CN104298081A - 一种曝光机 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及到显示装置制作的技术领域,公开了一种曝光机。该曝光机包含至少一个曝光单元,每个曝光单元包括:多个间隔设置的支撑平台,且相邻的两个支撑平台之间设置有提升杆,每个提升杆与其相邻的每个支撑平台之间具有间隙;其中,每个支撑平台朝向其相邻的提升杆的一侧设置有用于反射照射到所述间隙内的光线的反射平台,且所述反射平台的反射面低于所述提升杆的支撑面。在上述技术方案中,通过设置的反射平台反射照射到间隙内的光线,从而使得照射到支撑平台、提升杆及间隙之间的光线的反射光线相近似,从而提高了曝光机对基板曝光的效果。

Description

一种曝光机
技术领域
本发明涉及到显示装置制作的技术领域,尤其涉及到一种曝光机。
背景技术
随着时代发展,薄膜晶体管制造业的基板玻璃也越做越大,在制作过程中考虑到玻璃基板进入曝光机时由于基板过大容易发生基板玻璃破裂,所以在高世代线(≥G6)将之前承接基板玻璃的Lift Pin改为提升杆,这样相应的就增大了曝光机放置玻璃基板的平台(Chuck)与提升杆之间的缝隙,曝光时缝隙处曝光量与别处不同,形成提升杆缺陷,以至最终影响产品良率。
现有技术中的玻璃基板曝光机为了改善上述缺陷,增加一套单元组件(包含遮蔽组件、线性马达、新制导轨等),在曝光前由线性马达将遮蔽组件移动到基板玻璃与提升杆之间,通过采用与基台相同的材料已达到减轻提升杆缺陷的影响。诚然这种方法有可能改善提升杆缺陷,但是这种方法需要在本已经相当拥挤的曝光机内部再添加组件显得不合时宜,而且在曝光机内部如果想要达到该专利的要求,线性马达的精度将非常高,设备的成本将大幅增加,并且在大世代线中(≥G6)曝光机内基板玻璃平台(Chuck)是由多块组成,在相邻两个平台对侧增加导轨安装遮蔽组件之后对于整体平整度影响较大,如果相邻平台存在微小高低差,在精密度要求如此高的曝光机内影响也是巨大的。
发明内容
本发明提供了一种曝光机,用以提高基板曝光时的效果。本发明提供了一种曝光机,该曝光机包含至少一个曝光单元,每个曝光单元包括:多个间隔设置的支撑平台,且相邻的两个支撑平台之间设置有提升杆,每个提升杆与其相邻的每个支撑平台之间具有间隙;其中,每个支撑平台朝向其相邻的提升杆的一侧设置有用于反射照射到所述间隙内的光线的反射平台,且所述反射平台的反射面低于所述提升杆的支撑面。
在上述技术方案中,通过设置的反射平台反射照射到间隙内的光线,从而使得照射到支撑平台、提升杆及间隙之间的光线的反射光线相近似,从而提高了曝光机对基板曝光的效果。
优选的,所述反射平台的反射面与所述提升杆的支撑面在水平面上的竖直投影部分重叠。保证了反射平台能够完全遮挡间隙。
优选的,所述提升杆的两侧分别设置有用于避让所述反射平台的缺口。使得反射平台的反射面能够更加接近支撑平台的支撑面。
优选的,所述提升杆的横截面为T字形。方便提升杆设置。
优选的,所述反射平台的反射面距离所述支撑平台的放置面的距离小于所述提升杆与所述支撑平台之间的间隙的宽度。改善了间隙对曝光的影响,提高了曝光的效果。
优选的,每个支撑平台上设置有用于存放所述反射平台的存放槽,所述存放槽内设置有与所述反射平台连接的伸缩装置。提高了反射平台的安全性,完整性,易于运输。
优选的,所述伸缩装置包含多个伸缩杆,每个伸缩杆的一端与所述存放槽的侧壁固定连接,另一端与所述反射平台固定连接。采用不同的伸缩装置驱动反射平台。
优选的,所述伸缩装置包括至少一个线性电机,每个线性电机通过连接杆与所述反射平台固定连接。采用不同的伸缩装置驱动反射平台。
优选的,所述伸缩装置包括多个驱动液压缸或多个驱动气压缸。采用不同的伸缩装置驱动反射平台。
优选的,还包括:用于检测基板的检测装置;
控制装置,分别与所述检测装置及所述伸缩装置信号连接,并在接收到所述检测装置检测到基板的第一次信号时,控制所述伸缩装置驱动所述反射平台从所述存放槽内伸出设定距离。提高了自动化程度。
附图说明
图1为本发明实施例提供的曝光机的俯视图;
图2为本发明实施例提供的曝光机的曝光单元的侧视图;
图3为本发明实施例提供的曝光机的另一曝光单元的侧视图;
图4为本发明实施例提供的另一曝光单元的使用状态参考图。
附图标记:
10-曝光单元 11-支撑平台     12-提升杆
13-间隙      14-反射平台    15-存放槽
16-伸缩装置  17-检测装置    18-控制装置
20-基板
具体实施方式
为了提高曝光机对基板曝光的效果,本发明实施例提供了一种曝光机,在本发明实施例的技术方案中,通过采用反射平台将照射在支撑平台及提升杆之间的光线反射回去,从而改善了基板在曝光时的效果。为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,以下以非限制性的实施例为例对本发明作进一步详细说明。
如图1及图2所示,图1示出了本发明实施例提供的曝光机的俯视图,图2示出了一个曝光单元的侧视图。
