JPH063501A - 多孔質光学材料 - Google Patents
多孔質光学材料Info
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- JPH063501A JPH063501A JP16324892A JP16324892A JPH063501A JP H063501 A JPH063501 A JP H063501A JP 16324892 A JP16324892 A JP 16324892A JP 16324892 A JP16324892 A JP 16324892A JP H063501 A JPH063501 A JP H063501A
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- porous optical
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来にない低屈折率を可能にする光学材料。
【構成】 透明材料中に微小空孔を分散させてその透明
材料自身の屈折率より低い屈折率にする。したがって、
例えば反射防止処理において、処理表面層の屈折率を従
来に比べてより空気の屈折率に近づけることができるた
め、大きな反射防止効果が得られる。それ以外にも、低
屈折率材料として各方面で有効に利用し得る。
材料自身の屈折率より低い屈折率にする。したがって、
例えば反射防止処理において、処理表面層の屈折率を従
来に比べてより空気の屈折率に近づけることができるた
め、大きな反射防止効果が得られる。それ以外にも、低
屈折率材料として各方面で有効に利用し得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、多孔質光学材料に関
し、特に、透明材料の屈折率を低下させてなる多孔質光
学材料に関する。
し、特に、透明材料の屈折率を低下させてなる多孔質光
学材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】屈折率の低い光学材料の適用分野には、
反射防止膜、光導波路、レンズ、プリズム等があり、デ
ィスプレイ表面からの反射を抑える防眩処理、光導波路
のクラッド等に用いられる。
反射防止膜、光導波路、レンズ、プリズム等があり、デ
ィスプレイ表面からの反射を抑える防眩処理、光導波路
のクラッド等に用いられる。
【０００３】ところで、従来、屈折率の低い材料として
は、サイトップ（旭化成（株）製）等のフッ素化合物
（屈折率：１．３４）やフッ化マグネシウム（屈折率：
１．３８）等の化合物、及び、それらの超微粒子を樹脂
等に分散させて形成したもの等がある。
は、サイトップ（旭化成（株）製）等のフッ素化合物
（屈折率：１．３４）やフッ化マグネシウム（屈折率：
１．３８）等の化合物、及び、それらの超微粒子を樹脂
等に分散させて形成したもの等がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フッ素
化合物、フッ化マグネシウム等の屈折率は高々１．３程
度であり、これより低いものを得ることはできなかっ
た。
化合物、フッ化マグネシウム等の屈折率は高々１．３程
度であり、これより低いものを得ることはできなかっ
た。
【０００５】また、超微粒子分散系材料では、その屈折
率は、マトリクス材料の屈折率と超微粒子の屈折率との
中間の値しかとることができず、フッ化マグネシウムの
超微粒子を用いても、１．３８以下の値をとることはで
きない。
率は、マトリクス材料の屈折率と超微粒子の屈折率との
中間の値しかとることができず、フッ化マグネシウムの
超微粒子を用いても、１．３８以下の値をとることはで
きない。
【０００６】ところで、反射防止処理については、屈折
率の高い材料と低い材料を交互に積層する多層膜による
方法と、屈折率の高いガラスあるいはプラスチック等の
表面に屈折率の低い材料の単層を設ける方法等がある。
後者の場合、屈折率をガラスあるいはプラスチック表面
から徐々に低くし、空気の屈折率（＝１）に近づけるほ
どその効果は大きい。そのためには、従来にない低い屈
折率を持つ材料が必要である。
率の高い材料と低い材料を交互に積層する多層膜による
方法と、屈折率の高いガラスあるいはプラスチック等の
表面に屈折率の低い材料の単層を設ける方法等がある。
後者の場合、屈折率をガラスあるいはプラスチック表面
から徐々に低くし、空気の屈折率（＝１）に近づけるほ
どその効果は大きい。そのためには、従来にない低い屈
折率を持つ材料が必要である。
【０００７】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、従来にない低屈折率を可能に
する光学材料を提供することである。
ものであり、その目的は、従来にない低屈折率を可能に
する光学材料を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成すべく研
究の結果、マトリクス材料中に上記超微粒子の代わり
に、真空、空気あるいは窒素等のガスからなる微小な空
孔を分散させることにより、マトリクス材料より低い屈
折率の光学材料が得られることを見出して本発明を完成
したものである。この場合、この多孔質体の空孔は、連
続して繋がっている場合とそれぞれが独立した泡状の場
合とがある。
究の結果、マトリクス材料中に上記超微粒子の代わり
に、真空、空気あるいは窒素等のガスからなる微小な空
孔を分散させることにより、マトリクス材料より低い屈
折率の光学材料が得られることを見出して本発明を完成
したものである。この場合、この多孔質体の空孔は、連
続して繋がっている場合とそれぞれが独立した泡状の場
合とがある。
【０００９】このような多孔質光学材料を作製する方法
としては、多くの方法が考えられるが、以下にいくつか
の例を示す。ただし、これらに限定されるものではな
