JP2001059158A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 廃材を出すことなく均一成分比かつ均一厚さ
の蒸着層を広範囲に形成することのできる真空蒸着装置
を提供する。 【解決手段】 坩堝１２１内の低蒸気圧金属の中心部は
電子銃１２７から放射される電子ビーム１２６によって
溶融部Ｍを形成し、その周囲には対流部Ｃが形成され
る。坩堝の直上方には水平に一対の遮蔽板１２３が相互
に隙間を隔てて設置され、遮蔽板の隙間を介して遮蔽板
上方から高蒸気圧金属の合金ワイヤ１２４が低蒸気圧金
属の溶融部に供給される。従って、高蒸気圧金属および
低蒸気圧金属の蒸気の成分比はほぼ一定に維持されると
ともに、不要な金属蒸気は遮蔽板によって遮蔽される。
の蒸着層を広範囲に形成することのできる真空蒸着装置
を提供する。 【解決手段】 坩堝１２１内の低蒸気圧金属の中心部は
電子銃１２７から放射される電子ビーム１２６によって
溶融部Ｍを形成し、その周囲には対流部Ｃが形成され
る。坩堝の直上方には水平に一対の遮蔽板１２３が相互
に隙間を隔てて設置され、遮蔽板の隙間を介して遮蔽板
上方から高蒸気圧金属の合金ワイヤ１２４が低蒸気圧金
属の溶融部に供給される。従って、高蒸気圧金属および
低蒸気圧金属の蒸気の成分比はほぼ一定に維持されると
ともに、不要な金属蒸気は遮蔽板によって遮蔽される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は真空蒸着装置に係
り、特に蒸気圧の異なる複数の金属の層を均一成分比お
よび均一厚さで広い幅で形成可能な真空蒸着装置に関す
る。
り、特に蒸気圧の異なる複数の金属の層を均一成分比お
よび均一厚さで広い幅で形成可能な真空蒸着装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】高周波数信号を磁気的に記録するために
垂直磁気記録媒体が適用されるが、垂直磁気記録媒体と
しては高分子フィルム上にコバルト（Ｃo ）とクロム
（Ｃr ）を主成分とする磁性層を真空蒸着により形成し
た磁気テープが使用される。しかし、コバルトとクロム
は蒸気圧が大幅に相違するため、単一の蒸発源を使用す
る真空蒸着装置では長尺にわたって均一成分比かつ均一
厚さの磁性層を形成することが困難である。
垂直磁気記録媒体が適用されるが、垂直磁気記録媒体と
しては高分子フィルム上にコバルト（Ｃo ）とクロム
（Ｃr ）を主成分とする磁性層を真空蒸着により形成し
た磁気テープが使用される。しかし、コバルトとクロム
は蒸気圧が大幅に相違するため、単一の蒸発源を使用す
る真空蒸着装置では長尺にわたって均一成分比かつ均一
厚さの磁性層を形成することが困難である。
【０００３】この課題を解決するために、複数の蒸発源
を使用する真空蒸着装置が提案されているが、各蒸発源
から蒸発した原子が均一に混合されないため、長尺にわ
たって均一成分比の磁性層を形成することは困難であ
る。そこで、コバルトとクロムを予め所定の比率で含む
合金として、坩堝に連続的に供給する真空蒸着装置が提
案されている（特開昭６１−２８００２７号公報参
照）。
を使用する真空蒸着装置が提案されているが、各蒸発源
から蒸発した原子が均一に混合されないため、長尺にわ
たって均一成分比の磁性層を形成することは困難であ
る。そこで、コバルトとクロムを予め所定の比率で含む
合金として、坩堝に連続的に供給する真空蒸着装置が提
案されている（特開昭６１−２８００２７号公報参
照）。
【０００４】さらに、坩堝の長さ方向に先細となるガイ
