JP2003003132A - 粘着シートおよび貼着体 - Google Patents

粘着シートおよび貼着体

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JP2003003132A
JP2003003132A JP2001185221A JP2001185221A JP2003003132A JP 2003003132 A JP2003003132 A JP 2003003132A JP 2001185221 A JP2001185221 A JP 2001185221A JP 2001185221 A JP2001185221 A JP 2001185221A JP 2003003132 A JP2003003132 A JP 2003003132A
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Japan
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pressure
sensitive adhesive
adhesive sheet
layer
base material
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JP2001185221A
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English (en)
Inventor
Isao Sakurai
功 桜井
Tomikazu Shibano
富四 柴野
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Lintec Corp
Original Assignee
Lintec Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】半導体へ悪影響を与えにくい粘着シートおよび
貼着体を提供すること。 【解決手段】貼着体1Aは、半導体製造装置に貼着して
用いる。貼着体1Aは、粘着シート基材21と粘着剤層
22とを有する粘着シート2Aに、離型シート基材31
と離型剤層32とを有する離型シート3Aが、粘着剤層
22と離型剤層32とが接するように、貼着された構成
となっている。貼着体1Aは、粘着シート2A中のシリ
コーン量が、500μg/m2以下である。粘着シート
2Aが含有するNOX -,Cl-,PO4 3-,F-,K+,Na+,Ca2+の量の
総計は、20mg/m2以下であることが好ましい。粘
着シート2Aでは、85℃において、30分間の発生ガ
ス量が20mg/m2以下であることが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、粘着シートおよび
貼着体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体は、様々な製品に広く用いられて
いる。
【0003】半導体の製造には、単結晶シリコンの切断
・研磨装置、ステッパー、テープリムーバー、ウェハマ
ウンター、ウェハ管理システム、テープラミネーター、
UV照射装置等の半導体製造装置が用いられている。
【0004】このような半導体製造装置の内部または外
部には、装置や部品の内容表示等の目的で、粘着シート
が貼着されている。
【0005】このような粘着シートは、通常、粘着シー
ト基材と粘着剤層とで構成されており、半導体製造装置
に貼着される前は、離型シートに貼着されている。
【0006】この離型シートの表面(粘着剤層との接触
面)には、離型性の向上を目的として、離型剤層が設け
られている。従来、この離型剤層の構成材料としては、
シリコーン樹脂が用いられてきた。
【0007】ところが、このような離型シートを粘着シ
ートに貼着すると、離型シート中の低分子量のシリコー
ン樹脂、シロキサン、シリコーンオイルなどのシリコー
ン化合物が粘着シートの粘着剤層に移行することが知ら
れている。また、前記離型シートは製造後、ロール状に
巻き取られるが、この時、離型シートの裏面と離型剤層
とが接触し、シリコーン樹脂中のシリコーン化合物が離
型シートの裏面に移行する。この離型シートの裏面に移
行したシリコーン化合物は、貼着体製造時、貼着体をロ
ール状に巻き取る際に、粘着シート表面に再び移行する
ことも知られている。
【0008】このような離型シートに貼着されていた粘
着シートを貼着した場合、その後、粘着剤層や粘着シー
トの表面に移行したシリコーン化合物が徐々に気化し、
気化したシリコーン化合物が物体の表面等に堆積し、微
小なシリコーン化合物層を形成することが知られてい
る。
【0009】このようなシリコーン化合物層が製造過程
の半導体の表面等に形成されると、正常な回路の形成を
阻害する等の悪影響を生じるおそれがある。
【0010】特に、近年、半導体は著しい勢いで高性能
化、高密度化が進んでおり、今後もこのような高性能
化、高密度化は、さらに進行するものと考えられる。そ
して、半導体の高性能化、高密度化がさらに進むと、前
述したような微小なシリコーン化合物の堆積が、半導体
の機能に重大な悪影響を及ぼす可能性がある。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、半導
体の製造に、悪影響を与えにくい粘着シートおよび貼着
体を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(13)の本発明により達成される。
【0013】(1) 基材と、該基材上に設けられた粘
着剤層とを有し、半導体の製造装置またはその関連品に
用いられる粘着シートであって、前記粘着シートのシリ
コーン化合物の含有量が、500μg/m2以下である
ことを特徴とする粘着シート。
【0014】(2) 85℃において、30分間の発生
ガス量が20mg/m2以下である上記(1)に記載の
粘着シート。
【0015】(3) 前記粘着シートが含有するNOX -,C
l-,PO4 3-,F-,K+,Na+,Ca2+の量の総計が、20mg/m2
以下である上記(1)または(2)に記載の粘着シー
ト。
【0016】(4) 前記基材は、プラスチックフィル
ムまたは無塵紙で構成されている上記(1)ないし
(3)のいずれかに記載の粘着シート。
【0017】(5) 前記基材と、前記粘着剤層との間
に、帯電防止層を有する上記(1)ないし(4)のいず
れかに記載の粘着シート。
【0018】(6) 前記帯電防止層は、カーボンブラ
ック、金属酸化物系の導電性フィラー、π電子共役系導
電性ポリマーの少なくとも1種類の帯電防止剤を含むも
のである上記(5)に記載の粘着シート。
【0019】(7) 前記帯電防止層は、金属または金
属酸化物の薄膜で構成される上記(5)に記載の粘着シ
ート。
【0020】(8) 前記帯電防止層の表面抵抗率は、
1×104〜1×1012Ωである上記(5)ないし
(7)のいずれかに記載の粘着シート。
【0021】(9) 上記(1)ないし(8)のいずれ
かに記載の粘着シートに、離型剤層を有する離型シート
が貼着されたことを特徴とする貼着体。
【0022】(10) 直径0.1μm以上の塵の発塵
度が、100個/l以下である上記(9)に記載の貼着
体。
【0023】(11) 前記離型剤層は、少なくともポ
リオレフィン系熱可塑性エラストマーとポリエチレン樹
脂とからなる上記(9)または(10)に記載の貼着
体。
【0024】(12) 前記オレフィン系熱可塑性エラ
ストマーと前記ポリエチレン樹脂との重量比は、25:
75〜75:25である上記(11)に記載の貼着体。
【0025】(13) 前記オレフィン系熱可塑性エラ
ストマーの密度は、0.80〜0.90g/cm3であ
る上記(11)または(12)に記載の貼着体。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、本発明の粘着シートおよび
貼着体について、好適実施形態に基づいて詳細に説明す
る。
【0027】図1は、本発明の貼着体の第1実施形態を
示す概略断面図である。半導体は、通常、以下に示すよ
うな工程を有する方法により製造される。すなわち、半
導体は、例えば、単結晶シリコンのインゴットを切断・
研磨し、ウェハを製造する工程、フォトリソグラフィー
工程、電極蒸着工程、検査工程、保護テープ貼着工程、
バックグラインド工程、保護テープを剥離する工程、ウ
ェハマウント工程、ダイシング工程、UV照射工程、ピ
ックアップ工程、ダイボンディング工程、モールディン
グ工程、最終検査工程等の工程を経て製造される。フォ
トリソグラフィー工程では、ウェハの表面への被膜(例
