CN102802873A - 保持垫 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种即使大型化仍可确保平坦性,并且可全面安装在保持定盘上的保持垫。保持垫(10)具有在略平坦的保持面(P)的背面侧已进行过抛光处理的胺基甲酸乙酯薄片(2)。在胺基甲酸乙酯薄片(2)的保持面(P)的背面侧是与黏着片(4)的一面贴合。在黏着片(4)中,具黏着性的无支撑胶带(41、42)是以相互邻接地方式配置。在黏着片(4)的另一面是与树脂基材(5)的一面相互贴合。树脂基材(5)的一面及另一面分别为连续面。树脂基材(5)的另一面则与黏着片(6)相互贴合。黏着片(6)具有用以安装至保持定盘的一面。在黏着片(6)中,具黏着性的无支撑胶带(61、62)是以相互邻接地方式配置。保持垫(10)可藉由树脂基材(5)而全面被支撑。
Description
技术领域
本发明是有关于一种保持垫,特别是有关于一种具有用以保持被研磨物的树脂制的薄片材料的保持垫。
背景技术
迄今,在透镜、平行平面板、反射镜等光学材料、硅晶圆、硬碟用基板或液晶显示器用玻璃基板等材料中,由于需具有高精度的平坦性,所以使用研磨垫进行研磨加工。通常在研磨加工时,使用同时对被研磨物的双面进行研磨加工的双面研磨机、或分别对被研磨物的单面进行研磨加工的单面研磨机等。以双面研磨机来说,是使被研磨物的双面抵接至分别贴附在表面平坦的上下定盘的研磨垫上,一边供给含有研磨粒子等的研磨液,一边进行研磨加工。另一方面,单面研磨机则是使被研磨物的一面侧保持在安装于保持定盘的保持垫上,再藉由贴附在研磨定盘上的研磨垫,一边供给研磨液,一边对研磨物的另一面侧进行研磨加工。此时,会有被保持垫所保持的被研磨物在研磨加工进行中产生移动,而损及加工表面的平坦性的情况发生。为了防止被研磨物的移动,会将被研磨物***至模型(模板,Template)中之后,再进行研磨加工。
以被研磨物来说,特别就液晶显示器用玻璃基板而言,伴随着液晶显示器的大型化,玻璃基板亦有大型化的倾向。举例来说,由于对基板厚度1mm、***尺寸1.5m×1.8m的玻璃基板进行研磨加工时,会有难以将玻璃基板等被研磨物***模型中的问题。因此,无需使用模型,仍能够保持被研磨物,并具高平坦性的大型保持垫实为目前所需。此外,就硅晶圆来说,以提高研磨加工的效率为目的而对复数种材料同时进行研磨加工的技术也正在进步发展中。在此种情况下,也必须将研磨加工所使用的保持垫予以大型化。例如,已开发了单边边长为超过2000mm的矩形或直径超过2000mm的圆形的保持垫。
在保持垫中,为了安装至保持定盘,通常会使用具有基材的双面胶带。然而,当藉由单枚的双面胶带将保持垫贴附至保持定盘时,在保持垫与保持定盘间会有夹杂空气或是形成皱纹等问题存在。此外,由于保持垫需要被贴附在保持定盘的正确位置上,且无法再度黏贴,因此贴附作业是非常困难的。为了因应保持垫的大型化,须有单边边长或直径超过2000m的单枚的大型双面胶带。当使用这种大型的双面胶带将保持垫贴附至保持定盘时,会令贴附作业变得更加困难。在此,现状仍是采用将多枚双面胶带并列贴合,且各别的双面胶带依序贴合的方式以因应保持垫的大型化。
另一方面,保持垫具有用以保持被研磨物的树脂制的薄片材料。此树脂制薄片材料是将聚胺基甲酸乙酯树脂溶解于水溶性的有机溶媒中所产生的树脂溶液,涂布至薄片状的成膜基材上后,在水型凝固液中使树脂凝固再生(湿式成膜法)而被制造。在所制造的薄片材料的表面上,致密的微多孔所形成厚度数μm程度的表面层(表肤层,Skin Layer)得以被形成。由于致密地形成了微多孔,所以表肤层的表面具有微观的平坦性。由于此表肤层与被研磨物间的接触性优异,所以能够用于被研磨物的保持。亦即,表肤层的表面成为用以保持被研磨物的保持面。然而,就湿式成膜法而言,由于树脂溶液具有黏性,所以当对成膜基材进行涂布时会发生厚度不均,并且在凝固再生时,会因为有机溶媒与水型凝固液间的置换而故容易发生厚度不均。因此,会损及薄片材料本身表面的微观的平坦性(成为大波浪型的表面)。因此,在维持表肤层的微观的平坦性的状态下,减少厚度不均以提高微观的平坦性是重要的。为了在保留表肤层的状态下减低厚度不均,举例来说,已公开了一种对薄片材料的保持面的背面侧施以抛光处理的技术(日本特开2006-62059号公报参照)。