い。
としては、多くの方法が考えられるが、以下にいくつか
の例を示す。ただし、これらに限定されるものではな
い。
【００１０】加熱、光あるいは電子線の照射により分
解して窒素等のガスを発生する物質をマトリクスとなる
樹脂のワニスに分散あるいは溶解させ、乾燥後、加熱、
光あるいは電子線照射により気泡を発生させ、多孔質体
を得る。マトリクス樹脂としては、アクリル樹脂、ポリ
エステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂
等、及び、それらの混合物、共重合体等があり、発泡物
質としては、ジアゾ化合物、過酸化物等、及び、それら
の混合物がある。
解して窒素等のガスを発生する物質をマトリクスとなる
樹脂のワニスに分散あるいは溶解させ、乾燥後、加熱、
光あるいは電子線照射により気泡を発生させ、多孔質体
を得る。マトリクス樹脂としては、アクリル樹脂、ポリ
エステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂
等、及び、それらの混合物、共重合体等があり、発泡物
質としては、ジアゾ化合物、過酸化物等、及び、それら
の混合物がある。
【００１１】樹脂モノマーに発泡物質を分散あるいは
溶解させ、重合後あるいはその前又は同時に、加熱、光
照射、電子線照射により発泡させて多孔質体を作る。
溶解させ、重合後あるいはその前又は同時に、加熱、光
照射、電子線照射により発泡させて多孔質体を作る。
【００１２】重合による体積収縮率の大きい樹脂モノ
マーの重合により空孔を作り、多孔質体を得る。
マーの重合により空孔を作り、多孔質体を得る。
【００１３】重合する際に体積の膨張率が極端に異な
る２種以上のモノマーからの共重合体を合成する際に発
生する局部的な体積の収縮から微小な空孔を発生させて
多孔質体を得る。
る２種以上のモノマーからの共重合体を合成する際に発
生する局部的な体積の収縮から微小な空孔を発生させて
多孔質体を得る。
【００１４】樹脂モノマーと相分離状態を示す材料と
シリコンオイル、液晶等とを混合して樹脂モノマーを重
合させた後、シリコンオイル、液晶等を取り除き多孔質
体を作る。
シリコンオイル、液晶等とを混合して樹脂モノマーを重
合させた後、シリコンオイル、液晶等を取り除き多孔質
体を作る。
【００１５】空気等のガスを含むマイクロカプセル
（マイクロバルーン）をのワニスに分散させ、乾燥し
て多孔質体を作る。
（マイクロバルーン）をのワニスに分散させ、乾燥し
て多孔質体を作る。
【００１６】金属アルコキサイドと有機高分子との共
加水分解、共重縮合（いわゆるゾル−ゲル法）により、
分子レベルの有機−無機複合体を作成し、加熱による有
機成分を分解させることによって、分子オーダーでの細
孔を有する多孔質体を合成する。
加水分解、共重縮合（いわゆるゾル−ゲル法）により、
分子レベルの有機−無機複合体を作成し、加熱による有
機成分を分解させることによって、分子オーダーでの細
孔を有する多孔質体を合成する。
【００１７】このようにして得られる多孔質体は、反射
防止膜等の光学薄膜材料として用いることもできるし、
バルク状に形成して、レンズ、プリズム等に構成して用
いることもできる。これらにおいて、グラジエントな屈
折率分布を持たせることもできる。屈折率分布を持たせ
るには、微小空孔の密度を変化させればよい。
防止膜等の光学薄膜材料として用いることもできるし、
バルク状に形成して、レンズ、プリズム等に構成して用
いることもできる。これらにおいて、グラジエントな屈
折率分布を持たせることもできる。屈折率分布を持たせ
るには、微小空孔の密度を変化させればよい。
【００１８】すなわち、本発明の多孔質光学材料は、透
明材料中に微小空孔を分散させてその透明材料自身の屈
折率より低い屈折率にしたことを特徴とするものであ
る。
明材料中に微小空孔を分散させてその透明材料自身の屈
折率より低い屈折率にしたことを特徴とするものであ
る。
【００１９】この場合、微小空孔は真空あるいは気体か
らなり、また、微小空孔の大きさは１０Åから使用波長
程度であることが望ましい。透明材料としては、高分子
材料、無機材料、無機高分子複合材料何れであってもよ
い。そして、本発明の多孔質光学材料には屈折率に分布
を持たせることもできる。なお、本発明の多孔質光学材
料は、光学薄膜材料として用いることもでき、光学バル
ク材料として用いることもできる。
らなり、また、微小空孔の大きさは１０Åから使用波長
程度であることが望ましい。透明材料としては、高分子
材料、無機材料、無機高分子複合材料何れであってもよ
い。そして、本発明の多孔質光学材料には屈折率に分布
を持たせることもできる。なお、本発明の多孔質光学材
料は、光学薄膜材料として用いることもでき、光学バル
ク材料として用いることもできる。
【００２０】
【作用】本発明においては、透明材料中に微小空孔を分
散させてその透明材料自身の屈折率より低い屈折率にす
ることができるので、例えば反射防止処理において、処
理表面層の屈折率を従来に比べてより空気の屈折率に近
づけることができるため、大きな反射防止効果が得られ
る。それ以外にも、低屈折率材料として各方面で有効に
利用し得る。
散させてその透明材料自身の屈折率より低い屈折率にす
ることができるので、例えば反射防止処理において、処
理表面層の屈折率を従来に比べてより空気の屈折率に近
づけることができるため、大きな反射防止効果が得られ
る。それ以外にも、低屈折率材料として各方面で有効に
利用し得る。
【００２１】
【実施例】以下、本発明の多孔質光学材料のいくつかの
実施例について説明する。 実施例１ モノマーとして東亜合成（株）製のアクリル酸誘導体
（Ｍ−５６００）を用い、この中に重合開始部材であり
窒素ガスを発生するα、α′−アゾイソブチロニトリル
を３．０重量％溶解し、基板上に塗布して電子線照射に
より表面をゆるやかに硬化させた後、基板を１１０℃で