ドからコバルトとクロムの合金粒を供給する真空蒸着装
置が提案されている（特開昭６３−０５８６２２号公報
参照）。
ドからコバルトとクロムの合金粒を供給する真空蒸着装
置が提案されている（特開昭６３−０５８６２２号公報
参照）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記装
置では蒸着層の成分比を均一に保つために蒸着面の直前
面に遮蔽板を設ける必要があるが、遮蔽板を設けた場合
には、蒸発原子の大部分が遮蔽板に蒸着してしまうので
効率が悪化するだけでなく、原子が蒸着した遮蔽板は廃
材となるため廃棄物が増加してしまう。
置では蒸着層の成分比を均一に保つために蒸着面の直前
面に遮蔽板を設ける必要があるが、遮蔽板を設けた場合
には、蒸発原子の大部分が遮蔽板に蒸着してしまうので
効率が悪化するだけでなく、原子が蒸着した遮蔽板は廃
材となるため廃棄物が増加してしまう。
【０００６】本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
って、均一成分比かつ均一厚さの蒸着層を広範囲に形成
することのできる真空蒸着装置を提供することを目的と
する。
って、均一成分比かつ均一厚さの蒸着層を広範囲に形成
することのできる真空蒸着装置を提供することを目的と
する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】第１の発明に係る真空蒸
着装置は、第１の金属材を溶融状態で貯蔵する坩堝の直
上方に相互に隙間を介して略水平に設置される一対の遮
蔽板と、遮蔽板の上方から前記遮蔽板の隙間を介して第
１の金属材の蒸気圧より高い蒸気圧を有する第２の金属
材を第１の金属材の溶融部に供給する少なくとも１つの
高蒸気圧金属供給手段と、を具備する。
着装置は、第１の金属材を溶融状態で貯蔵する坩堝の直
上方に相互に隙間を介して略水平に設置される一対の遮
蔽板と、遮蔽板の上方から前記遮蔽板の隙間を介して第
１の金属材の蒸気圧より高い蒸気圧を有する第２の金属
材を第１の金属材の溶融部に供給する少なくとも１つの
高蒸気圧金属供給手段と、を具備する。
【０００８】本発明にあっては、坩堝内の第１の金属材
の溶融部で第２の金属材が蒸発するので金属蒸気の成分
比はほぼ一定に維持されるとともに、不要な金属蒸気は
遮蔽材によって遮蔽される。第２の発明に係る真空蒸着
装置は、一対の遮蔽板の隙間を調整する隙間調整手段を
さらに具備する。
の溶融部で第２の金属材が蒸発するので金属蒸気の成分
比はほぼ一定に維持されるとともに、不要な金属蒸気は
遮蔽材によって遮蔽される。第２の発明に係る真空蒸着
装置は、一対の遮蔽板の隙間を調整する隙間調整手段を
さらに具備する。
【０００９】本発明にあっては、第２の金属が第１の金
属の溶融部に確実に供給されるように、第１および第２
の金属材の成分に応じて遮蔽板の隙間が調整される。第
３の発明に係る真空蒸着装置は、３つの高蒸気圧金属供
給手段が、一対の遮蔽板の隙間に沿って隙間の一端から
１／４、１／２、および３／４の位置に配置される。
属の溶融部に確実に供給されるように、第１および第２
の金属材の成分に応じて遮蔽板の隙間が調整される。第
３の発明に係る真空蒸着装置は、３つの高蒸気圧金属供
給手段が、一対の遮蔽板の隙間に沿って隙間の一端から
１／４、１／２、および３／４の位置に配置される。
【００１０】本発明にあっては、３つの高蒸気圧金属供
給手段は所定の間隔で配置され、金属蒸気の成分比はほ
ぼ一定に維持される。第３の発明に係る真空蒸着装置
