DE2426177C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE2426177C2 DE2426177C2 DE2426177A DE2426177A DE2426177C2 DE 2426177 C2 DE2426177 C2 DE 2426177C2 DE 2426177 A DE2426177 A DE 2426177A DE 2426177 A DE2426177 A DE 2426177A DE 2426177 C2 DE2426177 C2 DE 2426177C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- silver
- silver halide
- mol
- compounds
- lith
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/04—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with macromolecular additives; with layer-forming substances
- G03C1/043—Polyalkylene oxides; Polyalkylene sulfides; Polyalkylene selenides; Polyalkylene tellurides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
- C08G65/331—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen
- C08G65/332—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing carboxyl groups, or halides, or esters thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
- C08G65/334—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing sulfur
- C08G65/3344—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing sulfur containing oxygen in addition to sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/338—Polymers modified by chemical after-treatment with inorganic and organic compounds
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/15—Lithographic emulsion
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren
zur Entwicklung eines belichteten photographischen Aufzeichnungsmaterials
vom Lith-Typ,
enthaltend einen Schichtträger und eine lichtempfindliche Silberhalogenidemulsionsschicht,
deren Silberhalogenid zu mindestens 50 Mol-% aus Silberchlorid, zu
mindestens 5 Mol-% aus Silberbromid und zu 0 bis 5 Mol-% aus Silberiodid besteht,
in Gegenwart einer Polyoxyethylenverbindung, ferner auf ein - wie soeben
definiertes - photographisches Aufzeichnungsmaterial vom Lith-Typ mit einer Polyoxyethylenverbindung
in der Silberhalogenidemulsionsschicht oder einer hierzu
benachbarten, wasserdurchlässigen Schicht, sowie eine photographische Lith-Entwicklerzusammensetzung
mit einem Gehalt an mindestens einer
Silberhalogenidentwicklersubstanz und einer Polyoxyethylenverbindung.
Es ist bekannt, daß die Entwicklung von belichteten
Silberhalogenidmaterialien, um Halbtonbilder mittels
üblicher Entwickler zu erzeugen, z. B. mittels eines
Hydrochinon/p-Methylaminophenol-Entwicklers, durch die
Verwendung von Polyoxyalkylenverbindungen im photographischen
Aufzeichnungsmaterial oder in der Entwicklerzusammensetzung beschleunigt
werden kann.
Es ist bekannt, daß Polyoxyalkylenverbindungen, wenn sie
mit sogenannten "Lith"-Entwicklern (infektiöse Entwicklung)
verwendet werden, die Entwicklungsgeschwindigkeit
zurückhalten, während sie die Gradation erhöhen. Die
genannten "Lith"-Entwickler sind im allgemeinen Entwickler,
die Hydrochinon als einzige Entwicklersubstanz
enthalten und einen niedrigen Sulfitgehalt gewöhnlich in
Form eines Hydrogensulfit-Additionsprodukts eines aliphatischen
Aldehyds oder Ketons, z. B. Formaldehydhydrogensulfit
aufweisen. Diese Polyoxyalkylenverbindungen sind
deshalb bei der "Lith"-Entwicklung von Silberhalogenidemulsionen
für den graphischen Betrieb sehr geeignet, d. h.
für den Typ, der für die photomechanische Reproduktion von
Strich- und Rasterbildern verwendet wird. Diese Emulsionen
sind im allgemeinen Silcherchlorid- und Silberbromidchloridemulsionen,
die höchstens 50 Mol-%, vorzugsweise
höchstens 30 Mol-%, Bromid enthalten.
Viele verschiedene Polyoxyalkylenverbindungen sind bekannt,
um die Entwicklungseigenschaften der
gewöhnlichen photographischen Schwarzweißmaterialien
ebenso wie die der Farbmaterialien und "Lith"-Materialien
zu verbessern, z. B. Polyethylenglykole, die vorzugsweise
ein Molekulargewicht von mindestens 1500 haben, ebenso
ihre Derivate, z. B. Ether und Ester, die man durch
Reaktion mit Fettalkoholen, Alkylphenolen und Fettsäuren
erhalten hat, weiterhin Polyester, die man durch Polykondensation
von zweibasischen Säuren mit Polyethylenglykolen
erhalten hat.
Viele dieser Polyoxyethylenverbindungen beeinträchtigen
jedoch, wenn sie in Silberhalogenidemulsionsschichten
verwendet werden, die Haltbarkeitsqualitäten dieser
Schichten, besonders bei hohen Temperaturen und erhöhter
relativer Feuchtigkeit, indem sie eine wesentliche
Zunahme des Schleiers verursachen. Es kommt auch oft vor,
daß sie den Bildton des entwickelten Silbers beeinträchtigen,
indem sie braune oder rotbraune Bilder erzeugen.
Wenn sie in der "Lith"-Entwicklung verwendet
werden, erhöhen sie außerdem die Bildung von sogenannten
"Pfefferkörnern", führen nicht zu günstiger Punktqualität
oder erlauben keinen genügenden Entwicklungsspielraum.
"Pfefferkörner" sind schwarze Flecken sehr hoher Dichte,
die während der Entwicklung in den schwach belichteten
Teilen der lichtempfindlichen Emulsionsschicht unregelmäßig
erzeugt werden. Diese "Pfefferkörner" setzen die Qualität
der Strichbildaufnahme merklich herab, wenn sie in hohem
Ausmaß anwesend sind, indem sie die Rasterpunkte deformieren
und/oder die fast nicht belichteten Teile beflecken.
Das Phänomen der "Pfefferkörner" entsteht
besonders, wenn teilweise oxidierte oder etwas erschöpfte
Entwickler verwendet werden.
