JP2004281474A - 製造対象物の受け渡し装置および製造対象物の受け渡し装置を有する搬送システム - Google Patents

製造対象物の受け渡し装置および製造対象物の受け渡し装置を有する搬送システム Download PDF

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Abstract

【課題】ウェハのような製造対象物を枚葉搬送するラインと、この製造対象物を製造する製造装置の間で、製造対象物を迅速かつ確実に受け渡しすることができる製造対象物の受け渡し装置および製造対象物の受け渡し装置を有する搬送システムを提供すること。
【解決手段】製造対象物Wを枚葉搬送する枚葉搬送ライン20と、製造対象物Wを製造する製造装置との間で、製造対象物Wを受け渡しするための製造対象物の受け渡し装置13であり、枚葉搬送ライン20と製造装置との間で製造対象物Wを移載する移載ロボット21と、枚葉搬送ライン20から移載ロボット21により運ばれてきた製造対象物Wまたは製造装置により処理された製造対象物Wを一時的に保管するバッファ34とを備える。
【選択図】 図5

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、たとえば半導体ウェハのような製造対象物を受け渡しするための製造対象物の受け渡し装置およびその製造対象物の受け渡し装置を有する搬送システムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
たとえば、半導体ウェハ(以下ウェハという)を製造するための半導体製造装置には、たとえばリソグラフィー装置、成膜装置、エッチング装置、洗浄装置、検査装置等の各種のウェハ製造装置がある。
半導体製造においては、これらウェハ製造装置の間でウェハを移動し、各製造装置で処理を施すことにより製造が進む。
このようなウェハ処理装置の間にウェハを移動するために、ウェハカセットが用いられる。このウェハカセットは、複数枚のウェハを着脱可能に収納するものである。このウェハカートリッジには、工程搬送系からから要求されるロットに応じて複数枚のウェハが収容される(たとえば特許文献1)。
また、ウェハカートリッジ方式によるウェハの搬送に代えて、少量多品種生産の要求から、コンベアに対してウェハを一枚ずつ置いて搬送するいわゆる枚葉搬送の考え方が出てきている。この枚葉搬送方式はウェハの少量多品種生産に対応させたものである(たとえば特許文献2)。
【0003】
【特許文献1】
特開昭62−48038号公報(第2頁、図1参照)
【特許文献2】
特開2002−334917号公報(第1頁、図1参照)
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、このようないわゆる枚葉搬送方式を採用すると、次のような問題がある。
コンベアで一枚ずつ運ばれてくるウェハは、複数の製造装置の間で、ロボットにより受け渡しを行うようになっている。しかし、コンベアで運ばれてくるウェハの数と製造装置におけるウェハへの処理可能な数がうまく合わないと、製造装置に対してウェハを供給してスムーズに処理できない状態になってしまう。このためにウェハの生産能力を余らせてしまい、ウェハの生産効率が下がるという問題がある。
そこで本発明は上記課題を解消し、ウェハのような製造対象物を枚葉搬送するラインと、この製造対象物を製造する製造装置の間で、製造対象物を迅速かつ確実に受け渡しすることができる製造対象物の受け渡し装置および製造対象物の受け渡し装置を有する搬送システムを提供することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明の製造対象物の受け渡し装置は、製造対象物を枚葉搬送する枚葉搬送ラインと、前記製造対象物を製造する製造装置との間で、前記製造対象物を受け渡しするための製造対象物の受け渡し装置であり、前記枚葉搬送ラインと前記製造装置との間で前記製造対象物を移載する移載ロボットと、前記枚葉搬送ラインから前記移載ロボットにより運ばれてきた前記製造対象物または前記製造装置により処理された前記製造対象物を一時的に保管するバッファと、を備えることを特徴とする。
【0006】
このような構成によれば、移載ロボットは、枚葉搬送ラインと製造装置との間で製造対象物を移載する。バッファは、枚葉搬送ラインから移載ロボットにより運ばれてきた製造対象物を一時的に保管したり、または製造装置により処理された製造対象物を一時的に保管するようになっている。
これにより、枚葉搬送ラインから移載ロボットにより運ばれてきた製造対象物は、バッファにより一時的に保管することにより、この製造対象物が製造装置に送ることができる時を待つことができる。同様にして製造装置により処理された製造対象物は、バッファにより一時的に保管することにより、やはり処理済の製造対象物を搬送ライン側に移載ロボットにより移すことができる時を待つことができる。
【0007】
したがって、枚葉搬送ラインと製造装置の間における製造対象物の授受(受け渡し)は、枚葉搬送ラインにより搬送されてくる製造対象物の数と製造装置の処理可能な能力の数に差が生じても、迅速かつ確実に製造対象物の受け渡しを行うことができる。
しかも、このバッファは、枚葉搬送ラインから移載ロボットにより運ばれてきた製造対象物を一時的に保管したり、製造装置により処理された製造対象物を一時的に保管するので、枚葉搬送ラインが停止してしまうことがなくなることから、搬送能力の低下を防ぐことができる。製造装置は、その製造装置の処理能力に応じて製造対象物を製造できるので、製造能力が低下することなく生産効率を下げずに生産を続けることができる。
【0008】
上記構成において、前記製造対象物は電子部品製造用基板または基板用ウェハであり、前記バッファは、複数の前記製造対象物を収容可能で前記移載ロボットの付近に配置されている棚状の構造物であることを特徴とすることが望ましい。
このような構成によれば、製造対象物は電子部品製造用基板または基板用ウェハである。バッファは棚状の構造物である。この棚状の構造物は、たとえば複数の製造対象物を脱着可能に収容可能であり、移載ロボットの付近に配置されている。
このことから、バッファは移載ロボットの付近にあるので、平面で見た製造対象物の受け渡し装置の設置面積は極力小さくすることができる。
【0009】
上記構成において、さらに前記製造対象物を搭載するための補助ポートを備え、前記補助ポートは前記移載ロボットの付近に配置されていることを特徴とすることが望ましい。
このような構成によれば、さらに補助ポートがたとえば複数の製造対象物を脱着可能に収容可能な容器を搭載するために備えられている。この補助ポートは、たとえば作業者がマニュアルで製造対象物を複数枚収納した容器を置くことができる。