は、坩堝から一対の遮蔽板の隙間を介して上昇する金属
蒸気の密度を計測する蒸気密度計測手段と、蒸気密度計
測手段で計測された金属蒸気の密度に基づいて高蒸気圧
金属供給手段による第２の金属材の供給量を制御する高
蒸気圧金属供給量制御手段と、をさらに具備する。
給手段は所定の間隔で配置され、金属蒸気の成分比はほ
ぼ一定に維持される。第３の発明に係る真空蒸着装置
は、坩堝から一対の遮蔽板の隙間を介して上昇する金属
蒸気の密度を計測する蒸気密度計測手段と、蒸気密度計
測手段で計測された金属蒸気の密度に基づいて高蒸気圧
金属供給手段による第２の金属材の供給量を制御する高
蒸気圧金属供給量制御手段と、をさらに具備する。
【００１１】本発明にあっては、金属蒸気の密度の計測
結果に応じて第２の金属材の供給量が制御され、金属蒸
気の成分比が所定比に制御される。
結果に応じて第２の金属材の供給量が制御され、金属蒸
気の成分比が所定比に制御される。
【００１２】
【発明の実施の形態】図１は本発明に係る真空蒸着装置
の第１の実施形態の正面断面図であって、真空箱１と真
空箱１内の空気を排出する排気装置１０で構成される。
真空箱１の上部には蒸着部１１が、真空箱１の下部には
金属蒸気発生部１２が配置される。
の第１の実施形態の正面断面図であって、真空箱１と真
空箱１内の空気を排出する排気装置１０で構成される。
真空箱１の上部には蒸着部１１が、真空箱１の下部には
金属蒸気発生部１２が配置される。
【００１３】蒸着部１１は真空箱１の中央に配置された
円筒状のキャン１１１、キャン１１１の横方向に第１お
よび第２のフリーローラ１１２および１１３を挟んで配
置されたフィルム送り出しローラ１１４およびフィルム
巻き取りローラ１１５によって構成される。そして、フ
ィルム送り出しローラ１１４から送り出されるフィルム
１１６は、第１のフリーローラ１１２を介してキャン１
１１の下側を通過し、第２のフリーローラ１１３を介し
て巻き取りローラ１１５に巻き取られる。即ち、フィル
ム１１６の下面が金属蒸気発生部１２に曝される。
円筒状のキャン１１１、キャン１１１の横方向に第１お
よび第２のフリーローラ１１２および１１３を挟んで配
置されたフィルム送り出しローラ１１４およびフィルム
巻き取りローラ１１５によって構成される。そして、フ
ィルム送り出しローラ１１４から送り出されるフィルム
１１６は、第１のフリーローラ１１２を介してキャン１
１１の下側を通過し、第２のフリーローラ１１３を介し
て巻き取りローラ１１５に巻き取られる。即ち、フィル
ム１１６の下面が金属蒸気発生部１２に曝される。
【００１４】金属蒸気発生部１２の中央下部には、坩堝
１２１が設置される。そして、坩堝１２１の直上には調
整機構１２２により隙間を調整することの可能な遮蔽板
１２３が設置される。なお、遮蔽板１２３はタングステ
ン（Ｗ）、炭素（Ｃ）等の低蒸気圧かつ高融点の材質を
使用して製作する。金属蒸気発生部１２には、さらに、
低蒸気圧金属１２０を収納する坩堝１２１の中央部に高
蒸気圧金属を主成分とする合金ワイヤ１２４を供給する
ための合金ワイヤ供給ドラム１２５、坩堝１２１の中央
部を照射する電子ビーム１２６を発生する電子銃１２
７、および坩堝１２１の中央部を撮影可能なモニタカメ
ラ１２８が設置される。
１２１が設置される。そして、坩堝１２１の直上には調
整機構１２２により隙間を調整することの可能な遮蔽板
１２３が設置される。なお、遮蔽板１２３はタングステ
ン（Ｗ）、炭素（Ｃ）等の低蒸気圧かつ高融点の材質を
使用して製作する。金属蒸気発生部１２には、さらに、