Aus der US-PS 29 44 902 ist bekannt, Silberhalogenidemulsionen
Polyoxyethylenverbindungen zuzusetzen, um die
Empfindlichkeit zu erhöhen. Daß bei Silberhalogenidemulsionsschichten
vom Lith-Typ durch den erfindungsgemäßen
Zusatz bestimmter Polyoxyethylenverbindungen die sogenannten
"Pfefferkörner" vermieden werden können, ist
dieser Patentschrift nicht zu entnehmen.
Aufgabe der Erfindung ist es, Polyoxyethylenverbindungen anzugeben, die
sehr kontrastreiche
Silberbilder mit sehr scharfen Rasterpunkten ermöglichen, wobei nur
wenig "Pfefferkörner" gebildet werden und/oder es kann für die Entwicklung
ein breites Zeitintervall ohne Schaden der Bildqualität
in Anspruch genommen werden.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß die Polyoxyethylenverbindung der
allgemeinen Formel
RO(CH₂CH₂O) n (CO) m A
entspricht, in der bedeuten:
Rein Wasserstoffatom, C₁-C₅-Alkyl, z. B. Methyl, oder
(-CO) m -A,
nmindestens 4, vorzugsweise mindestens 10,
m0 oder 1 und
Awenn m = 0: Sulfoalkyl, z. B. 3-Sulfopropyl oder 2-
Hydroxy-3-sulfopropyl, Carboxyalkyl, z. B. Carboxymethyl
oder Sulfoalkoxycarbonylalkyl; oder,
wenn m = 1: Carboxyalkyl, z. B. Carboxyethyl oder 1-Sulfo-2- carboxyethyl, Sulfoalkoxycarbonylalkyl, Carboxyalkenyl, z. B. 2-Carboxyvinyl, Sulfoalkoxycarbonylalkenyl, Carboxylphenyl, Sulfoalkoxycarbonylphenyl oder Sulfophenyl, wobei die aliphatischen Kohlenwasserstoffgruppen höchstens 4 Kohlenstoffatome enthalten und die Carboxyl- und Sulfogruppen in Säure- oder Salzform, z. B. als Kalium-, Natrium-, Ammonium-, Diethanolammonium-, Triethanolammonium- oder Morpholiniumsalz vorliegen können.
wenn m = 1: Carboxyalkyl, z. B. Carboxyethyl oder 1-Sulfo-2- carboxyethyl, Sulfoalkoxycarbonylalkyl, Carboxyalkenyl, z. B. 2-Carboxyvinyl, Sulfoalkoxycarbonylalkenyl, Carboxylphenyl, Sulfoalkoxycarbonylphenyl oder Sulfophenyl, wobei die aliphatischen Kohlenwasserstoffgruppen höchstens 4 Kohlenstoffatome enthalten und die Carboxyl- und Sulfogruppen in Säure- oder Salzform, z. B. als Kalium-, Natrium-, Ammonium-, Diethanolammonium-, Triethanolammonium- oder Morpholiniumsalz vorliegen können.
Die erfindungsgemäßen Polyoxyethylenverbindungen
können, wie hiernach in den Herstellungsbeispielen veranschaulicht wird, durch
teilweise oder vollständige Umwandlung von endständigen
Hydroxylgruppen eines Polyethylenglykols oder seines
Mono-C₁-C₅-Alkylethers hergestellt werden. Viele dieser
Polyglykole und ihrer Monoether sind im Handel
in Form von Mischungen mit variierendem Molekulargewicht
erhältlich. Die Polyoxyethylenverbindungen, aus denen man
gewöhnlich die Derivate der Erfindung herstellt, haben ein
durchschnittliches Molekulargewicht von mindestens 200.
Die endständigen Hydroxylgruppe(n) kann (können) durch
Reaktion mit einem Anhydrid einer zweibasischen, gesättigten
oder ungesättigten Säure, z. B. Bernsteinsäureanhydrid,
Maleinsäureanhydrid, Phthalsäureanhydrid oder
Sulfobenzoesäureanhydrid, mit einem Sulton, z. B.
Propansulton, mit einer α-Halogen oder β-Halogencarbonsäure,
z. B. α-Chloressigsäure, oder mit einer
Epoxyalkansulfonsäure, z. B. 1,2-Epoxypropansulfonsäure,
umgewandelt werden. Endständige Carboxylgruppen der so
gebildeten Verbindungen können weiterhin mit einem Sulton,
z. B. Propansulton, verestert werden, so daß eine endständige
Sulfoalkylestergruppe gebildet wird. Die
Reaktionsprodukte, die man durch Reaktion mit einem Anhydrid
einer ungesättigten zweibasischen Säure, z. B.
Maleinsäureanhydrid, erhalten hat, dürfen weiter mit einem
Hydrogensulfit reagieren, so daß ein Hydrogensulfitadditionsprodukt
gebildet wird.
Repräsentative Beispiele von Polyoxyethylenverbindungen
gemäß der vorliegenden Erfindung, die nach den oben
angegebenen Verfahren und wie hiernach veranschaulicht,
hergestellt werden können, sind:
- in der
n etwa 4, etwa 22 oder etwa 34 ist, abgeleitet von Polyethylenglykol mit durchschnittlichem Molekulargewicht von 200, 1000 bzw. 1500; die Verbindung, für die n etwa 34 gilt, kann wie folgt hergestellt werden:
Eine Lösung von 150 g Polyethylenglykol (durchschnittliches Molekulargewicht 1500), 44 g o- Sulfobenzoesäureanhydrid und 16,3 g wasserfreiem Pyridin in 400 ml wasserfreiem Benzol wird unter Rühren 8 Stunden lang am Rückflußkühler erhitzt. Die Lösung wird mit einer Lösung von 11,6 g Natriumcarbonat in 150 ml Wasser versetzt. Die Mischung wird eingedampft und der Rückstand in Ethanol gelöst. Die Lösung wird filtriert und wiederum eingedampft bis zur Trockne.
