JP2001093957A - 電子部品の製造装置および電子部品の製造方法 - Google Patents
電子部品の製造装置および電子部品の製造方法Info
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Abstract
電子部品の製造装置を提供することを主要な目的とす
る。 【解決手段】 当該装置は、天井に配設されたレール軌
道を移動し、カセット5をカセット収容容器8に入れて
搬出入室6へ搬送する搬送機を備える。搬出入室6内
に、カセット収容容器8とともに搬送されてきたカセッ
ト5を昇降させる手段9が設けられている。当該装置
は、カセット5からほぼ一定の水平位置で水平方向に基
板1を1枚だけ取出して、ロードロック室3へ搬出する
搬出手段を備えている。
Description
品の製造装置に関するものであり、より特定的には、数
百mm径や数百mm角以上の大型基板を用いる場合に適
した電子部品の製造装置に関する。この発明は、また、
そのような大型基板を用いる場合に適した、電子部品の
製造方法に関する。
ジセンサなどの各種電子部品の製造工程においては、部
品を一括して効率よく製造できるように、製品を、同時
に、多数個製造する。また、大型の表示装置などを製造
するために、大型の基板を用いて、製造している。そし
て、さらなる取れ数増加や部品の大型化を目指し、益々
大きな基板サイズでも製造できるように、各種生産技術
や処理装置が、年々あるいは日々、開発され、実用化さ
れている。
常多くの処理工程を有しており、被処理体である基板に
対するCVD法やスパッタ法による薄膜形成、熱拡散法
による不純物濃度領域の形成、各種薄膜のパターン形成
等において、各種の処理装置が、多数使用されている。
の微細パターンが数万個以上形成され、しかも、先の大
型化と同様、さらなる高精細化も追求されており、浮遊
している目視できないような異物やガスも、パターン形
成や化学反応の欠陥原因となる。そのため、処理装置、
検査装置、搬送装置などの工程全体を、たとえば、クラ
ス1や10などのクリーン度を有するクリーンルームの
中に収めてさらに各種の空調管理を行なっている。
ン度が増すにつれて極端に、その建設コストが増してい
る。特に、大型基板を扱う工場では、中でも、新規工場
では、立上げ時、装置の配置や工程内の作業の動きによ
り空気の流れが複雑に変わり、要所要所で、異物や不純
物の飛散抑制対策や、クリーン度の管理や維持が難しく
なっている。また工場の立上げ期間や、建設およびラン
ニングコストも増している。また、防塵服などの、工程
内の作業者に対する防塵対策のチェックポイントが増え
て、広い工程内での作業が増すにつれ、作業者自身の作
業環境も悪化しつつある。
えば、特開平6−196545号公報、特開平7−16
1797号公報、特開平7−297257号公報などに
記載の処理装置が提案されている。いずれも、基板を多
数収めたカセットと着脱可能なカバーとを一式とするポ
ット(またはポッドまたはカセット収容容器)を処理装
置間のクリーンな基板搬送に使用するものである。この
ようにしてライン全体の高クリーンエリアを低減するな
どの改善ができる。
た装置を、図6と図7を用いて説明する。
定の処理を施す処理室であるプロセスチューブ101を
備える。プロセスチューブ101には、多数枚、たとえ
ば100枚のウェハWを収納した保持体としてのウェハ
ポート102を挿脱する移送機構103を備えたロード
ロック室104が連結されている。ロードロック室10
4には、ウェハWを搬出入する搬出入室105が接続さ
れている。搬出入室105には、カセット収容容器用ポ
ート106が形成されている。保持体収容室20は、ロ
ードロック室104と搬出入室105との間に配置され
るウェハポート102を収容する。
Efficiency Particle Air)フィルタ107を通して導
入される清浄気体により、大気雰囲気下にされている。
搬出入室105内には、カセット収容容器用ポート10
6が設けられている。カセット収容容器用ポート106
には、複数枚、たとえば25枚のウェハWを収納するウ
ェアキャリアCが内部に収められたカセット収容容器1
08が設置されている。
て、1つのカセットCを収容し得る程度の大きさにされ
ている。カセット収容容器108は、下部が開口された
容器本体109とこの開口部を密閉可能に閉塞する容器
底部110とより構成される。カセット収容容器108
の内部は、カセットCを収容した状態で、大気圧に対し