发明内容
发明所欲解决的问题
然而,就日本特开2006-62059号公报的技术而言,通过对薄片材料的保持面的背面侧进行抛光处理,虽可在保留表肤层的状态下将薄片材料的厚度制成大致均匀的状态,但是却未提及针对保持垫的大型化的因应手段。以现状来说,作为针对保持垫的大型化所采取的因应措施,为了能将保持垫容易的贴附至保持定盘上,是将具有基材的复数片双面胶带并列贴合。在此种情形中,在搬运时等,会有在各别具有基材的双面胶带的间断处部分产生弯折,或在薄片材料上产生裂痕等的可能性。此外,当安装在保持定盘时,会在双面胶带等的间断处部分使薄片材料被拉伸,而在薄片材料的二面上产生皱纹或塌陷等凹凸不平的现象。当使用具有这种凹凸不平状态的保持垫来进行研磨加工时,由于其高低差会被转印在被研磨物上而产生条纹等,所以被研磨物的表面会变得难以平坦化。
本发明有鉴于上述事项,以提供即使大型化,仍可确保其平坦性并可全面安装在保持定盘上的一种保持垫为课题。
解决问题的手段
为解决上述课题,本发明是具有用以保持被研磨物的保持面的树脂制的薄片材料;具有与前述薄片材料的保持面的背面侧相贴合的一面,且具黏着性的多个第一黏着构件是相互邻接配置的第一黏着层;具有用以安装在定盘上的一面,且具黏着性的多个第二黏着构件是相互邻接配置的第二黏着层;以及介于前述第一黏着层与第二黏着层间,一面是被贴合在前述第一黏着层的另一面,另一面则是被贴合在前述第二黏着层的另一面的树脂基材,以前述树脂基材的前述一面及另一面分别是连续面为其特征的保持垫。
在本发明中,将第一黏着层以多个第一黏着构件构成,并将第二黏着层以多个第二黏着构件构成,藉此,即便薄片材料大型化,仍能够全面安装至定盘上,并且藉由在第一黏着层与第二黏着层之间,设置一面及另一面分别是连续面的树脂基材介在其中,而使树脂基材可发挥全面支撑薄片材料的机能,并可抑制在搬送时或者是安装至定盘时发生弯折或是在保持面上形成皱纹等问题,故可确保保持面的平坦性。
在这种情况中,第一黏着构件及第二黏着构件也可以是仅以不具有基材的黏着剂构成的无支撑型黏着胶带(以下,简称为无支撑胶带。)。此时,黏着剂可使用自丙烯酸系、胺基甲酸乙酯系及环氧系黏着剂中所选择的至少一种。第二黏着层的一面侧中,多个第二黏着构件的表面是以可各自剥离的离型膜加以覆盖较佳。这种保持垫乃是薄片材料及树脂基材为一致的形状,且对向二边的边长为2000mm以上的矩形或直径为2000mm以上的圆形亦可对应。保持垫是将第一黏着层、树脂基材及第二黏着层预先相互贴合较为适宜。此外,多个第二黏着构件的边界部分彼此之间与多个第一黏着构件的边界部分彼此之间,通过树脂基材而被配置在与厚度方向交叉的方向上的相同的位置上亦可。此时,多个第一黏着构件的边界部分及多个第二黏着构件的边界部分所形成的间隙,皆设定成2mm以下较佳。可将构成第二黏着构件的黏着剂设成具有比构成第一黏着构件的黏着剂还大的接着力。此外,将薄片材料以使用湿式成膜法所形成的聚胺基甲酸乙酯树脂制薄片来实施亦可。
发明的效果
根据本发明,将第一黏着层以多个第一黏着构件构成,并将第二黏着层以多个第二黏着构件构成,藉此,即便薄片材料大型化,仍能够全面安装至定盘上,并且藉由在第一黏着层与第二黏着层间,设置一面及另一面分别是连续面的树脂基材介在其中,而使树脂基材可发挥全面支撑薄片材料的机能,并可抑制在搬送时或安装至定盘时,发生弯折或是在保持面上形成皱纹等问题,故可确保保持面的平坦性。
附图说明
图1为适用本发明的实施形态的保持垫的剖面示意图。
图2为在实施形态中制作保持垫所使用的贴膜机的剖面示意图。
具体实施方式
以下,请参阅图式,针对适用本发明实施形态的保持垫进行说明。
(构成)
如图1所示,本实施形态的保持垫10是包含作为有略平坦的保持面P的薄片材料的胺基甲酸乙酯薄片2;以及用以将胺基甲酸乙酯薄片2安装至研磨机的保持定盘上的安装片7。
