JP2006513443A5 - - Google Patents

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JP2006513443A5
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Claims (7)

  1. 入射し射する光(22、24)のための入射面(13)および射出面(15)を有する複屈折結晶プレート(12)を伴うリターデーション・プレートであって、
    前記結晶プレート(12)が、アルカリ土類金属フッ化物からなり、その光軸(11)が、<110>結晶軸もしくは実質的に等価な主結晶軸の方向と少なくとも概略で整列し、
    前記入射面および/または前記射出面(13、15)に、形態複屈折層構造(14、16)が付加されてい
    ことを特徴とするリターデーション・プレート。
  2. 前記アルカリ土類金属フッ化物が蛍石であることを特徴とする、請求項1に記載のリターデーション・プレート
  3. 前記形態複屈折層構造(14、16)が、交番する屈折率を伴う少なくとも2つの誘電体層(161、162、...、166)の周期的なシーケンスとして構成されることを特徴とする、請求項1または2に記載のリターデーション・プレート。
  4. 前記層(161、162、...、166)の厚さ(d)が、前記リターデーション・プレート設計波長より小さいことを特徴とする、請求項3に記載のリターデーション・プレート。
  5. 前記層(161、162、...、166)の厚さ(d)が、前記リターデーション・プレート設計波長の1/5より小さいことを特徴とする、請求項4に記載のリターデーション・プレート。
  6. 前記層(161、162、...、166)の厚さ(d)が、前記リターデーション・プレートの設計波長の1/10より小さいことを特徴とする、請求項5に記載のリターデーション・プレート
  7. 前記層(161、162、...、166)のすべてが同一の厚さ(d)を有することを特徴とする、請求項1〜6の何れか1項に記載のリターデーション・プレート。
JP2004565923A 2003-01-16 2003-02-14 リターデーション・プレート Pending JP2006513443A (ja)

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040218271A1 (en) * 2001-07-18 2004-11-04 Carl Zeiss Smt Ag Retardation element made from cubic crystal and an optical system therewith
DE102007059258A1 (de) 2007-01-22 2008-07-24 Carl Zeiss Smt Ag Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
US8023104B2 (en) 2007-01-22 2011-09-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Microlithographic projection exposure apparatus
DE102007055567A1 (de) 2007-11-20 2009-05-28 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04191703A (ja) * 1990-11-27 1992-07-10 Fujitsu Ltd 偏光無依存性光学部品
US6201634B1 (en) * 1998-03-12 2001-03-13 Nikon Corporation Optical element made from fluoride single crystal, method for manufacturing optical element, method for calculating birefringence of optical element and method for determining direction of minimum birefringence of optical element
FR2793566B1 (fr) * 1999-05-11 2002-07-12 Thomson Csf Separateur de polarisations
WO2002093201A2 (en) * 2001-05-16 2002-11-21 Corning Incorporated Preferred crystal orientation optical elements from cubic materials
US20030011893A1 (en) * 2001-06-20 2003-01-16 Nikon Corporation Optical system and exposure apparatus equipped with the optical system
US6831731B2 (en) * 2001-06-28 2004-12-14 Nikon Corporation Projection optical system and an exposure apparatus with the projection optical system
US6775063B2 (en) * 2001-07-10 2004-08-10 Nikon Corporation Optical system and exposure apparatus having the optical system
US20040218271A1 (en) * 2001-07-18 2004-11-04 Carl Zeiss Smt Ag Retardation element made from cubic crystal and an optical system therewith
DE10133841A1 (de) * 2001-07-18 2003-02-06 Zeiss Carl Objektiv mit Kristall-Linsen
US7075721B2 (en) * 2002-03-06 2006-07-11 Corning Incorporated Compensator for radially symmetric birefringence
US20050094268A1 (en) * 2002-03-14 2005-05-05 Carl Zeiss Smt Ag Optical system with birefringent optical elements
US7292388B2 (en) * 2002-05-08 2007-11-06 Carl Zeiss Smt Ag Lens made of a crystalline material
US6958864B2 (en) * 2002-08-22 2005-10-25 Asml Netherlands B.V. Structures and methods for reducing polarization aberration in integrated circuit fabrication systems
WO2004023184A1 (en) * 2002-09-03 2004-03-18 Carl Zeiss Smt Ag Objective with birefringent lenses
AU2003254550A1 (en) * 2002-09-09 2004-04-30 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection lens and method for compensating the intrinsic birefringence in a lens of this type

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