低蒸気圧金属１２０を収納する坩堝１２１の中央部に高
蒸気圧金属を主成分とする合金ワイヤ１２４を供給する
ための合金ワイヤ供給ドラム１２５、坩堝１２１の中央
部を照射する電子ビーム１２６を発生する電子銃１２
７、および坩堝１２１の中央部を撮影可能なモニタカメ
ラ１２８が設置される。
【００１５】坩堝１２１内の低蒸気圧金属１２０の中心
部は電子銃１２７から発射される電子ビーム１２６によ
って照射されて溶融部Ｍが形成されるが、溶融部Ｍの周
囲には溶融金属が対流する対流部Ｃが存在する。図２は
金属蒸気の発生状況説明図（その１）であって、（イ）
は合金ワイヤ１２４の溶融物が坩堝１２１の対流部Ｃに
滴下する様子を示す。なお、実線は低蒸気圧金属１２０
の蒸発の発生方向を、破線は合金ワイヤ１２４の蒸気の
発生方向を表す。
部は電子銃１２７から発射される電子ビーム１２６によ
って照射されて溶融部Ｍが形成されるが、溶融部Ｍの周
囲には溶融金属が対流する対流部Ｃが存在する。図２は
金属蒸気の発生状況説明図（その１）であって、（イ）
は合金ワイヤ１２４の溶融物が坩堝１２１の対流部Ｃに
滴下する様子を示す。なお、実線は低蒸気圧金属１２０
の蒸発の発生方向を、破線は合金ワイヤ１２４の蒸気の
発生方向を表す。
【００１６】（ロ）は高圧蒸気圧金属蒸気の分布図であ
って、坩堝１２１の中心軸の右半分の分布を示す。この
図から判るように、合金ワイヤ１２４は坩堝１２１の中
心から偏倚した位置から蒸発するため、高圧蒸気圧金属
蒸気は横方向に偏平して分布する。図３は金属蒸気の発
生状況説明図（その２）であって、（ハ）は合金ワイヤ
１２４の溶融物が坩堝１２１の溶融部Ｍに滴下する様子
を示す。なお、実線は低蒸気圧金属１２０の蒸発の発生
方向を、破線は合金ワイヤ１２４の蒸気の発生方向を表
す。
って、坩堝１２１の中心軸の右半分の分布を示す。この
図から判るように、合金ワイヤ１２４は坩堝１２１の中
心から偏倚した位置から蒸発するため、高圧蒸気圧金属
蒸気は横方向に偏平して分布する。図３は金属蒸気の発
生状況説明図（その２）であって、（ハ）は合金ワイヤ
１２４の溶融物が坩堝１２１の溶融部Ｍに滴下する様子
を示す。なお、実線は低蒸気圧金属１２０の蒸発の発生
方向を、破線は合金ワイヤ１２４の蒸気の発生方向を表
す。
【００１７】（ニ）は高圧蒸気圧金属蒸気の分布図であ
って、坩堝１２１の中心軸の右半分の分布を示す。この
図から判るように、合金ワイヤ１２４は坩堝１２１の中
心から蒸発するため、高圧蒸気圧金属蒸気は各方向にほ
ぼ一様に分布する。なお、低圧蒸気圧金属蒸気は坩堝の
中心部から蒸発するため図３の（ニ）とほぼ同一の分布
となる。
って、坩堝１２１の中心軸の右半分の分布を示す。この
図から判るように、合金ワイヤ１２４は坩堝１２１の中
心から蒸発するため、高圧蒸気圧金属蒸気は各方向にほ
ぼ一様に分布する。なお、低圧蒸気圧金属蒸気は坩堝の
中心部から蒸発するため図３の（ニ）とほぼ同一の分布
となる。
【００１８】従って、坩堝１２１の中心部である溶融部
Ｍで高圧蒸気圧金属を蒸発させることによって、金属蒸
気の成分比は各方向で一定に維持することが可能とな
る。このために、合金ワイヤ１２４の先端が溶融部Ｍの
直上にくるように調整機構１２２によって遮蔽板１２３
間の隙間を調整すればよい。上記は合金ワイヤ１２４を
坩堝１２１の溶融部Ｍに直接挿入した場合について説明
したが、低蒸気圧金属１２０および合金ワイヤ１２４の
成分によっては、合金ワイヤ１２４は溶融部Ｍに到達す
る前に溶融した低蒸気圧金属１２０の輻射熱によって溶
融する場合もある。
Ｍで高圧蒸気圧金属を蒸発させることによって、金属蒸
