DE19603084A1 - Halbleitervorrichtung - Google Patents
HalbleitervorrichtungInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Halbleitervor
richtung gemäß den Oberbegriffen der Ansprüche 1, 4 und 6, und
insbesondere auf eine Halbleitervorrichtung mit Speicherzel
len, die so konstruiert sind, daß sie parasitäre Kapazität
entlang der Bitleitungen ausschalten.
In letzter Zeit fand der dynamische Direktzugriffsspeicher,
der auch als Speicher mit wahlfreiem Zugriff oder RAM bezeich
net wird (DRAM), als Speichervorrichtung mit großer Kapazität
weitverbreite Verwendung. Derartige Speichervorrichtungen wei
sen jedoch lange Bitleitungen auf und deshalb ist ihr Strom
verbrauch relativ hoch. Zur Lösung dieses Problems wurde in
der japanischen Offenlegungsschrift Hei 5-54633 eine Halblei
tervorrichtung vorgeschlagen. Dieser Halbleiterspeicher ist
ein DRAM, bei dem ein MIS (Metall-Isolator-Halbleiter)-Transi
stor und ein Kondensator verwendet wird, und eine Prinzipskiz
ze dieses Halbleiterspeichers ist in Fig. 6 gezeigt.
Dieser Halbleiterspeicher weist eine Vielzahl von Speicherzel
len 611-618, die in Form einer Matrix mit Reihen und Spalten
angeordnet sind, eine Vielzahl von Wortleitungen 621-624, da
mit die Vielzahl von Speicherzellen 611-618 zu je einer Spalte
zugleich ausgewählt werden kann, und Zellenbereiche 661 und
662 auf, die die Vielzahl von Speicherzellen 611-618 enthalten
und eine Vielzahl von Bitleitungen 631-634 zur Datenübertra
gung von den Speicherzellen 611-618 aufweisen, die durch die
Wortleitungen 621-624 ausgewählt werden. Jeweilige Bitlei
tungspaare 631 und 632, 633 und 634 sind mit Leseverstärkern
641 bzw. 642 verbunden. Die Wortleitungen 621-624 sind mit ei
nem Wortleitungs-Dekodierer 65 und auch mit jeweiligen Spei
cherzellen 611-618 verbunden. Die Elemente des Wortleitungs-
Dekodierer 65 sind mit einer Adreßleitung 68 verbunden. Die
Leseverstärker 641 und 642 und der Wortleitungs-Dekodierer 65
sind in peripheren Bereichen der Zellenbereiche 661 und 662
angeordnet.
Diese Speichervorrichtung weist einen Schalter-Schaltkreis 67
mit einer Vielzahl von Metalloxid-(MOS)-Transistoren auf. Der
Schalter-Schaltkreis 67 ist zwischen den Speicherzellenberei
chen 661 und 662 vorgesehen, um den in den Bitleitungen 631-
634 fließenden Ladungs- und Entladungsstrom zu verringern. Der
Schalter-Schaltkreis 67 und die mit ihm verbundenen Bitleitun
gen 633 und 634, die wiederum auf der rechten Seite des Zel
lenbereichs 662 mit dem Leseverstärker 642 verbunden sind,
sind mit einer Signalleitung 67a verbunden, während der Schal
ter-Schaltkreis 67 und die mit ihm verbundenen Bitleitungen
631 und 632, die wiederum auf der linken Seite des Zellenbe
reichs 661 mit dem Leseverstärker 641 verbunden sind, sind mit
einer Signalleitung 67b verbunden. Wenn durch den Wortlei
tungs-Dekodierer 65 eine der Wortleitungen 623 und 624 ausge
wählt wird, macht ein Steuerkreis 69 MOS-Transistoren 671 und
672 in dem Schalter-Schaltkreis 67 nicht-leitend. Darüberhi
naus macht ein Steuerkreis 69, wenn durch den Wortleitungs-De
kodierer 65 eine der Wortleitungen 621 und 622 ausgewählt
wird, MOS-Transistoren 673 und 674 im Schalter-Schaltkreis 67
nicht-leitend. Daher beträgt der in den Bitleitungen 631-634
fließende Ladungs- und Entladungsstrom in einem solchen Fall
etwa 3/4 dessen, was er bei Nichtvorhandensein der MOS-Transi
storen 671-674 betragen würde.
