CN102402120A - 平版印刷版载体和预制感光版 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种平版印刷版载体和预制感光版，所述预制感光版设置有平版印刷版载体，所述平版印刷版载体包括铝板和设置在所述铝板上的铝的阳极氧化膜，并且具有微孔，所述微孔在所述阳极氧化膜中从与面向所述铝板的膜表面相反的膜表面在深度方向上延伸，该预制感光版产生表现出高耐污渍性并且其中抑制了导致图像遗失的凸出部的形成的平版印刷版。所述微孔的内部被由勃姆石构成的凸起至少部分地封孔，并且位于所述阳极氧化膜上的由勃姆石构成的凸起的平均高度小于15nm。

Description

平版印刷版载体和预制感光版
技术领域
本发明涉及平版印刷版载体和预制感光版。
背景技术
广泛使用的常规预制感光版包括用于平版印刷版的亲水性铝载体(以下称为″平版印刷版载体″)以及设置在载体上的亲油性感光层。将这样的预制感光版通过制版胶片(lith film)进行掩模曝光，然后进行用于溶解非图像区域以将它们移除的显影处理，以获得所需的平版印刷版。
近年来，计算机直接制版(computer-to-plate)(CTP)技术也被用于在没有制版胶片的情况下通过如下方法制备平版印刷版：根据数字化图像信息，使用高方向性的光如激光束进行扫描。
上述的平版印刷版载体是通过如下获得的：将铝板进行诸如砂目化处理和阳极氧化处理的这些处理。
在载体的制备中，阳极氧化处理之后可以进行使用水蒸汽的封孔处理，以提高各种性能。作为一个实例，JP 04-176690A公开了封孔处理在″在100℃和1个大气压的蒸汽饱和室中″中进行(第9页)。
JP 59-114100A公开了在阳极氧化处理之后在以下条件下进行使用水蒸汽的处理：温度为120℃，水蒸汽压力为700托，并且处理时间为10秒(第9页上的表2)。
发明内容
已知的是，如果使用通过将长时间储存的预制感光版进行曝光和显影处理而得到的平版印刷版进行印刷，可能产生圆形形状的图像遗失(也被称为″圆形消除(round clear)″)。
作为对这种图像遗失研究的结果，本发明人发现，可能在长时间储存的预制感光版的感光层中形成直径为约100μm的凸出部(bulge)，并且在预定要成为图像区域的曝光区域中形成的凸出部引起感光层的不充分聚合，从而在显影处理后带来非图像部分，即，使得产生图像遗失。
本发明人还研究了在感光层中形成的凸出部。已经发现，如图1A中所示，作为存在于平版印刷版载体中的金属铝(Al)101和阳极氧化膜102之间的界面处的杂质的碳化铝(Al4C3)103与通过阳极氧化膜102供给的水(H2O)反应，从而产生氢氧化铝(Al(OH)3)104，这由下式表示：Al4C3+12H2O→4(Al(OH)3)+3CH4。如图1B中所示，氢氧化铝104生长(体积增加)，从而穿过阳极氧化膜102并且以帐篷形方式推动感光层105，这样形成了凸出部。
根据本发明人的发现，即使碳化铝浓度被限制为低于10ppm，也可能形成直径为约100μm的凸出部并且使得产生约100μm的微观图像遗失。
会与碳化铝反应的水被认为源自在平版印刷版载体的制备中进行的砂目化处理、阳极氧化处理等之后的水漂洗处理。
穿过在可渗透水分的平版印刷版载体上形成的感光层或保护层的水分也被认为与碳化铝反应。
在这些情形下，本发明人最近研究了如JP 04-176690A和JP 59-114100A中公开的这些使用水蒸汽的处理对导致图像遗失的凸出部的影响。作为研究的结果，发现，如果将已经进行阳极氧化处理的铝板进行用于使板与约100℃的水蒸汽接触的处理，则没有抑制引起图像遗失的凸出部的形成，此外，在阳极氧化膜上产生由一水合氧化铝形式的勃姆石(Al2O3·H2O或AlO(OH))构成的凸起(protrusions)(以下也被称为″勃姆石凸起″)，从而导致更差的耐污渍性(resistance to scumming)。
本发明的一个目的是提供一种平版印刷版载体，其使得可以获得产生平版印刷版的预制感光版，所述平版印刷版表现出高耐污渍性，并且其中抑制了导致图像遗失的凸出部的形成。
为了达到上述目的，本发明人进行了勤勉的研究，并且发现，通过下列方法提高耐污渍性和抑制导致图像遗失的凸出部的形成：制备平版印刷版载体使得勃姆石凸起可以存在于微孔中，同时在阳极氧化膜上的勃姆石凸起的平均高度可以下降至低于某个值。
换言之，本发明提供如下(1)至(4)中所述的平版印刷版载体和预制感光版。
(1)一种平版印刷版载体，所述平版印刷版载体包括铝板和设置在所述铝板上的铝的阳极氧化膜，并且具有微孔，所述微孔在所述阳极氧化膜中从与面向所述铝板的膜表面相反的膜表面在深度方向上延伸，其中：
所述微孔的内部被由勃姆石构成的凸起至少部分地封孔，并且位于所述阳极氧化膜上的由勃姆石构成的凸起的平均高度小于15nm。
(2)根据(1)所述的平版印刷版载体，其中所述微孔的平均孔径(d)和用于将所述微孔进行封孔的所述凸起的平均高度(h)使得所述平均高度与所述平均孔径的比率(h/d)不小于0.2，所述用于将所述微孔进行封孔的所述凸起的平均高度(h)是在孔径方向上测量的。
(3)一种预制感光版，所述预制感光版包括根据(1)或(2)所述的平版印刷版载体和设置在所述载体上的感光层，其中所述感光层含有(A)增感染料、(B)聚合引发剂、(C)可聚合化合物和(D)粘合剂聚合物。
(4)根据(3)所述的预制感光版，所述预制感光版包括保护层，所述保护层设置在所述感光层上。
根据本发明，可以提供平版印刷版载体，其使得可以获得产生平版印刷版的预制感光版，所述平版印刷版表现出高耐污渍性，并且其中抑制了导致图像遗失的凸出部的形成。
附图说明
在附图中：
图1A和1B各自是常规的预制感光版的示意性横截面图，其中图1A显示在形成凸出部之前的状态，并且图1B显示在形成凸出部之后的状态；
图2是使用通过本发明的平版印刷版载体制备方法获得的平版印刷版载体的预制感光版的示意性横截面图；
图3是显示在本发明的平版印刷版载体制备方法中用于电化学砂目化处理的交流电的示例性波形的图；
图4是显示适合使用交流电并且在本发明的平版印刷版载体制备方法中进行的电化学砂目化处理的径向型槽(radial-type cell)的一个实例的示意图；
图5是显示在本发明的平版印刷版载体的制备过程中进行的机械砂目化处理中使用的刷擦砂目化方法的概念的示意图；和
图6是本发明的平版印刷版载体的一部分的示意性横截面图。
具体实施方式
本发明的平版印刷版载体是这样的平版印刷版载体，其包括铝板和设置在铝板上的铝的阳极氧化膜，并且具有微孔，所述微孔在阳极氧化膜中从与面向铝板的膜表面相反的膜表面在深度方向上延伸。在本发明载体中，所述微孔的内部被由勃姆石构成的凸起至少部分地封孔，并且位于阳极氧化膜上的由勃姆石构成的凸起的平均高度小于15nm。
首先，说明适合获得本发明的平版印刷版载体的制备平版印刷版载体的方法(以下也被称为″本发明的平版印刷版载体制备方法″)。
<平版印刷版载体制备方法>
本发明的平版印刷版载体制备方法是这样的平版印刷版载体制备方法，其中将铝板进行阳极氧化处理，以获得平版印刷版载体，并且该方法包括：进行阳极氧化处理的步骤，以及在阳极氧化处理步骤之后，使用水蒸汽进行处理的步骤，其中使铝板与温度为130至350℃的水蒸汽接触。
下面，首先描述在本发明的平版印刷版载体制备方法中使用的铝板，然后详细描述制备方法的各个步骤。
<铝板>
要使用的铝板由尺寸稳定的铝基金属组成，即，由铝或铝合金组成。从纯铝板、含有少量的一种或多种合金化元素的铝合金板和其上层压或蒸镀铝(铝合金)的塑料膜或纸中进行选择。还选择如JP 48-18327B中所述的铝片材与聚对苯二甲酸乙二醇酯膜结合的复合片材。
在下面的描述中，如上所述的由铝或铝合金组成的板统称为″铝板″。在铝合金板中所含的一种或多种合金化元素示例为硅、铁、锰、铜、镁、铬、锌、铋、镍和钛，并且合金化元素含量不高于10重量％。铝板适宜地为纯铝板，但是它可以含有痕量的异种元素，因为绝对纯的铝由于精炼技术而难以制备。这样的铝板可以由常规使用的已知材料，例如JIS A 1050、JIS A 1100、JIS A3103或JIS A 3005材料组成。
铝板另外含有碳化铝(Al4C3)作为不可避免的杂质。铝板的碳化铝浓度优选不高于15ppm，更优选不高于10ppm，因为在该范围内的浓度进一步抑制了导致图像遗失的凸出部的形成。尽管对碳化铝浓度的下限不强加特别的限制，但是通常的是，碳化铝浓度必须不低于1ppm。
碳化铝浓度通过气相色谱测定(遵循轻金属工业标准LIS-A07-1971)。