Ausbeute: 164 g - in der
n etwa 16 ist, abgeleitet von Polyethylenglykolmonomethylether mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von 750; diese Verbindung wird auf die gleiche Weise wie die obengenannte Verbindung mit äquimolaren Mengen von o-Sulfobenzoesäureanhydrid und Polyethylenglykolmonomethylether hergestellt. - 3. HOOC-CH=CH-COO(CH₂-CH₂O) n CO-CH=CH-COOH
in der
n etwa 4, etwa 22, etwa 34, etwa 45 oder etwa 90 ist, abgeleitet von Polyethylenglykol mit durchschnittlichem Molekulargewicht von 200, 1000, 1500, 2000 bzw. 4000; die Verbindungen, für die n etwa 22 gilt, kann wie folgt hergestellt werden:
Eine Lösung von 100 g Polyethylenglykol (Molekulargewicht 1000) und 19,6 g Maleinsäureanhydrid in 1000 ml wasserfreiem Toluol wird 7 Stunden lang am Rückflußkühler erhitzt. Die erhaltene Lösung wird eingeengt.
Ausbeute: 116 g. - 4. HOOC-CH₂-CH₂-COO(CH₂CH₂O) n CO-CH₂-CH₂-COOH
in der
n etwa 34 ist, abgeleitet von Polyethylenglykol mit durchschnittlichem Molekulargewicht von 1500 und Bernsteinsäureanhydrid; die Verbindung wird nach dem Verfahren hergestellt, das für die Herstellung von Verbindung 3 beschrieben ist. - in der
n etwa 4 oder etwa 22 ist, abgeleitet von Polyethylenglykol mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von 200 bzw. 1000; die Verbindung, für die n etwa 4 gilt, kann wie folgt hergestellt werden:
Ein Lösungsgemisch von 79,2 g des obengenannten Polyethylenglykol-Maleinsäureesters, in dem n etwa 4 ist, in 200 ml Wasser und 38 g Natriummetabisulfit in 100 ml Wasser wird unter Rühren 3 Stunden lang am Rückflußkühler erhitzt. Die Lösung wird über Holzkohle filtriert, während sie noch heiß ist, und dann eingedampft.
Ausbeute: 105 g. - 6. NaO₃S-(CH₂)₃O-(CH₂CH₂O) n (CH₂)₃SO₃Na
in der
n etwa 4, etwa 22 oder etwa 34 ist, abgeleitet von Polyethylenglykol mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von 200, 1000 bzw. 1500; die Verbindung, für die n etwa 4 gilt, kann wie folgt hergestellt werden:
Eine Mischung auf 100 g wasserfreiem Polyethylenglykol (durchschnittliches Molekulargewicht 200), 122 g Propansulton und 53 g Natriumcarbonat wird 8 Stunden lang auf 130°C erhitzt. Das erhaltene feste Produkt wird in 2,5 l wasserfreiem Methanol aufgenommen, filtriert und bis zur Trockne eingedampft. Der Rückstand wird mit Ethylacetat gewaschen, wieder in 2,5 l wasserfreiem Methanol aufgenommen und durch 2,5 l Isopropanol ausgefällt. Der Feststoff wird abfiltriert und getrocknet.
Ausbeute: 70 g.
Bei der Herstellung der Polyethylenglykolderivate, worin n etwa 22 oder 34 ist, wird das wasserfreie Methanol durch eine Mischung von Ethanol und Isopropanol ersetzt. - 7. HO(CH₂CH₂O) n (CH₂)₃SO₃Na
in der
n etwa 4 ist, abgeleitet von Polyethylenglykol mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von 200, erhält man, indem man das Methanol-Isopropanol-Filtrat der vorhergehenden Herstellung so lange eingedampft, bis es trocken ist.
Ausbeute: 40 g. - in der
n etwa 4 ist, abgeleitet von Polyethylenglykol mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von 200; diese Verbindung kann wie folgt hergestellt werden:
Eine Lösung aus 39,6 g der Verbindung 3, in der n etwa 4 ist, 4,6 g Natriumcarbonat und 24,4 g Propansulton in 350 ml wasserfreiem Methanol wird eine Stunde lang am Rückflußkühler erhitzt, filtriert, während sie noch heiß ist, und abkühlt. Der durch Zugabe von 2 l Ether gebildete Niederschlag wird abgenutscht und getrocknet.
Ausbeute: 43 g.
Die Verbindungen, die gemäß der vorliegenden Erfindung
verwendet werden, können zu der Gießzusammensetzung einer
Silberhalogenidemulsionsschicht gegeben und/oder in eine
wasserdurchlässige Schicht eingeschlossen werden, die,
wenn sie unter oder über der Emulsionsschicht aufgetragen
wird, mit der Silberhalogenidemulsionsschicht ein wasserdurchlässiges
System bildet und daher in wirksamem Kontakt
mit dem Silberhalogenid steht. Es ist auch möglich, die
Verbindungen im Entwickler einzuschließen; wenn man sie
im Entwickler verwenden will, ist es vorzuziehen, Verbindungen
der obengenannten Formel zu verwenden, worin
m = 0 ist.
Die erfindungsgemäßen Polyoxyethylenverbindungen lassen
sich in die bereits aufgetragene Emulsionsschicht dadurch einschließen,
indem man entweder die Emulsionsschicht mit einer wäßrigen
Lösung dieser Verbindungen behandelt oder man diese
Schicht mit einer wasserdurchlässigen Schicht bedeckt, die
diese Verbindungen enthält, oder auch, indem man diese Verbindungen
aus einer wasserdurchlässigen Schicht, die unter
der Emulsionsschicht liegt und die Verbindungen enthält,
durch Diffusion mit dem Silberhalogenid in wirksamen Kontakt
bringt.
Die erfindungsgemäßen Polyoxyethylenverbindungen können der
lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsion während verschiedener
Herstellungsschritte
zugegeben werden, allein oder gemischt mit anderen
Zusätzen, zu einem Zeitpunkt,
der dem Auftragen der Emulsion vorausgeht.