気の成分比は各方向で一定に維持することが可能とな
る。このために、合金ワイヤ１２４の先端が溶融部Ｍの
直上にくるように調整機構１２２によって遮蔽板１２３
間の隙間を調整すればよい。上記は合金ワイヤ１２４を
坩堝１２１の溶融部Ｍに直接挿入した場合について説明
したが、低蒸気圧金属１２０および合金ワイヤ１２４の
成分によっては、合金ワイヤ１２４は溶融部Ｍに到達す
る前に溶融した低蒸気圧金属１２０の輻射熱によって溶
融する場合もある。
【００１９】この場合は、調整機構１２２により遮蔽板
１２３の隙間を調整して、遮蔽板１２３上で液化した金
属が遮蔽板１２３上を流れ、溶融部Ｍに滴下するように
すればよい。なお、溶融部Ｍへの滴下を確実にするため
に、遮蔽板１２３は溶融部Ｍで谷を形成するようにゆる
やかに傾斜させることが望ましい。以上説明したよう
に、本発明に係る真空蒸着装置によれば、高蒸気圧金属
が低蒸気圧金属の溶融部で蒸発するように遮蔽板１２３
の間隔を調整することにより、高蒸気圧金属および低蒸
気圧金属の成分比が所定比である蒸気のみが蒸着部１１
に送られて、キャン１１１に巻き付けられたフィルム１
１６の下面に蒸着する。
１２３の隙間を調整して、遮蔽板１２３上で液化した金
属が遮蔽板１２３上を流れ、溶融部Ｍに滴下するように
すればよい。なお、溶融部Ｍへの滴下を確実にするため
に、遮蔽板１２３は溶融部Ｍで谷を形成するようにゆる
やかに傾斜させることが望ましい。以上説明したよう
に、本発明に係る真空蒸着装置によれば、高蒸気圧金属
が低蒸気圧金属の溶融部で蒸発するように遮蔽板１２３
の間隔を調整することにより、高蒸気圧金属および低蒸
気圧金属の成分比が所定比である蒸気のみが蒸着部１１
に送られて、キャン１１１に巻き付けられたフィルム１
１６の下面に蒸着する。
【００２０】さらに、遮蔽板１２３は、坩堝から発生す
る金属蒸気のうち、溶融部Ｍからほぼ鉛直に上昇する金
属蒸気だけがフィルム１１６に蒸着することを許容し、
フィルムの移動方向に拡散した蒸気がフィルム１１６に
蒸着することを防止する機能も果たす。これにより、フ
ィルム１１６面に鉛直に金属が蒸着すること、成分比の
ばらつきが大きい金属蒸気が蒸着することが防止され
る。
る金属蒸気のうち、溶融部Ｍからほぼ鉛直に上昇する金
属蒸気だけがフィルム１１６に蒸着することを許容し、
フィルムの移動方向に拡散した蒸気がフィルム１１６に
蒸着することを防止する機能も果たす。これにより、フ
ィルム１１６面に鉛直に金属が蒸着すること、成分比の
ばらつきが大きい金属蒸気が蒸着することが防止され
る。
【００２１】なお、溶融部Ｍの様子はモニタカメラ１２
８で撮影して、例えばＣＲＴである表示装置（図示せ
ず）に表示して観察することができる。図４は本発明に
係る真空蒸着装置の第２の実施形態の正面断面図であっ
て、フィルム１１６の幅が広い場合に適用する。第２の
実施形態においては、坩堝１２１は直方体形状であり、
遮蔽板１２３は坩堝１２１の長手方向に沿って設置され
る。そして、合金ワイヤ供給ドラム１２５も坩堝１２１
の長手方向に沿って複数個（図４では３個）配置され、
合金ワイヤ１２４が複数本坩堝１２１に向けて挿入され
る。
８で撮影して、例えばＣＲＴである表示装置（図示せ
ず）に表示して観察することができる。図４は本発明に
係る真空蒸着装置の第２の実施形態の正面断面図であっ
て、フィルム１１６の幅が広い場合に適用する。第２の
実施形態においては、坩堝１２１は直方体形状であり、
遮蔽板１２３は坩堝１２１の長手方向に沿って設置され
る。そして、合金ワイヤ供給ドラム１２５も坩堝１２１