この補助ポートを使用する場合としては、たとえば枚葉搬送ラインに何らかの故障が生じた場合や装置調整後の確認作業を行う場合などに、使用者がマニュアルで複数の製造対象物を収納した容器を置いておく。これによって、移載ロボットは補助ポートに置かれている容器から製造対象物を製造装置に対して受け渡しすることができる。
【0010】
本発明の製造対象物の受け渡し装置は、製造対象物を枚葉搬送する枚葉搬送ラインと、前記製造対象物を製造する製造装置にあらかじめ付設されている製造対象物の授受装置との間で、前記製造対象物を受け渡しするための製造対象物の受け渡し装置であり、前記枚葉搬送ラインと前記製造対象物の授受装置との間で前記製造対象物を移載する移載ロボットと、前記枚葉搬送ラインから前記移載ロボットにより運ばれてきた前記製造対象物または前記製造装置により処理された前記製造対象物を一時的に保管するバッファと、を備えることを特徴とする。
【0011】
このような構成によれば、枚葉搬送ラインと、製造装置にあらかじめ付設されている製造対象物の授受装置との間で、この製造対象物の受け渡し装置は、製造対象物を迅速かつ確実に受け渡しすることができる。
移載ロボットは、枚葉搬送ラインと製造対象物の授受装置との間で製造対象物を移載する。バッファは、枚葉搬送ラインから移載ロボットにより運ばれてきた製造対象物、または製造装置により処理された製造対象物を一時的に保管するようになっている。
【0012】
これにより、枚葉搬送ラインから移載ロボットにより運ばれてきた製造対象物は、バッファにより一時的に保管することにより、この製造対象物が製造装置の授受装置に送ることができる時を待つことができる。同様にして製造装置により処理された製造対象物は、バッファにより一時的に保管することにより、やはり処理済の製造対象物を搬送ライン側に移載ロボットにより移すことができる時を待つことができる。
したがって、枚葉搬送ラインと製造装置の授受装置との間における製造対象物の授受(受け渡し)は、枚葉搬送ラインにより搬送されてくる製造対象物の数と製造装置の処理可能な能力の数に差が生じても、迅速かつ確実に製造対象物の受け渡しを行うことができる。しかも、このバッファは、枚葉搬送ラインから移載ロボットにより運ばれてきた製造対象物を一時的に保管したり、製造装置により処理された製造対象物を一時的に保管するので、枚葉搬送ラインが停止してしまうことがなくなることから、搬送能力の低下を防ぐことができる。製造装置は、その製造装置の処理能力に応じて製造対象物を製造できるので、製造能力が低下することなく生産効率を下げずに生産を続けることができる。
【0013】
上記構成において、前記製造対象物は電子部品製造用基板または基板用ウェハであり、前記バッファは、複数の前記製造対象物を収容可能で前記移載ロボットの付近に配置されている棚状の構造物であることを特徴とすることが望ましい。
このような構成によれば、製造対象物は電子部品製造用基板または基板用ウェハである。バッファは棚状の構造物である。この構造物は、たとえば複数の製造対象物を脱着可能に収容可能であり、移載ロボットの付近に配置されている。
このことから、バッファは移載ロボットの付近にあるので、平面で見た製造対象物の受け渡し装置の設置面積は極力小さくすることができる。
【0014】
上記構成において、さらに前記製造対象物を複数収納可能な容器を搭載するための補助ポートを備え、前記補助ポートは前記移載ロボットの付近に配置されていることを特徴とすることが望ましい。
このような構成によれば、さらに補助ポートがたとえば複数の製造対象物を収容可能な容器を搭載するために備えられている。この補助ポートは、たとえば作業者がマニュアルで製造対象物を複数枚収納した容器を置くことができる。
この補助ポートを使用する場合としては、たとえば枚葉搬送ラインに何らかの故障が生じた場合や装置調整後の確認作業を行う場合などに、使用者がマニュアルで製造対象物を収容した容器を置いておく。これによって、移載ロボットは補助ポートに置かれている容器から製造対象物を製造装置に対して受け渡しすることができる。
【0015】
本発明の製造対象物の受け渡し装置を有する搬送システムは、製造対象物を搬送する搬送ラインと前記製造対象物を製造する製造装置との間で、前記製造対象物を受け渡しするための搬送システムであり、前記製造対象物を枚葉搬送するための枚葉搬送ラインと、前記枚葉搬送ラインと前記製造対象物の製造装置の間で前記製造対象物を受け渡しする受け渡し装置とを備え、前記製造対象物の受け渡し装置は、前記枚葉搬送ラインと前記製造装置との間で前記製造対象物を移載する移載ロボットと、前記枚葉搬送ラインから前記移載ロボットにより運ばれてきた前記製造対象物または前記製造装置により処理された前記製造対象物を一時的に保管するバッファと、を有することを特徴とする。
【0016】
このような構成によれば、移載ロボットは、枚葉搬送ラインと製造装置との間で製造対象物を移載する。バッファは、枚葉搬送ラインから移載ロボットにより運ばれてきた製造対象物を一時的に保管し、または製造装置により処理された製造対象物を一時的に保管するようになっている。
これにより、枚葉搬送ラインから移載ロボットにより運ばれてきた製造対象物は、バッファにより一時的に保管することにより、この製造対象物が製造装置に送ることができる時を待つことができる。同様にして製造装置により処理された製造対象物は、バッファにより一時的に保管することにより、やはり処理済の製造対象物を搬送ライン側に移載ロボットにより移すことができる時を待つことができる。
【0017】
したがって、枚葉搬送ラインと製造装置の間における製造対象物の授受(受け渡し)は、枚葉搬送ラインにより搬送されてくる製造対象物の数と製造装置の処理可能な能力の数に差が生じても、迅速かつ確実に製造対象物の受け渡しを行うことができる。
しかも、このバッファは、枚葉搬送ラインから移載ロボットにより運ばれてきた製造対象物を一時的に保管したり、製造装置により処理された製造対象物を一時的に保管するので、枚葉搬送ラインが停止してしまうことがなくなることから、搬送能力の低下を防ぐことができる。製造装置は、その製造装置の処理能力に応じて製造対象物を製造できるので、製造能力が低下することなく生産効率を下げずに生産を続けることができる。
【0018】
本発明の製造対象物の受け渡し装置を有する搬送システムは、製造対象物を搬送する搬送ラインと、前記製造対象物を製造する製造装置に付設されている製造対象物の授受装置との間で、前記製造対象物を受け渡しするための搬送システムであり、前記製造対象物を枚葉搬送するための枚葉搬送ラインと、前記枚葉搬送ラインと前記製造対象物の受け渡し装置の間で前記製造対象物を受け渡しする受け渡し装置とを備え、前記製造対象物の受け渡し装置は、前記枚葉搬送ラインと前記製造対象物の授受装置との間で前記製造対象物を移載する移載ロボットと、前記枚葉搬送ラインから前記移載ロボットにより運ばれてきた前記製造対象物または前記製造装置により処理された前記製造対象物を一時的に保管するバッファと、を有することを特徴とする。