て陽圧になされた高いクリーン度の清浄空気あるいは不
活性ガスが充填されている、もしくは、真空引きされて
いる。カセット収容容器108は、たとえば市販のSM
IF−POD(商標)が用いられる。
入室105の側壁を、内部に向かって、凹部状に凹ませ
るように形成されている。容器本体109を実際に載置
するポート載置台111には、容器本体109のフラン
ジ部109Aの内径よりも大きく、かつその外径よりも
小さくされたカセット挿通孔112が形成されている。
挿通孔112の周縁部は、外方へ下向き傾斜するテーパ
状に形成されている。これにより、ポート載置台111
より、下方向に、着脱可能に、容器底部載置台113が
設けられる。
うに、垂直移動アーム115の先端に、ボールねじ部1
14から大きく突出するように取付けられている。垂直
移動アーム115は、容器底部載置台113のほぼ側方
に配置されたボールねじ部114によって垂直方向(上
下方向)へ移動可能にされている。容器底部載置台11
3は、容器本体109を上方に残して、容器底部110
と、この上面に載置されているカセットCのみを沈み込
ませて、搬出入室105内に取込まれるようになってい
る。
水平移動アーム116が設けられている。水平移動アー
ム116は、容器底部載置台113の下方に位置し、水
平方向へ置き倒して屈曲可能になされた多関節アームよ
りなる。水平移動アーム116の先端には、常に水平状
態になるように、遊嵌状態で首振り可能になされたアー
ム補助部材116Aが設けられている。アーム補助部材
116Aの両端には、開閉可能にされた爪部117が設
けられている。水平移動アーム116を屈曲させた状態
で、爪部117を開閉作動することにより、沈み込んだ
カセットCの側壁を把持し得るようになっている。
は、この部分を開閉して作業エリアとの連通・遮断を行
なうためのシャッタ機構118が設けられている。
用ポート106のすぐ後側の位置に、キャリアトランス
ファ119が、エレベータ120を介して、昇降可能に
設置されている。キャリアトランスファ119の後側
に、トランスファステージ121が設置されている。ト
ランスファステージ121の上方にキャリアストックス
テージ122が設けられている。キャリアストックステ
ージ122には、カセット収容容器用ポート106から
キャリアトランスファ119により搬送されてくるウェ
ハキャリアCを、それぞれ横向きで、たとえば2列4段
に保管できるように、複数の棚が形成されている。
ェハトランスファ123が、移載用エレベータ124に
よって、昇降可能に支持されて設置されている。ウェハ
トランスファ123は、昇降しながら、トランスファス
テージ122上のウェハキャリアC内のウェハWを1枚
ずつ取出して、保持体収容室20内に収容されたウェハ
ポート100に収容保持させる。ウェハトランスファ1
23は、また、ウェハポート102からウェハWをトラ
ンスファステージ121上のウェハキャリアC内に戻す
働きもする。
で、内部HEPAフィルタ125が設けられている。H
EPAフィルタ125の上方から導入されたクリーン度
の高い清浄空気を水平方向および下方向へ順次屈曲させ
て、ポート用HEPAフィルタ125を通過させた後、
カセット収容容器用ポート106を通って、その下方へ
流し、室内へ循環させてワンスルーで排気するようにな
っている。
置は、図10(A)および(B)に示すように、処理装
置127と搬出入室128を備える。コンテナ133
は、ボックス(あるいは、ボックスストップまたはポッ
トとして特定される)132およびボックスドア(また
はポットドア)131を有している。複数のウェハ12
9を収納するウェハカセット130はボックスドア13
1の上に載せられている。この装置は、特開平7−16
1797号公報に記載の装置と異なり、搬出入室128
内には、ウェハ129を収納したウェハカセット130
とボックスドア131のみが持ち込まれる。ただし、特
開平7−161797号公報の装置と同様に、ウェハカ
セット130の昇降部の側部に、昇降機構134を有す
る。昇降機構134は搬出入室128内に設けられてい
る。また、この装置は、処理前ステージ135まで、ウ
ェハカセット135毎、搬送する、マニプレータアーム
136を有している。
置は、図11に示すように、カセットCがカセット収容
容器108と一体化されている。カセット収容容器10
8は、容器保管ステージ137に、複数個保管される。