Die Speicherzellenbereiche 661 und 662 sind, wie es in Fig. 7
gezeigt ist, in einer herkömmlichen Anordnung ausgebildet.
Diese zeigt als ein Beispiel die Anordnung einer gestapelten
Zelle, die auf den Bitleitungen 631-634 Kondensatoren bildet.
Diese Zellen sind so angeordnet, daß die Wortleitungen 621-624
und die Bitleitungen 631-634 orthogonal zueinander liegen, und
gestapelte Kondensatoren 74 derselben Größe auf Kondensator
kontakten 75 angeordnet sind. Jeder Source-Drain-Bereich 73
ist durch Kontakte 75 mit einem gestapelten Kondensator 74
verbunden, und Bitleitungen 631-634 sind durch Kontakte 72
verbunden. Somit weisen alle Speicherzellen denselben Aufbau
auf, und alle Kondensatoren weisen dieselbe Kapazität auf.
Der oben erwähnte Halbleiterspeicher weist entlang der Bitlei
tungen 631-634 eine verringerte parasitäre Kapazität auf, wenn
eine der Speicherzellen 613, 614, 615 und 616 durch den Wort
leitungs-Dekodierer 65 ausgewählt wird, da jede Bitleitung
durch den Steuerkreis 69 in zwei Leitungen geteilt ist. Infol
gedessen verlängert sich eine Ansprechzeit für einen Zugriff
auf Speicherzellen 613, 614, 615 und 616. Wenn jedoch durch
den Wortleitungs-Dekodierer 65 eine der Speicherzellen 611,
612, 617 und 618 ausgewählt wird, teilt der Steuerkreis 69 die
dazugehörigen Bitleitungen 631-634 nicht in zwei Leitungen.
Infolgedessen verlängert sich eine Ansprechzeit in diesem Fall
nicht. Deshalb gibt es bei dieser herkömmlichen Speichervor
richtung eine Vielzahl von Ansprechzeiten. Als eine Gegenmaß
nahme muß die Betriebszeit der Leseverstärker 641, 642 ent
sprechend der Signaldifferenz geändert werden, was zu einem
komplizierten Schaltkreis führt. Da auch der Mindestwert des
Lesesignals gleich demjenigen in dem Fall ist, in dem die Bit
leitungen 631-634 nicht geteilt sind, muß der Mindestwert der
Zellenkapazität ebenfalls gleich demjenigen in dem Fall sein,
in dem die Bitleitungen 631-634 nicht in eine Vielzahl von
Leitungen geteilt sind.
Demgegenüber liegt der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zu
grunde, eine Halbleiterspeichervorrichtung gemäß den Oberbe
griffen der Ansprüche 1, 4 und 6 zu schaffen, die in der Lage
ist, mit derselben Ansprechzeit auf alle ihre Speicherzellen
zuzugreifen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Ansprüche 1, 4
und 6 gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen ergeben sich aus
den Unteransprüchen.
Bevorzugt ist es vorgesehen, daß die Halbleitervorrichtung der
vorliegenden Erfindung eine Bitleitung, eine erste mit der
Bitleitung verbundene Speicherzelle, wobei die erste Speicher
zelle einen ersten Kondensator zur Datenspeicherung aufweist,
wobei der erste Kondensator eine erste Kapazität aufweist, und
eine zweite mit der Bitleitung verbundene Speicherzelle auf
weist, wobei die zweite Speicherzelle einen zweiten Kondensa
tor zur Datenspeicherung aufweist, wobei der zweite Kondensa
tor eine zweite Kapazität aufweist, und sich die erste Kapazi
tät von der zweiten Kapazität unterscheidet. Deshalb kann eine
Zugriffszeit für das Zugreifen auf die erste Speicherzelle
gleich einer Zugriffszeit für das Zugreifen auf die zweite
Speicherzelle gemacht werden, da sich die erste Kapazität um
ein vorher festgelegtes Ausmaß von der zweiten Kapazität un
terscheidet.
Die oben erwähnte und andere Aufgaben und Merkmale der vorlie
genden Erfindung gehen aus der folgenden Beschreibung in Ver
bindung mit den beigefügten Zeichnungen deutlicher hervor.
Es zeigen:
Fig. 1 eine Prinzipskizze, die einen Halbleiterspeicher ge
mäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung zeigt;
Fig. 2(A) eine Darstellung, die die Anordnung von Speicherzel
len zeigt, die in dem in Fig. 1 gezeigten Halblei
terspeicher verwendet werden;
Fig. 2(B) und 2(C) Querschnittsansichten des in Fig. 2(A) ge
zeigten Aufbaus;
Fig. 3 eine Prinzipskizze, die einen Halbleiterspeicher ge
mäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung zeigt;
Fig. 4(A) und 4(B) Schaltkreisdiagramme jeder der beiden in
Fig. 3 gezeigten Speicherzellenarten;
Fig. 5(A) eine Darstellung, die die Anordnung von Speicherzel
len zeigt, die in dem in Fig. 3 gezeigten Halblei
terspeicher verwendet werden;
Fig. 5(B) und 5(C) Querschnittsansichten des in Fig. 5(A) ge
zeigten Aufbaus;
Fig. 6 eine Prinzipskizze, die einen herkömmlichen Halblei
terspeicher zeigt; und
Fig. 7 eine Darstellung, die die Anordnung von Speicherzel
len zeigt, die in dem in Fig. 6 gezeigten herkömmli
chen Halbleiterspeicher verwendet werden.
Der in Fig. 1 gezeigte Halbleiterspeicher weist eine Vielzahl
von Speicherzellen 2101-2116, die in Form einer Matrix mit
Reihen und Spalten angeordnet sind, eine Vielzahl von Wortlei
tungen 251-258, um basierend auf einem Wortleitungs-Dekodierer
25 eine Spalte von Speicherzellen 2101-2116 auszuwählen, und
Speicherzellenbereiche 261-264 auf, von denen jeder eine Spal
te von Speicherzellen 2101-2116 enthält und eine Vielzahl von
Bitleitungen 231-234 zur Datenübertragung von den Speicherzel
len 2101-2116 aufweist, die durch den Wortleitungs-Dekodierer
25 ausgewählt werden. Ein Paar Bitleitungen 231, 232 und 233,
234 sind mit Leseverstärkern 241 bzw. 242 verbunden. Der Wort
leitungs-Dekodierer 25 ist mit einer Adressenleitung 22 und
mit allen Wortleitungen 251-258 verbunden. Die Leseverstärker
241 und 242 und der Wortleitungs-Dekodierer 25 sind in peri
pheren Bereichen der Zellenbereiche 261-264 angeordnet. Die
Leseverstärker 241 und 242 sind alternativ auf der linken Sei
te des Speicherzellenbereichs 261 bzw. auf der rechten Seite
des Speicherzellenbereichs 264 angeordnet.
Eine Vielzahl von MOS-Transistoren 271 und 272, 273 und 274
und 275 und 276 ist zwischen den Speicherzellenbereichen 261
und 262, den Speicherzellenbereichen 262 und 263 bzw. den
Speicherzellenbereichen 263 und 264 vorgesehen, um den in den
Bitleitungen 231-234 fließenden Ladungs- und Entladungsstrom
zu verringern. Jede der Bitleitungen 231-234 ist durch die
MOS-Transitoren 271-276 gleichmäßig in vier Leitungen aufge
teilt. Jeder der MOS-Tranistoren 271, 273 und 275 ist mit ei
ner zugehörigen Signalleitung 291a, 292a bzw. 293a verbunden,
und jeder der MOS-Tranistoren 272, 274 und 276 ist mit einer
zugehörigen Signalleitung 291b, 292b bzw. 293b verbunden. Wenn
durch den Wortleitungs-Dekodierer 25 eine bestimmte Wortlei
tung 251-258 ausgewählt wird, werden die angrenzend an jede
Speicherzelle und auf der gegenüberliegenden Seite ihres dazu
gehörigen Leseverstärkers angeordneten Schalter 291-293 nicht
leitend gemacht. Wenn durch den Wortleitungs-Dekodierer 25 zum
Beispiel die Speicherzelle 2114 ausgewählt wird, wird der mit
der Signalleitung 293a verbundene MOS-Transistor 275 nicht
leitend gemacht, um die Betriebslänge der Bitleitung 233 auf
ein Viertel ihrer Gesamtlänge zu verringern. Daher beträgt der
Ladungs- und Entladungsstrom etwa 5/8 desjenigen im Falle des
Nichtvorhandenseins des MOS-Transitors 275.
Jede der Speicherzellen 2101-2116 weist einen MOS-Transistor
und einen Kondensator auf, und jeder der Kondensatoren weist
als eine Funktion der parasitären Kapazität entlang der Bit
leitungen 231-234 eine unterschiedliche Kapazität auf. Die
Speicherzelle 2104 weist zum Beispiel den kleinsten Kondensa
tor C1 auf, da die parasitäre Kapazität der Bitleitung 231 am
geringsten ist, wenn der MOS-Transistor 272 nicht-leitend ge
macht wird und die Speicherzelle 2104 durch den Wortleitungs-
Dekodierer 25 ausgewählt wird. Die Speicherzelle 2108 weist
einen Kondensator C2 auf, der größer ist als der Kondensator
C1 der Speicherzelle 2104, da die parasitäre Kapazität der
Bitleitung 231 größer wird, wenn der MOS-Transistor 274 nicht
leitend gemacht wird und die Speicherzelle 2108 durch den
Wortleitungs-Dekodierer 25 ausgewählt wird. Ähnlich weist die
Speicherzelle 2112 einen Kondensator C3 auf, der größer ist
als der Kondensator C2, und die Speicherzelle 2116 weist den
größten Kondensator C4 auf. Wenn die parasitäre Kapazität der
Bitleitung am geringsten ist, lädt oder entlädt der kleinste
Kondensator C1 langsam die Bitleitung, und wenn die parasitäre
Kapazität der Bitleitung größer oder am größten ist, lädt oder
entlädt der größere oder größte Kondensator C2, C3 oder C4
schnell die Bitleitung. Infolgedessen kann die Zugriffszeit
zum Auslesen von Daten aus den verschiedenen Speicherzellen
2104, 2108, 2112 und 2116 gleich gemacht werden. Somit ist die
Kapazität des Zellen-Kondensators vorzugsweise proportional
zur parasitären Bitleitungs-Kapazität, wie C1 : C2 : C3 : C4 =
PCL1 : PCL2 : PCL3 : PCL4 eingestellt. Jedes der PCL1, PCL2,
PCL3 und PCL4 geben eine parasitäre Kapazität der Bitleitung
231 an, wenn die Transistoren 272 nicht-leitend sind, die
Transistoren 274 nicht-leitend sind, die Transistoren 276
nicht-leitend sind, bzw. alle Transistoren 272, 274 bzw. 276
leitend sind.
Fig. 2(A) zeigt die Anordnung der Speicherzellen, die in dem
in Fig. 1 gezeigten Halbleiterspeicher verwendet werden. Der
Aufbau der Speicherzelle entspricht der gestapelten Zellenart,
bei der Kondensatoren 141 und 142 auf Bitleitungen 231-234
ausgebildet sind. Die Speicherzelle ist so ausgebildet, daß
die Wortleitungen 257 und 258 orthogonal zu den Bitleitungen
231-234 sind, und gestapelte Kondensatoren 141 und 142 mit ei
ner Größe, die proportional zur Kapazität der Bitleitungen
ist, auf Kondensatorkontakten 15 angeordnet sind. Jeder
Source-Drain-Bereich 16 ist durch die Kondensatorkontakte 15
mit den gestapelten Kondensator 141 und 142, und durch Kontak
te 17 mit den Bitleitungen 231-234 verbunden. Fig. 2(B) und
2(C) zeigen je eine Querschnittsansicht entlang der Linien
a-a′ und b-b′ gemäß Fig. 2(A). Diese Figuren zeigen den Spei
cherzellenbereich 264, in dem der Source-Drain-Bereich auf ei
nem Halbleitersubstrat 11 ausgebildet ist, ein Feld-Isolator
auf einem Halbleitersubstrat 11 ausgebildet ist, jede der
Wortleitungen 257 und 258 über einen (in Fig. 2(B) nicht ge
zeigten) Gate-Isolator auf einem Halbleitersubstrat 11 ausge
bildet ist, und der gestapelte Kondensator 141 oberhalb der
Wortleitung 257 und der Bitleitung 231 ausgebildet und über
den Kondensatorkontakt 15 mit dem Source-Drain-Bereich verbun
den ist, wobei zwischen einer Gegenelektrode 12 und dem gesta
pelten Kondensator 141 eine Kapazität hergestellt wird.