本发明实施例提供了一种曝光机,该曝光机包含至少一个曝光单元10,每个曝光单元10包括:多个间隔设置的支撑平台11,且相邻的两个支撑平台11之间设置有提升杆12,每个提升杆12与其相邻的每个支撑平台11之间具有间隙13;其中,每个支撑平台11朝向其相邻的提升杆12的一侧设置有用于反射照射到所述间隙13内的光线的反射平台14,且所述反射平台14的反射面低于所述提升杆12的支撑面。
在上述技术方案中,通过设置的反射平台14反射照射到间隙13内的光线,从而使得照射到支撑平台11、提升杆12及间隙13之间的光线的反射光线相近似,从而提高了曝光机对基板20曝光的效果。
为了方便对本发明实施例的理解,下面对其进行详细的描述,如图1所示,曝光机包含多个曝光单元10,每个曝光单元10包含多个支撑平台11,具体的如图1示出的结构中,其中的一个曝光单元10中包含两个支撑平台11,两个支撑平台11之间设置有提升杆12,另一个曝光单元10中包含三个支撑平台11,相邻的两个支撑平台11之间设置了提升杆12;由图1可以看出,曝光机的曝光单元10可以选用上述不同的结构,应当理解的是,上述曝光单元10仅示出了采用一个活两个提升杆12的曝光单元10,曝光单元10还可以具有三个、四个等不同的个数提升杆12,其结构与图1中示出的结构相近似,在此不再具体描述。
如图2所示,以采用一个提升杆12的曝光单元10为例对本发明实施例提供的曝光单元10进行详细描述,其中,该曝光单元10包括两个支撑平台11,两个支撑平台11之间形成了放置提升杆12的放置间隙,且该提升杆12在设置在放置间隙内时,提升杆12的两侧分别与对应的支撑平台11之间具有间隙13;为了避免该间隙13对曝光时产生不良影响,具体的,本实施例提供的曝光单元10中采用在支撑平台11上设置反射平台14,该反射平台14用于遮挡提升杆12与支撑平台11之间的间隙13,在光线照射下来时,使得照射到支撑平台11、提升杆12及反射平台14上的光线反射相近似,从而改善了曝光的效果。具体的,曝光机上设置有驱动该提升杆12上升及下降的升降机构(该机构为现有技术中的曝光机中常见的机构,在此不再进行详细描述),该曝光单元10在使用时,首先通过升降机构驱动提升杆12上升并接收基板20,在基板20放置在提升杆12后,提升杆12下降,使得基板20放置在支撑平台11上,曝光机对基板20进行曝光,整个曝光单元10的反射面由支撑平台11、提升杆12、反射平台14的上表面组成,从而尽量的减少了光线在反射后的区别,提高了基板20在曝光时的效果。
继续参考图2,为了改善反射平台14的反射效果,较佳的,反射平台14的反射面与提升杆12的支撑面在水平面上的竖直投影部分重叠。从而保证了反射平台14能够完全遮挡提升杆12与支撑平台11之间的间隙13,降低了曝光时,该间隙13对基板20曝光的影响,提高了整个装置的可靠性。同时,采用这种层叠的设置,降低了整个机构的安装精度,方便整个装置的生产。
此外,为了尽量的使得支撑平台11、提升杆12及反射平台14朝向基板20的一面处于同一水平面上,较佳的,提升杆12的两侧分别设置有用于避让反射平台14的缺口。从而使得反射平台14的反射面能够更佳接近支撑平台11的支撑面,降低了由于两个面的高度差影响到反射的光线强度的区别,提高了曝光的效果。具体的,如图2所示,该缺口对称设置在提升杆12上,该提升杆12的横截面为T字形。在采用上述结构时,为了更进一步的降低反射平台14的反射面与支撑平台11的支撑面之间的高度差对反射光线造成的影响,较佳的,反射平台14的反射面距离支撑平台11的放置面的距离小于提升杆12与支撑平台11之间的间隙13的宽度。有效的降低了两个面之间的高度差对反射光线的影响。
此外,对于本实施例提供的曝光机,由于采用的反射平台14的反射面与提升杆12之间在竖直高度上存在一定的间隙13,因此,在两个支撑平台11的高度存在差异时(即两个支撑平台11由于放置面的不平造成整个曝光单元10出现倾斜时),反射平台14仍能够遮挡支撑平台11与提升杆12之间的间隙13,提高了整个装备的实用性。
除上述改进提升杆12的结构外,本实施例提供的曝光机还通过采用图3及图4示出的结构,更进一步的提高了整个装置在使用的稳定性,降低了失效的情况的出现。
具体的,一并参考图3及图4所示。图3示出了另一种的曝光单元10的结构,图4示出了该曝光单元10的使用状态参考图。
其中,如图3所示,每个支撑平台11上设置有用于存放反射平台14的存放槽15,存放槽15内设置有与反射平台14连接的伸缩装置16。从而使得该反射平台14可以通过伸缩装置16实现伸缩的功能,具体的,在使用时,该伸缩装置16控制反射平台14从存放槽15内伸出,使得反射平台14遮挡提升杆12与支撑平台11之间的间隙13,在不使用时,控制反射平台14缩回存放槽15内,从而避免反射平台14被碰损,如整个曝光机在运输的过程中,反射平台14极易出现的碰损,从而使得反射平台14失效,进而影响到整个曝光单元10的使用。
