CN203117640U - 曝光机的玻璃基板支撑机构 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种曝光机的玻璃基板支撑机构，包括基座、安装在基座顶部且用于支撑玻璃基板的支撑平台、安装在基座四周，用于支撑玻璃基板四周的支撑杆、以及安装在所述玻璃基板上方的至少一个吸附装置；吸附装置用于吸附玻璃基板的上表面并可沿竖直方向运动与水平方向运动。实施本实用新型的有益效果是：玻璃基板支撑机构采用支撑平台的结构，其整体性好、温度均匀，有利于玻璃基板的HVA光配向；再者，玻璃基板支撑机构采用吸附装置的结构在二分割支撑方式和三分割支撑方式之间切换时，其操作简便、工作效率高。

Description

曝光机的玻璃基板支撑机构
技术领域
本实用新型涉及液晶显示技术领域，更具体地说，涉及一种曝光机的玻璃基板支撑机构。
背景技术
HVA光配向技术是指在给玻璃基板施加电压同时通过支撑平台给玻璃基板加热的情况下，再通过UV（紫外线）光照射使基板内高分子的单体反应，从而达到液晶配向的目的。
现有技术中，曝光机均采用由下向上的方式支撑玻璃基板。其中，玻璃基板的四周采用Lift Bar（支撑杆）支撑，为了防止玻璃基板中间位置产生弯曲变形，玻璃基板的中间位置采用Lift pin（支撑钉）支撑。如图1、图2所示为常用的曝光机的玻璃基板支撑机构的第一种支撑方式，其采用二分割支撑玻璃基板的方式。玻璃基板支撑机构包括基座1、安装在基座1顶部的支撑平台2、用于支撑玻璃基板10四周的若干个支撑杆3、以及支撑钉4。支撑钉4穿过基座1与支撑平台2支撑玻璃基板10。该玻璃基板支撑机构设置有一组支撑钉4，且一组支撑钉4支撑在玻璃基板10中的二等分线上。
如图3、图4所示为常用的曝光机的玻璃基板支撑机构的第二种支撑方式，其采用三分割支撑玻璃基板的方式。与第一种曝光机的玻璃基板支撑机构所不同的是，该玻璃基板支撑机构设置有两组支撑钉4，且两组支撑钉4分别支撑在玻璃基板10中的三等分线上。
上述玻璃基板支撑机构中的支撑平台2由于存在二分割或三分割结构，其整体性差导致温度不均匀，从而影响玻璃基板10的HVA光配向的效果，存在产生Pin Mura（支撑钉斑）的问题而影响产品的品质。再者，上述玻璃基板支撑机构的两种支撑方式在切换使用时，需要更换支撑平台2，该操作费时费力，影响产品的生产效率。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述曝光机的玻璃基板支撑机构影响玻璃基板HVA光配向效果且操作费时费力的缺陷，提供一种不会影响玻璃基板HVA光配向效果且操作简便的曝光机的玻璃基板支撑机构。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：
本实用新型构造了一种曝光机的玻璃基板支撑机构，包括基座、安装在所述基座顶部且用于支撑玻璃基板的支撑平台、以及安装在所述基座四周，用于支撑在所述玻璃基板底部四周的支撑杆；所述曝光机的玻璃基板支撑机构还包括安装在所述玻璃基板上方的至少一个吸附装置；所述吸附装置用于吸附所述玻璃基板的上表面并可沿竖直方向与水平方向运动。
在本实用新型所述的曝光机的玻璃基板支撑机构中，所述玻璃基板采用二分割支撑方式时，所述吸附装置设置有一个。
在本实用新型所述的曝光机的玻璃基板支撑机构中，所述玻璃基板采用三分割支撑方式时，所述吸附装置设置有两个。
在本实用新型所述的曝光机的玻璃基板支撑机构中，所述吸附装置包括吸附主体、安装在每个所述吸附主体底部的真空吸盘、以及控制每个所述吸附主体在竖直方向或水平方向同步运动的驱动装置。
在本实用新型所述的曝光机的玻璃基板支撑机构中，根据所述玻璃基板的尺寸，所述吸附装置包括至少一个吸附主体。
在本实用新型所述的曝光机的玻璃基板支撑机构中，所述真空吸盘包括吸盘本体、与所述吸盘本体连接的真空泵、以及与所述真空泵连接的电磁阀；所述吸盘本体的底部设置有密封组件。
在本实用新型所述的曝光机的玻璃基板支撑机构中，所述吸附装置还包括缓冲部；所述缓冲部连接在所述吸附主体与所述真空吸盘之间。
在本实用新型所述的曝光机的玻璃基板支撑机构中，所述缓冲部为缓冲气缸、弹簧、以及软垫中的任意一种。