加熱することにより、樹脂を硬化させると同時に、樹脂
中に微小な気泡を内在させた。次いで、アッベ法による
屈折率測定を行ったところ、気泡を内在させない樹脂と
比べて０．１％以下の屈折率低下が見られた。
実施例について説明する。 実施例１ モノマーとして東亜合成（株）製のアクリル酸誘導体
（Ｍ−５６００）を用い、この中に重合開始部材であり
窒素ガスを発生するα、α′−アゾイソブチロニトリル
を３．０重量％溶解し、基板上に塗布して電子線照射に
より表面をゆるやかに硬化させた後、基板を１１０℃で
加熱することにより、樹脂を硬化させると同時に、樹脂
中に微小な気泡を内在させた。次いで、アッベ法による
屈折率測定を行ったところ、気泡を内在させない樹脂と
比べて０．１％以下の屈折率低下が見られた。
【００２２】比較例１ ガスを発生しない重合開始部材としてテトラメチルチウ
ラムジスルフィドを用いた以外は、実施例１と全く同様
にして樹脂を合成した。次いで、実施例１と同様の方法
で屈折率を測定したが、屈折率に変化は見られなかっ
た。
ラムジスルフィドを用いた以外は、実施例１と全く同様
にして樹脂を合成した。次いで、実施例１と同様の方法
で屈折率を測定したが、屈折率に変化は見られなかっ
た。
【００２３】実施例２ モノマーの表面硬化の際に紫外線を用いた以外は、実施
例１と全く同様にして樹脂中に気泡を内在させた。次い
で、アッベ法による屈折率測定を行ったところ、気泡を
内在させない樹脂と比べて０．１％以下の屈折率低下が
見られた。
例１と全く同様にして樹脂中に気泡を内在させた。次い
で、アッベ法による屈折率測定を行ったところ、気泡を
内在させない樹脂と比べて０．１％以下の屈折率低下が
見られた。
【００２４】実施例３ 樹脂として東洋紡績（株）製のポリエステル（バイロン
−２００）中に発泡部材として１．０重量％の２、２´
−アゾビス（２、４−ジメチルバレロニトリル）を溶解
し、基板上に塗布後、紫外線照射により発泡部材を分解
し、樹脂中に微小な気泡が内在させた。次いで、実施例
１と同様の方法で屈折率測定を行ったところ、気泡を内
在させない樹脂と比べて０．１％以下の屈折率の低下が
見られた。
−２００）中に発泡部材として１．０重量％の２、２´
−アゾビス（２、４−ジメチルバレロニトリル）を溶解
し、基板上に塗布後、紫外線照射により発泡部材を分解
し、樹脂中に微小な気泡が内在させた。次いで、実施例
１と同様の方法で屈折率測定を行ったところ、気泡を内
在させない樹脂と比べて０．１％以下の屈折率の低下が
見られた。
【００２５】実施例４ 金属アルコキサイドのテトラエトキシシラン５０ｇと有
機高分子としてアミド基を繰り返し単位とするポリオキ
サゾリン５ｇとをエタノール３０ｍｌに溶かし、次い
で、この溶液に濃塩酸１．２ｇを４５ｇの純水で希釈し
た溶液を添加し、基板上に広げて反応させた。生成した
ゲルを６００℃で焼成し、有機高分子を分解させ、細孔
を生じさせた。有機高分子の分解温度以下で焼成した生
成物に比べて０．１％以下の屈折率低下が見られた。
機高分子としてアミド基を繰り返し単位とするポリオキ
サゾリン５ｇとをエタノール３０ｍｌに溶かし、次い
で、この溶液に濃塩酸１．２ｇを４５ｇの純水で希釈し
た溶液を添加し、基板上に広げて反応させた。生成した
ゲルを６００℃で焼成し、有機高分子を分解させ、細孔
を生じさせた。有機高分子の分解温度以下で焼成した生
成物に比べて０．１％以下の屈折率低下が見られた。
【００２６】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の多孔質光学材料によると、透明材料中に微小空孔を分
散させてその透明材料自身の屈折率より低い屈折率にす
ることができるので、例えば反射防止処理において、処
理表面層の屈折率を従来に比べてより空気の屈折率に近
づけることができるため、大きな反射防止効果が得られ
る。それ以外にも、低屈折率材料として各方面で有効に
利用し得る。
の多孔質光学材料によると、透明材料中に微小空孔を分
散させてその透明材料自身の屈折率より低い屈折率にす
ることができるので、例えば反射防止処理において、処
理表面層の屈折率を従来に比べてより空気の屈折率に近
づけることができるため、大きな反射防止効果が得られ
る。それ以外にも、低屈折率材料として各方面で有効に
利用し得る。
Claims (9)
- 【請求項１】 透明材料中に微小空孔を分散させてその
透明材料自身の屈折率より低い屈折率にしたことを特徴
とする多孔質光学材料。 - 【請求項２】 前記微小空孔が真空あるいは気体からな
ることを特徴とする請求項１記載の多孔質光学材料。 - 【請求項３】 前記微小空孔の大きさが１０Åから使用
波長程度であることを特徴とする請求項１又は２記載の
多孔質光学材料。 - 【請求項４】 前記透明材料が高分子材料からなること
を特徴とする請求項１から３の何れか１項記載の多孔質
光学材料。 - 【請求項５】 前記透明材料が無機材料からなることを
特徴とする請求項１から３の何れか１項記載の多孔質光
学材料。 - 【請求項６】 前記透明材料が無機高分子複合材料から
なることを特徴とする請求項１から３の何れか１項記載
の多孔質光学材料。 - 【請求項７】 屈折率に分布を持たせたことを特徴とす
る請求項１から６の何れか１項記載の多孔質光学材料。 - 【請求項８】 光学薄膜材料として用いたことを特徴と
する請求項１から７の何れか１項記載の多孔質光学材
料。 - 【請求項９】 光学バルク材料として用いたことを特徴
とする請求項１から７の何れか１項記載の多孔質光学材