えば、酸化膜、窒化膜、多結晶シリコン膜等)の形成、
前記被膜が形成された側の表面へのレジストの塗布、別
途作製したマスクを用いて行う露光、現像、レジスト除
去、イオン注入・拡散等の操作を繰り返し行う。
【0028】本発明の粘着シートは、前述したような半
導体の各製造工程で用いられる半導体製造装置またはそ
の関連品に、貼着して用いられるものである。半導体製
造装置としては、例えば、単結晶シリコンのインゴット
の切断・研磨装置、ステッパー、テープリムーバー、ウ
ェハマウンター、ウェハ管理システム、テープラミネー
ター、UV照射装置、搬送装置、各加工工程間で一時的
にウェハを収容する収納箱やケース等が挙げられる。
【0029】本発明の粘着シートは、半導体製造装置の
内部または外部に直接貼着されるものに限定されず、前
記半導体製造装置の関連品に用いることもできる。すな
わち、本発明の粘着シートは、例えば、半導体の製造に
直接関与する半導体製造装置のほか、半導体製造装置に
用いられる消耗部品やその包材、半導体製造装置のカバ
ー、検査装置、空調装置等、おおよそ、半導体の製造ラ
インに影響を及ぼす可能性のあるものを対象とする。
【0030】以下、半導体製造装置およびその関連品の
ことを総称して、「半導体製造装置等」と言う。
【0031】図1に示すように、本発明の貼着体1A
は、粘着シート基材21と粘着剤層22とを有する粘着
シート2Aに、離型シート基材31と離型剤層32とを
有する離型シート3Aが、粘着剤層22と離型剤層32
とが接するように、貼着された構成となっている。本発
明の貼着体1Aは、粘着シート2A中のシリコーン化合
物の含有量が、500μg/m2以下である。
【0032】このような貼着体1Aでは、離型シート3
Aが粘着シート2Aから剥離可能であり、剥離後、粘着
シート2Aは、半導体製造装置等(被着体)に貼着され
る。まず、粘着シート2Aについて説明する。粘着シー
ト2Aは、粘着シート基材21上に粘着剤層22が形成
された構成となっている。
【0033】粘着シート基材21は、粘着剤層22を支
持する機能を有しており、例えば、ポリエチレンテレフ
タレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィル
ム等のポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム
やポリメチルペンテンフィルム等のポリオレフィンフィ
ルム、ポリカーボネートフィルム等のプラスチックフィ
ルム、アルミニウム、ステンレス等の金属箔、グラシン
紙、上質紙、コート紙、含浸紙、合成紙等の紙およびこ
れらを積層したもので構成されている。
【0034】その中でも、特に、粘着シート基材21
は、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレ
ンテレフタレートフィルム等のポリエステルフィルム、
ポリプロピレンフィルム等のプラスチックフィルムまた
は発塵の少ないいわゆる無塵紙(例えば特公平6−11
959号)で構成されているのが好ましい。粘着シート
基材21がプラスチックフィルムまたは無塵紙で構成さ
れることにより、加工時、使用時等において、塵などが
発生し難く、製造される半導体に対して、さらに悪影響
を及ぼし難くなる。また、粘着シート基材21がプラス
チックフィルムまたは無塵紙で構成されると、加工時に
おける裁断または打ち抜き等が容易となる。また、粘着
シート基材21にプラスチックフィルムを用いる場合、
かかるプラスチックフィルムは、ポリエチレンテレフタ
レートフィルムであるのがより好ましい。ポリエチレン
テレフタレートフィルムは、塵の発生が少なく、また、
加熱時のガスの発生が少ないという利点を有している。
【0035】粘着シート基材21の厚さは、特に限定さ
れないが、20〜200μmであるのが好ましく、25
〜100μmであるのがより好ましい。粘着シート基材
21は、その表面(粘着剤層22が積層する面と反対側
の面)に印刷や印字が施されていてもよい。また、印刷
や印字の密着をよくする等の目的で、粘着シート基材2
1は、その表面に、表面処理が施されていてもよい(図
示せず)。また、粘着シート2Aは、ラベルとして機能
してもよい。
【0036】粘着剤層22は、粘着剤を主剤とした粘着
剤組成物で構成されている。粘着剤としては、例えば、
アクリル系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系
粘着剤が挙げられる。その中でも、特に、粘着剤層22
に用いられる粘着剤としては、アクリル系粘着剤である
のが好ましい。
【0037】粘着剤層22をアクリル系粘着剤で構成す
ると、粘着シート2Aは離型シート3Aから剥離する際
に良好な剥離性が得られ、しかも、被着体に対する接着
力が高い。特に、後述するように離型剤層32がオレフ
ィン系熱可塑性エラストマーとポリエチレン樹脂とから
なる場合、粘着剤層22を構成する粘着剤にアクリル系
粘着剤を用いると、粘着シート2Aの剥離性は、極めて
良好となる。
【0038】例えば、粘着剤がアクリル系粘着剤である
場合、かかる粘着剤は、粘着性を与える主モノマー成
分、接着性や凝集力を与えるコモノマー成分、架橋点や
接着性改良のための官能基含有モノマー成分を主とする
重合体または共重合体から構成することができる。
【0039】主モノマー成分としては、例えば、アクリ
ル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、ア
クリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジル、アクリ
ル酸メトキシエチル等のアクリル酸アルキルエステル
や、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキ
シル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベン
ジル等のメタクリル酸アルキルエステル等が挙げられ
る。
【0040】コモノマー成分としては、例えば、アクリ
ル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、酢酸ビニル、スチレン、アクリロニトリル等が挙げ
られる。
【0041】官能基含有モノマー成分としては、例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン
酸等のカルボキシル基含有モノマーや、2−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレ−ト、2−ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレ−ト、N−メチロールアクリルアミド
等のヒドロキシル基含有モノマー、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、グリシジルメタクリレート等が挙げら
れる。
【0042】これらの各成分を含むことにより、粘着剤
組成物の粘着力、凝集力が向上する。また、このような
アクリル系樹脂は、通常、分子中に不飽和結合を有しな
いため、光や酸素に対する安定性の向上を図ることがで
きる。さらに、モノマーの種類や分子量を適宜選択する
ことにより、用途に応じた品質、特性を備える粘着剤組
成物を得ることができる。
【0043】このような粘着剤組成物には、架橋処理を
施す架橋型および架橋処理を施さない非架橋型のいずれ
のものを用いてもよいが、架橋型のものがより好まし
い。架橋型のものを用いると、凝集力のより優れた粘着
剤層22を形成することができる。架橋型粘着剤組成物
に用いる架橋剤としては、エポキシ系化合物、イソシア
ナート化合物、金属キレート化合物、金属アルコキシ
ド、金属塩、アミン化合物、ヒドラジン化合物、アルデ
ヒド系化合物等が挙げられる。
【0044】また、本発明に用いられる粘着剤組成物中
には、必要に応じて、帯電防止剤や、可塑剤、粘着付与
剤、安定剤等の各種添加剤が含まれていてもよい。
【0045】特に、粘着剤組成物中に帯電防止剤が含ま
れることにより、粘着シート2Aを離型シート3Aから
剥離する際などに、剥離帯電が発生するのを効果的に防
止することが可能となる。また、粘着シート2Aの貼着
部位付近に電圧が発生した場合であっても、安全にアー
スすることが可能となる。このような帯電防止剤として
は、イオンを実質的に含有しないもの(ノニオン性)で
あるのが好ましい。帯電防止剤がノニオン性であること
により、帯電防止剤からのイオンの発生を効果的に防止
することができる。したがって、製造される半導体等へ