胺基甲酸乙酯薄片2是利用100%模量(拉伸成二倍长时的应力)为20MPa以下的聚胺基甲酸乙酯树脂,使用湿式成膜法而被形成。胺基甲酸乙酯薄片2在保持面P的背面侧(相反面),胺基甲酸乙酯薄片2的厚度(图1的纵向长度)是成为大致均匀地被抛光处理。胺基甲酸乙酯薄片2在保持面P上,具有未图示的致密的微多孔所形成的表肤层8。表肤层8的表面具有微观的平坦性。在较表肤层8更为内侧(胺基甲酸乙酯薄片2的内部),以比表肤层8的微多孔更大的孔径,沿着胺基甲酸乙酯薄片2的厚度方向上,带有圆头的剖面三角形的大气孔3略均等地被形成。以大气孔3的孔径来说,保持面P侧形成的孔径大小是较与保持面P为相反的面侧还小。在大气孔3彼此之间的聚胺基甲酸乙酯树脂中,形成有比表肤层8的微多孔更大,但比大气孔3更小孔径的省略图示的小气孔。表肤层8的微多孔、大气孔3及小气孔是通过连通孔联系成网目状。亦即,胺基甲酸乙酯薄片2具有连续状的细孔构造。由于保持面P的相反面侧被抛光处理,大气孔3及省略图示的小气孔的一部分是在保持面P的相反面侧的表面开孔。
安装片7具有作为一面侧与胺基甲酸乙酯薄片2贴合的第一黏着层的黏着片4;与作为具有用以安装在保持定盘的一面的第二黏着层的黏着片6。在黏着片4与黏着片6间,则有树脂基材5介在其中。树脂基材5的一面侧是与黏着片4的另一面侧贴合,另一面侧则是与黏着片6的另一面侧贴合。黏着片4乃是二个无支撑胶带41、42(第一黏着构件)在边界D1相互邻接地被配置着。另一方面,黏着片6乃是二个无支撑胶带61、62(第二黏着构件)在边界D2相互邻接地被配置着。亦即,边界D1及边界D2是通过树脂基材5而被配置在与厚度方向交叉的方向上相同的位置上。换言之,自保持面P侧观察时,边界D1及边界D2是相互重合地被配置着。无支撑胶带41、42间所形成的间隙(边界D1的宽度)及无支撑胶带61、62间所形成的间隙(边界D2的宽度)是被设定在2mm以内。无支撑胶带61、62的一面侧各别以离型膜61a、62a加以覆盖。
构成黏着片4的无支撑胶带41是仅以黏着剂所形成薄片状的不具有基材的胶带(无支撑型黏着胶带)。无支撑胶带42是与无支撑胶带41相同的结构所形成。无支撑胶带41、42任一者皆可使用同质的丙烯酸系黏着剂。此外,无支撑胶带41、42乃是形成相同的厚度及宽度,且形成有同一面。在黏着片4中,一面侧是与胺基甲酸乙酯薄片2的保持面P的背面侧贴合,而另一面侧则是与树脂基材5的一面侧贴合。
构成黏着片6的无支撑胶带61是与无支撑胶带41同样,为仅以黏着剂所形成薄片状的不具有基材的胶带。无支撑胶带61的一面侧,亦即,用以安装在定盘的一面侧,为了在保管以及搬送保持垫10时保护无支撑胶带61,而以离型膜61a加以覆盖。无支撑胶带62是以与无支撑胶带61相同的结构所形成。亦即,无支撑胶带62乃是一面侧以离型膜62a加以覆盖。无支撑胶带61、62皆可使用同质的橡胶系黏着剂。黏着片6是扮演将保持垫10固定在定盘上的角色,由于研磨所引起的负荷较大,故使用比黏着片4所使用的丙烯酸系黏着剂具有更强接着力的橡胶系黏着剂。无支撑胶带61、62乃是形成相同的厚度及宽度,且形成有同一面。在黏着片6中,一面侧是各别以离型膜61a、62a加以覆盖,而另一面侧则是与树脂基材5的另一面侧贴合。离型膜61a、62a的边界部分与无支撑胶带61、62的边界部分是被配置在与厚度方向交叉的方向上相同的位置上。
树脂基材5为聚对苯二甲酸乙二酯(以下,缩写为PET)制的基材。树脂基材5是设置介于黏着片4与黏着片6间。亦即,树脂基材5乃是一面侧与黏着片4的另一面侧贴合,而另一面侧与黏着片6的另一面侧贴合。树脂基材5是以与胺基甲酸乙酯薄片2相同大小的一枚薄片所形成,一面及另一面分别为连续的略平坦面。亦即,树脂基材5具有与胺基甲酸乙酯薄片2一致的形状。因此,树脂基材5可发挥全面支撑胺基甲酸乙酯薄片2的作用。
(制造)
保持垫10是藉由分别制作胺基甲酸乙酯薄片2及安装片7,并使其贴合而被制造。以下,将依照胺基甲酸乙酯薄片2的制作、安装片7的制作及贴合的顺序进行说明。
(胺基甲酸乙酯薄片的制作)
胺基甲酸乙酯薄片2是经由调制树脂溶液的准备步骤;将树脂溶液在成膜基材上连续地涂布,再在水型凝固液中使聚胺基甲酸乙酯树脂凝固再生成薄膜状的凝固再生步骤;将凝固再生的聚胺基甲酸乙酯树脂洗净并干燥以获得胺基甲酸乙酯薄片2的洗净/干燥步骤;以及在干燥后的胺基甲酸乙酯薄片2的保持面P的相反面侧,以抛光处理使厚度均一化的平滑化处理步骤而被制作。