在具体的设置时,该伸缩装置16可以选用不同的伸缩装置16,具体的,如:该伸缩装置16包含多个伸缩杆,每个伸缩杆的一端与存放槽15的侧壁固定连接,另一端与反射平台14固定连接。通过多个伸缩杆将反射平台14与支撑平台11连接,该伸缩杆沿支撑平台11的长度方向设置,使得整个反射平台14在伸出或缩回存放槽15时,能够保证不出现弯曲的情况。通过伸缩杆可以实现人工手动控制反射平台14的伸出或缩回的控制。此外,该伸缩装置16还可以包括至少一个线性电机,每个线性电机通过连接杆与反射平台14固定连接。通过线性电机实现对反射平台14的机械化控制,从而通过机械驱动实现反射平台14的运动的控制。在采用机械控制时,还可以采用如下结构:伸缩装置16包括多个驱动液压缸或多个驱动气压缸。通过驱动气缸及驱动液压缸来实现对反射平台14的运动的控制。
通过上述描述可以看出,可以通过不同的结构来实现对反射平台14的运动的控制,应当理解的是本实施例提供的曝光单元10不仅限于上述具体的实施例提供的伸缩装置16,其他的任何可以实现驱动反射平台14从存放槽15内伸出/回缩的驱动结构均可应用到本实施例中。
此外,为了进一步的提供整个装置的自动化程度,较佳的,该曝光单元10还包括:用于检测基板20的检测装置17;
控制装置18,分别与检测装置17及伸缩装置16信号连接,并在接收到检测装置17检测到基板20的第一次信号时,控制伸缩装置16驱动反射平台14从存放槽15内伸出设定距离。
具体的,通过检测装置17检测基板20的放置情况,该检测装置17可以选用接近开关或感应器等不同的检测部件,如采用接近开关时,其具体设置如图3或图4所示,设置在一个支撑平台11靠近其支撑面的外侧,在基板20放置在支撑面上时,接近开关可以检测到基板20。在整个曝光单元10使用时,控制装置18在接收到检测装置17检测到基板20的第一次信号时,即可控制反射平台14从存放槽15内伸出设定的距离,该设定距离可以根据实际情况而定,且该设定距离能够保证反射平台14的反射面能够与提升杆12在水平面上的竖直投影中部分重叠。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种曝光机,其特征在于,包含至少一个曝光单元,每个曝光单元包括:多个间隔设置的支撑平台,且相邻的两个支撑平台之间设置有提升杆,每个提升杆与其相邻的每个支撑平台之间具有间隙;其中,每个支撑平台朝向其相邻的提升杆的一侧设置有用于反射照射到所述间隙内光线的反射平台,且所述反射平台的反射面低于所述提升杆的支撑面。
2.如权利要求1所述的曝光机,其特征在于,所述反射平台的反射面与所述提升杆的支撑面在水平面上的竖直投影部分重叠。
3.如权利要求2所述的曝光机,其特征在于,所述提升杆的两侧分别设置有用于避让所述反射平台的缺口。
4.如权利要求3所述的曝光机,其特征在于,所述提升杆的横截面为T字形。
5.如权利要求4所述的曝光机,其特征在于,所述反射平台的反射面距离所述支撑平台的放置面的距离小于所述提升杆与所述支撑平台之间的间隙的宽度。
6.如权利要求1~5任一项所述的曝光机,其特征在于,每个支撑平台上设置有用于存放所述反射平台的存放槽,所述存放槽内设置有与所述反射平台连接的伸缩装置。
7.如权利要求6所述的曝光机,其特征在于,所述伸缩装置包含多个伸缩杆,每个伸缩杆的一端与所述存放槽的侧壁固定连接,另一端与所述反射平台固定连接。
8.如权利要求6所述的曝光机,其特征在于,所述伸缩装置包括至少一个线性电机,每个线性电机通过连接杆与所述反射平台固定连接。
9.如权利要求6所述的曝光机,其特征在于,所述伸缩装置包括多个驱动液压缸或多个驱动气压缸。
10.如权利要求6所述的曝光机,其特征在于,还包括:用于检测基板的检测装置;
控制装置,分别与所述检测装置及所述伸缩装置信号连接,并在接收到所述检测装置检测到基板的第一次信号时,控制所述伸缩装置驱动所述反射平台从所述存放槽内伸出设定距离。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105045048A (zh) * 2015-09-16 2015-11-11 京东方科技集团股份有限公司 一种曝光基台和曝光设备
CN105319870A (zh) * 2015-11-20 2016-02-10 苏州赛森电子科技有限公司 适用于圆片光刻工艺的感应装置
CN106773553A (zh) * 2017-03-06 2017-05-31 重庆京东方光电科技有限公司 承载装置和曝光设备
KR20190136937A (ko) * 2018-05-30 2019-12-10 캐논 가부시끼가이샤 기판 보유지지 장치, 노광 장치 및 물품 제조 방법
CN111061131A (zh) * 2019-12-16 2020-04-24 Tcl华星光电技术有限公司 曝光机

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030128308A1 (en) * 2001-12-31 2003-07-10 Kim Yong Hun Chuck for exposure apparatus