この点で、この装置は、特開平7−161797号公報
に記載の装置と異なり、ひいては、その分、省スペース
化が図られる。
示装置の場合、全面支持で行なうと、傷の発生と発塵が
生じるという問題点がある。したがって、対向する2辺
の基板底面間に、十数mm程度の間隔を設ける形状のも
のが多い。
示装置などの各種電子部品の製造工程においては、基板
の大型化が進展している。しかも、工程数や処理装置数
が多く、大規模な工場施設が必要となってきている。し
かし、建設や保守、維持費などを抑え、装置のメーカー
から工場までのトラックなどによる搬送を容易にし、製
造や工程管理などの作業性を図るためには、各処理や移
動すべき装置あるいは付帯設備などの小型化を図る必要
がある。
引き時間などを低減する必要がある。特開平7−161
797号のように、3台のHEPAを調整するような複
雑な空調調整を不要にして、クリーン度を安定化させる
ためにも、ロードロック室等に基板を受け渡す予備室の
容積をなるべく小さくする必要がある。
あるいは特開平7−297257号公報に記載の装置で
は、搬出入室のスペースが、図6のX×Y面にカセット
の外周の容積の20倍以上大きなスペースが必要とな
る。さらに、図7を参照して、奥行方向Bを考えると、
さらにその2倍ないし3倍以上と、大きなスペースが必
要となる。
る。 搬出入室に、複数のカセットおよびカセット収容容
器を収めていること。
載や昇降機構を搬出入室に収めていること。
降機構を搬出入室に収めていること。かつ昇降機構を、
カセットまたはカセット収容容器の側部に形成している
こと。このような稼動や摺動部を搬出入室に設けるの
は、発塵などにより、製品の品質や歩留りが低下しやす
いなどの問題点がある。また、特に、液晶表示装置で
は、数百mm角以上の大型の基板を用い、カセットなど
を含めた重量は大きく、このような片持ち構造で摺動部
を設けると、大きなモーメントに耐えるため、垂直移動
アーム115、水平移動アーム116、ボールねじ11
4やその軸受が一回り大きくなったり、寿命が短くなる
などの問題を生じさせる。また、軸受が搬出入室にあ
り、メンテナンスの作業時間を増し、装置の稼働率が下
がるおそれがある。
の開示の装置では、クリーン度を安定化するため、3台
のHEPAの流量や位置を調整するような複雑な空調装
置が必要で、HEPAのスペースもかさむ。
以上の大型の基板を用い、厚みも0.5〜1.1mmと
薄いものなので、従来のように、2辺支持構造では、基
板が10〜数十mm程度反る。したがって、基板受け渡
し時などの干渉や割れを防止するため、基板間の間隔を
大きく取る必要がある。しかし、カセットやカセット収
容容器が大きく、重量が増し、上記〜の課題を、相
乗的に大きくする。
の装置では、上述の項の問題は低減されるが、上記
〜の問題は同様に存在する。すなわち、図10に示す
ように、カセット寸法に比べ、図10(B)に示す断面
図の面内において、カセットの10倍前後のスペースを
必要とする。
いて、基板を搭載したカセットの搬送には、床面に敷設
したレール上を移動する無人搬送車が一般的に用いられ
ている。しかし、この場合、無人搬送車軌道用レールや
各種処理装置、さらには、クリーン度向上のためのHE
PAユニットなどを床面に設置することになる。ひいて
は、床面積が大きくなる。これにより、有効床面積率が
下がり、メンテナンスや日常の作業性が悪くなったり、
工程内のクリーン度管理が困難になったり、工場の建設
コストが増すなどの問題点があった。
が向上する、電子部品の製造装置を提供することにあ
る。
日常の作業性が悪くならない電子部品の製造装置を提供
することにある。
リーン度管理が容易になる電子部品の製造装置を提供す
ることにある。
コストを抑えることができるように改良された部品の製
造装置を提供することにある。
製造装置を用いて電子部品を製造する方法を提供するこ
とを目的とする。
の製造装置は、基板に所定の処理を施す処理室を備え
る。上記処理室に、上記基板を上記処理室に移送する操
作を行なうロードロック室等の隣接室が接続されてい
る。上記隣接室に上記基板を複数枚上下方向に間隔をお
いて積み重ねて搭載したカセットの中から、該基板を取
出して、上記ロードロック室へ搬出する操作を行なう搬
出入室が接続されている。当該装置は、天井に配設され
たレール軌道を移動し、上記カセットをカセット収容容
器に入れて上記搬出入室へ搬送する搬送機を備える。上
記搬出入室内に、カセット収容容器とともに搬送されて