Vorzugsweise werden sie nach
der chemischen Reifung bis kurz vor dem Auftragen
zugegeben und dann vorzugsweise aus
einer Lösung in Wasser oder in einer wäßrigen
Mischung von Wasser und wassermischbaren, organischen
Lösungsmitteln, die die photographischen
Eigenschaften der lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsionen
nicht beeinträchtigen, wie Ethanol.
Der Schritt der Beeinflussung der sensitometrischen Eigenschaften
von Silberhalogenidemulsionen durch die erfindungsgemäßen
Verbindungen kann mit einer Methode kombiniert
werden, die als chemische Sensibilisierung bekannt
ist, in welcher zusammen mit den obenerwähnten Verbindungen
chemische Sensibilisatoren verwendet werden, z. B.
schwefelhaltige Verbindungen, wie Allylisothiocyanat,
Allylthioharnstoff oder Natriumthiosulfat, reduzierende
Verbindungen wie die Zinn(II)verbindungen, die in den BE-PS
4 93 464 und 5 68 687 beschrieben
werden, die Iminoaminomethansulfinsäureverbindungen, die
in der GB-PS 7 89 823 beschrieben sind,
oder Edelmetallverbindungen, wie Gold-, Platin-, Palladium-,
Iridium-, Ruthenium- und Rhodiumverbindungen, wie
sie von R. Koslowski, Z. Wiss. Phot., 46, 65-72, (1951),
beschrieben sind.
Die erfindungsgemäßen Polyoxyethylenverbindungen können auch
in Kombination mit Stabilisatoren und schleierverhindernden
Verbindungen für die Silberhalogenidemulsion verwendet
werden, z. B. mit Quecksilberverbindungen, wie diejenigen,
die in den BE-PS 5 24 121 und 6 77 337
und in der veröffentlichten niederländischen Patentanmeldung
67 15 932 beschrieben sind, mit organischen, schwefelhaltigen
Verbindungen, die ein unlösliches Silbersalz mit
Silberionen bilden, mit heterocyclischen, stickstoffhaltigen
Thioxoverbindungen, wie Benzthiazolin-2-thion und 1-
Phenyl-2-tetrazolin-5-thion, 5-Methyl-7-hydroxy-s-triazol[1,5-a]pyrimidin
oder 2,2′-Tetramethylenbistetrazol, den Verbindungen, die in den
BE-PS 5 71 916 und 5 71 917 beschrieben
sind, und mit Tetra- oder Pentaazaindenen, insbesondere
denjenigen, die durch Hydroxyl- oder Aminogruppen substituiert
sind. Beispiele der letzteren Verbindungen sind von
Birr, Z. Wiss. Phot., 47, 2-58 (1952), beschrieben worden.
Die Kombination mit sensibilisierenden und stabilisierenden
Cadmiumsalzen wie Cadmiumchlorid sowohl im
lichtempfindlichen Material als auch in der Entwicklerzusammensetzung kann
ebenfalls angewendet werden.
Zusätzlich zu den obengenannten stabilisierenden und
chemisch sensibilisierenden Mitteln können andere Verbindungen,
z. B. organische Oniumverbindungen und Polyoniumverbindungen,
vorzugsweise vom Ammonium- oder Sulfoniumtyp,
z. B. quaternäre Tetraalkylammoniumsalze, Alkylpyridiniumsalze,
Bis-alkylenpyridiniumsalze, Alkylchinoliniumsalze,
Trialkylsulfoniumsalze, Oniumderivate von Amino-N-
Oxiden, wie sie in der GB-PS 11 21 696
beschrieben sind, und Iodoniumverbindungen, z. B. Diphenyl-
iodoniumchlorid, wie in der GB-PS
11 19 075 beschrieben, zusammen mit den Verbindungen gemäß
der Erfindung sowohl in der Entwicklerzusammensetzung als auch im
lichtempfindlichen Material verwendet werden. Auch andere
Ingredienzien, wie spektrale Sensibilisatoren, Farbkuppler,
Entwicklersubstanzen, Härter, Weichmacher und Netzmittel,
können auf die übliche Weise zur Emulsion gegeben
werden.
Die Entwicklung sowohl der niedrigempfindlichen als auch
der hochempfindlichen und sowohl der feinkörnigen als auch der grobkörnigen
Silberhalogenidemulsionen wird durch die Reaktivität
der erfindungsgemäßen Verbindungen beschleunigt. Die Verbindungen
können angewendet werden, um die Entwicklung von
spektral sensibilisierten oder nicht spektral sensibilisierten Emulsionen zu
beschleunigen. Sie können in die photographische Emulsion
entweder mit oder ohne spektrale Sensibilisatoren eingeschlossen
werden.
Die optimale Menge der erfindungsgemäßen Polyoxyethylenverbindung
hängt von der Art
des kolloidalen Bindemittels, von der Menge und der Art
des Silberhalogenids in der Emulsion, von der verwendeten
Entwicklerzusammensetzung und von der spezifischen Verbindung
selbst ab. Diese Menge kann stark schwanken und
kann durch einige einfache Versuche bestimmt
werden.
Bei der Lith-Entwicklung werden die Polyoxyethylenverbindungen
der Erfindung im allgemeinen in Mengen verwendet,
die von etwa 1 mg bis etwa 2000 mg, vorzugsweise
von etwa 10 mg bis etwa 1000 mg pro Mol Silberhalogenid
oder pro Liter Entwicklerzusammensetzung reichen.
Das Silberhalogenid kann beispielsweise bestehen aus
Silberbromid, Silberchlorid,
Silberchloridbromid, Silberbromidiodid und
Silberchloridiodid. Dabei beträgt der Silberbromidanteil vorzugsweise
mindestens 70 Mol-% Silberchlorid. Der durchschnittliche Korndurchmesser liegt vorzugsweise
zwischen 0,1 und 0,4 µm.
