子 |
| WO2001023933A1 (fr) * | 1999-09-29 | 2001-04-05 | Nikon Corporation | Systeme optique de projection |
| EP1152263A4 (en) | 1999-09-30 | 2003-08-20 | Nikon Corp | OPTICAL DEVICE WITH THIN MULTI-LAYER SYSTEM AND THEIR USE FOR ALIGNMENT |
| JP4573937B2 (ja) * | 2000-02-23 | 2010-11-04 | キヤノン株式会社 | 光学系およびそれを有する光学機器、画像投影装置、撮像装置 |
| CH694085A5 (fr) * | 2000-05-05 | 2004-07-15 | Bobst Sa | Machine de traitement de feuilles. |
| JP4156776B2 (ja) * | 2000-05-17 | 2008-09-24 | 株式会社リコー | ズームレンズ |
| EP1315005B1 (en) * | 2000-08-30 | 2007-10-10 | Nikon Corporation | Method of forming optical thin film |
| DE10101017A1 (de) * | 2001-01-05 | 2002-07-11 | Zeiss Carl | Reflexionsminderungsbeschichtung für Ultraviolettlicht |
| KR100883949B1 (ko) * | 2001-04-10 | 2009-02-18 | 후지필름 가부시키가이샤 | 반사방지 필름, 편광판, 및 이미지 디스플레이용 장치 |
| JP4284006B2 (ja) | 2001-04-10 | 2009-06-24 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止フィルム、偏光板および画像表示装置 |
| JP4107050B2 (ja) * | 2001-10-25 | 2008-06-25 | 松下電工株式会社 | コーティング材組成物及びそれにより形成された被膜を有する物品 |
| JP2003177313A (ja) * | 2001-12-12 | 2003-06-27 | Nikon Corp | 光学系 |
| JP2004302113A (ja) | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Nikon Corp | 反射防止膜、光学部材、光学系及び投影露光装置、並びに反射防止膜の製造方法 |
| JP2005114881A (ja) | 2003-10-06 | 2005-04-28 | Nikon Corp | 投影光学系、露光装置、および露光方法 |
-
2005
- 2005-01-20 JP JP2005012898A patent/JP5201435B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-03-29 US US11/091,407 patent/US7336421B2/en active Active
- 2005-03-30 EP EP05251963.4A patent/EP1584955B1/en not_active Not-in-force
- 2005-03-30 TW TW094109956A patent/TWI432770B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-03-30 CN CNB2005100625028A patent/CN100443923C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-03-30 EP EP17195764.0A patent/EP3324221A1/en not_active Withdrawn
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2005316386A5 (ja) | ||
| TWI432770B (zh) | 光學系統 | |
| TWI375048B (en) | Anti-reflection coating, and optical element and optical system with anti-reflection coating | |
| JP5375247B2 (ja) | 反射防止膜の形成方法及び光学素子 | |
| US9423529B2 (en) | Antireflection coating, optical system, and optical instrument | |
| JP2008276059A (ja) | 光学素子およびそれを有する光学系 | |
| TW201312167A (zh) | 鏡片及具有該鏡片的鏡頭模組 | |
| JP2005284040A5 (ja) | ||
| WO2017056598A1 (ja) | 親水性多層膜及びその製造方法、並びに、撮像システム | |
| JP2015004919A (ja) | 反射防止膜及びそれを有する光学素子 | |
| TWI557439B (zh) | 紅外截止濾光片及鏡頭模組 | |
| JP2011075916A5 (ja) | ||
| JP2012078597A (ja) | 反射防止膜及び反射防止膜を有する光学部材 | |
| JP5213424B2 (ja) | 光学系及びそれを有する光学機器 | |
| WO2012049888A1 (ja) | 光学部品 | |
| JP2016206682A (ja) | 光学素子 | |
| JP2000034557A (ja) | 近赤外線用増反射膜および製造方法 | |
| JP2006072031A (ja) | 赤外域用反射防止膜およびこれを用いた赤外線レンズ | |
| WO2024066880A1 (zh) | S偏振光透反膜、挡风窗、显示装置和交通设备 | |
| JP2010015186A5 (ja) | ||
| JP5252312B2 (ja) | 反射防止膜並びにこの反射防止膜を有する光学素子及び光学系 | |
| JPH11271505A (ja) | 光学多層膜 | |
| JP2006513443A5 (ja) | ||
| JP2001141904A (ja) | 多層反射防止膜 | |
| TWI407137B (zh) | 具有抗反射單元的光學元件 |