きた上記カセットを昇降させる昇降手段が設けられてい
る。当該装置は、上記カセットから、ほぼ一定の水平位
置で水平方向に上記基板を1枚だけ取出して、上記隣接
室へ搬出する搬出手段を備える。
たは処理ダクトを改善するため横置きなどで2〜3個程
度の最低限の数)のカセットおよびカセット収容容器を
収めている(あるいは、処理タクトを改善するため処理
装置に複数の搬出入室を設けてもよい)。
びカセット収容容器の保管や移載はなく、移載機構など
は不要となる。また、昇降機構の一部を搬出入室外に置
き、基板は一定の水平位置で取出されるので、隣接する
ロードロック室等の隣接室への出入口を小さくできる。
各種電子部品の清浄気体密封容器内の基板搬送式製造工
程において、大型基板であっても、工程数や処理装置数
が多くとも、各種処理装置を格段に小型化できる(従来
の数分の1以下にできる)。したがって工場施設を最小
限にし、建設や保守、維持費などを抑え、装置の、メー
カーから工場までのトラックなどの搬送を容易にし、製
造や工程管理などの作業性を向上させることができる。
造タクトを抑えることができる。また、特開平7−16
1797号のように、3台のHEPAを調節するような
複雑な空調調整が不要となる。また、クリーン度を安定
化させ、かつ製品の品質や歩留りを向上できる。
ることなく、床面積を小さくできる。これにより、有効
床面積率が増し、メンテナンスや日常の作業性を改善
し、工程内のクリーン度管理が容易になり、工場の建設
コストを抑えることができる。
ては、上記昇降手段は、上記カセットの重心近傍を下か
ら支えて、該カセットを昇降させる昇降部と、上記搬出
入室の外部に設けられ、上記昇降部を受ける受け部と、
を含む。上記昇降部は、ベローズで囲まれている。
ト収容容器の昇降機構を搬出入室外に収めている。か
つ、昇降機構を、カセット収容容器の中心付近に形成し
ている。したがって、摺動部などの発塵などにより、製
品の品質や歩留りの低下をなくし、保守作業も容易で、
ねじ部や軸部などの強度も低減できて、小型化できる。
などがないので、カセット収容容器の搬入経路を小さく
でき、搬入ロボットや移送装置なども簡素で設計が容易
である。たとえば、カセット収容容器の側部に、確認の
ための内圧計や基板の覗き窓を取付けて、基板搬入工程
におけるガラス基板の割れ、その他の異常を容易に黙視
し、確認ができる。
ることなく、床面積を小さくできる。これにより、有効
床面積率が増し、メンテナンスや日常の作業性を改善
し、工程内のクリーン度管理が容易になり、工場の建設
コストを抑えることができる。
ては、上記カセットは、上記基板を下から、少なくとも
4点で支える、水平方向に延びた少なくとも4個の突出
部を有する基板支持手段を備える。上記突出部の先端部
には、上記基板に下から当接し、該基板を支持するピン
が設けられている。
容器の軽量小型化が図れ、搬出入室も小型化できる。
板の2点支持において、基板の最大撓みは、支持間距離
の3乗に比例し、基板の厚みの3乗に反比例するので、
基板が大きくあるいは薄くなるほど極端に基板の反り量
が増す。支持点の距離を小さくすることにより、反りが
減り、基板の受渡し時などの異常振動やわずかな位置ず
れ等による干渉で、発生する基板の欠けや割れなどの不
良を低減し、カセット内の基板間隔も小さくして、カセ
ット収容容器の小型化も図れる。
えば、ほぼ全面)支持は、基板との接触部が増し、異物
付着や傷付きなどの確率が増し、好ましくない。また、
広範な面の支持部を設けるとカセット全体の重量が増
し、基板の受取りなどが困難となり、好ましくない。し
たがって、4〜6点程度の凸状突出部を設けることが好
ましい。
で、定期的に洗浄が容易なアルミニウムが好ましい。基
板の当接部には、基板に傷を付けることなく、当接する
部材も摩耗や欠けが少なく、酸性洗浄剤などに対する耐
薬品性の高いテフロンなどの樹脂が好ましい。
することなく、床面積を小さくできる。これにより、有
効床面積率が増し、メンテナンスや日常の作業性を改善
し、工程内のクリーン度管理が容易になり、工場の建設
コストを抑えることができる。
ては、上記突出部は、少なくとも6個設けられている。
減とカセットの軽量化をバランスよく両立させるために
は、突出部は6ヵ所程度が好ましい。二次元理想解で
は、反りを約1/8程度に低減できる。
ては、上記突出部は、平面形状で、なめらかな曲線の山
型を有している。
は、片持ち支持に対し、応力が均一になるような基板支
持部の断面形状が好ましい。かつ、基板間隔を最小に