Das Silberhalogenid wird in hydrophilen, kolloidalen
Bindemitteln dispergiert, die außer Gelatine, die bevorzugt
wird, beispielsweise folgende Stoffe umfassen: Kollodium, Gummi arabicum,
Casein, Zein, Celluloseesterderivate, wie Alkylester von
carboxylierter Cellulose, Hydroxyethylcellulose, Carboxymethylhydroxyethylcellulose,
Alginsäure und Polyvinylalkohol.
Die Bindemittel können dispergierte
polymerisierte Vinylverbindungen enthalten, wie z. B. in
den US-PS 31 42 568, 31 93 386, 30 62 674,
32 20 844 und 35 18 085 beschrieben ist. Sie umfassen die
wasserunlöslichen Polymeren von Alkylacrylaten und Methacrylaten,
Acrylsäure, Sulfoalkylacrylaten oder -methacrylaten,
Interpolymeren von Alkylacrylaten mit Acrylsäuren,
Acryloylalkylsulfonsäuren und Acetoacetoxyalkylacrylaten,
wie 2-Acetoacetoxyethylmethylacrylat.
Diese Verbindungen können gleichfalls in eine eigene
Schicht des photographischen Materials eingeschlossen
werden. Die Vinylpolymeren können in Konzentrationen von
20 bis 80% verwendet werden, am häufigsten in
Konzentrationen von mindestens 50 Gew.-%, bezogen auf das
Gewicht des Bindemittels.
Silberhalogenidemulsionen, worin das Bindemittel eine dispergierte,
polymerisierte Vinylverbindung enthält, ergeben
besonders gute Ergebnisse dadurch, daß in ihnen Schleppschlieren
und Punktverzerrungen verhindert werden.
Die Silberhalogenidemulsionen können auf verschiedene
Schichtträger aufgetragen werden, beispielsweise solche aus
Cellulosenitrat, Celluloseester, Polyvinylacetal,
Polystyrol oder Poly(ethylenterephthalat),
ebenso Glas, Papier oder
Metall.
Schichtträger, wie Papiere, die mit α-Olefinpolymeren beschichtet
sind, insbesondere mit Polymeren von α-Olefinen, die zwei
oder mehr Kohlenstoffatome enthalten, wie beispielsweise
Polyethylen, Polypropylen oder Ethylen-Butylen-Mischpolymerisate,
können ebenfalls verwendet werden.
Die Entwicklung der erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterialien vom Lith-Typ geschieht im allgemeinen
in Entwicklerzusammensetzungen, die Hydrochinon als einzige Entwicklersubstanz
enthalten, und Formaldehydrogensulfit, das
den Sulfitgehalt niedrig hält.
Spezielle "Lith"-Entwicklerzusammensetzungen
sind in der
DE-OS 22 06 299 beschrieben, welche Hydrochinon
als einzige Entwicklersubstanz, mindestens 5 g
Sulfit pro Liter und ein Nitroindazol oder Nitrobenzimidazol
als Entwicklungsverzögerer enthalten. Ein anderer
geeigneter Entwicklungsverzögerer zur Verwendung bei der
Entwicklung von "Lith"-Materialien ist 1H-6-Methylbenztriazol.
Natürlich können Lith-Materialien auch in anderen
Kontrastentwicklerzusammensetzungen entwickelt werden, z. B. N-Methyl-p-
aminophenol/Hydrochinonentwicklern.
Die Polyoxyethylenverbindungen der vorliegenden Erfindung
können auch im Lith-System der DE-OS
23 24 161 verwendet werden, wonach Bilder
mit hohem Kontrast durch Belichtung und Entwicklung eines
photographischen Lith-Silberhalogenidmaterials erzeugt
werden können, das einen Schichtträger und eine Lith-Emulsionsschicht der
oben beschriebenen Art enthält, wobei das Material Hydrochinon
als Entwicklersubstanz einschließt und die Entwicklung
durch die Behandlung des belichteten Materials
mit einem alkalischen Entwicklungsaktivator bein Anwesenheit eines
Hydroxylamins oder eines seiner Salze, oder eines
N-mono-substituierten Hydroxylamins oder eines seiner Salze
bewirkt wird.
Spektrale Sensibilisatoren, die
verwendet werden können, sind z. B. Cyanine, Merocyanine,
komplexe (dreikernige) Cyanine, komplexe (dreikernige)
Merocyanine, Styrylfarbstoffe und Oxonolfarbstoffe.
Solche spektral sensibilisierenden Farbstoffe
sind von F. M. Hamer in "The Cyanine Dyes and Related
Compounds" (1964), beschrieben worden.
Besonders geeignet sind die Cyanine und Merocyanine, die
in den FR-PS 10 73 968, 20 75 675,
20 80 479 und 20 80 480, den GB-PS
6 54 683 und 10 90 626 und den BE-PS
6 54 816, 70 921 und 7 16 831 und 7 23 720 beschrieben
sind.
Im Lith-System der vorliegenden Erfindung ist es auch
möglich, zusätzlich zur Polyoxyethylenverbindung ein N-
Vinyl-2-pyrrolidonpolymeres oder Mischpolymerisat zu verwenden,
einschließlich seiner Additionskomplexe mit Iod,
wie in der GB-PS 11 97 306 beschrieben
ist. Diese N-Vinyl-2-pyrrolidonpolymeren oder -mischpolymerisate
können in der Silberhalogenidemulsionsschicht
oder in anderen hydrophilen Kolloidschicht in wasserdurchlässiger
Beziehung mit der Emulsionsschicht ebenso
wie in der Entwicklerzusammensetzung verwendet werden.
Die folgenden Beispiele veranschaulichen die
Erfindung.