料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16324892A JPH063501A (ja) | 1992-06-23 | 1992-06-23 | 多孔質光学材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16324892A JPH063501A (ja) | 1992-06-23 | 1992-06-23 | 多孔質光学材料 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002036645A Division JP3549108B2 (ja) | 2002-02-14 | 2002-02-14 | 反射防止用多孔質光学材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH063501A true JPH063501A (ja) | 1994-01-14 |
Family
ID=15770176
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16324892A Pending JPH063501A (ja) | 1992-06-23 | 1992-06-23 | 多孔質光学材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH063501A (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998045734A1 (fr) * | 1997-04-04 | 1998-10-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Films antireflet et afficheur correspondant |
| EP1265080A2 (en) * | 2001-05-25 | 2002-12-11 | Shipley Company LLC | Porous optical materials |
| JP2003512641A (ja) * | 1999-10-19 | 2003-04-02 | ロリク アーゲー | 位相幾何学的に構成されたポリマーコーティング |
| WO2003035780A1 (fr) * | 2001-10-25 | 2003-05-01 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Composition de materiau de revetement et article dote d'un film de revetement forme avec cette derniere |
| JP2003246137A (ja) * | 2002-02-26 | 2003-09-02 | Toppan Forms Co Ltd | インクジェットインク受容層形成用インクおよびそれを用いた記録用シート |
| WO2006132351A1 (ja) | 2005-06-09 | 2006-12-14 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | 反射防止膜の形成方法 |
| US7256948B2 (en) | 2004-03-30 | 2007-08-14 | Nikon Corporation | Anti-reflection coating, and optical element and optical system with anti-reflection coating |
| US7336421B2 (en) | 2004-03-30 | 2008-02-26 | Nikon Corporation | Optical system with anti-reflection coating |
| JP2009128844A (ja) * | 2007-11-28 | 2009-06-11 | Canon Inc | 光学系及びそれを有する光学機器 |
| US7582351B2 (en) | 2001-10-25 | 2009-09-01 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | Composite thin film holding substrate, transparent conductive film holding substrate, and panel light emitting body |
| JP2010054862A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Fujifilm Corp | 反射防止用多孔質光学材料およびその製造方法 |
| US7758956B2 (en) | 2005-02-16 | 2010-07-20 | Fujifilm Corporation | Antireflection film and polarizing plate and image display device using same |
| US8425984B2 (en) | 2008-02-19 | 2013-04-23 | Fujifilm Corporation | Multilayer film and manufacturing method thereof |
| JP2013543655A (ja) * | 2010-09-30 | 2013-12-05 | ▲海▼洋王照明科技股▲ふん▼有限公司 | 有機電界発光素子及びその製造方法 |
-
1992
- 1992-06-23 JP JP16324892A patent/JPH063501A/ja active Pending
Cited By (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6210858B1 (en) | 1997-04-04 | 2001-04-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Anti-reflection film and display device using the same |