【0019】
このような構成によれば、枚葉搬送ラインと、製造装置にあらかじめ付設されている製造対象物の授受装置との間で、この製造対象物の受け渡し装置は、製造対象物を迅速かつ確実に受け渡しすることができる。
移載ロボットは、枚葉搬送ラインと製造対象物の授受装置との間で製造対象物を移載する。バッファは、枚葉搬送ラインから移載ロボットにより運ばれてきた製造対象物、または製造装置により処理された製造対象物を一時的に保管するようになっている。
【0020】
これにより、枚葉搬送ラインから移載ロボットにより運ばれてきた製造対象物は、バッファにより一時的に保管することにより、この製造対象物が製造装置の授受装置に送ることができる時を待つことができる。同様にして製造装置により処理された製造対象物は、バッファにより一時的に保管することにより、やはり処理済の製造対象物を搬送ライン側に移載ロボットにより移すことができる時を待つことができる。
【0021】
したがって、枚葉搬送ラインと製造装置の授受装置との間における製造対象物の授受(受け渡し)は、枚葉搬送ラインにより搬送されてくる製造対象物の数と製造装置の処理可能な能力の数に差が生じても、迅速かつ確実に製造対象物の受け渡しを行うことができる。しかも、このバッファは、枚葉搬送ラインから移載ロボットにより運ばれてきた製造対象物を一時的に保管したり、製造装置により処理された製造対象物を一時的に保管するので、枚葉搬送ラインが停止してしまうことがなくなることから、搬送能力の低下を防ぐことができる。製造装置は、その製造装置の処理能力に応じて製造対象物を製造できるので、製造能力が低下することなく生産効率を下げずに生産を続けることができる。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1は、本発明の製造対象物の受け渡し装置を有する搬送システム、およびこの搬送システムの付近に設けられた複数の製造装置を示す平面図である。図2は、図1のE方向から見た搬送システムおよび製造装置の側面図である。
図1では、搬送システム11とたとえば複数の製造装置23乃至28が、半導体製造装置10を構成している。
図1に示す搬送システム11は、複数の製造対象物の受け渡し装置13を有している。この製造対象物の受け渡し装置13は、各製造装置23乃至28にそれぞれ対応した位置に設けられている。搬送システム11は、枚葉搬送コンベア20と、上述した複数の製造対象物の受け渡し装置13を備えている。各製造対象物の受け渡し装置13は、同様な構成である。
【0023】
図1と図2における半導体製造装置10は、製造対象物としてのウェハWを製造する装置である。したがって搬送システム11が搬送する搬送対象物としては、ウェハWである。
図1と図2に示す製造装置(生産装置または処理装置ともいう)23乃至28は、たとえばリソグラフィー装置、成膜装置、エッチング装置、洗浄装置、検査装置のような各種のウェハ製造装置であり、必要な順序で配列されている。
【0024】
枚葉搬送コンベア20は、枚葉搬送ラインとも呼んでいる。枚葉搬送コンベア20は、クリーントンネル30により仕切られている。このクリーントンネル30は、ウェハWの通過する部分を極力小さな閉空間で仕切るためのものである。
クリーントンネル30は、ファン付きフィルタユニット(FFU)31を有している。このファン付きフィルタユニット31は、クリーントンネル30の天井に配置されている。ファン付きフィルタユニット31は、天井から床下への空気の流れ(ダウンフロー)を発生しており、これにより空気中の塵埃を取り除き、規定された清浄度レベル(清浄度クラス)でクリーントンネル30内を管理するようになっている。
上述したように、図1に示す各製造対象物の受け渡し装置13の構成は同じである。したがって、以下の説明では、1つの製造対象物の受け渡し装置13の構造について図3〜図8を参照して説明する。
【0025】
第1の実施形態
図3乃至図8は、本発明の製造対象物の受け渡し装置13の第1の実施形態を示している。
図3は、製造対象物の受け渡し装置13と1つの製造装置23を代表的に示す平面図である。図4と図5は製造対象物の受け渡し装置13と1つの製造装置23を代表的に示す斜視図である。
【0026】
図3乃至図5において、製造対象物の受け渡し装置13は、移載ロボット21と、バッファ34、ロードポート(補助ポートの一種)33および本体35を有している。
この本体35は、製造装置23と枚葉搬送コンベア20の間に配置されている。本体35は、上述した移載ロボット21とバッファ34を内部に収容している。
ロードポート33は本体35の1つの側部35Aにおいて側方に突出して設けられている。ロードポート33の突出方向は、枚葉搬送コンベア20の搬送方向Tと平行である。
【0027】
図4と図5は、図3の製造対象物の受け渡し装置13の構造をより詳しく示している。製造対象物の受け渡し装置13と枚葉搬送コンベア20は、搬送システム11を構成している。図4では、製造対象物の受け渡し装置13の本体35の外面とロードポート33が示されている。図5では、本体35は2点鎖線により図示しており、本体35の中に収容された移載ロボット21とバッファ34が図示されている。
【0028】
図4に示すように、本体35の上部35Bには、ファン付きフィルタユニット(FFU)38が取り付けられている。この本体35は、移載ロボット21とバッファ34を極力小さな閉空間で収容している。ファン付きフィルタユニット38は、この本体35内の空間内にたとえば本体35の上部35Bから下側に向けての空気の流れ(ダウンフロー)を発生させるようになっている。これにより、本体35内の空気中の塵埃を取り除いて、規定された清浄度レベル(清浄度クラス)で本体35内を管理するようになっている。
図4に示す本体35は、枚葉搬送コンベア20側に面する部分に開口部40を有している。この開口部40は、移載ロボット21に対応した位置であって、枚葉搬送コンベア20に面して形成されている。
【0029】
次に、図3と図5に示す移載ロボット21の構造例について説明する。
移載ロボット21の具体的構造例は、図6と図7により詳しく図示している。
この移載ロボット21は、枚葉搬送ライン20と、製造装置23との間で、製造対象物であるウェハWを移載するためのロボットである。図5に示すように、移載ロボット21は、ロードポート33とバッファ34の間に配置されている。しかも移載ロボット21は製造装置23と枚葉搬送ライン20の間に配置されている。
【0030】
図6と図7に詳しく示す移載ロボット21は、本体300、第1アーム301、第2アーム302およびハンド303を有している。第1アーム301は本体300に対して中心軸CLを中心として回転可能である。第2アーム302は、回転軸CL1を中心として第1アーム301に対して回転可能である。ハンド303は、回転軸CL2を中心として回転可能であるとともに、回転軸CL3を中心として回転可能である。