US20060017005A1 (en) * 2004-06-30 2006-01-26 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Exposure chuck and method for fabricating liquid crystal display device using the same
US20100081097A1 (en) * 2005-06-24 2010-04-01 Sokudo Co., Ltd. Substrate processing apparatus
CN202563243U (zh) * 2012-04-13 2012-11-28 合肥京东方光电科技有限公司 玻璃基板曝光机
CN203117640U (zh) * 2013-03-19 2013-08-07 深圳市华星光电技术有限公司 曝光机的玻璃基板支撑机构
US20140293257A1 (en) * 2013-04-01 2014-10-02 Samsung Display Co., Ltd. Substrate holding apparatus and method

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030128308A1 (en) * 2001-12-31 2003-07-10 Kim Yong Hun Chuck for exposure apparatus
US20060017005A1 (en) * 2004-06-30 2006-01-26 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Exposure chuck and method for fabricating liquid crystal display device using the same
US20100081097A1 (en) * 2005-06-24 2010-04-01 Sokudo Co., Ltd. Substrate processing apparatus
CN202563243U (zh) * 2012-04-13 2012-11-28 合肥京东方光电科技有限公司 玻璃基板曝光机
CN203117640U (zh) * 2013-03-19 2013-08-07 深圳市华星光电技术有限公司 曝光机的玻璃基板支撑机构
US20140293257A1 (en) * 2013-04-01 2014-10-02 Samsung Display Co., Ltd. Substrate holding apparatus and method

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105045048A (zh) * 2015-09-16 2015-11-11 京东方科技集团股份有限公司 一种曝光基台和曝光设备
CN105045048B (zh) * 2015-09-16 2017-05-03 京东方科技集团股份有限公司 一种曝光基台和曝光设备
CN105319870A (zh) * 2015-11-20 2016-02-10 苏州赛森电子科技有限公司 适用于圆片光刻工艺的感应装置
CN106773553A (zh) * 2017-03-06 2017-05-31 重庆京东方光电科技有限公司 承载装置和曝光设备
US10423079B2 (en) 2017-03-06 2019-09-24 Boe Technology Group Co., Ltd. Bearing device and exposure apparatus
KR20190136937A (ko) * 2018-05-30 2019-12-10 캐논 가부시끼가이샤 기판 보유지지 장치, 노광 장치 및 물품 제조 방법
JP2019211755A (ja) * 2018-05-30 2019-12-12 キヤノン株式会社 基板保持装置、露光装置及び物品の製造方法
JP7016825B2 (ja) 2018-05-30 2022-02-07 キヤノン株式会社 基板保持装置、露光装置及び物品の製造方法
KR102544594B1 (ko) * 2018-05-30 2023-06-19 캐논 가부시끼가이샤 기판 보유지지 장치, 노광 장치 및 물품 제조 방법
CN111061131A (zh) * 2019-12-16 2020-04-24 Tcl华星光电技术有限公司 曝光机
CN111061131B (zh) * 2019-12-16 2022-04-05 Tcl华星光电技术有限公司 曝光机

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