| WO1998045734A1 (fr) * | 1997-04-04 | 1998-10-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Films antireflet et afficheur correspondant |
| JP2003512641A (ja) * | 1999-10-19 | 2003-04-02 | ロリク アーゲー | 位相幾何学的に構成されたポリマーコーティング |
| US8906458B2 (en) | 1999-10-19 | 2014-12-09 | Rolic Ag | Topologically structured polymer coating |
| JP4928038B2 (ja) * | 1999-10-19 | 2012-05-09 | ロリク アーゲー | 位相幾何学的に構成されたポリマーコーティング |
| EP1265080A2 (en) * | 2001-05-25 | 2002-12-11 | Shipley Company LLC | Porous optical materials |
| EP1265080A3 (en) * | 2001-05-25 | 2004-11-24 | Shipley Company LLC | Porous optical materials |
| US6967222B2 (en) | 2001-05-25 | 2005-11-22 | Shipley Company, L.L.C. | Porous optical materials |
| US7582351B2 (en) | 2001-10-25 | 2009-09-01 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | Composite thin film holding substrate, transparent conductive film holding substrate, and panel light emitting body |
| WO2003035780A1 (fr) * | 2001-10-25 | 2003-05-01 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Composition de materiau de revetement et article dote d'un film de revetement forme avec cette derniere |
| JP2003246137A (ja) * | 2002-02-26 | 2003-09-02 | Toppan Forms Co Ltd | インクジェットインク受容層形成用インクおよびそれを用いた記録用シート |
| US7336421B2 (en) | 2004-03-30 | 2008-02-26 | Nikon Corporation | Optical system with anti-reflection coating |
| US7256948B2 (en) | 2004-03-30 | 2007-08-14 | Nikon Corporation | Anti-reflection coating, and optical element and optical system with anti-reflection coating |
| US7758956B2 (en) | 2005-02-16 | 2010-07-20 | Fujifilm Corporation | Antireflection film and polarizing plate and image display device using same |
| US7968181B2 (en) | 2005-02-16 | 2011-06-28 | Fujifilm Corporation | Antireflection film and polarizing plate and image display device using same |
| WO2006132351A1 (ja) | 2005-06-09 | 2006-12-14 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | 反射防止膜の形成方法 |
| JP2009128844A (ja) * | 2007-11-28 | 2009-06-11 | Canon Inc | 光学系及びそれを有する光学機器 |
| US7626772B2 (en) | 2007-11-28 | 2009-12-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical system and optical apparatus having the same |
| US8425984B2 (en) | 2008-02-19 | 2013-04-23 | Fujifilm Corporation | Multilayer film and manufacturing method thereof |
| JP2010054862A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Fujifilm Corp | 反射防止用多孔質光学材料およびその製造方法 |
| JP2013543655A (ja) * | 2010-09-30 | 2013-12-05 | ▲海▼洋王照明科技股▲ふん▼有限公司 | 有機電界発光素子及びその製造方法 |
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