ハンド303は、ほぼU字型のアーム部305,305を有している。アーム305,305には、ウェハWの外周面を保持する支持部306を有している。図8は、図6と図7に示すロボット21のハンド303を示している。このハンド303の支持部306は、ウェハWの外周部を支持している。
【0031】
次に、図3と図5に示すバッファ34について説明する。
バッファ34は、ミニバッファとも呼ばれている。このバッファ34は、製造装置23と枚葉搬送コンベア20の間に配置されている。バッファ34は、図5に示す設定部34A上に設置されている。バッファ34は、複数枚のウェハを着脱可能に収容可能である。バッファ34は、移載ロボット21により枚葉搬送コンベア20により一枚ずつ搬送されてくるウェハWを一時的に保管するものである。またこのバッファ34は、製造装置23により製造もしくは処理されたウェハWを一時的に保管する機能も有している。
上述した移載ロボット21とバッファ34は、本体35内の閉空間内に配置されている。この閉空間は、局所的にクリーン度を高めてある。
【0032】
次に、図3〜図5に示すロードポート33について説明する。
ロードポート33は、本体35の1つの側面35A側に設けられている。本体35の側面35Aには、開閉可能なシャッター35Cが設けられている。このシャッター35Cを開閉することにより、ロードポート33に載せられたウェハWはウェハWを複数内部に脱着可能に収納できる容器から、移載ロボット21により本体35内に取り込んだり、あるいは移載ロボット21により本体35内からロードポート33側に吐き出すことができる。
製造装置23の前面部60には、ロードロック(Load Lock)室入口62Aと、アンロードロック(Unload Lock)室入口62Bが設けられている。移載ロボット21は、入口62Aを通じてウェハを製造装置23内に送り込む。また移載ロボット21は、製造装置23により処理されたウェハWを製造装置23内から入口62Bを通じて取り出すようになっている。
【0033】
次に、図3〜図5に示す枚葉搬送コンベア20の構造例について説明する。
枚葉搬送コンベア20は、ベース20Aと複数のウェハ保持部46を有している。ベース20Aの上には複数のウェハ保持部46が搬送方向Tに沿って配列されている。これらのウェハ保持部46は搬送方向Tに沿ってエンドレス状に送られるようになっている。ウェハ保持部46は、その上にウェハWを載せるようになっている。各ウェハ保持部46は、等しい間隔を置いて搬送方向Tに沿って配列されていて、図示しない駆動部によりエンドレス状に搬送方向Tに沿って移動可能である。
【0034】
図4と図5に示すように、ベース20Aの上には、クリーントンネル30が設けられている。このクリーントンネル30の上面には、ファン付きフィルタユニット31が設けられている。ファン付きフィルタユニット31は、クリーントンネル30の中に形成された閉空間のクリーン度を高めるために空気の流れ(ダウンフロー)を発生している。これにより、クリーントンネル30内の空気中の塵埃を取り除き、規定された清浄度で管理するようになっている。
【0035】
次に、図3乃至図5に示す製造対象物の受け渡し装置13を有する搬送システム11の動作について、図9に示すウェハの受け渡し動作のフローを参照しながら説明する。
まず図9のステップST1において、図5に示すようにウェハWが、枚葉搬送コンベア20により搬送方向Tに沿って搬送されてくる。
図9のステップST2では、移載ロボット21が、製造装置23により製造もしくは処理しようとする該当のウェハWをウェハ保持部46から取り出す。
【0036】
図9のステップST3では、製造装置23がウェハWを受け入れて処理可能な状態である場合には、ステップST7に示すように、移載ロボット21がウェハWを製造装置23側に渡す。
そうではなく、図9に示すステップST4に示すように、製造装置23がウェハWを受け入れて処理することが不可能な状態である場合には、ステップST5のように移載ロボット21は、取り出したウェハWをバッファ34に対して一時的に格納して保管する。そしてステップST6のように、製造装置23がウェハWを受け入れて処理可能な状態になったときには、ステップST7において移載ロボット21がウェハWを製造装置23へ渡す。
【0037】
次に、図9のステップST8に示すように、移載ロボット21は、製造装置23により製造もしくは処理されたウェハWを、製造装置23から取り出す。
この時に、ステップST9に示すように枚葉搬送コンベア20がウェハWを受け入れ可能なときには、移載ロボット21はウェハWを枚葉搬送コンベア20のウェハ保持部46に移載する。
そうではなく、ステップST10に示すように、枚葉搬送コンベア20が、ウェハWを受け入れ不可能なときには、移載ロボット21は、製造装置23側で製造もしくは処理されたウェハをバッファ34に対して一時的に格納して保管する。
【0038】
そしてステップST9に示すように、枚葉搬送コンベア20がウェハWを受け入れ可能になったときには、移載ロボット21がウェハWを枚葉搬送コンベア20のウェハ保持部46の上に載置する。
図9のステップST10において、枚葉搬送コンベア20がウェハWを受け入れ不可能な時とは、たとえば次のような場合である。つまり枚葉搬送コンベア20のウェハ保持部46の上にウェハWが置けない状態、すなわち空いているウェハ保持部46が無い場合である。またもう1つの場合とは、製造装置23から枚葉搬送コンベア20側に移載するべきウェハWの数が多い場合である。
この時には、上述したように移載ロボット21はウェハWを一時的にバッファ34に格納して保管し、その後搬送可能になった場合にウェハWはコンベアのウェハ保持部46に移載されることになる。
【0039】
図5に示すロードポート33は、次のような場合に用いる。この場合とは、たとえば図5に示す枚葉搬送コンベア20が何らかの原因でウェハWを搬送できなくなった場合である。またロードポート33を使用する場合としては、ウェハWのイレギュラー処理をしたい場合である。つまり、枚葉搬送コンベア20で搬送してくるウェハWとは別に、突発的に別の種類のウェハWを製造装置23により製造もしくは処理したい場合に、その該当するウェハWがロードポート33の上に置かれる。
これによって、移載ロボット21はロードポート33の上に置かれたウェハWを製造装置23の中に給材することができる。このとき、ロードポート33にウェハWを置く場合には、一枚または複数のウェハWはフープ(FOUP)と呼ばれるカセットに格納することができる。このフープは一枚または複数枚のウェハWを密閉して格納する容器である。ロードポート33は、このフープの開閉を行うためのオープナーを有している。