のイオンの移行を防止することができ、結果として、製
造される半導体に対する悪影響の発生を、より効果的に
防止することができる。このような帯電防止剤の好まし
い例としては、後述するカーボンブラック、金属系の導
電性フィラー、金属酸化物系の導電性フィラー、π電子
共役系導電性ポリマー等が挙げられる。
【0046】粘着剤層22中における帯電防止剤の含有
量は、特に限定されないが、例えば、1〜50wt%で
あるのが好ましく、3〜30wt%であるのがより好ま
しい。帯電防止剤の含有量が1wt%未満であると、帯
電防止剤の効果が十分に得られない場合がある。一方、
帯電防止剤の含有量が50wt%を超えると、粘着剤層
22中における粘着剤の含有量が相対的に低下し、被着
体に対する粘着シート2Aの接着性が低下する場合があ
る。
【0047】粘着剤層22の厚さは、特に限定されない
が、1〜70μmであるのが好ましく、10〜40μm
であるのがより好ましい。これにより、良好な粘着力が
得られる。
【0048】このような粘着シートでは、粘着シートの
シリコーン化合物の含有量が、500μg/m2以下で
ある。
【0049】シリコーン化合物の例としては、低分子量
のシリコーン樹脂、シリコーンオイル、シロキサン等が
挙げられる。粘着シート2Aのシリコーン化合物の含有
量を500μg/m2以下にすると、粘着シート2Aを
被着体に貼着したとき、粘着シート2Aから放出される
シリコーン化合物の量が極めて小さなものとなる。した
がって、本発明の粘着シートを用いれば、粘着シートか
らシリコーン化合物が放出され、かかるシリコーン化合
物が製造される半導体の表面に付着したり、さらに堆積
するという現象が起きることを防止できる。ゆえに、半
導体製造装置等に本発明の粘着シートを用いれば、製造
される半導体は、トラブルがより発生し難いものとな
り、信頼性が向上する。
【0050】また、半導体を高密度化、高性能化する場
合には、シリコーン化合物の放出量が極めて微量であっ
ても、その悪影響は非常に大きなものとなるが、本発明
の粘着シートは、シリコーンの含有量が極めて少なく、
実質的にシリコーン化合物を放出しないため、半導体の
更なる高密度化、高性能化を図ることが可能となる。
【0051】また、半導体製造装置等は、その構成部品
の発熱等による温度上昇が起こり易い環境下に置かれる
ことが多い。従来の粘着シートでは、このような温度上
昇により、シリコーン化合物をさらに放出し易かった。
これに対し、本発明の粘着シートは、温度上昇が起こり
易い環境下においても、放出されるシリコーン化合物の
量が極めて小さい。したがって、シリコーン化合物が製
造される半導体の表面等に堆積するという現象が起きる
ことを効果的に防止できる。その結果、製造される半導
体は、トラブルがより発生し難く、信頼性に優れたもの
となる。このような効果は、粘着シート2Aのシリコー
ン化合物の含有量を100μg/m2以下にすると、さ
らに顕著に得られる。
【0052】また、粘着シート2Aでは、粘着シート2
Aが含有するNOX -,Cl-,PO4 3-,F-,K+,Na+,Ca2+の量の総
計が、20mg/m2以下であることが好ましく、5m
g/m 2以下であることがより好ましい。粘着シート2
Aが、このようなイオンを多く含有していると、かかる
イオンが、製造される半導体等に付着し悪影響を与える
おそれがある。これに対し、このようなイオンの量を前
述した数値以下にすると、粘着シート2Aから発生する
イオン量が極めて小さくなり、製造される半導体等は、
悪影響を受けにくくなる。
【0053】粘着シート2Aでは、85℃において、3
0分間の発生ガス量が20mg/m 2以下であることが
好ましく、5mg/m2以下であることがより好まし
い。ここで、粘着シート2Aから発生するガスの種類と
しては、例えば(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル
酸エステル、スチレン等の粘着剤中の樹脂成分のうち未
反応のモノマーや低分子量の重合物、トルエン、酢酸エ
チル、メチルエチルケトン等の溶剤、フタル酸エステル
(ジオクチルフタレート、ジエチルヘキシルフタレー
ト、ジn−デシルフタレート等)のような可塑剤等が挙
げられる。粘着シート2Aからの発生ガス量を少なくす
ると、製造される半導体の表面等に付着・堆積する物質
を減少させることができる。ところで、粘着シート2A
からの発生ガス量は、粘着シート2Aの環境温度が高け
れば高いほど大きくなると考えられる。そして、半導体
製造装置等では、作動中、装置内部の温度が上昇する場
合がある。しかしその場合でも、粘着シート2Aの環境
温度は、通常80℃以下と考えられる。したがって、8
5℃において、30分間の発生ガス量が前述した値以下
であると、通常の半導体製造装置等の使用条件では、粘
着シート2Aからのガス発生量はさらに小さくなり、粘
着シート2Aは、ガス発生という観点からも、半導体製
造装置等に対して好適に使用できる。
【0054】このような粘着シート2Aには、通常、使
用時直前までは、離型シート3Aが貼着されている。そ
して、粘着シート2Aおよび粘着剤層22の前述した特
性は、離型シート3A、特に離型剤層32の組成、性質
に大きく依存する。粘着シート2Aおよび粘着剤層22
が上述した特性を得るためには、離型シート3Aは、以
下に述べるようなものであるのが好ましい。離型シート
3Aは、離型シート基材31上に離型剤層32が形成さ
れた構成となっている。離型シート基材31には、前記
粘着シート基材21と同様のものが使用できる。
【0055】離型シート基材31の厚さは、特に限定さ
れないが、20〜200μmであるのが好ましく、25
〜100μmであるのがより好ましい。このような離型
シート基材31上には、離型剤で構成された離型剤層3
2が設けられている。離型剤層32を設けることによ
り、粘着シート2Aを離型シート3Aから剥離すること
が可能となる。
【0056】離型剤層32に用いられる離型剤として
は、例えば、ポリエチレン樹脂等のポリオレフィン、オ
レフィン系熱可塑性エラストマー等の熱可塑性エラスト
マー、テトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂、これら
の混合物などが挙げられる。
【0057】その中でも、離型剤層32に用いられる好
ましい離型剤としては、ポリエチレン樹脂とオレフィン
系熱可塑性エラストマーが挙げられる。離型剤層32が
このような離型剤で構成されていると、製造される半導
体に悪影響を与えやすいシリコーン化合物を離型剤層3
2に含有しない構成となる。したがって、離型剤層32
をポリエチレン樹脂および/またはオレフィン系熱可塑
性エラストマーで構成すると、シリコーン化合物が離型
剤層32から粘着剤層22に移行するような環境が貼着
体1A内に形成されることを、防止することができる。
さらには、離型剤層32をポリエチレン樹脂とオレフィ
ン系熱可塑性エラストマーで構成すると、貼着体1Aを
製造する際にシリコーン樹脂を製造現場で用いる必要が
なくなるので、粘着シート基材21や離型シート基材3
1の表面にシリコーン化合物が付着することを防止でき
る。
【0058】離型剤層32が、オレフィン系熱可塑性エ
ラストマーとポリエチレン樹脂とであることにより、上
述した効果に加えて、優れた剥離性が得られるようにな
る。したがって、離型剤層32がオレフィン系熱可塑性
エラストマーとポリエチレン樹脂とであると、粘着剤層
22中および粘着シート基材21のシリコーン化合物量
の総計を500μg/m2以下に、さらには100μg
/m2以下に容易にできるのみならず、粘着シート2A
を半導体製造装置等に使用しても、製造される半導体に
シリコーン化合物が付着・堆積するのを防止することが
できる。その上、粘着シート2Aを離型シート3Aから
簡便、確実に剥離することができるようになる。
【0059】離型剤層32が、オレフィン系熱可塑性エ
ラストマーとポリエチレン樹脂である場合、オレフィン
系熱可塑性エラストマーは、以下の条件を満足すること
が好ましい。
【0060】オレフィン系熱可塑性エラストマーは、例
えば、エチレンプロピレン共重合体、エチレンオクテン
共重合体等が挙げられる。その中でも、特に、エチレン
プロピレン共重合体であるのが好ましい。オレフィン系
熱可塑性エラストマーとして、エチレンプロピレン共重
合体を用いることにより、剥離性に特に優れた離型シー
ト3Aを得ることができる。市販されているものとして
は、三井化学社製タフマーシリーズなどがある。
【0061】また、かかるオレフィン系熱可塑性エラス
トマーの密度は、特に限定されないが、0.80〜0.