し、板材などの加工と組立が容易なように、厚みを一様
にすることが好ましい。さらに、角部などをなくして、
基板との接触時の傷付けや発塵を防止するため、なめら
かな山型(波型)などの形状が好ましい。
ては、上記レール軌道と上記搬出入室は、平面図におい
て、重なっている。
効床面積率が増し、工程内のクリーン度管理が容易にな
り、工場の建設コストを抑えることができる。
ては、まず、天井に配設されたレール軌道を移動する搬
送機により、基板を複数枚上下方向に間隔をおいて積み
重ねて搭載したカセットを、カセット収容容器に入れ
て、搬出入室内に搬送する。上記カセット収容容器の下
部に設けられている遮蔽手段と、上記搬出入室の側壁に
設けられた遮蔽手段とを係合させることにより、上記搬
出入室を上部領域と下部領域に遮断する。上記搬出入室
の上記下部領域の雰囲気を清浄な気体で置換する。上記
カセット収容容器から上記カセットを取出し、これを上
記下部領域まで下降させる。上記カセットから、ほぼ一
定の水平位置で水平方向に、上記基板を1枚だけ取出
し、隣接室へ搬入する。
と同様の効果を得ることができる。請求項8に係る電子
部品の製造方法においては、上記カセット収容容器の搬
送は、該カセット収容容器内の圧力を陽圧にして行な
う。
空圧でもよいが、Oリングなどの破損や寿命などによ
り、外部の清浄でない空気が入り込まないよう、また、
基板取出し時の大気圧開放や底板開放など一連の作業性
と時間短縮のためには、大気圧よりわずかに陽圧にする
ことが好ましい。
ては、上記基板の上記隣接室への搬入は、該隣接室に設
けられた移送手段によって行われる。
設ける必要がない。
について説明する。
の部分断面図である。処理装置本体部は省略するが、ス
パッタリング、CVDなどの薄膜形成、検査、レジスト
塗布、露光、パターニングなどのパターン形成や、加
熱、乾燥、洗浄イオン注入など、各種の単一あるいは連
続処理を行なういずれの装置にも用いることができる。
は、被処理体である基板1に所定の処理を施す処理室2
を備える。処理室2に、ロードロック室3が接続されて
いる。ロードロック室3は、処理体である基板1を挿脱
する移送機構(図示せず)を有する。ロードロック室3
に、カセット5内に収容されている複数の基板1を搬出
入する操作を行なう搬出入室6が接続されている。処理
室2とロードロック室3と搬出入室6とで、処理装置7
が構成されている。
5およびカセット収容容器8が搬入される。搬出入室6
からロードロック室3には、基板1のみが搬入される。
搬出入室6内では、カセット5を昇降する。ほぼ一定の
水平位置から各基板1を、ロードロック室3に搬入す
る。これにより、搬出入室6の容積を、カセット5の外
周容積の約2倍程度(大きくとも約3倍以下)に、小型
化を図ることができた。
容容器8を横置きなどにして、搬出入室6の容積を2n
+α(最小2n強、ゲートバルブ数や移載スペースの取
り方による)とし、基板当りの真空引き等の基板取組み
時間を低減してもよい。
セット5を昇降させる機構9が設けられている。昇降機
構9は、基板1またはカセット5のほぼ重心近くに設け
られる。昇降機構のガイド(摺動)10の受け部は、搬
出入室6の外部に設けられる。搬出入室6内に存在する
昇降部(シャフト)11は、ベローズ12で囲まれ、搬
出入室6の外部と遮断される。
ット収容容器(本体)8およびカセット収容容器8の底
板13で囲まれた空間部分を、清浄度の高い不活性ガス
を入れることにより、やや大気圧より陽圧にする。これ
により、基板1を、Oリング14などを介して密封した
状態にする。このような状態にされた搬送体15を、製
造工程の処理装置間などを搬送させ、搬出入室内に搬入
される。
(A)は側部断面図であり、図2(B)は上部断面図で
ある。
基板支持部16は、アルミ製であり、約3mmの厚みを
有する。基板支持部16は、基板1を受けるため、基板
の面内方向に6ヵ所が、なめらかな山型に突出してい
る。突出部の先端近傍には、基板1に当接して基板1を
支持する、テフロン樹脂からなる、ピン17が設けられ
ている。基板1のサイズについて説明すると、厚みは
1.1mmであり、幅は550mmであり、長さ650
mmである。幅方向に、基板の端部から約150mm内
側にピン17が設けられている。基板1の端部はローラ
(図示せず)で押さえられ、反りが、おおよそ10mm
以下に抑えられている。各基板1間の間隙は30mm程
度である。カセット5内に、20枚の基板1が収容され
ている。