このフープに代えてカセットもしくはSMIFポッドと呼ばれるものを用いてもよい。
【0040】
第2の実施形態
次に、図10乃至図12に示す本発明の搬送システムの第2の実施形態について説明する。
図10乃至図12に示す第2の実施形態は、図3乃至図5に示す第1の実施形態と比べると、製造装置23(24〜28)と枚葉搬送コンベア20については同じ構成である。
搬送システム11は、枚葉搬送コンベア20と製造対象物の受け渡し装置13を備える。図10乃至図12の製造対象物の受け渡し装置13の構成は、図3乃至図5に示す製造対象物の受け渡し装置13の構造と異なっている。
このことから、製造対象物の受け渡し装置13について説明する。ただし製造装置23(24乃至28)と、枚葉搬送コンベア20については、図3乃至図5の製造装置23(24乃至28)と枚葉搬送コンベア20の説明を用いることにする。
【0041】
図10乃至図12に示す製造装置23は、その前面部60側に通常用いられているウェハの授受装置61が設けられている。このウェハの授受装置61は、EFEM(Equipment Front End Module)と呼ばれている。
このウェハの授受装置61は、製造装置23に対してあらかじめ付設された既存のウェハの受け渡し用の授受装置である。図10乃至図11では、本発明の製造対象物の受け渡し装置13は、この既存のウェハの授受装置61と枚葉搬送コンベア20の間に設けられている点が、図3乃至図5の第1の実施形態と異なっている。
ウェハの授受装置61は、その容器63内にロボット(図示せず)を備えている。このロボットが、製造対象物の受け渡し装置13と製造装置23の間でウェハWの受け渡しを行う。容器63の上には、ファン付きフィルタユニット64が設けられている。これにより容器63の中はたとえばダウンフローにより規定された清浄度で管理できるようになっている。
【0042】
図12を参照して、製造対象物の受け渡し装置13の構造について説明する。図12では、図11に示す本体135が、2点鎖線で省略して描かれている。本体135の中には、移載ロボット21とバッファ34が配置されている。移載ロボット21とバッファ34は、図5に示す移載ロボット21とバッファ34と同じものを採用することができる。
本体135の中には、その他にウェハステージ150が設けられている。このウェハステージ150は、ウェハの授受装置61の開口部65に対応した位置に設けれている。ロードポート133は、ウェハの授受装置61の前面側に設けられている。ロードポート133はウェハ授受装置61のシャッタ136に対応した位置にある。ロードポート133は、図5に示すロードポート33と同様のものである。
【0043】
図10と図12に示すように、本体135は、ほぼ平面で見てL字型を有している。本体135の上部にはファン付きフィルタユニット38が設けられている。このファン付きフィルタユニット38は、本体135の中の閉空間において空気の流れ(ダウンフロー)を発生する。これにより、本体135内の空気中の塵埃を取り除き、規定された清浄度レベルで管理できるようになっている。
本体135の一端部135Aにはバッファ34が収容されている。本体135の他端部側にはウェハステージ150が収容されている。バッファ34とウェハステージ150の間には、移載ロボット21が配置されている。本体135の移載ロボット21と枚葉搬送コンベア20に対面する位置には開口部140が形成されている。
【0044】
ウェハステージ150は、少なくとも一段設置されている。ウェハステージ150には、ウェハの有無を検知するためのセンサーが設置されている。ウェハステージ150が複数段設けられる場合には、各ウェハステージ150は受け入れ用と受け渡し用に区別して使用しても良いし、これらの2つの役割を分けずに使用してもよい。
このウェハステージ150が、製造対象物の受け渡し装置13の本体135内に入れてあるのは、ウェハステージ150に置かれたウェハWを清浄な雰囲気で搬送する必要があるためである。
図10乃至図12に示す第2の実施形態の製造対象物の受け渡し装置13の動作は、図3乃至図5に示す製造対象物の受け渡し装置13の動作とほぼ同じである。第2の実施形態の製造対象物の受け渡し装置13は、既存のウェハの授受装置61と枚葉搬送コンベア20のウェハ保持部46の間でウェハの受け渡しを行う。
【0045】
第3の実施形態
図13乃至図15は、本発明の搬送システムの第3の実施形態を示している。
図13乃至図15に示す第3の実施形態が、図10乃至図12に示す第2の実施形態と同じ部分は、製造装置23(24乃至28)と、ウェハの授受装置61および枚葉搬送コンベア20の構造である。図13乃至図15の第3の実施形態の製造対象物の受け渡し装置13の構造は、図10乃至図12に示す第2の実施形態の製造対象物の受け渡し装置13の構造とやや異なる。
【0046】
そこで、図13乃至図15に示す製造対象物の受け渡し装置13の構造を説明する。
図13と図15に示すように、製造対象物の受け渡し装置13は、本体235を有している。この本体235は、平面で見て長方形状である。本体235の上面にはファン付きフィルタユニット38が設けられている。このファン付きフィルタユニット38は、本体235内の閉空間に空気の流れ(ダウンフロー)を発生している。これにより、本体235内の空気中の塵埃を取り除き、規定された清浄度レベルで管理するようになっている。
【0047】
本体235の中には、移載ロボット21、バッファ34、2つのウェハステージ150を収容している。本体235の1つの側面には、ロードポート33が設けられている。このロードポート33の上に搭載されたウェハWは、シャッタ35Cを開けることにより、移載ロボット21がウェハWをウェハの授受装置61に対して受け渡しできるようになっている。
移載ロボット21とロードポート33およびバッファ34は、枚葉搬送コンベア20側の位置において搬送方向Tに沿って直列に配列されている。2つのウェハステージ150は、ウェハ授受装置61の前面側に設けられている。
図10乃至図12に示す第2の実施形態および図13乃至図15に示す第3の実施形態のいずれにおいても、製造対象物の受け渡し装置13は、あらかじめ製造装置23に付設された既存のウェハ授受装置61と、枚葉搬送コンベア20の間に配置されているのが特徴的である。
【0048】
ところで、上述した第1乃至第3の実施形態のいずれの場合においても、製造対象物の受け渡し装置13は、移載ユニットとも呼ばれている。この製造対象物の受け渡し装置13は、好ましくは上述したようなバッファ34、移載ロボット21を少なくとも有している。この移載ロボット21は、ウェハ搬送ロボットとも呼ばれている。この製造対象物の受け渡し装置13は、上述したバッファ34と移載ロボット21の他に、次のような装置を有しているのが望ましい。