90g/cm3であるのが好ましく、0.86〜0.8
8g/cm3であるのがより好ましい。オレフィン系熱
可塑性エラストマーの密度が、下限値未満であると、十
分な耐熱性が得られない。一方、オレフィン系熱可塑性
エラストマーの密度が、上限値を超えると、十分な剥離
性が得られない場合がある。
【0062】一方、ポリエチレン樹脂の密度は、特に限
定されないが、0.890〜0.925g/cm3であ
るのが好ましく、0.900〜0.922g/cm3
あるのがより好ましい。ポリエチレン樹脂の密度が、下
限値未満であると、十分な耐熱性が得られない場合があ
る。一方、ポリエチレン樹脂の密度が、上限値を超える
と、十分な剥離性が得られない場合がある。
【0063】このようなポリエチレン樹脂は、例えば、
チーグラーナッタ触媒、メタロセン触媒等の遷移金属触
媒を用いて合成されたものであるのが好ましい。特に、
メタロセン触媒を用いて合成されたものは、剥離性・耐
熱性に優れている。
【0064】離型剤層32がオレフィン系熱可塑性エラ
ストマーとポリエチレン樹脂とである場合、オレフィン
系熱可塑性エラストマーとポリエチレン樹脂の重量比
(配合比)は、特に限定されないが、25:75〜7
5:25であるのが好ましく、40:60〜60:40
であるのがより好ましい。オレフィン系熱可塑性エラス
トマーの含有量が少なすぎると、オレフィン系熱可塑性
エラストマー、ポリオレフィン樹脂の種類によっては、
十分な離型性が得られない場合がある。一方、オレフィ
ン系熱可塑性エラストマーの含有量が多すぎると、オレ
フィン系熱可塑性エラストマー、ポリオレフィン樹脂の
種類によっては、十分な耐熱性が得られない場合があ
る。なお、離型剤層32は、他の樹脂成分や、可塑剤、
安定剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。
【0065】離型剤層32の厚さは、特に限定されない
が、10〜50μmであるのが好ましく、15〜30μ
mであるのがより好ましい。離型剤層32の厚さが、1
0μmより薄いと離型性に劣り、50μmより厚くして
も離型性は改善されず不経済である。
【0066】このような貼着体1Aでは、直径0.1μ
m以上の塵の発塵度が、100個/l以下であることが
好ましく、20個/l以下であることがより好ましい。
発塵度がこの値以下であると、製造される半導体に悪影
響を与えるような塵が粘着シート2Aから生じること
が、極めて好適に防止される。本発明の粘着シート2A
および貼着体1Aの製造方法について以下述べる。
【0067】例えば、離型シート基材31を用意し、こ
の離型シート基材31上に離型剤を塗工等して離型剤層
32を形成することにより、離型シート3Aを得ること
ができる。離型剤を離型シート基材31上に塗工する方
法としては、例えば、押出ラミネート法が挙げられる。
【0068】また、粘着シート基材21を用意し、この
粘着シート基材21上に粘着剤組成物を塗工等して粘着
剤層22を形成することにより、粘着シート2Aを得る
ことができる。粘着剤組成物を粘着シート基材21上に
塗工する方法としては、例えば、ナイフコート、ブレー
ドコート、ロールコート等が挙げられる。この場合の粘
着剤組成物の形態としては、溶剤型、エマルション型、
ホットメルト型等が挙げられる。
【0069】その後、粘着剤層22が離型剤層32に接
するように、離型シート3Aと粘着シート2Aとを貼り
合わせることにより、貼着体1Aを得ることができる。
このような製造方法によれば、製造途中で離型シート3
Aを高温に晒さなくても貼着体1Aを製造することがで
きる。さらには、離型剤層32が、粘着剤層22を形成
する際に用いられる溶剤の影響を受けにくくなる。
【0070】なお、離型シート3Aの離型剤層32上
に、粘着剤層22を形成し、次いで、粘着剤層22上に
粘着シート基材21を接合することにより、貼着体1A
を製造してもよい。
【0071】また、粘着剤層22中に前述した帯電防止
剤が含まれている場合には、粘着シート2Aを剥離シー
ト3から剥離する際における静電気の発生を、より効果
的に防止することが可能となり、静電気による半導体製
造装置等の電子部品の誤作動、破損等をより効果的に防
止することができる。
【0072】図2は、本発明の貼着体の第2実施形態を
示す概略断面図である。以下、第2実施形態の貼着体1
Bについて、前記第1実施形態との相違点を中心に説明
し、同様の事項の説明は省略する。
【0073】図2に示すように、本実施形態の貼着体1
Bでは、離型シート基材31上に中間層としての接着増
強層33を介して離型剤層32が形成されている。すな
わち、本実施形態では、離型シート3Bは、離型シート
基材31と離型剤層32との間に、接着増強層33が設
けられた構成となっている。
【0074】これにより、離型シート基材31と離型剤
層32との間の密着性が向上し、粘着シート2Aから離
型シート3Bを剥離する際に、離型シート基材31と離
型剤層32との境界面で剥離が生じたり、剥離後、離型
剤層32の一部が粘着剤層22上に付着、残存するのを
より好適に防止することができる。
【0075】接着増強層33を構成する材料としては、
例えば、ポリエチレン樹脂が挙げられる。接着増強層3
3の厚さは、特に限定されないが、10〜50μmであ
るのが好ましく、15〜30μmであるのがより好まし
い。
【0076】この場合の離型シート3Bの製造方法につ
いて以下述べる。例えば、離型シート基材31を用意
し、この離型シート基材31上に接着増強層33の構成
材料を塗工等して接着増強層33を形成し、さらに、こ
の接着増強層33上に離型剤を塗工等して離型剤層32
を形成することにより、離型シート3Bを得ることがで
きる。また、接着増強層33の構成材料を離型シート基
材31上に塗工する方法としては、押出しラミネート法
が挙げられる。この場合、接着増強層33と離型剤層3
2は押出しラミネート法で順に離型シート基材31上に
積層しても良いし、同時に共押出しラミネートして離型
シート基材31上に積層しても良い。
【0077】なお、本実施形態においては、中間層は、
離型シート基材31と離型剤層32との接着強度を増強
する接着増強層33であるが、かかる中間層は、これ以
外の目的のものであってもよい。例えば、中間層は、離
型剤層と離型シート基材との間での成分の移行を防止す
るバリア層であってもよい。また、離型シートは、中間
層を2層以上有していてもよい。
【0078】図3は、本発明の貼着体の第3実施形態を
示す概略断面図である。以下、第3実施形態の貼着体1
Cについて、前記第1実施形態、第2実施形態との相違
点を中心に説明し、同様の事項の説明は省略する。
【0079】図3に示すように、本実施形態の貼着体1
Cでは、粘着シート基材21上に帯電防止層23を介し
て粘着剤層22が形成されている。すなわち、本実施形
態では、粘着シート2Bは、粘着シート基材21と粘着
剤層22との間に、帯電防止層23が設けられた構成と
なっている。
【0080】これにより、粘着シート2Bを離型シート
3Aから剥離する際などに、剥離帯電が発生するのを効
果的に防止することが可能となる。また、粘着シート2
Bの貼着部位付近に電圧が発生した場合であっても、安
全にアースすることが可能となる。
【0081】帯電防止層23は、イオンを実質的に含有
しないもの(ノニオン性)であるのが好ましい。
【0082】帯電防止層23がノニオン性であることに
より、帯電防止層23からのイオンの発生を効果的に防
止することができる。したがって、製造される半導体等
へのイオンの移行を防止することができ、結果として、
トラブルがより発生し難く、信頼性に優れた半導体を製