搬送受渡し法を説明する。図3(a)を参照して、複数
の基板1が搭載されたカセット5をカセット収容容器8
に収めてなる搬送体15を、処理装置の扉4を開いて、
搬出入室6に収める。
送体15の下方に、大気圧よりわずかに陽圧の、清浄な
N2などの不活性ガスを充填し、大気と置換する。その
後、わずかに底板13を下降させる。なお、このとき、
カセット収容容器(本体)8の外の、上部および側部の
大気がカセット収容容器(本体)8の内部に入り込まな
いように、カセット収容容器(本体)8の底部18は、
搬出入室6内に設けられた側壁突出部19とOリング1
4などを介して、当接させる。
6の上部および下部領域を同時に真空引き排気する。ゲ
ートバルブ20を開いた後、カセット5を定位置に順次
下降させる。次に、図示しない隣接のロードロック室内
に設けられたロボットで、基板1を1枚ごと、処理室2
内に搬入する。また、処理が完了した基板は、逆にカセ
ット5に戻される。
を示す。天井22にレール23が配設されている。レー
ル23に車24を取付けて、搬送機21が移動できるよ
うになっている。搬送機21は、たとえば自走式で、各
搬送機21は回転モータ(図示せず)を内蔵している。
レール23の下部には、高周波等の電源と信号を供給す
る給電線管25が配設されている。高周波電流を流し、
誘導電流を発生させて回転モータを駆動させてもよい。
これにより、非接触で発塵が少なくなる。しかも、搬送
機21内に大容量の充電器を設ける必要がなく、かつ充
電時間ロスを発生させることなく、給電できる。
ける抜差しピン26および搬送体15の受渡し時などに
稼動する昇降ユニット27を備えている。
置7の中、少なくとも一部の上に、搬送機21の通過経
路または搬送体15の受渡し位置を配置するように、軌
道レール23を配設する。床面にレール等を配設するこ
とがないので、工場全体の床面積を格段に小さくするこ
とができる。また、床の作業者の作業性を改善すること
ができ、かつ安全性を確保することができる。
がロードロック室3の場合を例示したが、その他、ロボ
ット室、前処理室、処理室等、各種従来同様の装置の基
板の受入れまたは中継室であってもよい。
例示であって制限的なものではないと考えられるべきで
ある。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求
の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味お
よび範囲内でのすべての変更が含まれることが意図され
る。
面図である。
す図である。
ための図である。
ある。
状態を説明するための断面図である。
ある。
る。
ある。
入室、8 カセット収容容器、11 シャフト、13
底板。
Claims (9)
- 【請求項1】 基板に所定の処理を施す処理室と、 前記処理室に接続され、前記基板を前記処理室に移送す
る操作を行なうロードロック室等の隣接室と、 前記隣接室に接続され、前記基板を複数枚上下方向に間
隔をおいて積み重ねて搭載したカセットの中から、該基
板を取出して、前記隣接室へ搬出する操作を行なう搬出
入室と、 天井に配設されたレール軌道を移動し、前記カセットを
カセット収容容器に入れて前記搬出入室へ搬送する搬送
機と、 前記搬出入室内に設けられ、カセット収容容器とともに
搬送されてきた前記カセットを昇降させる昇降手段と、 前記カセットから、ほぼ一定の水平位置で水平方向に前
記基板を1枚だけ取出して、前記隣接室へ搬出する搬出
手段と、を備えた、電子部品の製造装置。 - 【請求項2】 前記昇降手段は、 前記カセットの重心近傍を下から支えて、該カセットを
昇降させる昇降部と、 前記搬出入室の外部に設けられ、前記昇降部を受ける受
け部と、を含み、 前記昇降部は、ベローズで囲まれている、請求項1に記
載の電子部品の製造装置。 - 【請求項3】 前記カセットは、前記基板を下から、少
なくとも4点で支える、水平方向に延びた少なくとも4
個の突出部を有する基板支持手段を備え、 前記突出部の先端部には、前記基板に下から当接し、該
基板を支持するピンが設けられている、請求項1に記載
の電子部品の製造装置。 - 【請求項4】 前記突出部は、少なくとも6個設けられ
ている、請求項3に記載の電子部品の製造装置。 - 【請求項5】 前記突出部は、平面形状で、なめらかな
曲線の山型を有している、請求項3に記載の電子部品の
製造装置。 - 【請求項6】 前記レール軌道と前記搬出入室は、平面
図において、重なっている、請求項1に記載の電子部品
の製造装置。 - 【請求項7】 天井に配設されたレール軌道を移動する
搬送機により、基板を複数枚上下方向に間隔をおいて積
み重ねて搭載したカセットを、カセット収容容器に入れ
て、搬出入室内に搬送する工程と、 前記カセット収容容器の下部に設けられている遮蔽手段
と、前記搬出入室の側壁に設けられた遮蔽手段とを係合
させることにより、前記搬出入室を上部領域と下部領域
に遮断する工程と、 前記搬出入室の前記下部領域の雰囲気を清浄な気体で置
換する工程と、 前記カセット収容容器から前記カセットを取出し、これ
を前記下部領域まで下降させる工程と、 前記カセットから、ほぼ一定の水平位置で水平方向に、
前記基板を1枚だけ取出し、隣接室へ搬入する工程と、
を備えた、電子部品の製造方法。 - 【請求項8】 前記カセット収容容器の搬送は、該カセ
ット収容容器内の圧力を陽圧にして行なう、請求項7に
記載の電子部品の製造方法。 - 【請求項9】 前記基板の前記隣接室への搬入は、該隣
接室に設けられた移送手段によって行われる、請求項7
に記載の電子部品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26731599A JP3769425B2 (ja) | 1999-09-21 | 1999-09-21 | 電子部品の製造装置および電子部品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26731599A JP3769425B2 (ja) | 1999-09-21 | 1999-09-21 | 電子部品の製造装置および電子部品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001093957A true JP2001093957A (ja) | 2001-04-06 |
JP3769425B2 JP3769425B2 (ja) | 2006-04-26 |
Family
ID=17443122
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26731599A Expired - Fee Related JP3769425B2 (ja) | 1999-09-21 | 1999-09-21 | 電子部品の製造装置および電子部品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3769425B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 1999-09-21 JP JP26731599A patent/JP3769425B2/ja not_active Expired - Fee Related
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CN114401910B (zh) * | 2019-09-18 | 2023-12-05 | 村田机械株式会社 | 输送***以及保管部 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3769425B2 (ja) | 2006-04-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20050523 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20050713 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090210 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 4 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100210 |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 5 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110210 |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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