【0049】
すなわち、受け渡し装置13は、ウェハのノッチを合わせるための機構と、ID(識別符号)を認識するためのID認識装置を含んでいる。ノッチを合わせるための機構は、ウェハのオリエンタもしくはロボット上に取り付けられたノッチ合わせ機構とも呼ばれている。ID認識装置は、たとえば移載ロボット上に設置されていて、ウェハWを受け渡し時にウェハの種類を認識させる。このID認識装置は、製造対象物の受け渡し装置13とは別の場所に設置することもできる。この場合には、ウェハWはその別に設置されたID認識装置側に搬送されてウェハWの種類を認識することになる。
ウェハのオリエンテーション(ノッチ合わせ)を行うための機構は、たとえばバッファの上部に設置するのが望ましい。バッファは、一枚もしくは複数枚のウェハを一時的に保持もしくは保管することができるものである。バッファには、ウェハの有無を検知するセンサが付いている。
【0050】
ロードポートは、作業者がマニュアルでウェハを供給する場合に用いる。この場合には、ウェハはたとえばフープ(FOUP)を用いてロードポートの上に置く。ロードポートを使用する場合としては次のような場合がある。枚葉搬送コンベア20に問題があり、たとえば枚葉搬送ができない場合である。またメンテナンス後に、製造装置の状態を確認するために、試しにあるロットのウェハを製造装置へ投入する場合である。
【0051】
本発明の実施形態では、枚葉搬送ラインと製造装置(生産装置あるいは処理装置とも呼ぶ)との間に、本発明の製造対象物の受け渡し装置13が配置されている。この製造対象物の受け渡し装置13は、枚葉搬送ライン20と製造装置23(24乃至28)との間でウェハを直接受け渡しすることができる。
枚葉搬送ラインから製造装置へ受け渡しする際に、バッファは枚葉搬送されてきたウェハを一時的に保管したり、製造装置で処理されたウェハを一時的に保管することができる。
【0052】
また本発明の別の実施形態では、製造装置に標準的に付設されているウェハの授受装置61と枚葉搬送ライン20の間に、本発明の製造対象物の受け渡し装置13が配置されている。この場合においても、枚葉搬送ラインとウェハの授受装置との間で、製造対象物の受け渡し装置13がウェハの受け渡しを行うことができる。バッファは、枚葉搬送されてきたウェハを一時的に保管したり、製造装置で処理されたウェハを一時的に保管することができる。
【0053】
したがって、移載ロボットは、枚葉搬送ラインと製造装置との間で製造対象物を移載する。バッファは、枚葉搬送ラインから移載ロボットにより運ばれてきた製造対象物、または製造装置により処理された製造対象物を一時的に保管するようになっている。
これにより、枚葉搬送ラインから移載ロボットにより運ばれてきた製造対象物は、バッファにより一時的に保管することにより、この製造対象物が製造装置に送ることができる時(タイミング)を待つことができる。同様にして、製造装置により処理された製造対象物は、バッファにより一時的に保管することにより、やはり処理済の製造対象物を搬送ライン側に移載ロボットにより移すことができる時(タイミング)を待つことができる。
【0054】
したがって、枚葉搬送ラインと製造装置の間における製造対象物の授受(受け渡し)は、枚葉搬送ラインにより搬送されてくる製造対象物の数と製造装置の処理可能な能力の数に差が生じたとしても、迅速かつ確実に製造対象物の受け渡しを行うことができる。しかも、このバッファは、枚葉搬送ラインから移載ロボットにより運ばれてきた製造対象物を一時的に保管したり、製造装置により処理された製造対象物を一時的に保管するので、枚葉搬送ラインが停止してしまうことがなくなることから、搬送能力の低下を防ぐことができる。製造装置は、その製造装置の処理能力に応じて製造対象物を製造できるので、製造能力が低下することなく生産効率を下げずに生産を続けることができる。
【0055】
製造対象物は電子部品製造用基板または基板用ウェハである。バッファは、棚状の構造物である。しかし、このバッファは棚状の構造物に代えて、カセットであってもよい。この構造物は、複数の製造対象物を収容可能であり、移載ロボットの付近に配置されている。
このことから、バッファは移載ロボットの付近にあるので、平面で見て製造対象物の受け渡し装置の設置面積は極力小さくすることができる。
【0056】
さらに補助ポートが製造対象物を搭載するために備えられている。この補助ポートは、たとえば作業者がマニュアルで製造対象物を複数枚収納した容器を置くことができる。この補助ポートを使用する場合には、たとえば枚葉搬送ラインに何らかの故障が生じた場合などに、使用者がマニュアルで製造対象物を収容したカセットなどの容器を置いておく。これによって、移載ロボットは補助ポートに置かれている容器から製造対象物を製造装置に対して受け渡しすることができる。
【0057】
本発明の実施形態では、製造対象物の受け渡し装置13は、枚葉搬送ラインと製造装置の間で直接ウェハの受け渡しができるために、ウェハの移載時間の短縮が可能である。バッファが設けられていることにより、次々に枚葉搬送されてくるウェハが取り込まれたり、製造装置で処理されたウェハが次々と製造装置から取り出すことができる。このため、ウェハの取り込みや取り出し作業をスムーズに行うことができる。このために、半導体製造装置の生産能力の低下をきたさずに、生産を続けることができる。
【0058】
本発明の実施形態で用いる製造対象物の受け渡し装置は、各種の製造装置と枚葉搬送コンベアの間でウェハの受け渡しに使用することができる。このことから、半導体製造装置の改造および制御用のソフトウェアの改造が小さな範囲で済み、半導体製造装置のコストの上昇を抑えることができる。
本発明の実施形態においては、製造対象物の一例として半導体ウェハWを例に挙げている。しかしこれに限らず、製造対象物としては、たとえば電子部品製造用基板または基板用ウェハでよく、たとえば液晶表示装置に用いられる基板ウェハや水晶デバイス製造用の基板であっても勿論構わない。
移載ロボット21は、アームを有するタイプのロボットである。この移載ロボット21は、水平方向に移動してウェハを受け渡す形式のものであっても勿論構わない。移載ロボットの数は、図示したように一台であっても複数台であっても勿論構わない。
【0059】
本発明の実施形態では、製造対象物は電子部品製造用基板または基板用ウェハである。バッファは、好ましくは複数の前記製造対象物を収容可能で移載ロボットの付近に配置されている棚状の構造物である。
このような構成によれば、ウェハのような製造対象物は電子部品製造用基板または基板用ウェハである。バッファは棚状の構造物である。この構造物は、たとえば複数の製造対象物を脱着可能に収容可能であり、移載ロボットの付近に配置されている。バッファは棚状の構造物であればよく、完全に固定された状態で構成されていてもよく、また、簡単に脱着が可能なように、カセットなどのウェハを脱着可能に収納可能な容器を、一時的に固定して構成されていてもよい。この容器はたとえば望ましくはカセットである。