Fig. 3 ist eine Prinzipskizze, die einen Halbleiterspeicher
gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung
zeigt. Dieser Halbleiterspeicher weist eine Vielzahl von Spei
cherzellen 3101-3116, die in Form einer Matrix mit Reihen und
Spalten angeordnet ist, eine Vielzahl von Wortleitungen 351-
358 zum Auswählen einer Spalte von Speicherzellen 3101-3116,
und Zellenbereiche 361 und 362 auf, die eine Vielzahl von
Speicherzellen 3101-3116 enthalten und eine Vielzahl von Bit
leitungen 331-334 zur Datenübertragung von den Speicherzellen
3101-3116 aufweisen, die durch einen Wortleitungs-Dekodierer
35 ausgewählt werden. Ein Paar Bitleitungen 331 und 333, und
332 und 334 sind mit Leseverstärkern 341 bzw. 342 verbunden.
Die Wortleitungen 351-358 sind mit dem Wortleitungs-Dekodierer
35 verbunden, und der Wortleitungs-Dekodierer 35 ist mit einer
Adressenleitung 38 verbunden. Die Leseverstärker 341 und 342
und der Wortleitungs-Dekodierer 35 sind in peripheren Berei
chen der Zellenbereiche 361 und 362 angeordnet. Die Lesever
stärker 341 und 342 sind alternativ auf den linken und rechten
Seiten der Zellenbereiche 361 bzw. 362 angeordnet. Die Bitlei
tungen 331 und 333 sind mit dem linken Leseverstärker 341 ver
bunden, und die Bitleitungen 332 und 334 sind mit dem rechten
Leseverstärker 342 verbunden, und die Speicherzellen 3101-3116
sind diagonal angeordnet (vgl. 1989 ISSCC, Seiten 248-249, "A
45 ns 16 Mb DRAM with a Triple-Well Structure").
Bei dieser Ausführungsform verringert auch ein zwischen den
Speicherzellenbereichen 361 und 362 vorgesehener Schalter-
Schaltkreis 37 den in den Bitleitungen 331-334 fließenden La
dungs- und Entladungsstrom. Jede der Bitleitungen 331-334 ist
durch den Schalter-Schaltkreis 37 in zwei Leitungen geteilt.
Fig. 4(A) und 4(B) zeigen den Aufbau jeder der in Fig. 3 ge
zeigten Speicherzellen. Die Speicherzellen 3101, 3102, 3105,
3106, 3111, 3112, 3115 und 3116 weisen einen solchen Aufbau
auf, wie er in Fig. 4(B) gezeigt ist, so daß jede dieser Spei
cherzellen eine ganze Bitleitung 331-334 lädt. Deshalb weist
jede dieser Speicherzellen zum schnellen Laden der Bitleitun
gen 331-334 einen Transistor TR1 und einen größeren Kondensa
tor C12 auf. Die Speicherzellen 3103, 3104, 3107, 3108, 3109,
3110, 3113 und 3114 weisen einen solchen Aufbau auf, wie er in
Fig. 4(A) gezeigt ist, so daß jede dieser Speicherzellen die
Hälfte einer Bitleitung 331-334 lädt. Deshalb weist jede die
ser Speicherzellen zum langsamen Laden der Bitleitungen 331-
334 einen Transistor TR1 und einen kleineren Kondensator C11
auf.