在准备步骤中,将聚胺基甲酸乙酯树脂、可溶解聚胺基甲酸乙酯树脂的水混和性的有机溶媒的N,N-二甲基甲酰胺(以下,缩写为DMF)及添加剂加以混合使聚胺基甲酸乙酯树脂溶解。在聚胺基甲酸乙酯树脂中,是自100%模量为20MPa以下的聚酯系、聚醚系及聚碳酸酯系等树脂中选择来使用,例如,使聚胺基甲酸乙酯树脂溶解在DMF中成为约30%程度。作为添加剂,可使用控制大气孔3的大小或量(个数)的碳黑等颜料、促进发泡的亲水性活性剂及使聚胺基甲酸乙酯树脂的凝固再生稳定化的疏水性活性剂等。所获得的溶液则再减压状态下进行脱泡,以调制树脂溶液。
在凝固再生步骤中,是将在准备步骤所调制出的树脂溶液在成膜基材上连续地涂布,在水型凝固液中,使聚胺基甲酸乙酯树脂凝固再生成薄膜状。树脂溶液是利用涂布装置而在常温下,在带状的成膜基材上略均一地涂布。就涂布装置而言,本例乃是使用刀式涂布机。此时,可通过调整刀式涂布机与成膜基材间的间隙(clearance),来调整树脂溶液的涂布厚度(涂布量)。就成膜基材而言,可使用可挠性薄膜、不织布及织布等。在本例中,是采用PET制薄膜作为成膜基材。
被涂布在成膜基材上的树脂溶液是被浸渍在以相对于聚胺基甲酸乙酯树脂为不良溶媒的水为主要成分的凝固液。在凝固液中,首先,在被涂布有树脂溶液的表面上,构成表肤层8的微多孔是横跨厚度数μm程度地被形成。之后,藉由树脂溶液中的DMF与凝固液间置换的进行,而使聚胺基甲酸乙酯树脂在成膜基材的单面上凝固再生成为薄膜状。DMF是自树脂溶液去溶媒化,藉由DMF与凝固液进行置换,而在较表肤层8更内侧的聚胺基甲酸乙酯树脂中形成大气孔3及小气孔,且形成大气孔3及小气孔连通成网目状的连通孔。此时,由于成膜基材的PET制薄膜不会让水浸透,故在树脂溶液的表面侧(表肤层8侧)会发生去溶媒化,而在成膜基材侧形成比表面侧还大的大气孔3。
在洗净/干燥步骤中,是将已凝固再生的带状(长条状)的聚胺基甲酸乙酯树脂洗净后其干燥。亦即,将聚胺基甲酸乙酯树脂自成膜基材被剥离,并在水等洗净液中洗净以除去残留在聚胺基甲酸乙酯树脂中的DMF。洗净后,以干燥机等使聚胺基甲酸乙酯树脂加以干燥。在本例中,作为干燥机,是使用具有内部有热源的圆筒的圆筒干燥机。聚胺基甲酸乙酯树脂是沿着圆筒的圆周面通过而干燥。在平滑化处理步骤中,为了让干燥后的聚胺基甲酸乙酯树脂的厚度均一化,而在表肤层8的相反面侧施以抛光处理。在本例中,在平滑化处理后,聚胺基甲酸乙酯树脂被切割成宽度2000mm,并以辊卷取,即可获得胺基甲酸乙酯薄片2。
(安装片的制作)
就安装片7的制作而言,首先,分别准备构成黏着片4的黏着胶带41、42、构成黏着片6的黏着胶带61、62及树脂基材5。使用贴膜机(详细说明如后)以在树脂基材5上,使黏着片6及黏着片4贴合而制作。
黏着片4的无支撑胶带41、42及黏着片6的无支撑胶带61、62皆被设定成带宽1000mm、厚度55μm。在无支撑胶带41、42中,可采用黏着剂的二表面侧是各别以离型膜被覆盖者。在无支撑胶带61、62中,则是在用以安装在保持定盘的一面侧以离型膜61a、62a,而另一面侧则是以离型膜各别覆盖。树脂基材5是被设定成宽度2000mm、厚度75μm。亦即,树脂基材5是采用与胺基甲酸乙酯薄片2相同的宽度。树脂基材5为一面与另一面皆是连续的平坦面的PET基材。就离型膜而言,可使用PET制树脂薄片或纸等。此外,亦可施予离型处理以使让离型膜容易剥离,。
如图2所示,贴膜机90具有用以分别供给二个无支撑胶带的二个胶带供给辊95,及用以在树脂基材5上对无支撑胶带加压使其贴附的一对加压辊93。亦即,贴膜机90为利用二个胶带供给辊95而能够分别供给二个无支撑胶带的双轴贴膜机。辊95是以可并列供给二个无支撑胶带为前提地被配置在加压辊93的上方。在胶带供给辊95的上游侧,配置用以回收无支撑胶带的离型膜的辊91。在胶带供给辊95与加压辊93间,则配置可兼用作为控制胶带张力的搬送辊96。在加压辊93的上游侧,作为供给侧,配置用以供给树脂基材5的基材供给辊92。在基材供给辊92与加压辊93间配置搬送辊97。在加压辊93的下游侧,配置用以卷取贴附着无支撑胶带的树脂基材5的辊94。在加压辊93与辊94间,则配置搬送辊98。