造することができる。
【0083】このように、ノニオン性の帯電防止層23
の好ましい例としては、下記[1]、[2]のようなも
のが挙げられる。
【0084】[1]カーボンブラック、金属系の導電性
フィラー、金属酸化物系の導電性フィラー、π電子共役
系導電性ポリマーの少なくとも1種の帯電防止剤を含む
帯電防止剤組成物で構成されているもの 金属系の導電性フィラーとしては、例えば、Cu、A
l、Ni、Sn、Zn等の金属粉末等が挙げられる。
【0085】帯電防止剤として、カーボンブラックおよ
び/または金属系の導電性フィラーを用いる場合、これ
らの導電性フィラーは、例えば、バインダー中に分散さ
せられた状態のものが使用される。帯電防止剤組成物中
における導電性フィラーの添加量は、特に限定されない
が、1〜90wt%であるのが好ましく、3〜80wt
%であるのがより好ましい。
【0086】導電性フィラーの添加量が1wt%未満で
あると、十分な帯電防止効果が得られない場合がある。
一方、導電性フィラーの添加量が90wt%を超える
と、強度が低下し、離型シート3Aから粘着シート2B
を剥離する際に帯電防止層23の凝集破壊や界面破壊を
起こす可能性がある。
【0087】また、上記バインダーとしては、例えば、
アクリル系、ウレタン系、ポリエステル系、エポキシ
系、ポリ塩化ビニル系、メラニン系、ポリイミド系等の
高分子重合体が使用され、必要に応じて、架橋剤等の添
加剤が配合される。
【0088】金属酸化物系の導電性フィラーとしては、
例えば、酸化亜鉛系、酸化チタン系、酸化スズ系、酸化
インジウム系、酸化アンチモン系等が挙げられる。
【0089】帯電防止剤として、金属酸化物系の導電性
フィラーを用いる場合、金属酸化物系の導電性フィラー
は、例えば、バインダー中に分散させられた状態のもの
が使用される。帯電防止剤組成物中における金属酸化物
系の導電性フィラーの添加量は、特に限定されないが、
10〜90wt%であるのが好ましく、20〜80wt
%であるのがより好ましい。
【0090】金属酸化物系の導電性フィラーの添加量が
10wt%未満であると、十分な帯電防止効果が得られ
ない場合がある。一方、金属酸化物系の導電性フィラー
の添加量が90wt%を超えると、強度が低下し、離型
シート3Aから粘着シート2Bを剥離する際に帯電防止
層23の凝集破壊や界面破壊を起こす可能性がある。
【0091】また、上記バインダーとしては、例えば、
アクリル系、ウレタン系、ポリエステル系、エポキシ
系、ポリ塩化ビニル系、メラニン系、ポリイミド系等の
高分子重合体が使用され、必要に応じて、架橋剤等の添
加剤が配合される。
【0092】なお、上述の導電剤は、例えば、ポリスチ
レン、ポリメタクリレート等の樹脂粉末やガラス粉末の
表面に、上述のカーボンブラック、金属系の導電性フィ
ラー、金属酸化物系の導電性フィラー等を、塗布、スパ
ッタリング等で処理したものであってもよい。
【0093】π電子共役系導電性ポリマーは、分子構造
中に共役二重結合を有するモノマーを酸化により重合し
てなるポリマーである。
【0094】π電子共役系導電性ポリマーを構成するモ
ノマーとしては、例えば、アニリン、チオフェン、ピロ
ールおよびそれらの誘導体等が挙げられる。
【0095】π電子共役系導電性ポリマーの平均分子量
は、特に限定されないが、数百〜数万程度であるのが好
ましい。
【0096】帯電防止剤組成物中には、π電子共役系導
電性ポリマーと金属酸化物系の導電性フィラーとが含ま
れていてもよい。この場合、前述したバインダーは、含
まれていても、含まれていなくてもよい。
【0097】特に、π電子共役系導電性ポリマーを含む
帯電防止層23の形成方法としては、例えば、π電子共
役系導電性ポリマーを含む帯電防止剤組成物を粘着シー
ト基材21上に塗工する方法、π電子共役系導電性ポリ
マーを構成するモノマーを粘着シート基材21表面と接
触させて酸化剤の存在下に重合せしめる方法等が挙げら
れる。π電子共役系導電性ポリマーを構成するモノマー
を粘着シート基材21表面と接触させて酸化剤の存在下
に重合せしめる方法を用いる場合、例えば、酸化剤を加
えた溶液中へ、粘着シート基材21を浸漬させてモノマ
ーを重合させて(浸漬重合法)、粘着シート基材21の
表面に導電性ポリマーを直接析出させて導電性ポリマー
層を得る方法等が挙げられる。この方法によれば、モノ
マー濃度を任意に変えることが可能であり、導電性ポリ
マー層の厚み、導電性を容易に制御することができる。
【0098】上記の酸化剤としては、ペルオクソ二硫酸
アンモニウム、ペルオクソ二硫酸カリウム等のペルオク
ソ二硫酸塩、塩化第二鉄、硫酸第二鉄、硝酸第二鉄等の
第二鉄塩、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸ナトリ
ウム等の過マンガン酸塩、重クロム酸ナトリウム、重ク
ロム酸カリウム等の重クロム酸塩などが挙げられる。
【0099】また、帯電防止剤組成物中には、必要に応
じて、可塑剤、粘着付与剤、安定剤等の各種添加剤が含
まれていてもよい。
【0100】[2]金属または金属酸化物の薄膜で構成
されるもの 金属薄膜としては、例えば、Al、Ti、Au、Ag、
Pd、Ni、Pt等、またはこれらの金属を含む合金等
の薄膜が挙げられる。この金属薄膜は、例えば、組成の
異なる複数の層を積層したものであってもよい。
【0101】金属酸化物の薄膜としては、例えば、酸化
マンガン、酸化チタン等の薄膜が挙げられる。この金属
酸化物の薄膜は、例えば、ITO、ATO等のように金
属酸化物にドーパントを含むものであってもよく、ま
た、複数の金属元素を含むものであってもよい。
【0102】金属または金属酸化物の薄膜の形成方法と
しては、例えば、熱CVD、プラズマCVD、レーザー
CVD等の化学蒸着法(CVD)や真空蒸着、スパッタ
リング、イオンプレーティング等の物理蒸着法(PV
D)等が挙げられる。
【0103】なお、帯電防止層23は、組成の異なる複
数の層の積層体であってもよい。例えば、帯電防止層2
3は、前述したカーボンブラック、金属系の導電性フィ
ラー、金属酸化物系の導電性フィラー、π電子共役系導
電性ポリマーの少なくとも1種類の帯電防止剤を含む層
と、金属または金属酸化物の薄膜とを積層したものであ
ってもよい。
【0104】このようにして得られた帯電防止層23の
表面抵抗率は、1012Ω以下であるのが好ましく、10
9Ω以下であるのがより好ましい。
【0105】帯電防止層23の表面の表面抵抗率が、1
12Ωを超えると、十分な帯電防止効果が得られず、粘
着シートを離型シートから剥がす際に粘着シートが帯電
することがある。これにより、貼着時における粘着シー
トの操作性が低下し、粘着シートがまるまったり、被着
体である半導体製造装置等の目的とする位置に貼着する
のが困難となる場合がある。また、帯電した粘着シート
を半導体製造装置に貼着することにより、これらも帯電
するおそれもある。
【0106】帯電防止層23の厚さは、上記表面抵抗率
となる様適宜決めれば良いが、カーボンブラック、金属
系の導電性フィラー、金属酸化物系の導電性フィラーや
π電子共役系導電性ポリマーの場合、0.01〜20μ
mであるのが好ましく、0.1〜1μmであるのがより
好ましい。金属または金属酸化物の薄膜は、0.005
〜1μmであることが好ましい。帯電防止層23の厚さ
が下限値未満であると、十分な帯電防止効果が得られな
い場合がある。一方、帯電防止層23の厚さが上限値を
超えると、粘着シート2Bの剛性の低下や透明性の低下
を招くことがある。
【0107】なお、本実施形態においては、中間層は、
剥離帯電の発生を防止する帯電防止層23であるが、か