Eine gießfertige ammoniakalische, hochempfindliche
Gelatinesilberbromidiodidemulsion mit 4,2 Mol-% Iodid, die
pro kg eine Silberhalogenidmenge, die 50 g Silbernitrat
entspricht, 625 mg 5-Methyl-7-hydroxy-s-triazol[1,5-a]
pyrimidin als Stabilisator und andere Emulsionszusätze,
wie Härter und Gießhilfsmittel, enthält, wird in mehrere aliquote
Mengen geteilt. Zu jeder dieser Portionen wird eine
der in der untenstehenden Tabelle aufgeführten Verbindungen
in der angegebenen Menge als Entwicklungsbeschleuniger gegeben.
Die Emulsionsportionen werden dann auf einen Papierträger
aufgetragen und getrocknet.
Die erhaltenen Proben werden dann unter identischen Umständen
durch einen Graukeil mit der Konstante 0,20 belichtet
und 8 Minuten lang bei 20°C in einer Entwicklerzusammensetzung
gemäß folgender Aufstellung entwickelt:
Wasser (52°C)750 ml
p-Monomethylaminophenolsulfat2 g
wasserfreies Natriumsulfit100 g
Hydrochinon5 g
Borax (granuliert)2 g
Wasser zum Auffüllen auf1000 ml
Die Werte für Empfindlichkeit und Schleier von Materialien,
die unmittelbar nach dem Auftragen entwickelt werden
(frische Materialien) und von Materialien, die vor der
Entwicklung 36 Stunden lang bei 57°C und 34% relativer Feuchtigkeit
(gelagerte Materialien) aufbewahrt werden, sind
in der untenstehenden Tabelle aufgeführt. Die für die Empfindlichkeit
angegebenen Werte sind relative Werte, gemessen
bei Dichten von 0,1 (Empfindlichkeit I) und 1 (Empfindlichkeit
II) oberhalb des Schleiers; der Empfindlichkeit
des frisch hergestellten Materials, das keine entwicklungsbeschleunigende
Verbindung enthält, wurde der Wert
100 gegeben.
Die oben angegebenen Ergebnisse zeigen die günstige empfindlichkeitsfördernde
Wirkung der erfindungsgemäßen Verbindungen.
Sie erhöhen den Schleier nicht im gleichen Ausmaß
wie das Polyethylenglykol.
Zwei identische, chemisch gereifte Silberchloridbromidiodidemulsionen
(0,4 Mol-% Iodid und 16 Mol-% Bromid),
die für die Reproduktion von Strich- und Rasterbildern
geeignet sind, welche 5-Methyl-7-hydroxy-s-triazol[1,5-
a]pyrimidin, Cadmiumchlorid und Diphenyliodoniumchlorid
enthalten, werden spektral sensibilisiert, woraufhin eine
der in der untenstehenden Tabelle aufgeführten Polyoxyethylenverbindungen
in einer Menge von 25 mg pro eine Menge
Silberhalogenid, die 100 g Silbernitrat entspricht,
zugegeben wird.
Nach der Zugabe von Gießzusätzen und Härter werden die
Emulsionen auf einen Schichtträger aufgetragen und getrocknet.
Die Materialien werden durch einen kontinuierlichen Keil
belichtet und in einer Hydrochinon-Formaldehydrogensulfit-
"Lith"-Entwicklerzusammensetzung entwickelt.
Die erhaltenen Ergebnisse sind in der untenstehenden
Tabelle aufgeführt. Der Anzahl der beobachteten "Pfefferkörner"
wurde eine Qualifikation von 0 bis 5 gegeben, wobei diese
Werte wie folgt interpretiert werden:
0 steht für gar keine "Pfefferkörner",
1 steht für gar keine "Pfefferkörner",
2 steht für einige "Pfefferkörner",
3 steht für eine noch annehmbare, jedoch weniger wünschenswerte Anzahl von "Pfefferkörnern",
4 steht für viele "Pfefferkörner" (Material schlechter Qualität)
5 steht für zu viele "Pfefferkörner" (wertloses Material).
1 steht für gar keine "Pfefferkörner",
2 steht für einige "Pfefferkörner",
3 steht für eine noch annehmbare, jedoch weniger wünschenswerte Anzahl von "Pfefferkörnern",
4 steht für viele "Pfefferkörner" (Material schlechter Qualität)
5 steht für zu viele "Pfefferkörner" (wertloses Material).
Die oben angegebenen Ergebnisse zeigen, daß die erfindungsgemäße
Verbindung dem Polyethylenglykol selbst darin überlegen
ist, daß weniger "Pfefferkörner" gebildet werden und
das Gamma höher liegt.
Man erhält die gleichen günstigen Ergebnisse, wenn man das
Beispiel wiederholt, jedoch statt der Verbindung 3 (n = etwa
34) die Verbindung 6 (n = etwa 4) verwendet.
Ein spektral sensibilisertes "Lith"-Material, das eine
Gelatinesilberchloridbromidemulsionsschicht (16 Mol-%
Bromid) enthält, die 25 Gew.-% eines Latexweichmachers,
bezogen auf das Gelatinegewicht, und Cadmiumchlorid, als
Stabilisator enthält, wird in vier Streifen geteilt.
Die Streifen werden durch einen Stufenkeil und einen
grauen negativen Kontaktschirm belichtet und dann in einer
Hydrochinon/Formaldehydrogensulfit-Lith-Entwicklerzusammensetzung entwickelt,
zu dem eine Polyoxyethylenverbindung, wie sie in
der untenstehenden Tabelle aufgeführt ist, in der angegebenen
Menge gegeben wurde.
Die entwickelten Streifen zeigen ein Punktschirm-Keilbild.
Die Punktschärfe in den Streifen wird durch Vergleich mit
Standardmaterialien ausgewertet, die in abnehmender Folge
der Punktschärfequalität die Benotungen 1, 2, 3, 4, 5 und 6
haben (1 bedeutet ausgezeichnet und 6 schlecht).