の長手方向に沿って複数個（図４では３個）配置され、
合金ワイヤ１２４が複数本坩堝１２１に向けて挿入され
る。
【００２２】金属蒸気は遮蔽板１２３の隙間から上昇す
るが、金属蒸気の流路を横切るようにレーザ吸光式蒸気
密度計が合金ワイヤ供給ドラム１２５に対応した台数
（図４では３台）設置される。即ち、金属蒸気の流路の
両側に、レーザ４１および光電子増倍管４２で構成され
るレーザ吸光式蒸気密度計が合金ワイヤ供給ドラム１２
５に対応した台数設置される。
るが、金属蒸気の流路を横切るようにレーザ吸光式蒸気
密度計が合金ワイヤ供給ドラム１２５に対応した台数
（図４では３台）設置される。即ち、金属蒸気の流路の
両側に、レーザ４１および光電子増倍管４２で構成され
るレーザ吸光式蒸気密度計が合金ワイヤ供給ドラム１２
５に対応した台数設置される。
【００２３】そして、レーザ吸光式蒸気密度計の出力で
ある金属蒸気の密度が予め設定された値となるように、
合金ワイヤ供給ドラム１２５から送りだされる合金ワイ
ヤ１２４の供給量を制御する。なお、レーザ吸光式蒸気
密度計を３台設置する場合には、坩堝１２１の長手方向
の長さをＬとしたとき、一方端からＬ／４，Ｌ／２，３
Ｌ／４の位置に設置することが望ましい。これは、図２
（ロ）および図３（ニ）に示す高蒸気圧金属蒸気の分布
解析において高蒸気圧金属蒸気の分布の長手方向の最大
偏倚はＬ／４程度であることが判明したので、Ｌ／４間
隔で高蒸気圧金属を供給すれば成分比はほぼ一定に維持
できるからである。
ある金属蒸気の密度が予め設定された値となるように、
合金ワイヤ供給ドラム１２５から送りだされる合金ワイ
ヤ１２４の供給量を制御する。なお、レーザ吸光式蒸気
密度計を３台設置する場合には、坩堝１２１の長手方向
の長さをＬとしたとき、一方端からＬ／４，Ｌ／２，３
Ｌ／４の位置に設置することが望ましい。これは、図２
（ロ）および図３（ニ）に示す高蒸気圧金属蒸気の分布
解析において高蒸気圧金属蒸気の分布の長手方向の最大
偏倚はＬ／４程度であることが判明したので、Ｌ／４間
隔で高蒸気圧金属を供給すれば成分比はほぼ一定に維持
できるからである。
【００２４】そして、中央のレーザ吸光式蒸気密度計で
計測される金属蒸気の密度中で高蒸気圧金属の割合が少
ない場合は中央の合金ワイヤ供給ドラム１２５の回転を
増大し、逆に中央のレーザ吸光式蒸気密度計で計測され
る金属蒸気の密度中で高蒸気圧金属の割合が多い場合は
中央の合金ワイヤ供給ドラム１２５の回転を減少する。
計測される金属蒸気の密度中で高蒸気圧金属の割合が少
ない場合は中央の合金ワイヤ供給ドラム１２５の回転を
増大し、逆に中央のレーザ吸光式蒸気密度計で計測され
る金属蒸気の密度中で高蒸気圧金属の割合が多い場合は
中央の合金ワイヤ供給ドラム１２５の回転を減少する。
【００２５】上記実施形態においては、遮蔽板１２３に
よって遮蔽された金属蒸気は遮蔽板１２３の下面に付着
するが、本発明に係る真空蒸着装置によれば以下の操作
によって遮蔽板１２３下面に付着した金属を再利用する
ことが可能となる。ある程度遮蔽板１２３下面に金属が
付着したと判断されたときには、調整機能１２２によっ
て遮蔽板１２３を電子ビーム１２６で直接照射する。す
ると、遮蔽板１２３下面に付着した金属は再溶融し坩堝
１２１内に滴下するので、金属を再利用することが可能
となり遮蔽板１２３が廃材となることが防止される。
よって遮蔽された金属蒸気は遮蔽板１２３の下面に付着
するが、本発明に係る真空蒸着装置によれば以下の操作
によって遮蔽板１２３下面に付着した金属を再利用する