在本实用新型所述的曝光机的玻璃基板支撑机构中，每个所述吸附装置可带动所述玻璃基板沿竖直方向运动。
在本实用新型所述的曝光机的玻璃基板支撑机构中，每个所述吸附装置可脱离所述玻璃基板沿水平方向运动。
实施本实用新型的曝光机的玻璃基板支撑机构，具有以下有益效果：玻璃基板支撑机构采用支撑平台的结构，其整体性好、温度均匀，有利于玻璃基板的HVA光配向；再者，玻璃基板支撑机构采用吸附装置的结构在二分割支撑方式和三分割支撑方式之间切换时，其操作简便、工作效率高。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明，附图中：
图1是现有技术中曝光机的玻璃基板支撑机构的第一种支撑方式的平面示意图；
图2是图1所示的曝光机的玻璃基板支撑机构的第一种支撑方式沿A-A线的剖面示意图；
图3是现有技术中曝光机的玻璃基板支撑机构的第二种支撑方式的平面示意图；
图4是图3所示的曝光机的玻璃基板支撑机构的第二种支撑方式沿B-B线的剖面示意图；
图5是本实用新型第一个较佳实施例提供的曝光机的玻璃基板支撑机构中的支撑杆与吸附装置支撑玻璃基板时的结构示意图；
图6是图5所示的曝光机的玻璃基板支撑机构中吸附装置移开时的结构示意图；
图7是本实用新型第二个较佳实施例提供的曝光机的玻璃基板支撑机构中的支撑杆与吸附装置支撑玻璃基板时的结构示意图；
图8是图7所示的曝光机的玻璃基板支撑机构中吸附装置移开时的结构示意图。
具体实施方式
为了对本实用新型的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图详细说明本实用新型的具体实施方式。
如图5、图6所示，本实用新型的第一个较佳实施例提供一种曝光机的玻璃基板支撑机构，其包括基座1、支撑平台2、支撑杆3、以及至少一个吸附装置5。支撑平台2大致为方形结构，其安装在基座1的顶部。玻璃基板10在用UV（紫外线）光照射时，支撑平台2用于支撑玻璃基板10。支撑平台2为一完整的实体结构，其整体性好，在HVA光配向时支撑平台2的温度均匀，有利于玻璃基板10的HVA光配向，从而提高产品的品质。
支撑杆3设置有若干个，其安装在基座1的四周，并支撑在玻璃基板10底部的四周。在取放玻璃基板10操作时，支撑杆3向上运动将玻璃基板10顶起。与此同时，吸附装置5吸附在玻璃基板10的上表面。支撑杆3和吸附装置5共同支撑并夹持玻璃基板10。在支撑杆3和吸附装置5的共同作用下，带动玻璃基板10在竖直方向上实现上升或下降运动，可防止玻璃基板10在中间位置处产生弯曲变形。该吸附装置5也可在水平方向运动。如图6所示，当UV（紫外线）光照射玻璃基板10时，为了不遮挡UV（紫外线）光，将吸附装置5脱离玻璃基板10移动至玻璃基板10的侧面。
吸附装置5安装在玻璃基板10的上方。本实施例中，玻璃基板10采用二分割的支撑方式，吸附装置5设置有一个，其包括至少一个吸附主体51、真空吸盘52、以及驱动装置（图未示）。吸附主体51大致为杆状结构，若干个吸附主体51均匀地排成一列。且每个吸附主体51的底部都安装有真空吸盘52。每个吸附主体51均安装在驱动装置上。在驱动装置的作用下，每个吸附主体51可在竖直方向或水平方向同步运动。
该实施例中，驱动装置包括水平导轨、水平螺杆、水平电机、竖直导轨、竖直螺杆以及竖直电机。水平螺杆与水平电机的输出轴传动连接，竖直导轨安装在该水平螺杆上，并可移动地安装在水平导轨上，通过控制水平电机的运作即可控制竖直导轨沿着水平导轨运动。竖直螺杆与竖直电机的输出轴传动连接，每个所述吸附主体51均安装在所述水平螺杆上，并可移动地安装在竖直导轨上，通过控制竖直电机的运作即可控制吸附主体51沿着竖直导轨运动。再者，可以采用现有的控制器以控制竖直电机的转速，使吸附主体51与支撑杆3同步运动，即吸附主体51和支撑杆3在竖直方向上升或下降运动的速度相同。
该实施例中，每个真空吸盘52分别吸附在玻璃基板10表面的二等分线上。真空吸盘52包括吸盘本体（图未示）、与该吸盘本体连接的真空泵（图未示）、以及与该真空泵连接的电磁阀（图未示）。吸盘本体的底部设置有密封组件。当真空吸盘52需要吸附玻璃基板10时，电磁阀控制真空泵抽取密封组件与玻璃基板10之间的空气，以形成真空状态，使得密封组件与玻璃基板10紧贴，而不会脱落。该密封组件采用橡胶制品，不会对工件表面造成损坏。当真空吸盘52需要与玻璃基板10分离时，电磁阀控制真空泵放气，从而使真空吸盘52与玻璃基板10脱离。该实施例中，吸附装置5设置有九个吸附主体51，相对应地设置有九个真空吸盘52。九个真空吸盘52等间距地布置成一列。可以理解的是，根据不同尺寸的玻璃基板10，吸附装置5中吸附主体51的数量可以有其他的选择。
为了防止吸附装置5在竖直向下运动过程中，由于冲击力过大而压碎玻璃基板10，本实施例中，吸附装置5还包括缓冲部53。该缓冲部53连接在吸附主体51与真空吸盘52之间。当吸附装置5与玻璃基板10接触时，缓冲部53能够起到缓冲作用，有效地避免了压碎玻璃基板10的情况发生。该实施例中，缓冲部53可以采用缓冲气缸、弹簧、或软垫等结构。采用现有的缓冲气缸可以吸收当缓冲气缸的活塞在行程末端处停下来时的惯性引起的冲击，有效避免损坏玻璃基板10。弹簧具有良好的弹性，可吸收吸附装置5运动过程中产生的冲击力，有效避免损坏玻璃基板10。软垫可由发泡材料制成，其同样具有良好的弹性，能够起到缓冲作用从而有效避免损坏玻璃基板10。
如图7、图8所示，本实用新型的第二个较佳实施例提供一种曝光机的玻璃基板支撑机构，与第一个较佳实施例所不同的是，该实施例中，玻璃基板10采用三分割的支撑方式，吸附装置5设置有两个。两个吸附装置5中的真空吸盘52分别吸附在玻璃基板10表面的三等分线上。如图8所示，当UV（紫外线）光照射玻璃基板10时，为了不遮挡UV（紫外线）光，将两个吸附装置5分别移动至玻璃基板10的两侧面。采用两个吸附装置5，可单独控制一个吸附装置5吸附在玻璃基板10表面的二等分线上，也可同时控制两个吸附装置5运作分别吸附在玻璃基板10表面的三等分线上。当该玻璃基板支撑机构需要在二分割支撑方式和三分割支撑方式之间切换时，其操作简便、工作效率高。
上面结合附图对本实用新型的实施例进行了描述，但是本实用新型并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本实用新型的启示下，在不脱离本实用新型宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，这些均属于本实用新型的保护之内。

Claims (10)

1.一种曝光机的玻璃基板支撑机构，包括基座、安装在所述基座顶部且用于支撑玻璃基板的支撑平台、以及安装在所述基座四周，用于支撑在所述玻璃基板底部四周的支撑杆；其特征在于：所述曝光机的玻璃基板支撑机构还包括安装在所述玻璃基板上方的至少一个吸附装置；每个所述吸附装置用于吸附所述玻璃基板的上表面并可沿竖直方向与水平方向运动。
2.根据权利要求1所述的曝光机的玻璃基板支撑机构，其特征在于，所述玻璃基板采用二分割的支撑方式时，所述吸附装置设置有一个。
3.根据权利要求1所述的曝光机的玻璃基板支撑机构，其特征在于，所述玻璃基板采用三分割的支撑方式时，所述吸附装置设置有两个。
4.根据权利要求1-3任一项所述的曝光机的玻璃基板支撑机构，其特征在于，所述吸附装置包括吸附主体、安装在所述吸附主体底部的真空吸盘、以及控制所述吸附主体在竖直方向或水平方向同步运动的驱动装置。
5.根据权利要求4所述的曝光机的玻璃基板支撑机构，其特征在于，根据所述玻璃基板的尺寸，所述吸附装置包括至少一个吸附主体。
6.根据权利要求4所述的曝光机的玻璃基板支撑机构，其特征在于，所述真空吸盘包括吸盘本体、与所述吸盘本体连接的真空泵、以及与所述真空泵连接的电磁阀；所述吸盘本体的底部设置有密封组件。
7.根据权利要求4所述的曝光机的玻璃基板支撑机构，其特征在于，所述吸附装置还包括缓冲部；所述缓冲部连接在所述吸附主体与所述真空吸盘之间。
8.根据权利要求7所述的曝光机的玻璃基板支撑机构，其特征在于，所述缓冲部为缓冲气缸、弹簧、以及软垫中的任意一种。
9.根据权利要求1所述的曝光机的玻璃基板支撑机构，其特征在于，每个所述吸附装置可带动所述玻璃基板沿竖直方向运动。
10.根据权利要求1所述的曝光机的玻璃基板支撑机构，其特征在于，每个所述吸附装置可脱离所述玻璃基板沿水平方向运动。
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