本発明は、上記実施の形態に限定されず、特許請求の範囲を逸脱しない範囲で種々の変更を行うことができる。
上記実施形態の各構成は、その一部を省略したり、上記とは異なるように任意に組み合わせることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の製造対象物の受け渡し装置を有する搬送システムを含む半導体装置を示す平面図。
【図2】図1の半導体装置のE方向から見た側面図。
【図3】本発明の第1の実施形態を示す平面図。
【図4】第1の実施形態を示す斜視図。
【図5】第1の実施形態において、一部図示を省略した斜視図。
【図6】移載ロボットの一例を示す斜視図。
【図7】移載ロボットの別の角度から見た図。
【図8】移載ロボットのハンドおよびウェハを示す図。
【図9】第1の実施形態におけるウェハの受け渡し方法の一例を示す図。
【図10】本発明の第2の実施形態を示す平面図。
【図11】本発明の第2の実施形態を示す斜視図。
【図12】本発明の第2の実施形態において、一部図示を省略した斜視図。
【図13】本発明の第3の実施形態を示す平面図。
【図14】本発明の第3の実施形態を示す斜視図。
【図15】本発明の第3の実施形態において、一部図示を省略した斜視図。
【符号の説明】
10・・・半導体製造装置、11・・・製造対象物の受け渡し装置を有する搬送システム、13・・・製造対象物の受け渡し装置、20・・・枚葉搬送コンベア(枚葉搬送ライン)、21・・・移載ロボット、33・・・ロードポート(補助ポート)、34・・・バッファ、W・・・ウェハ(製造対象物の一例)

Claims (8)

  1. 製造対象物を枚葉搬送する枚葉搬送ラインと、前記製造対象物を製造する製造装置との間で、前記製造対象物を受け渡しするための製造対象物の受け渡し装置であり、
    前記枚葉搬送ラインと前記製造装置との間で前記製造対象物を移載する移載ロボットと、
    前記枚葉搬送ラインから前記移載ロボットにより運ばれてきた前記製造対象物または前記製造装置により処理された前記製造対象物を一時的に保管するバッファと、を備えることを特徴とする製造対象物の受け渡し装置。
  2. 前記製造対象物は電子部品製造用基板または基板用ウェハであり、前記バッファは、複数の前記製造対象物を収容可能で前記移載ロボットの付近に配置されている棚状の構造物であることを特徴とする請求項1に記載の製造対象物の受け渡し装置。
  3. さらに前記製造対象物を搭載するための補助ポートを備え、前記補助ポートは前記移載ロボットの付近に配置されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の製造対象物の受け渡し装置。
  4. 製造対象物を枚葉搬送する枚葉搬送ラインと、前記製造対象物を製造する製造装置にあらかじめ付設されている製造対象物の授受装置との間で、前記製造対象物を受け渡しするための製造対象物の受け渡し装置であり、
    前記枚葉搬送ラインと前記製造対象物の授受装置との間で前記製造対象物を移載する移載ロボットと、
    前記枚葉搬送ラインから前記移載ロボットにより運ばれてきた前記製造対象物または前記製造装置により処理された前記製造対象物を一時的に保管するバッファと、を備えることを特徴とする製造対象物の受け渡し装置。
  5. 前記製造対象物は電子部品製造用基板または基板用ウェハであり、前記バッファは、複数の前記製造対象物を収容可能で前記移載ロボットの付近に配置されている棚状の構造物であることを特徴とする請求項4に記載の製造対象物の受け渡し装置。
  6. さらに前記製造対象物を搭載するための補助ポートを備え、前記補助ポートは前記移載ロボットの付近に配置されていることを特徴とする請求項4または請求項5に記載の製造対象物の受け渡し装置。
  7. 製造対象物を搬送する搬送ラインと前記製造対象物を製造する製造装置との間で、前記製造対象物を受け渡しするための搬送システムであり、
    前記製造対象物を枚葉搬送するための枚葉搬送ラインと、
    前記枚葉搬送ラインと前記製造対象物の製造装置の間で前記製造対象物を受け渡しする受け渡し装置とを備え、
    前記製造対象物の受け渡し装置は、
    前記枚葉搬送ラインと前記製造装置との間で前記製造対象物を移載する移載ロボットと、
    前記枚葉搬送ラインから前記移載ロボットにより運ばれてきた前記製造対象物または前記製造装置により処理された前記製造対象物を一時的に保管するバッファと、を有することを特徴とする製造対象物の受け渡し装置を有する搬送システム。
  8. 製造対象物を搬送する搬送ラインと、前記製造対象物を製造する製造装置に付設されている製造対象物の授受装置との間で、前記製造対象物を受け渡しするための搬送システムであり、
    前記製造対象物を枚葉搬送するための枚葉搬送ラインと、
    前記枚葉搬送ラインと前記製造対象物の授受装置の間で前記製造対象物を受け渡しする受け渡し装置とを備え、
    前記製造対象物の受け渡し装置は、
    前記枚葉搬送ラインと前記製造対象物の授受装置との間で前記製造対象物を移載する移載ロボットと、
    前記枚葉搬送ラインから前記移載ロボットにより運ばれてきた前記製造対象物または前記製造装置により処理された前記製造対象物を一時的に保管するバッファと、を有することを特徴とする製造対象物の受け渡し装置を有する搬送システム。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009272335A (ja) * 2008-04-30 2009-11-19 Asyst Technologies Japan Inc 加工処理システム及び搬送方法
WO2019082113A1 (en) * 2017-10-27 2019-05-02 Ronchi Mario S.P.A. APPARATUS FOR RESTORING RANDOMIZED CONTAINERS

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8292563B2 (en) * 2004-06-28 2012-10-23 Brooks Automation, Inc. Nonproductive wafer buffer module for substrate processing apparatus
US7578650B2 (en) * 2004-07-29 2009-08-25 Kla-Tencor Technologies Corporation Quick swap load port
JP4296601B2 (ja) * 2005-01-20 2009-07-15 村田機械株式会社 搬送台車システム