Fig. 5(A) ist eine Darstellung, die die Anordnung des Spei
cherzellenbereichs 361 zeigt, der in dem in Fig. 3 gezeigten
Halbleiterspeicher verwendet wird. Der Aufbau der Speicherzel
le entspricht der gestapelten Zellenart, bei der Kondensato
ren, wie im Falle von Fig. 2(A), oberhalb von Bitleitungen
331-334 ausgebildet sind. Die Wortleitungen 351-354 und die
Bitleitungen 331-334 sind orthogonal zueinander, und die ge
stapelten Kondensatoren C11 und C12 mit einer Größe, die pro
portional zur zugehörigen Kapazität der Bitleitungen ist, sind
auf Kondensatorkontakten 45 angeordnet. Bei diesem Beispiel
sind, da die Bitleitungen 331-334 abwechselnd und die Spei
cherzellen diagonal angeordnet sind, Kondensatoren mit einer
großen Fläche und Kondensatoren mit einer kleinen Fläche in
der Richtung der Bitleitungen angeordnet. Infolgedessen kann,
obwohl der Bereich geladen wird, eine rechtwinklige Form bei
behalten werden (vgl. 1991 "Electronic Information Communi
cation Learned Society Spring Season National Convention",
Dokument Nr. C-665).
Fig. 5(B) und 5(C) sind Querschnittsansichten entlang der Li
nien a-a′ und b-b′ gemäß Fig. 5(A). Diese Figuren zeigen den
Speicherzellenbereich 361, in dem der Source-Drain-Bereich 40
auf einem Halbleitersubstrat 11 ausgebildet und über einen
Kontakt 44 mit der Bitleitung 331 verbunden ist, ein Feld-Iso
lator 13 auf einem Halbleitersubstrat 11 ausgebildet ist, jede
der Wortleitungen 351-354 über einen (in Fig. 5(B) nicht ge
zeigten) Gate-Isolator oder direkt auf einem Halbleitersub
strat 11 ausgebildet ist, und die gestapelten Kondensatoren 41
und 42 oberhalb der Wortleitung 351-354 und der Bitleitung 331
ausgebildet und über den Kondensatorkontakt 45 mit dem Source-
Drain-Bereich 40 verbunden sind, wobei zwischen der Gegenelek
trode 12 und den gestapelten Kondensatoren 41 und 42 eine Ka
pazität hergestellt wird.
Wie oben beschrieben, werden entsprechend der vorliegenden Er
findung, im Gegensatz zur herkömmlichen Zellenanordnung, bei
der die Zellenverstärker abwechselnd angeordnet sind und eine
Bitleitung durch MOS-Transistoren in eine Vielzahl von Leitun
gen geteilt ist, die folgenden Vorteile erzielt:
- 1. Da der Zellen-Kondensator eine zur parasitären Bitleitungs- Kapazität proportional gesetzte Kapazität aufweist, werden al le Signale aus den Zellen zueinander gleich. Infolgedessen ist eine Anpassung der Lesezeit nicht notwendig, was eine Ver einfachung des Schaltkreises ermöglicht.
- 2. In dem Fall, in dem eine Bitleitung in m Leitungssegmente geteilt ist, sind alle Lesesignale durch das Herstellungs verfahren mit Kondensatorengleichheit {(½ m) (m + 1)Cbb + Cbs}/(Cbb + Cbs) mal so groß, wie wenn die Bitleitung ungeteilt ist, wodurch das Herstellungsverfahren eines Zellen-Kondensators vereinfacht wird.
Hier ist Cbb = der durch die Bitleitung beigetragene Teil der
Bitleitungs-Kapazität, und
Cbs = der durch den Leseverstärker beigetragene Teil der Bit leitungs-Kapazität.
Cbs = der durch den Leseverstärker beigetragene Teil der Bit leitungs-Kapazität.
Es ist festzuhalten, daß der Aufbau der Speicherzelle der ge
stapelten Zellenart, bei der Kondensatoren auf Bitleitungen
angeordnet sein können, der gestapelten Zellenart, bei der
Kondensatoren unterhalb der Bitleitungen angeordnet sein kön
nen, der gefurchten Zellenart, bei der Kondensatoren in Lö
chern ausgebildet sind, die in einem Halbleitersubstrat fest
gelegt sind, oder der ebenen Zellenart, bei der Kondensatoren
auf der Oberfläche des Halbleitersubstrats ausgebildet sind,
entsprechen kann.