かる中間層は、これ以外の目的のものであってもよい。
例えば、中間層は、粘着シート基材と粘着剤層との間で
の成分の移行を防止するバリア層であってもよい。ま
た、粘着シートは、中間層を2層以上有していてもよ
い。例えば、粘着シートは、中間層として、前述したよ
うな帯電防止層と、バリア層とを有するものであっても
よい。
【0108】以上、本発明を好適な実施形態に基づいて
説明したが、本発明は、これらに限定されるものではな
い。
【0109】例えば、本発明の貼着体は、粘着シート基
材の両面に粘着剤層が形成されており、さらに、各粘着
剤層上に、離型シートが貼着された構成とされたもので
あってもよい。
【0110】これにより、粘着シートを介して、異なる
被着体を接合することが可能となる。
【0111】また、粘着シート基材の両面に設けられた
粘着剤層は、それぞれの厚さ、組成等がほぼ同一であっ
てもよいし、異なるものであってもよい。
【0112】また、本発明の粘着シート、貼着体の形状
は、シート状に限定されず、例えば、テープ状(帯状)
のもの等であってもよい。
【0113】
【実施例】次に、本発明の貼着体の具体的実施例につい
て説明する。
【0114】1.貼着体の作製 (実施例1)押出ラミネートにより、離型シート基材の
片面に離型剤層を形成し、離型シートを作製した。粘着
シート基材の片面に、粘着剤層をナイフコート法により
形成し、粘着シートを作製した。この粘着シートに離型
シートを貼り合わせ、貼着体を作製した。各層の構成
は、以下の通りである。
【0115】[1]離型シート基材 構成材料:ポリエチレンテレフタレートフィルム 厚さ:38μm
【0116】[2]離型剤層 構成材料:エチレンプロピレン共重合体を含むオレフィ
ン系熱可塑性エラストマー(三井化学社製:商品名「タ
フマーP−0280G」密度0.87g/cm3) 5
0重量部 :ポリエチレン樹脂(住友化学社製、リニア低密度ポリ
エチレン:商品名「スミカセン Hi−α CW200
4」密度0.908g/cm3) 50重量部 (このポリエチレンは、チーグラーナッタ触媒により合
成されたものである) 厚さ:15μm
【0117】[3]接着増強層 無し
【0118】[4]粘着剤層 構成材料:アクリル系粘着剤(リンテック社製:「PL
シン」) 厚さ:25μm
【0119】[5]粘着シート基材 構成材料:ポリエチレンテレフタレートフィルム 厚さ:50μm
【0120】[6]帯電防止層 無し
【0121】(実施例2)押出ラミネートにより、離型
シート基材の片面に接着増強層を形成し、さらに押出ラ
ミネートにより、接着増強層上に離型剤層を形成し、離
型シートを作製した以外は、実施例1と同様にして貼着
体を作製した。各層の構成は、以下の通りである。
【0122】[1]離型シート基材 構成材料:無塵紙(リンテック社製:商品名「クリーン
ペーパー」) 厚さ:38μm
【0123】[2]離型剤層 構成材料:エチレンプロピレン共重合体を含むオレフィ
ン系熱可塑性エラストマー(三井化学社製:商品名「タ
フマーP−0280G」密度0.87g/cm3) 5
0重量部 :ポリエチレン樹脂(日本ポリオレフィン社製、低密度
ポリエチレン:商品名「J−REX JH807A」密
度0.916g/cm3)50重量部 (このポリエチレンは、チーグラーナッタ触媒により合
成されたものである) 厚さ:15μm
【0124】[3]接着増強層 構成材料:ポリエチレン樹脂(住友化学社製:低密度ポ
リエチレン:商品名「スミカセン L−405H」密度
0.924g/cm3) 厚さ:15μm
【0125】[4]粘着剤層 構成材料:アクリル系粘着剤(リンテック社製:「PL
シン」) 厚さ:25μm
【0126】[5]粘着シート基材 構成材料:ポリエチレンテレフタレートフィルム 厚さ:50μm
【0127】[6]帯電防止層 無し
【0128】(実施例3)離型剤層中のオレフィン系熱
可塑性エラストマーとポリエチレン樹脂の重量部をそれ
ぞれ25重量部、75重量部とした以外は、実施例2と
同様にして貼着体を作製した。
【0129】(実施例4)離型剤層中のオレフィン系熱
可塑性エラストマーとポリエチレン樹脂の重量部をそれ
ぞれ65重量部、35重量部とした以外は、実施例2と
同様にして貼着体を作製した。
【0130】(実施例5)離型剤層21中のポリエチレ
ン樹脂をリニア低密度ポリエチレン(日本ポリケム社
製:商品名「ノバティックLL UC380」密度0.
921g/cm3)とした以外は、実施例2と同様にし
て貼着体を作製した。なお、このポリエチレンは、メタ
ロセン触媒で合成されたものである。
【0131】(実施例6)離型剤層中のポリエチレン樹
脂を低密度ポリエチレン(住友化学社製:商品名「エク
セレンEX CR8002」密度0.912g/c
3)とした以外は、実施例2と同様にして貼着体を作
製した。なお、このポリエチレン樹脂は、メタロセン触
媒で合成されたものである。
【0132】(実施例7)離型剤層中のポリエチレン樹
脂を低密度ポリエチレン(日本ポリケム社製:商品名
「カーネル KC570S」密度0.905g/c
3)とした以外は、実施例2と同様にして貼着体を作
製した。なお、このポリエチレンは、メタロセン触媒で
合成されたものである。
【0133】(実施例8)離型剤層中のポリエチレン樹
脂をリニアー低密度ポリエチレン(住友化学社製:商品
名「スミカセン E−FV401」密度0.902g/
cm3)とした以外は、実施例2と同様にして貼着体を
作製した。なお、このポリエチレンは、メタロセン触媒
で合成されたものである。
【0134】(実施例9)離型剤層中のポリエチレン樹
脂をαオレフィン系リニアー低密度ポリエチレン(住友
化学社製:商品名「スミカセン Hi−α CW200
4」密度0.908g/cm3)とした以外は、実施例
2と同様にして貼着体を作製した。なお、このポリエチ
レンは、チーグラーナッタ触媒で合成されたものであ
る。
【0135】(実施例10)離型シート基材をポリエチ
レンテレフタレートフィルム(厚さ38μm)とした以
外は、実施例9と同様にして貼着体を作製した。
【0136】(実施例11)無塵紙(リンテック社製:
商品名「クリーンペーパー」、厚さ60μm)上に、ポ
リエチレン樹脂(低密度ポリエチレン、住友化学社製:
商品名「スミカセンL−405H」)を押出ラミネート
によりラミネートし(厚さ15μm)、これを粘着シー
ト基材とした以外は、実施例9と同様にして貼着体を作
製した。
【0137】(実施例12)粘着シート基材を実施例1
1の粘着シート基材とした以外は、実施例10と同様に
して貼着体を作製した。
【0138】(実施例13)離型剤層の材料をポリエチ
レン樹脂(日本ポリオレフィン社製:商品名「J−RE
X JH807A」密度0.916g/cm3)とした
以外は、実施例2と同様にして貼着体を作製した。な
お、このポリエチレンは、チーグラーナッタ触媒で合成
されたものである。
【0139】(実施例14)粘着剤層の材料として、ア
クリル系粘着剤(リンテック社製:「PLシン」):9
6重量部と、帯電防止剤としてのカーボンブラック(旭
電化社製:商品名「デンカブラックDH」):4重量部
との混合物を用いた以外は、実施例2と同様にして貼着
体を作製した。
【0140】(実施例15)ナイフコート法により、粘
着シート基材の片面に帯電防止層を形成し、さらにナイ
フコート法により、帯電防止層上に粘着剤層を形成し、
粘着シートを作製した以外は、実施例2と同様にして貼
着体を作製した。各層の構成は、以下の通りである。
【0141】[1]離型シート基材 構成材料:無塵紙(リンテック社製:商品名「クリーン
ペーパー」) 厚さ:38μm