JP4563219B2 (ja) * 2005-03-01 2010-10-13 東京エレクトロン株式会社 中継ステーション及び中継ステーションを用いた基板処理システム
JP4908771B2 (ja) * 2005-04-27 2012-04-04 東京エレクトロン株式会社 処理装置システム
JP5030410B2 (ja) * 2005-09-28 2012-09-19 株式会社日立ハイテクノロジーズ 真空処理装置
JP4378655B2 (ja) * 2007-03-07 2009-12-09 株式会社ダイフク 物品処理設備
GB2452320B (en) * 2007-09-03 2012-04-11 Dek Int Gmbh Workpiece processing system and method
JP4471011B2 (ja) * 2008-03-11 2010-06-02 セイコーエプソン株式会社 部品試験装置及び部品搬送方法
WO2010094802A1 (en) * 2009-02-22 2010-08-26 Mapper Lithography Ip B.V. Preparation unit for lithogrpahy machine
GB2469112A (en) 2009-04-03 2010-10-06 Mapper Lithography Ip Bv Wafer support using controlled capillary liquid layer to hold and release wafer
CN102074443B (zh) * 2009-11-19 2013-04-24 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 大气传输腔室及其内部气流改变方法、等离子体处理设备
CN102556652A (zh) * 2010-12-31 2012-07-11 平成科贸股份有限公司 物件传输***
TWI514089B (zh) 2011-04-28 2015-12-21 Mapper Lithography Ip Bv 在微影系統中用於轉移基板的設備
JP5946617B2 (ja) * 2011-09-26 2016-07-06 株式会社Screenホールディングス 基板処理システム
JP6839993B2 (ja) * 2017-02-09 2021-03-10 日本電産サンキョー株式会社 搬送システム
CN109742041B (zh) * 2019-01-07 2020-11-24 成都中电熊猫显示科技有限公司 基板传送的控制方法及设备

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2002A (en) * 1841-03-12 Tor and planter for plowing
US278243A (en) * 1883-05-22 Lubricating compound
US2117512A (en) * 1935-03-28 1938-05-17 Lewis L Scott Oil burner
JPS6248038A (ja) 1985-08-28 1987-03-02 Nec Corp 産業用ロボツト
JPH07101706B2 (ja) 1988-09-14 1995-11-01 富士通株式会社 ウェーハの連続処理装置及び連続処理方法
JP3212087B2 (ja) 1988-10-21 2001-09-25 株式会社日立製作所 多品種搬送方法及び装置
US5536128A (en) * 1988-10-21 1996-07-16 Hitachi, Ltd. Method and apparatus for carrying a variety of products
JP3340181B2 (ja) 1993-04-20 2002-11-05 株式会社東芝 半導体の製造方法及びそのシステム
DE19701767A1 (de) * 1997-01-20 1998-07-23 Scania Cv Ab Vorlegegetriebe
JP3485833B2 (ja) * 1999-03-25 2004-01-13 三洋電機株式会社 弾性表面波デバイス
JP2001358194A (ja) 2000-06-14 2001-12-26 Shinko Electric Co Ltd ウェハ搬送装置
JP4103316B2 (ja) 2000-08-17 2008-06-18 株式会社村田製作所 自動作業システム
JP2002334917A (ja) 2001-05-07 2002-11-22 Takehide Hayashi 半導体ウエハーの端面を保持するパレット式枚葉搬送コンベヤと移載ロボット、id読み取り装置、バッファーステーションからなる搬送設備
JP2002237512A (ja) 2001-02-08 2002-08-23 Takehide Hayashi ウエハー枚葉搬送用コンベヤの移載装置
WO2002059961A1 (fr) 2001-01-24 2002-08-01 Takehide Hayashi Systeme de transfert d'une seule tranche en semi-conducteur et unite de transfert associee
US20020164242A1 (en) 2001-01-26 2002-11-07 Brian Wehrung Control system for transfer and buffering
JP4090990B2 (ja) 2001-06-25 2008-05-28 武秀 林 半導体または液晶ウエハー枚葉搬送及び移載システム
WO2003024673A1 (fr) 2001-09-12 2003-03-27 Takehide Hayashi Main de robot a fonction de positionnement pour tranche en semiconducteur et substrat de verre a cristaux liquides

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009272335A (ja) * 2008-04-30 2009-11-19 Asyst Technologies Japan Inc 加工処理システム及び搬送方法
WO2019082113A1 (en) * 2017-10-27 2019-05-02 Ronchi Mario S.P.A. APPARATUS FOR RESTORING RANDOMIZED CONTAINERS

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