Die obige Beschreibung verschiedener bevorzugter Ausführungs
beispiele der Erfindung wurde lediglich zu Darstellungs- und
Beschreibungszwecken dargelegt. Sie soll die Erfindung nicht
erschöpfen oder auf genaue offenbarte Formen beschränken, und
in Anbetracht der obigen Lehre sind Abänderungen und Abwei
chungen möglich oder diese können bei praktischer Anwendung
der Erfindung erreicht werden. Die Ausführungsformen wurden
ausgewählt und beschrieben, um die Prinzipien der Erfindung
und ihre praktische Anwendung zu erklären, damit ein Fachmann
die Erfindung in verschiedenen Ausführungsformen und mit ver
schiedenen Abänderungen, wie sie für die bestimmte erwogene
Verwendung geeignet sind, nutzen kann. Der Umfang der Erfin
dung soll durch die hier beigefügten Ansprüche und deren Äqui
valente definiert werden.
Claims (7)
1. Halbleitervorrichtung, dadurch gekennzeich
net, daß sie folgendes aufweist:
erste und zweite Bitleitungen;
einen Schalter-Schaltkreis, der zwischen den ersten und zwei ten Bitleitungen verbunden ist;
eine erste Speicherzelle, die mit der ersten Bitleitung ver bunden ist;
eine zweite Speicherzelle, die mit der zweiten Bitleitung ver bunden ist; und
einen Steuerkreis, um den Schalter-Schaltkreis so zu steuern, daß, wenn auf die erste Speicherzelle zugegriffen wird, der Schalter-Schaltkreis durch den Steuerkreis nicht-leitend ge macht wird, um die erste Bitleitung und die zweite Bitleitung zu trennen, und, wenn auf die zweite Speicherzelle zugegriffen wird, der Schalter-Schaltkreis durch den Steuerkreis leitend gemacht wird, um die zweite Bitleitung mit der ersten Bitlei tung zu verbinden;
wobei eine erste Zugriffszeit für einen Zugriff auf die erste Speicherzelle gleich einer zweiten Zugriffszeit für einen Zu griff auf die zweite Speicherzelle ist.
erste und zweite Bitleitungen;
einen Schalter-Schaltkreis, der zwischen den ersten und zwei ten Bitleitungen verbunden ist;
eine erste Speicherzelle, die mit der ersten Bitleitung ver bunden ist;
eine zweite Speicherzelle, die mit der zweiten Bitleitung ver bunden ist; und
einen Steuerkreis, um den Schalter-Schaltkreis so zu steuern, daß, wenn auf die erste Speicherzelle zugegriffen wird, der Schalter-Schaltkreis durch den Steuerkreis nicht-leitend ge macht wird, um die erste Bitleitung und die zweite Bitleitung zu trennen, und, wenn auf die zweite Speicherzelle zugegriffen wird, der Schalter-Schaltkreis durch den Steuerkreis leitend gemacht wird, um die zweite Bitleitung mit der ersten Bitlei tung zu verbinden;
wobei eine erste Zugriffszeit für einen Zugriff auf die erste Speicherzelle gleich einer zweiten Zugriffszeit für einen Zu griff auf die zweite Speicherzelle ist.
2. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß die ersten und zweiten Zugriffszeiten Zeiten zum Aus
lesen von Daten aus der ersten Speicherzelle und der zweiten
Speicherzelle sind.
3. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß die erste Speicherzelle einen ersten Transistor und
einen ersten Kondensator aufweist, und die zweite Speicherzel
le einen zweiten Transistor und einen zweiten Kondensator auf
weist.