【0142】[2]離型剤層 構成材料:エチレンプロピレン共重合体を含むオレフィ
ン系熱可塑性エラストマー(三井化学社製:商品名「タ
フマーP−0280G」密度0.87g/cm3) 5
0重量部 :ポリエチレン樹脂(日本ポリオレフィン社製、低密度
ポリエチレン:商品名「J−REX JH807A」密
度0.916g/cm3)50重量部 (このポリエチレンは、チーグラーナッタ触媒により合
成されたものである) 厚さ:15μm
【0143】[3]接着増強層 構成材料:ポリエチレン樹脂(住友化学社製:低密度ポ
リエチレン:商品名「スミカセン L−405H」密度
0.924g/cm3) 厚さ:15μm
【0144】[4]粘着剤層 構成材料:アクリル系粘着剤(リンテック社製:「PL
シン」) 厚さ:25μm
【0145】[5]粘着シート基材 構成材料:ポリエチレンテレフタレートフィルム 厚さ:50μm
【0146】[6]帯電防止層 構成材料:酸化スズ系導電性フィラー(石原産業社製:
商品名「SN−100P」) 100重量部 :ポリエステル樹脂(東洋紡績社製:商品名「バイロン
20 SS」) 50重量部 厚さ:0.5μm(乾燥膜厚)
【0147】(実施例16)イオンプレーティングによ
り、粘着シート基材の片面に帯電防止層を形成し、さら
にナイフコート法により、帯電防止層上に粘着剤層を形
成し、粘着シートを作製した以外は、実施例2と同様に
して貼着体を作製した。各層の構成は、以下の通りであ
る。
【0148】[1]離型シート基材 構成材料:無塵紙(リンテック社製:商品名「クリーン
ペーパー」) 厚さ:38μm
【0149】[2]離型剤層 構成材料:エチレンプロピレン共重合体を含むオレフィ
ン系熱可塑性エラストマー(三井化学社製:商品名「タ
フマーP−0280G」密度0.87g/cm3) 5
0重量部 :ポリエチレン樹脂(日本ポリオレフィン社製、低密度
ポリエチレン:商品名「J−REX JH807A」密
度0.916g/cm3)50重量部 (このポリエチレンは、チーグラーナッタ触媒により合
成されたものである) 厚さ:15μm
【0150】[3]接着増強層 構成材料:ポリエチレン樹脂(住友化学社製:低密度ポ
リエチレン:商品名「スミカセン L−405H」密度
0.924g/cm3) 厚さ:15μm
【0151】[4]粘着剤層 構成材料:アクリル系粘着剤(リンテック社製:「PL
シン」) 厚さ:25μm
【0152】[5]粘着シート基材 構成材料:ポリエチレンテレフタレートフィルム 厚さ:50μm
【0153】[6]帯電防止層 構成材料:Pdの薄膜 厚さ:0.5μm
【0154】(比較例)離型剤層の材料をシリコーン系
離型剤(東レシリコーン社製:商品名「SRX−35
7」とした以外は、実施例2と同様にして貼着体を作製
した。
【0155】上記各実施例および比較例で作製した貼着
体の離型剤層の材料であるオレフィン系熱可塑性エラス
トマー(TPO)とポリエチレン(PE)との密度、お
よびこれらの重量比を表1にまとめた。また、粘着シー
ト基材および離型シート基材の構成材料も、併せて表1
にまとめた。なお、表中、「PET」とは、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを指す。
【0156】
【表1】
【0157】2.粘着シートの有する物性値 上記各実施例および比較例で作製した貼着体の粘着シー
トについて、シリコーン量、イオン量、発生ガス量、発
塵度を測定した。測定方法は、下記の通りである。
【0158】シリコーン化合物の含有量 貼着体作成から30日間、平均温度約23℃、平均湿度
約65%RHの環境下に、貼着体を放置した。放置後、ま
ず、貼着体を10×10cmの四角形に裁断した。次に、
粘着シートを離型シートから剥離した。次に、23℃、
10mLのn−ヘキサンを用いて、粘着シートに対して、
30秒間抽出操作を行った。次に、抽出したn−ヘキサ
ンを、メノウ乳鉢上で乾燥させた。次に、得られた乾燥
物と0.05gの臭化カリウムとで錠剤を作り、かかる
錠剤中のシリコーン化合物の量を、ビームコンデンサー
型FT−IR(パーキンエルマー社製:商品名「PAR
AGON1000」)にて測定した。そして、得られた
測定結果から、検量線を用いて粘着シートの単位面積あ
たりのシリコーン化合物の含有量を求めた(測定限界
50μg/m2)。
【0159】イオン量 貼着体作成から30日間、平均温度約23℃、平均湿度
約65%RHの環境下に、貼着体を放置した。放置後、ま
ず、貼着体を3×3cmの四角形に裁断した。次に、粘着
シートを離型シートから剥離した。次に、80℃、20
mLの純水を用いて、粘着シートに対して、30分間抽出
操作を行った。次に、この水に対して、イオンクロマト
アナライザー(横河電機社製:商品名「IC500」)
を用いて、NOX -,Cl-,PO4 3-,F-,K+,Na+,Ca2+の各濃度
を、分析、測定した。そして、得られた測定結果から、
単位面積あたりで粘着シートが含有するこれらのイオン
の総量を求めた(測定限界5μg/m2)。
【0160】発生ガス量 貼着体作成から30日間、平均温度約23℃、平均湿度
約65%RHの環境下に、貼着体を放置した。放置後、ま
ず、貼着体を5×4cmの四角形に裁断した。次に、粘着
シートを離型シートから剥離した。次に、粘着シート
を、容量50mLのヘッドスペース瓶に入れた。次に、8
5℃のヘリウムガスを50mL/minで30分間ヘッ
ドスペース瓶内に流しつつ、ヘッドスペース瓶から流出
したガスを、−60℃に冷やしたテナックス捕集材を入
れたパージアンドトラップ装置(日本分析工業社製:商
品名「JHS−100A」)で捕集した。次に、捕集し
たガスを、パイロライザーでガス化し、GC−MS(ヒ
ューレットパッカード社製:商品名「5890−597
1A」)で分析した。そして、得られた測定結果から、
単位面積あたりの粘着シートの発生ガス量を求めた(測
定限界20μg/m2)。
【0161】直径0.1μm以上の塵の発塵度 貼着体作成から30日間、平均温度約23℃、平均湿度
約60%RHの環境下に、貼着体を放置した。放置後、直
径0.1μm以上の塵を対象として、半導体製造装置・
材料国際協会Doc.No.2362に準じ、以下のよ
うに揉み、擦り、引き裂きもみの3項目の試験を行い、
これらの結果を総合して評価した。
【0162】揉み:A5判の貼着体を15秒間に1回の
割合で、200秒間揉んだ。 擦り:A5判の貼着体を2枚用意し、貼着体の表と裏を
重ね合わせ、これを10秒間に3回の割合で、200秒
間、手で擦り合わせた。 引き裂き揉み:A5判の貼着体4カ所(4cm間隔)
を、5秒間に1回引き裂き、その後揉みテストと同じ要
領で、180秒間揉んだ。 〜については、その試験結果を表2に示した。
【0163】
【表2】
【0164】表2に示されるように、各実施例で得られ
た粘着シートは、シリコーン化合物の含有量、イオン
量、発生ガス量および発塵度のいずれも、非常に少な
い。一方シリコーン剥離剤を用いた比較例では、シリコ
ーン化合物の含有量が多い。
【0165】表面抵抗率の測定 実施例14ならびに比較例で製造した粘着シートの粘着
剤層および実施例15、16で製造した粘着シートの帯
電防止層については、以下に示すような表面抵抗率の測
定を行った。
【0166】まず、実施例14ならびに比較例での粘着
剤層を設けた粘着シートおよび実施例15、16での帯
電防止層を設けた粘着シート基材を、平均温度約23
℃、平均湿度65%RHの環境下に24時間放置した。
【0167】放置後、前記粘着シートおよび前記粘着シ
ート基材を10×10cmの四角形に裁断した。
【0168】その後、JIS K 6911に準拠し