ことが可能となる。ある程度遮蔽板１２３下面に金属が
付着したと判断されたときには、調整機能１２２によっ
て遮蔽板１２３を電子ビーム１２６で直接照射する。す
ると、遮蔽板１２３下面に付着した金属は再溶融し坩堝
１２１内に滴下するので、金属を再利用することが可能
となり遮蔽板１２３が廃材となることが防止される。
【００２６】
【発明の効果】第１の発明に係る真空蒸着装置によれ
ば、低蒸気圧金属の溶融部で高蒸気圧金属が蒸発するの
で金属蒸気の成分比をほぼ所定値に維持することができ
るだけでなく、遮蔽板により余分な金属蒸気が薄膜に到
達することを防止することができる。
ば、低蒸気圧金属の溶融部で高蒸気圧金属が蒸発するの
で金属蒸気の成分比をほぼ所定値に維持することができ
るだけでなく、遮蔽板により余分な金属蒸気が薄膜に到
達することを防止することができる。
【００２７】第２の発明に係る真空蒸着装置によれば、
低蒸気圧金属および高蒸気圧金属の組成に応じて遮蔽板
の隙間が調整されるので、高蒸気圧金属が低蒸気圧金属
の溶融部で蒸発することを確実にすることが可能とな
る。第３の発明に係る真空蒸着装置によれば、複数の高
蒸気圧金属供給手段を予め定められた所定位置に配置す
ることにより遮蔽板の長手方向の金属蒸気の成分比を略
一定に維持することが可能となる。
低蒸気圧金属および高蒸気圧金属の組成に応じて遮蔽板
の隙間が調整されるので、高蒸気圧金属が低蒸気圧金属
の溶融部で蒸発することを確実にすることが可能とな
る。第３の発明に係る真空蒸着装置によれば、複数の高
蒸気圧金属供給手段を予め定められた所定位置に配置す
ることにより遮蔽板の長手方向の金属蒸気の成分比を略
一定に維持することが可能となる。
【００２８】第３の発明に係る真空蒸着装置によれば、
金属蒸気の密度計測結果に基づいて金属蒸気の成分比を
一層正確に制御することが可能となる。
金属蒸気の密度計測結果に基づいて金属蒸気の成分比を
一層正確に制御することが可能となる。
【図１】本発明に係る真空蒸着装置の第１の実施形態の
正面断面図である。
正面断面図である。
【図２】金属蒸気の発生状況の説明図（その１）であ
る。
る。
【図３】金属蒸気の発生状況の説明図（その２）であ
る。
る。
【図４】本発明に係る真空蒸着装置の第２の実施形態の
斜視図である。
斜視図である。
１…真空箱 １０…排気装置 １１…蒸着部 １１１…キャン １１２…第１のフリーローラ １１３…第２のフリーローラ １１４…フィルム送り出しローラ １１５…フィルム巻き取りローラ １１６…フィルム １２…金属蒸気発生部 １２１…坩堝 １２２…調整手段 １２３…遮蔽板 １２４…合金ワイヤ １２５…合金ワイヤ供給ドラム １２６…電子ビーム １２７…電子銃 １２８…モニターカメラ
Claims (6)
- 【請求項１】 帯状薄膜に金属を蒸着するための真空蒸
着装置であって、 溶融状態の第１の金属材を貯蔵する坩堝の直上方に相互
に隙間を介して略水平に設置される一対の遮蔽板と、 前記遮蔽板の上方から前記遮蔽板の隙間を介して、前記
第１の金属材より高い蒸気圧を有する第２の金属材を前
記第１の金属材の溶融部に供給する少なくとも１つの高
蒸気圧金属供給手段と、を具備する真空蒸着装置。 - 【請求項２】 前記一対の遮蔽板が、低蒸気圧かつ高融
点の材料で製造されたものである請求項１に記載の真空
蒸着装置。 - 【請求項３】 前記低蒸気圧かつ高融点の材料がタング
ステンもしくは炭素である請求項２に記載の真空蒸着装
置。 - 【請求項４】 前記一対の遮蔽板の隙間を調整する隙間
調整手段をさらに具備する請求項１から３のいずれか１