Die Punktschärfequalität wird in den Bereich jedes Streifens
geprüft, die 10% Schwarz und 90% Weiß, bzw. 50%
Schwarz und 50% Weiß bzw. 90% Schwarz und 10% Weiß enthalten,
wie in der folgenden Tabelle angegeben:
Die oben angegebenen Ergebnisse zeigen, daß mit den erfindungsgemäßen
Verbindungen eine bessere Punktschärfequalität
als mit Polyethylenglykol erhalten wird.
Man erhält gleichermaßen günstige Ergebnisse, wenn man
anstelle von Verbindung 3 Verbindung 6 (n = etwa 22) oder
Verbindung 6 (n = etwa 34) verwendet, die sich durch ihre
hohe Stabilität in der alkalischen Entwicklerzusammensetzung auszeichnen.
Claims (6)
1. Verfahren zur Entwicklung eines belichteten photographischen
Aufzeichnungsmaterials vom Lith-Typ,
enthaltend einen Schichtträger und eine lichtempfindliche
Silberhalogenidemulsionsschicht, deren Silberhalogenid
zu mindestens 50 Mol-% aus Silberchlorid,
zu mindestens 5 Mol-% aus Silberbromid und zu 0 bis
5 Mol-% aus Silberiodid besteht, in Gegenwart einer
Polyoxyethylenverbindung, dadurch gekennzeichnet, daß
die Polyoxyethylenverbindung der allgemeinen Formel
RO(CH₂CH₂O) n (CO) m Aentspricht, in der bedeuten:Rein Wasserstoffatom, C₁-C₅-Alkyl oder (-CO) m -A,
nmindestens 4,
m0 oder 1,
Awenn m = 0: Sulfoalkyl, Carboxyalkyl oder Sulfoalkoxycarbonylalkyl;
oder
wenn m = 1: Carboxyalkyl, Sulfoalkoxycarbonylalkyl, Carbonylalkyl, Sulfoalkoxycarbonylalkenyl, Carboxyphenyl, Sulfoalkoxycarbonylphenyl oder Sulfophenyl, wobei die aliphatischen Kohlenwasserstoffgruppen höchstens 4 Kohlenstoffatome enthalten und die Carboxyl- und Sulfogruppen in Säure- oder Salzform vorliegen können.
wenn m = 1: Carboxyalkyl, Sulfoalkoxycarbonylalkyl, Carbonylalkyl, Sulfoalkoxycarbonylalkenyl, Carboxyphenyl, Sulfoalkoxycarbonylphenyl oder Sulfophenyl, wobei die aliphatischen Kohlenwasserstoffgruppen höchstens 4 Kohlenstoffatome enthalten und die Carboxyl- und Sulfogruppen in Säure- oder Salzform vorliegen können.
2. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß n mindestens 10 bedeutet.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß m gleich 1 ist und A Carboxyvinyl, 2-
Carboxyethyl oder 1-Sulfo-2-Carboxyethyl bedeutet.
4. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß m gleich 0 ist und A 3-Sulfopropyl oder
2-Hydroxy-3-sulfopropyl bedeutet.
5. Photographisches Aufzeichnungsmaterial vom Lith-Typ,
enthaltend einen Schichtträger und eine lichtempfindliche
Silberhalogenidemulsionsschicht, deren Silberhalogenid
zu mindestens 50 Mol-% aus Silberchlorid,
zu mindestens 5 Mol-% aus Silberbromid und zu 0 bis
5 Mol-% aus Silberiodid besteht, mit einer Polyoxyethylenverbindung
in der Silberhalogenidemulsionsschicht
oder einer hierzu benachbarten, wasserdurchlässigen
Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß
die Polyoxyethylenverbindung der allgemeinen Formel
gemäß Anspruch 1 bis 4 entspricht.
6. Photographische Lith-Entwicklerzusammensetzung mit
einem Gehalt an mindestens einer Silberhalogenidentwicklersubstanz
und einer Polyoxyethylenverbindung,
dadurch gekennzeichnet, daß die Polyoxyethylenverbindung
der allgemeinen Formel gemäß Anspruch 1 bis
4 entspricht.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB2625073A GB1463659A (en) | 1973-06-01 | 1973-06-01 | Development of exposed silver halide material in the presence of polyoxyalkylenes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2426177A1 DE2426177A1 (de) | 1975-01-02 |
DE2426177C2 true DE2426177C2 (de) | 1987-08-20 |
Family
ID=10240704
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19742426177 Granted DE2426177A1 (de) | 1973-06-01 | 1974-05-29 | Verbindungen, die die entwicklungseigenschaften von silberhalogenidemulsionen beeinflussen |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3947273A (de) |
JP (1) | JPS5650265B2 (de) |
BE (1) | BE815651A (de) |
CA (1) | CA1038538A (de) |
CH (1) | CH589872A5 (de) |
DE (1) | DE2426177A1 (de) |
FR (1) | FR2231706B1 (de) |
GB (1) | GB1463659A (de) |
IT (1) | IT1016494B (de) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6045414B2 (ja) * | 1977-07-12 | 1985-10-09 | 富士写真フイルム株式会社 | リス型ハロゲン化銀写真感光材料 |
IL61497A (en) * | 1980-11-16 | 1985-06-30 | Hanetz Photographic Processes | Developer for lith or line films and process for its use |
GB2127462B (en) * | 1982-09-01 | 1986-02-19 | British Petroleum Co Plc | Compositions suitable for modifying wettability and their use |
DE3322198A1 (de) * | 1983-06-21 | 1985-01-17 | Günter 4930 Detmold Joly | Verfahren zum befestigen eines hohlen duebels |
US4710451A (en) * | 1986-03-24 | 1987-12-01 | Agfa-Gevaert N.V. | High contrast development of silver halide emulsion material |
US5538521A (en) * | 1993-12-23 | 1996-07-23 | Chevron Chemical Company | Fuel compositions containing polyalkyl and poly(oxyalkylene)aromatic esters |