て、粘着剤表面および帯電防止層表面について、表面抵
抗率測定機(アドバンテスト社製:商品名「R−127
04」)を用いて表面抵抗率を測定した。なお、帯電防
止層表面については、粘着剤層の形成前に測定した。
【0169】剥離帯電圧 実施例14、15、16および比較例で製造した貼着体
について、貼着体作成後から30日間、平均温度約23
℃、平均湿度65%RHの環境下に放置した。放置後、ま
ず、貼着体を10×10cmの四角形に裁断した。次
に、粘着シートを離型シートから500mm/minで
剥離した。このとき、粘着シートに帯電した帯電電位を
50mmの距離から集電式電位測定機(春日電機社製:
商品名「KSD−6110」)により、23℃、湿度6
5%RHの環境下で測定した(測定下限値0.1kV)。
、については、その試験結果を表3に示した。
【0170】
【表3】
【0171】表3に示されるように、実施例14、1
5、16で得られた貼着体は、剥離時にほとんど帯電し
ない。
【0172】3.評価 上記各実施例および比較例で作製した貼着体について、
以下のようにして剥離力、および半導体の表面に堆積す
るシリコーン化合物量を測定した。
【0173】剥離力 上記各実施例および比較例で作製した貼着体に、室温
(23℃)にて72時間または70℃にて24時間、1
00g/cm3の荷重をかけた。その後、室温で24時
間放置した後、それぞれの貼着体を25mm幅に断裁
し、離型シートの剥離力を測定した。剥離力の測定は、
引っ張り試験機を用いて、離型シートを300mm/分
の速度で180°方向に引っ張ることにより行った。
【0174】シリコーン化合物の堆積量 各実施例および比較例で得られた貼着体を用い、以下の
ようにして、半導体の表面に堆積するシリコーン化合物
量を調べた。
【0175】まず、製造直後の貼着体の離型シートを剥
離し、粘着シートの粘着剤面同士を貼り合わせた。これ
を20×1.0cmの四角形に裁断した。次に、内寸20
×11×10cmのステンレス製の箱に、裁断した粘着シ
ートを200組入れた。さらに、この箱に、表面が極め
て清浄なGa−Asウェハを入れた。そして、箱に蓋を
して、この箱を、60℃、25%RHの条件下で30日間
静置した。その後、箱からGa−Asウェハを取り出
し、波長分散型X線分析装置(オックスフォードインス
トゥルメンツ社製:商品名「WDX−400」)を用い
て、Ga−Asウェハの表面に堆積したシリコーン化合
物の量をケイ素の1分間当りのカウント数として測定し
た(測定限界200カウント、200カウント以下では
ノイズの影響で、シリコーン化合物の有無の確認ができ
ない)。剥離力およびシリコーン化合物の堆積量の測定
結果を、表4に示す。
【0176】
【表4】
【0177】表4に示されるように、比較例で得られた
粘着シートを用いた場合、Ga−Asウェハに大量のシ
リコーンが堆積した。これに対し、各実施例で得られた
粘着シートを用いた場合、Ga−Asウェハには、実質
的にシリコーンが堆積しなかった。
【0178】以上の結果から、各実施例で得られた貼着
体は、極めて半導体の製造に悪影響を与えにくいもので
あることが分かる。加えて、実施例1〜16で得られた
貼着体は、優れた剥離性を有していた。
【0179】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、製
造される半導体に悪影響を与えにくい貼着体および粘着
シートを得ることができる。特に、離型剤層をオレフィ
ン系熱可塑性エラストマーとポリオレフィン樹脂とで構
成すれば、半導体に悪影響を与えにくいという効果に加
えて、優れた剥離性が得られるという効果も得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の貼着体の第1実施形態を示す概略断面
図である。
【図2】本発明の貼着体の第2実施形態を示す概略断面
図である。
【図3】本発明の貼着体の第3実施形態を示す概略断面
図である。
【符号の説明】
1A、1B、1C 貼着体 2A、2B 粘着シート 21 粘着シート基材 22 粘着剤層 23 帯電防止層 3A、3B 離型シート 31 離型シート基材 32 離型剤層 33 接着増強層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4F100 AA17C AA28 AA37C AB01C AB24 AH06B AK01A AK03D AK06 AK25G AK42 AK63 AK64 AL09D AT00A BA02 BA03 BA04 BA07 BA10A BA10D CA22C DG10A EH23 EH46 EH66 GB41 JA13D JG03C JL00 JL13B JL14D JM02C YY00B YY00C YY00D 4J004 AA10 AA14 AA15 AB01 CA02 CA04 CA06 CA08 CB02 CC02 CC03 CD01 DA02 DB02 FA05

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基材と、該基材上に設けられた粘着剤層
    とを有し、半導体の製造装置またはその関連品に用いら
    れる粘着シートであって、 前記粘着シートのシリコーン化合物の含有量が、500
    μg/m2以下であることを特徴とする粘着シート。
  2. 【請求項2】 85℃において、30分間の発生ガス量
    が20mg/m2以下である請求項1に記載の粘着シー
    ト。
  3. 【請求項3】 前記粘着シートが含有するNOX -,Cl-,PO4
    3-,F-,K+,Na+,Ca2+の量の総計が、20mg/m2以下で
    ある請求項1または2に記載の粘着シート。
  4. 【請求項4】 前記基材は、プラスチックフィルムまた
    は無塵紙で構成されている請求項1ないし3のいずれか
    に記載の粘着シート。
  5. 【請求項5】 前記基材と、前記粘着剤層との間に、帯
    電防止層を有する請求項1ないし4のいずれかに記載の
    粘着シート。
  6. 【請求項6】 前記帯電防止層は、カーボンブラック、
    金属酸化物系の導電性フィラー、π電子共役系導電性ポ
    リマーの少なくとも1種類の帯電防止剤を含むものであ
    る請求項5に記載の粘着シート。
  7. 【請求項7】 前記帯電防止層は、金属または金属酸化
    物の薄膜で構成される請求項5に記載の粘着シート。
  8. 【請求項8】 前記帯電防止層の表面抵抗率は、1×1
    4〜1×1012Ωである請求項5ないし7のいずれか
    に記載の粘着シート。
  9. 【請求項9】 請求項1ないし8のいずれかに記載の粘
    着シートに、離型剤層を有する離型シートが貼着された
    ことを特徴とする貼着体。
  10. 【請求項10】 直径0.1μm以上の塵の発塵度が、
    100個/l以下である請求項9に記載の貼着体。
  11. 【請求項11】 前記離型剤層は、少なくともポリオレ
    フィン系熱可塑性エラストマーとポリエチレン樹脂とか
    らなる請求項9または10に記載の貼着体。
  12. 【請求項12】 前記オレフィン系熱可塑性エラストマ
    ーと前記ポリエチレン樹脂との重量比は、25:75〜
    75:25である請求項11に記載の貼着体。
  13. 【請求項13】 前記オレフィン系熱可塑性エラストマ
    ーの密度は、0.80〜0.90g/cm3である請求
    項11または12に記載の貼着体。
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