項に記載の真空蒸着装置。 - 【請求項５】 ３つの前記高蒸気圧金属供給手段が、前
記一対の遮蔽板の隙間に沿って、隙間の一端から１／
４、１／２、および３／４の位置に配置される請求項１
から４のいずれか１項に記載の真空蒸着装置。 - 【請求項６】 前記坩堝から前記一対の遮蔽板の隙間を
介して上昇する金属蒸気の密度を計測する蒸気密度計測
手段と、 前記蒸気密度計測手段で計測された金属蒸気の密度に基
づいて前記高蒸気圧金属供給手段による第２の金属材の
供給量を制御する高蒸気圧金属供給量制御手段と、をさ
らに具備する請求項１から５のいずれか１項に記載の真
空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11232730A JP2001059158A (ja) | 1999-08-19 | 1999-08-19 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11232730A JP2001059158A (ja) | 1999-08-19 | 1999-08-19 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001059158A true JP2001059158A (ja) | 2001-03-06 |
Family
ID=16943894
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11232730A Withdrawn JP2001059158A (ja) | 1999-08-19 | 1999-08-19 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001059158A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012077375A (ja) * | 2010-09-09 | 2012-04-19 | Panasonic Corp | 真空蒸着装置 |
| CN113930719A (zh) * | 2021-09-18 | 2022-01-14 | 铜陵市超越电子有限公司 | 一种电容器金属化薄膜加工真空镀膜机 |
| JP7477725B2 (ja) | 2021-03-01 | 2024-05-01 | カール ツァイス ヴィジョン インターナショナル ゲーエムベーハー | 眼鏡レンズをコーティングするための蒸着方法、物理蒸着システム及び物理蒸着のためのるつぼ |
-
1999
- 1999-08-19 JP JP11232730A patent/JP2001059158A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012077375A (ja) * | 2010-09-09 | 2012-04-19 | Panasonic Corp | 真空蒸着装置 |
| JP7477725B2 (ja) | 2021-03-01 | 2024-05-01 | カール ツァイス ヴィジョン インターナショナル ゲーエムベーハー | 眼鏡レンズをコーティングするための蒸着方法、物理蒸着システム及び物理蒸着のためのるつぼ |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060323 |
|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20061107 |