在贴膜机90中,自胶带供给辊95所拉出的无支撑胶带61、62是通过搬送辊96而被搬送。无支撑胶带61、62的另一面侧的离型膜被剥离,被剥离的离型膜则利用辊91而卷取成卷轴状。上述另一面侧的离型膜已被剥离的无支撑胶带61、62被搬送至加压辊93侧。另一方面,树脂基材5是自基材供给辊92而被搬送至加压辊93侧,树脂基材5的另一面会与无支撑胶带61、62的另一面相接触。无支撑胶带61、62及树脂基材5藉由通过加压辊93间而被加压,在树脂基材5的另一面贴附无支撑胶带61、62的另一面。已贴附无支撑胶带61、62的树脂基材5通过搬送辊98搬送,进而被辊94所卷取。为了让无支撑胶带61、62间所形成的间隙(边界D2的宽度)能在2mm以内,无支撑胶带61、62的位置是使用红外线雷射进行控制。同样地,将无支撑胶带41、42贴附在树脂基材5的一面侧以制作安装片7。此时,将无支撑胶带41、42的边界D1通过树脂基材5贴附在与无支撑胶带61、62的边界D2的厚度方向交叉的方向上相同的位置上。
(贴合)
将所制作的胺基甲酸乙酯薄片2与安装片7使用具备一对加压辊的贴膜机加以贴合。亦即,胺基甲酸乙酯薄片2与安装片7是分别朝向加压辊而被供给。此时,安装片7的离型膜会被剥离。藉由通过加压辊间,而对胺基甲酸乙酯薄片2和安装片7加压使其贴合。已贴附安装片7的胺基甲酸乙酯薄片2是被卷取成卷轴状。之后,切割成长度2000mm,再进行确认无附着脏污或异物等的检查,以完成长度2000mm、宽度2000mm的大型的保持垫10。
当将保持垫10安装在保持定盘时,将离型膜61a、62a除去,以所露出的无支撑胶带61、62贴附在保持定盘上。此时,由于是依序除去二枚离型膜61a、62a后,将无支撑胶带61、62一次一枚依序贴附,因而不会有发生偏位或空气夹杂的状况而可正确地贴附在定盘上。在研磨加工时,在供给含有研磨粒子的研磨液(slurry)的同时,对被保持的被研磨物进行研磨。
(作用等)
其次,针对本实施形态的保持垫10的作用,将以安装片7的作用为中心加以说明。
在本实施形态的保持垫10中,黏着片4是以二个无支撑胶带41、42所构成,黏着片6则是以二个无支撑胶带61、62所构成。因此,即使保持垫10大型化,当使胺基甲酸乙酯薄片2和安装片7相贴合时,还是可以抑制皱纹等的发生。此外,藉由将构成黏着片6的二个无支撑胶带61、62依序贴附在保持定盘上,而不会发生偏位,并可正确地黏贴在保持定盘上。
此外,以本实施形态的保持垫10来说,在黏着片4与黏着片6间,设有树脂基材5介在其中。由于树脂基材5是和胺基甲酸乙酯薄片2相同大小,且一面及另一面分别为连续的略平坦面,故树脂基材5可发挥全面支撑胺基甲酸乙酯薄片2的机能。因此,在保持垫10被搬送时或是被安装至定盘时,得以抑制胺基甲酸乙酯薄片2的保持面P侧的皱纹等的形成。从而,保持面P的平坦性可受到确保,所以可保持被研磨物的平坦,而可谋得被研磨物的平坦性的提高。
再者,以本实施形态的保持垫10来说,在黏着片4与黏着片6间,设置一面及另一面分别为连续的略平坦面的树脂基材5介在其中。亦即,树脂基材5对胺基甲酸乙酯薄片2而言为一致的形状。由于树脂基材5支撑具弹性且柔软的胺基甲酸乙酯薄片2,故在搬送时或是安装至保持定盘时的弯折等得以抑制。此外,即使将保持垫10大型化,贴附至保持定盘的贴附作业或交换保持垫10时的剥离作业仍可容易地实施。
更进一步,以本实施形态的保持垫10来说,构成黏着片6的无支撑胶带61、62的边界部分D2是与构成黏着片4的无支撑胶带41、42的边界部分D1,通过树脂基材5而被配置在与厚度方向交叉的方向上相同的位置上。换言之,无支撑胶带41、42及无支撑胶带61、62皆被设定成相同的宽度和长度。因此,在制作安装片7时,以黏着片4及黏着片6各别来说,使用相同宽度的无支撑胶带即可,可容易地进行部品管理。此外,无支撑胶带仅以黏着剂所形成,并不具有基材。在使用具有***坦性提高。
再进一步,以本实施形态的保持垫10来说,边界D1及边界D2的宽度,亦即,在邻接的无支撑胶带41、42间所形成的间隙、以及在邻接的无支撑胶带61、62间所形成的间隙是被设定成2mm以下。当边界D1及边界D2的宽度超过2mm时,在与保持垫10的保持面P上将会产生高低差,而难以保持被研磨物的平坦。藉由将边界D1及边界D2的宽度设定成2mm以内,可减低因无支撑胶带间的高低差所引起对保持面P的影响,而可保持被研磨物的平坦。若考虑以缩窄边界D1及边界D2的宽度来保持被研磨物的平坦性,则将边界D1及边界D2的宽度设定在1mm以内较佳。
此外,以本实施形态的保持垫10来说,作为安装片7,虽以在树脂基材5上使黏着片4、6贴合为例,但本发明并未受此所限定。例如,除了黏着片4、6外,再迭层更多的黏着片亦可,除了树脂基材5外,再迭层树脂基材也可以。在这种情况下,虽可期待使支撑胺基甲酸乙酯薄片2的效果提高,但亦有可能因在保持垫10整体中安装片7所占的比例变大,而造成研磨加工的阻碍。当考虑到此点时,则以黏着片4、6及树脂基材5所构成的三层构造的安装片7来实施较佳。
此外,以本实施形态的保持垫10来说,虽以使用二个无支撑胶带41、42作为黏着构件构成黏着片4,以及使用二个无支撑胶带61、62作为黏着构件而构成黏着片6为例,但本发明并未受此所限制。例如,也能够以三个以上的无支撑胶带来构成黏着片4及黏着片6。换言之,构成黏着片4、6的无支撑胶带的数量,可在考虑胺基甲酸乙酯薄片2(树脂基材5亦相同。)的大小、无支撑胶带的宽度后再作决定亦可。此外,分别构成黏着片4及6的无支撑胶带的数量,亦可依黏着片4及6而有所相异。亦即,无支撑胶带61、62的边界部分与无支撑胶带41、42的边界部分,通过树脂基材5而被配置在和厚度方向交叉的方向上相异的位置上亦可。即便如此,亦不会在安装片7的制作中产生不良状况,并可获得上述的效果。
再者,在本实施形态的保持垫10中,虽是以PET制的基材为例作为树脂基材5,但本发明并未受此所限定,例如,使用聚丙烯或双向拉伸聚丙烯(OPP)亦可。此外,虽是以丙烯酸系黏着剂作为无支撑胶带41、42的黏着剂,,而以橡胶系黏着剂作为无支撑胶带61、62的黏着剂为例,但本发明并未受此所限定,即便是使用胺基甲酸乙酯系或环氧系的黏着剂亦可。无支撑胶带41、42的黏着剂和无支撑胶带61、62的黏着剂使用同质者亦可。惟若考虑涉及到接着强度或胺基甲酸乙酯薄片2的物性的影响时,则以无支撑胶带41、42的黏着剂与无支撑胶带61、62的黏着剂为相异,并优化各自的接着力较为适宜。
更进一步,以本实施形态的保持垫10来说,虽仅以在胺基甲酸乙酯薄片2的保持面P的背面上施以抛光处理为例,但本发明并未受此所限制。例如,亦可在胺基甲酸乙酯薄片2的保持面P上施以抛光处理,使大气孔3及省略图式的小气孔的一部分在保持面P侧开孔。惟若考虑到保持垫10的被研磨物保持性,则宜对保持面P的背面侧进行抛光处理以保留表肤层8者较佳。此外,在黏着片4的一面侧(与胺基甲酸乙酯薄片2贴合的面侧)及黏着片6的一面侧(与保持定盘贴合的面侧),具有分别覆盖构成黏着片4、6的黏着剂层的表面的可剥离的离型膜亦可。如此一来,即可单独地保管、搬运安装片7,从制造管理的观点来看亦变得较佳。
再进一步,以本实施形态的保持垫10来说,虽以使用湿式成膜的聚胺基甲酸乙酯树脂制的胺基甲酸乙酯薄片2为例作为树脂制薄片材料,但本发明并未受此所限定。例如,也能够使用藉由使异氰酸化合物与聚醇化合物或多胺化合物等反应,而干式成形的胺基甲酸乙酯薄片2。此外,亦可使用聚乙烯或聚丙烯等树脂以取代聚胺基甲酸乙酯树脂。
此外,在本实施形态的保持垫10中,是以长度2000mm、宽度2000mm的矩形为例,但本发明并未受此所限定。例如,可为对向二边的边长为2000mm以上的矩形或直径为2000mm以上的圆形的保持垫亦能够对应。
产业上的利用可能性
本发明是提供一种即使大型化,仍可确保平坦性,并且可全面安装在保持定盘上的保持垫,故在保持垫的制造、贩售上具有贡献,所以具有产业利用性。
Claims (10)
1.一种保持垫,其特征在于,包含:具有用以保持被研磨物的一保持面的树脂制的薄片材料;具有与所述薄片材料的所述保持面的背面侧贴合的一面,且具黏着性的多个第一黏着构件是相互邻接配置的第一黏着层;具有用以安装在定盘上的一面,且具黏着性的多个第二黏着构件是相互邻接配置的第二黏着层;以及介于所述第一黏着层与所述第二黏着层间,一面是与所述第一黏着层的另一面贴合,另一面则与所述第二黏着层的另一面贴合的树脂基材,其中,所述树脂基材的所述一面及所述另一面分别为连续面。
2.如权利要求1所述的保持垫,其特征在于:所述第一黏着构件及所述第二黏着构件是仅以黏着剂所构成的无支撑型黏着胶带。
3.如权利要求2所述的保持垫,其特征在于:所述黏着剂是自丙烯酸系、胺基甲酸乙酯系、环氧系的黏着剂中所选择的至少一种。
4.如权利要求3所述的保持垫,其特征在于:在所述第二黏着层的一面侧,所述第二黏着构件的表面是分别以可剥离的离型膜所覆盖。
5.如权利要求4所述的保持垫,其特征在于:所述薄片材料及所述树脂基材为一致的形状,且是对向二边的边长为2000毫米以上的矩形或直径为2000毫米以上的圆形。
6.如权利要求5所述的保持垫,其特征在于:所述第一黏着层、所述树脂基材及所述第二黏着层是预先相互被贴合者。
7.如权利要求1所述的保持垫,其特征在于:所述多个第二黏着构件的边界部分与所述多个第一黏着构件的边界部分,是通过所述树脂基材,配置在与厚度方向交叉的方向上相同的位置。
8.如权利要求7所述的保持垫,其特征在于:在所述多个第一黏着构件的边界部分及所述多个第二黏着构件的边界部分所形成的间隙,皆被设定成2毫米以下。
9.如权利要求3所述的保持垫,其特征在于:构成所述第二黏着构件的所述黏着剂具有比构成所述第一黏着构件的所述黏着剂更大的接着力。
10.如权利要求1所述的保持垫,其特征在于:所述薄片材料是使用湿式成膜法所形成的聚胺基甲酸乙酯树脂制薄片。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105579195A (zh) * | 2013-09-30 | 2016-05-11 | 富士纺控股株式会社 | 保持垫 |
US20200144098A1 (en) * | 2018-11-05 | 2020-05-07 | Samsung Display Co., Ltd. | Substrate-supporting device and method of polishing substrate using the same |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5869264B2 (ja) * | 2011-09-02 | 2016-02-24 | 帝人コードレ株式会社 | 研磨用吸着パッド素材の製造方法 |
JP5992258B2 (ja) * | 2012-08-28 | 2016-09-14 | ニッタ・ハース株式会社 | 被研磨物保持材 |
JP6231185B2 (ja) * | 2013-03-19 | 2017-11-15 | エルジー・ケム・リミテッド | ポリウレタン支持パッドの製造方法 |
JP5785665B2 (ja) * | 2013-09-05 | 2015-09-30 | 積水化学工業株式会社 | 離型シート及びこれを用いたバッキングシート積層体 |
KR101857435B1 (ko) * | 2016-12-15 | 2018-05-15 | 한국생산기술연구원 | 다공성 구조체를 가진 정반 및 그것의 제작방법 |
JP7025863B2 (ja) * | 2017-08-29 | 2022-02-25 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 保持パッドを用いた研磨加工方法 |
JP2019055448A (ja) * | 2017-09-21 | 2019-04-11 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 保持パッド及びその製造方法 |
JP6987584B2 (ja) * | 2017-09-27 | 2022-01-05 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 保持パッドの製造に用いるための積層体及びその製造方法 |
JP7193287B2 (ja) * | 2018-09-28 | 2022-12-20 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 保持パッド及びその搬送又は保管方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1277572A (zh) * | 1997-11-06 | 2000-12-20 | 罗德尔控股公司 | 借研磨抛光***制造存储盘或半导体器件和抛光垫 |
JP2001353663A (ja) * | 2000-06-13 | 2001-12-25 | Torataro Yoshida | 家庭用包丁研ぎ、仕上用研摩板 |
JP2006294742A (ja) * | 2005-04-07 | 2006-10-26 | Nitto Denko Corp | 被着体の加工方法、該方法により得られる電子素子、及び該方法に用いる両面粘着シート |
JP2008055528A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Fujibo Holdings Inc | 保持パッド |
JP2009119533A (ja) * | 2007-11-12 | 2009-06-04 | Fujibo Holdings Inc | 保持パッド |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4693024B2 (ja) * | 2002-04-26 | 2011-06-01 | 東洋ゴム工業株式会社 | 研磨材 |
JP4455230B2 (ja) | 2004-08-30 | 2010-04-21 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 保持パッド及び保持パッドの製造方法 |
JP2009119553A (ja) * | 2007-11-14 | 2009-06-04 | Mitsubishi Materials Corp | 硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具 |
-
2009
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1277572A (zh) * | 1997-11-06 | 2000-12-20 | 罗德尔控股公司 | 借研磨抛光***制造存储盘或半导体器件和抛光垫 |
JP2001353663A (ja) * | 2000-06-13 | 2001-12-25 | Torataro Yoshida | 家庭用包丁研ぎ、仕上用研摩板 |
JP2006294742A (ja) * | 2005-04-07 | 2006-10-26 | Nitto Denko Corp | 被着体の加工方法、該方法により得られる電子素子、及び該方法に用いる両面粘着シート |
JP2008055528A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Fujibo Holdings Inc | 保持パッド |
JP2009119533A (ja) * | 2007-11-12 | 2009-06-04 | Fujibo Holdings Inc | 保持パッド |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105579195A (zh) * | 2013-09-30 | 2016-05-11 | 富士纺控股株式会社 | 保持垫 |
CN105579195B (zh) * | 2013-09-30 | 2018-06-15 | 富士纺控股株式会社 | 保持垫 |
US20200144098A1 (en) * | 2018-11-05 | 2020-05-07 | Samsung Display Co., Ltd. | Substrate-supporting device and method of polishing substrate using the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011005562A (ja) | 2011-01-13 |
JP5398376B2 (ja) | 2014-01-29 |
TWI450795B (zh) | 2014-09-01 |
WO2010150326A1 (ja) | 2010-12-29 |
TW201100202A (en) | 2011-01-01 |
KR20120109994A (ko) | 2012-10-09 |
KR101585706B1 (ko) | 2016-01-14 |
CN102802873B (zh) | 2015-11-25 |
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