US5605789A (en) * | 1994-12-22 | 1997-02-25 | Eastman Kodak Company | Iodochloride emulsions containing iodonium salts having high sensitivity and low fog |
JP3170174B2 (ja) * | 1995-04-18 | 2001-05-28 | 日本ゼオン株式会社 | ポリイミド系樹脂組成物 |
US5871899A (en) * | 1997-04-30 | 1999-02-16 | Eastman Kodak Company | Poly (alkylene oxide)s in photographic elements |
US9447321B2 (en) * | 2014-01-16 | 2016-09-20 | Graham Packaging Company, L.P. | Oxygen scavenging compositions for plastic containers |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2531832A (en) * | 1947-06-12 | 1950-11-28 | Du Pont | Silver halide developers containing polyethylene glycols |
US2944902A (en) * | 1956-07-30 | 1960-07-12 | Eastman Kodak Co | Sensitization of photographic emulsions with ionic polyalkylene oxide salts |
GB1134410A (en) * | 1965-09-01 | 1968-11-20 | Ilford Ltd | Photographic silver halide emulsions |
GB1119075A (en) * | 1965-10-07 | 1968-07-10 | Agfa Gevaert Nv | Improvements in and relating to the development of photographic material |
US3615519A (en) * | 1968-09-09 | 1971-10-26 | Eastman Kodak Co | Direct-positive lithographic elements and processes for developing same |
GB1248530A (en) * | 1969-06-30 | 1971-10-06 | Ilford Ltd | Photographic lith development |
US3622330A (en) * | 1969-12-19 | 1971-11-23 | Du Pont | Lithographic developer containing an anionic fatty alcohol sulfate and a nonionic polyethylene oxide surfactant |
-
1973
- 1973-06-01 GB GB2625073A patent/GB1463659A/en not_active Expired
-
1974
- 1974-04-29 US US05/465,370 patent/US3947273A/en not_active Expired - Lifetime
- 1974-05-03 IT IT86264/74A patent/IT1016494B/it active
- 1974-05-15 JP JP5497574A patent/JPS5650265B2/ja not_active Expired
- 1974-05-21 CA CA200,396A patent/CA1038538A/en not_active Expired
- 1974-05-24 CH CH710974A patent/CH589872A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1974-05-27 FR FR7418326A patent/FR2231706B1/fr not_active Expired
- 1974-05-29 DE DE19742426177 patent/DE2426177A1/de active Granted
- 1974-05-29 BE BE1005992A patent/BE815651A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2231706A1 (de) | 1974-12-27 |
IT1016494B (it) | 1977-05-30 |
CA1038538A (en) | 1978-09-12 |
CH589872A5 (de) | 1977-07-15 |
DE2426177A1 (de) | 1975-01-02 |
BE815651A (nl) | 1974-11-29 |
JPS5023230A (de) | 1975-03-12 |
JPS5650265B2 (de) | 1981-11-27 |
GB1463659A (en) | 1977-02-02 |
FR2231706B1 (de) | 1978-08-04 |
US3947273A (en) | 1976-03-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CH633892A5 (de) | Herstellung photographischen materials. | |
DE2651920C2 (de) | Photographisches Verfahren | |
DE2426177C2 (de) | ||
DE1123557B (de) | Lichtentwickelbares, direkt aufzeichnendes photographisches Material, insbesondere fuer oszillographische Aufzeichnungen | |
DE2263808A1 (de) | Lichtempfindliches silberhalogenidmaterial | |
DE2128498A1 (de) | Verfahren zur Entwicklung einer photographischen Druckplatte | |
DE1145014B (de) | Aus einer oder mehreren Halogensilber-emulsionsschichten aufgebautes photographisches Material | |
DE3710625A1 (de) | Photographisches silberhalogenidmaterial und dessen verwendung in einem bilderzeugungsverfahren | |
DE2553127A1 (de) | Verfahren zur erhoehung der empfindlichkeit einer photographischen silberhalogenidemulsion, die dabei erhaltenen produkte und deren verwendung zur herstellung eines photographischen materials | |
DE2755609A1 (de) | Photographisches material | |
DE2220798A1 (de) | Entwicklerzusammensetzung fuer die Herstellung von photographischen Materialien fuer das Gebiet der Graphik | |
DE2010555C2 (de) | Photographisches Aufzeichnungsmaterial | |
DE2049797C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von direkt positiven photographischen Silberhalogemdemulsionen | |
DE2206299A1 (de) | Entwicklerzusammensetzung zur Herstellung von Rasterbildern | |
DE2228543B2 (de) | Verfahren zum einarbeiten von zusaetzen in eine mischung, die zur herstellung von silberhalogenidaufzeichnungsmaterialien bestimmt ist | |
DE2106517A1 (de) | Neue Merocyaninfarbstoffe fur die spektrale Sensibihsierung lichtempfindlicher Silberhalogenidemulsionen | |
DE2710026C2 (de) | Verfahren zur Entwicklung eines photographischen Aufzeichnungsmaterials vom Lith-Typ und Aufzeichnungsmaterial hierfür | |
DE3439870C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Bildes | |
DE2508280C2 (de) | ||
DE2205297A1 (de) | Photographisches Aufzeichnungsmaterial | |
DE2065539A1 (de) | Verfahren zur photographischen aufzeichnung | |
DE1522396A1 (de) | Verfahren zur Entwicklung photographischer Silberhalogenidemulsionen | |
DE3029942A1 (de) | Photographische silberhalogenidmaterialien | |
DE1772233A1 (de) | Lichtempfindliches fotografisches Material | |
DE2418997A1 (de) | Verfahren zur herstellung photographischer bilder |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OD | Request for examination | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |