JP2006062058A - 仕上げ研磨用研磨布及び研磨布の製造方法 - Google Patents
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- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 121
- 239000004744 fabric Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims abstract description 57
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims abstract description 57
- 239000006260 foam Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000002984 plastic foam Substances 0.000 claims description 66
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 63
- 229920002457 flexible plastic Polymers 0.000 claims description 27
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 16
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 claims description 14
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 claims description 12
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 abstract description 58
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 46
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 26
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 24
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 22
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 22
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 14
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 9
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 7
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 6
- 230000001112 coagulating effect Effects 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000007730 finishing process Methods 0.000 description 4
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 3
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 2
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 2
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
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Abstract
【解決手段】研磨パッドは、ポリウレタン樹脂で形成されたポリウレタンシート2を有している。ポリウレタンシート2には、研磨面P側の表面に、緻密な発泡が形成されたスキン層4が形成されている。ポリウレタンシート2は、研磨面Pの裏面Q側が、ポリウレタンシート2の厚さがほぼ一様となるようにバフ処理されている。バフ処理では、成膜時の成膜基材43を剥離後、研磨面Pの表面に圧接ローラ65の平坦な表面を圧接しながら、裏面Q側に出現した凹凸が除去される。バフ処理された裏面Q’側には、PET製フィルムの支持層が貼り合わされている。ポリウレタンシート2の厚さがほぼ一様で、スキン層4がそのまま残される。
【選択図】図4
Description
図1(A)に示すように、研磨パッド1は、ポリウレタン樹脂で形成された軟質プラスチックフォームとしてのポリウレタンシート2を有している。ポリウレタンシート2は、研磨面Pの反対面としての裏面(下面)側が、ポリウレタンシート2の厚さ(図1の縦方向の長さ)がほぼ一様となるようにバフ処理されている(詳細後述)。ポリウレタンシート2は、例えば、厚さの平均が約0.7mmの場合には、最大厚さと最小厚さとの差が約20μm以下となるように形成されている。このため、ポリウレタンシート2は、平坦な研磨面Pを有している。
研磨パッド1は、図2に示す各工程を経て製造される。まず、準備工程では、ポリウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂を溶解可能な水混和性の有機溶媒のN,N−ジメチルホルムアミド(以下、DMFと略記する。)及び添加剤を混合してポリウレタン樹脂を溶解させる。ポリウレタン樹脂には、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリカーボネート系等の樹脂から選択して用い、例えば、ポリウレタン樹脂が30%となるようにDMFに溶解させる。添加剤としては、発泡3の大きさや量(個数)を制御するため、カーボンブラック等の顔料、発泡を促進させる親水性活性剤及びポリウレタン樹脂の凝固再生を安定化させる疎水性活性剤等を用いることができる。得られた溶液を濾過することで凝集塊等を除去した後、真空下で脱泡してポリウレタン樹脂溶液を得る。
次に、本実施形態の研磨パッド1の作用等について説明する。
実施例1では、ポリウレタン樹脂としてポリエステルMDI(ジフェニルメタンジイソシアネート)ポリウレタン樹脂を用いた。このポリウレタン樹脂のDMF溶液100部に対して、粘度調整用のDMFの45部、顔料のカーボンブラックを30%含むDMF分散液の40部、疎水性活性剤の2部を混合してポリウレタン樹脂溶液45を調製した。ポリウレタン樹脂溶液45を塗布する際に塗布装置のクリアランスを0.9mmに設定した。洗浄工程での洗浄効果を高めるために凝固再生後の洗浄を温水で行った。得られたポリウレタンシート2の厚さのバラツキは、標準偏差σ(詳細後述)が0.008mmであった。下表1に示すように、ポリウレタンシート2のバフ処理量を0.14mmとしてバフ番手♯180のサンドペーパーを用いてバフ処理し実施例1の研磨パッド1を製造した。なお、ポリウレタンシート2の単位面積あたりの重量から換算するとポリウレタン樹脂溶液45の塗布量は、760g/m2(固形換算170g/m2)である。
表1に示すように、実施例2では、バフ処理量を0.22mmとする以外は実施例1と同様にして実施例2の研磨パッド1を製造した。
表1に示すように、比較例1では、バフ処理を行わない以外は実施例1と同様にして比較例1の研磨パッドを製造した。すなわち、比較例1は従来の研磨パッドである。
次に、各実施例及び比較例で作製したポリウレタンシート2について、バフ処理後の厚さ及び表面粗さを測定した。厚さの測定は、ダイヤルゲージ(最小目盛り0.01mm)を使用し加重100g/cm2をかけて測定した。縦1m×横1mのポリウレタンシート2を縦横10cmピッチで最小目盛りの10分の1(0.001mm)まで読み取り、厚さの平均値、標準偏差σ、及び、最大厚さと最小厚さとの差を範囲Rとして求めた。表面粗さの測定は、表面粗さ測定機(ミツトヨ社製、SURFTEST)を使用し、速度0.5mm/s、基準長さ0.8mmとして縦方向及び横方向についてそれぞれ5区間の粗さ曲線を各2回測定した。得られた粗さ曲線から、平均線から測定曲線までの偏差の絶対値の平均値を平均粗さRaとして求め、平均線から最も高い測定曲線までの高さと最も低い測定曲線までの深さとの合計を最大高さRyとして求めた。厚さ及び表面粗さの測定結果を下表2に示した。
Q 裏面(反対面)
1 研磨パッド(研磨布)
2 ポリウレタンシート(軟質プラスチックフォーム)
4 スキン層(発泡表面層)
6 PETフィルム(第2の支持層)
43 成膜基材
65 圧接ローラ
Claims (6)
- 軟質プラスチックフォームを有し該軟質プラスチックフォームの表面に発泡表面層が形成された仕上げ研磨用の研磨布において、前記軟質プラスチックフォームは、前記発泡表面層が形成された表面の反対面側が該軟質プラスチックフォームの厚さがほぼ一様となるようにバフ処理されていることを特徴とする研磨布。
- 軟質プラスチックフォームを有し該軟質プラスチックフォームの表面に発泡表面層が形成された仕上げ研磨用の研磨布において、前記軟質プラスチックフォームは、前記発泡表面層が形成された表面の反対面側に、前記軟質プラスチックフォームを支持する不織布又は織布の第1の支持層を有しており、前記第1の支持層の前記軟質プラスチックフォームと反対面側が該軟質プラスチックフォーム及び第1の支持層の全体の厚さがほぼ一様となるようにバフ処理されていることを特徴とする研磨布。
- 前記研磨布は、前記バフ処理された面側に、少なくとも可撓性フィルム、不織布及び織布から選択される1種であり、前記軟質プラスチックフォームを支持する第2の支持層を更に有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の研磨布。
- 前記軟質プラスチックフォームは、材質がポリウレタンであることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の研磨布。
- 軟質プラスチックフォームを有し該軟質プラスチックフォームの表面に発泡表面層が形成された仕上げ研磨用の研磨布の製造方法であって、
前記軟質プラスチックフォームを湿式成膜し、
前記軟質プラスチックフォームの発泡表面層が形成された表面に、平坦な表面を有する治具の該平坦な表面を当接させて前記発泡表面層が形成された表面の反対面側を該軟質プラスチックフォームの厚さがほぼ一様となるようにバフ処理する、
ステップを含むことを特徴とする製造方法。 - 前記軟質プラスチックフォームのバフ処理された面側に、少なくとも可撓性フィルム、不織布及び織布から選択される1種であり、前記軟質プラスチックフォームを支持する支持層を貼り合わせるステップを更に含むことを特徴とする請求項5に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004250471A JP4566660B2 (ja) | 2004-08-30 | 2004-08-30 | 仕上げ研磨用研磨布及び研磨布の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006062058A true JP2006062058A (ja) | 2006-03-09 |
JP4566660B2 JP4566660B2 (ja) | 2010-10-20 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004250471A Active JP4566660B2 (ja) | 2004-08-30 | 2004-08-30 | 仕上げ研磨用研磨布及び研磨布の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4566660B2 (ja) |
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JP2011011292A (ja) * | 2009-07-02 | 2011-01-20 | Fujibo Holdings Inc | 保持パッド |
JP2011051075A (ja) * | 2009-09-03 | 2011-03-17 | Fujibo Holdings Inc | 保持パッド |
JP2011148082A (ja) * | 2009-12-25 | 2011-08-04 | Filwel:Kk | 研磨布 |
WO2012144388A1 (ja) * | 2011-04-21 | 2012-10-26 | 東洋ゴム工業株式会社 | 積層研磨パッド |
JP2013066993A (ja) * | 2011-04-21 | 2013-04-18 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | 積層研磨パッド |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP4566660B2 (ja) | 2010-10-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
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