4. Halbleitervorrichtung, dadurch gekennzeichnet, daß sie fol
gendes aufweist:
erste und zweite Bitleitungen;
einen Schalter-Schaltkreis, der zwischen den ersten und zwei ten Bitleitungen verbunden ist;
einen Leseverstärker, der mit der ersten Bitleitung verbunden ist und der über den Schalter-Schaltkreis und die erste Bit leitung mit der zweiten Bitleitung verbunden ist;
eine erste Speicherzelle, die mit der ersten Bitleitung ver bunden ist, wobei die erste Speicherzelle einen ersten Konden sator mit einer ersten Kapazität aufweist;
eine zweite Speicherzelle, die mit der zweiten Bitleitung ver bunden ist, wobei die zweite Speicherzelle einen zweiten Kon densator mit einer zweiten Kapazität aufweist; und
einen Steuerkreis, um den Schalter-Schaltkreis so zu steuern, daß, wenn auf die erste Speicherzelle zugegriffen wird, der Schalter-Schaltkreis durch den Steuerkreis nicht-leitend mach bar ist, um die erste Bitleitung und die zweite Bitleitung zu trennen, und, wenn auf die zweite Speicherzelle zugegriffen wird, der Schalter-Schaltkreis durch den Steuerkreis leitend machbar ist, um die zweite Bitleitung mit der ersten Bitlei tung zu verbinden;
wobei die erste Kapazität kleiner als die zweite Kapazität ist.
erste und zweite Bitleitungen;
einen Schalter-Schaltkreis, der zwischen den ersten und zwei ten Bitleitungen verbunden ist;
einen Leseverstärker, der mit der ersten Bitleitung verbunden ist und der über den Schalter-Schaltkreis und die erste Bit leitung mit der zweiten Bitleitung verbunden ist;
eine erste Speicherzelle, die mit der ersten Bitleitung ver bunden ist, wobei die erste Speicherzelle einen ersten Konden sator mit einer ersten Kapazität aufweist;
eine zweite Speicherzelle, die mit der zweiten Bitleitung ver bunden ist, wobei die zweite Speicherzelle einen zweiten Kon densator mit einer zweiten Kapazität aufweist; und
einen Steuerkreis, um den Schalter-Schaltkreis so zu steuern, daß, wenn auf die erste Speicherzelle zugegriffen wird, der Schalter-Schaltkreis durch den Steuerkreis nicht-leitend mach bar ist, um die erste Bitleitung und die zweite Bitleitung zu trennen, und, wenn auf die zweite Speicherzelle zugegriffen wird, der Schalter-Schaltkreis durch den Steuerkreis leitend machbar ist, um die zweite Bitleitung mit der ersten Bitlei tung zu verbinden;
wobei die erste Kapazität kleiner als die zweite Kapazität ist.
5. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeich
net, daß ein Verhältnis der ersten Kapazität zur zweiten Kapa
zität gleich einem Verhältnis einer ersten parasitären Kapazi
tät der ersten Bitleitung zu einer zweiten parasitären Kapazi
tät der ersten Bitleitung und der zweiten Bitleitung ist.
6. Halbleitervorrichtung, dadurch gekennzeichnet, daß sie fol
gendes aufweist:
eine Bitleitung;
eine erste Speicherzelle, die mit der Bitleitung verbunden ist, wobei die erste Speicherzelle einen ersten Kondensator zur Speicherung von Daten aufweist, wobei der erste Kondensa tor eine erste Kapazität aufweist; und
eine zweite Speicherzelle, die mit der Bitleitung verbunden ist, wobei die zweite Speicherzelle einen zweiten Kondensator zur Speicherung von Daten aufweist, wobei der zweite Kondensa tor eine zweite Kapazität aufweist;
wobei sich die erste Kapazität von der zweiten Kapazität un terscheidet.
eine Bitleitung;
eine erste Speicherzelle, die mit der Bitleitung verbunden ist, wobei die erste Speicherzelle einen ersten Kondensator zur Speicherung von Daten aufweist, wobei der erste Kondensa tor eine erste Kapazität aufweist; und
eine zweite Speicherzelle, die mit der Bitleitung verbunden ist, wobei die zweite Speicherzelle einen zweiten Kondensator zur Speicherung von Daten aufweist, wobei der zweite Kondensa tor eine zweite Kapazität aufweist;
wobei sich die erste Kapazität von der zweiten Kapazität un terscheidet.
7. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeich
net, daß eine Zugriffszeit für einen Zugriff auf die erste
Speicherzelle gleich einer Zugriffszeit für einen Zugriff auf
die zweite Speicherzelle ist.
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