通常，铝板为宽约400至2000mm并且厚约0.1至0.6mm的料片(web)形式，并且在连续输送的同时进行处理。厚度可以根据印刷机的尺寸，印刷版的尺寸和用户的要求适当地选择。
<砂目化处理工序>
本发明的平版印刷版载体制备方法可以包括在上述铝板表面上进行砂目化处理如电化学砂目化处理的步骤。优选在如后所述的阳极氧化处理之前进行砂目化处理，但是，如果铝板已经具有有利的表面轮廓，则可以省略砂目化处理。
<电化学砂目化处理>
电化学砂目化处理适合实现具有优异的印刷性能的平版印刷版，因为通过该处理容易在铝板的表面上设置精细的凹凸形状(凹坑)。
电化学砂目化处理是使用直流电或交流电在主要含有硝酸或盐酸的水溶液中进行的。
对可用于本发明的电化学砂目化处理用水溶液进行描述。
主要含有硝酸的电化学砂目化处理用水溶液可以是用于使用直流电或交流电的常规电化学砂目化处理的硝酸基水溶液，即，含有硝酸根离子的硝酸化合物，如硝酸铝、硝酸钠和硝酸铵中的至少一种的1至100g/L硝酸水溶液；将含有氯离子的盐酸化合物，如氯化铝、氯化钠和氯化铵等以在1g/L至饱和量的范围内的量添加。
在硝酸基水溶液中，可以溶解在铝合金中所含的金属，如铁、铜、锰、镍、钛和镁，或硅。
优选的溶液可以通过如下制备：将氯化铝和/或硝酸铝添加至0.5至2重量％的硝酸水溶液中，使得所得到的溶液可以具有3至50g/L的铝离子浓度。
溶液温度优选为10至90℃，更优选为40至80℃。
主要含有盐酸的电化学砂目化处理用水溶液可以是用于使用直流电或交流电的常规电化学砂目化处理的盐酸基水溶液，即，含有硝酸根离子的硝酸化合物如硝酸铝、硝酸钠和硝酸铵中的至少一种的1至100g/L盐酸水溶液；将含有氯离子的盐酸化合物，如氯化铝、氯化钠和氯化铵等以在1g/L至饱和量的范围内的量添加。
在盐酸基水溶液中，可以溶解在铝合金中所含的金属，如铁、铜、锰、镍、钛和镁，或硅。
优选的溶液可以通过如下制备：将氯化铝和/或硝酸铝添加至0.5至2重量％的盐酸水溶液中，使得所得到的溶液可以具有3至50g/L的铝离子浓度。
溶液温度优选为10至60℃，更优选为20至50℃。还可以添加次氯酸。
用于电化学砂目化处理的AC电源波形可以是正弦形、方形、梯形或三角形波形。优选的频率落在0.1至250Hz的范围内。
图3是显示在本发明的平版印刷版载体制备方法中用于电化学砂目化处理的交流电的示例性波形的图。
在图3中，用于阳极反应的时间表示为″ta″，用于阴极反应的时间表示为″tc″，电流从0转变至峰值的时间表示为″tp″，在阳极循环侧的峰值的电流表示为″Ia″，而在阴极循环侧的峰值的电流表示为″Ic″。在所示的梯形波中，电流从0转变至峰值的时间tp优选为1至10毫秒。如果时间tp短于1毫秒，则在供电电路的阻抗下电流波形上升时需要大的电源电压，因此电源设备的成本上升。如果时间tp长于10毫秒，则由于对电解液中的痕量成分的易感性增加而难以实现均匀的砂目化。用于电化学砂目化的交流电的一个循环优选被限定使得在铝板发生的两个反应的时间，即用于阴极反应的时间tc与用于阳极反应的时间ta之间的比率tc/ta可以是1至20，在铝板的阴极反应时间的电量Qc与阳极反应时间的电量Qa的比率Qc/Qa可以是0.3至20，并且用于阳极反应的时间ta可以是5至1000毫秒。更优选2.5至15的比率tc/ta以及2.5至15的比率Qc/Qa。在其阳极和阴极循环侧的梯形波电流的峰值Ia和Ic中的任何一个，电流密度优选为10至200A/dm2。比率Ic/Ia优选为0.3至20。在电化学砂目化结束时，用于在铝板上的阳极反应的总电量优选为25至1000C/dm2。
对于使用交流电进行的电化学砂目化，可以使用在表面处理中使用的垂直、平坦或径向型的已知电解槽，其中如JP 5-195300A中所述的这样的径向型槽是特别优选的。
如图4中所示的设备可以用于采用交流电的电化学砂目化。
图4是显示适合使用交流电并且在本发明的平版印刷版载体制备方法中进行的电化学砂目化处理的径向型槽的一个实例的示意图。
图4显示了主电解槽50，AC电源51，径向鼓辊52，主电极53a和53b，溶液进料入口54，电解液55，狭缝56，溶液通道57，辅助阳极58，辅助阳极槽60和铝板W。如果使用2个以上的电解槽，则用于电解的条件可以随槽或可以不随槽而变化。
将铝板W卷绕在浸渍于主电解槽50的电解液中的径向鼓辊52上，并且在输送的过程中借助于与AC电源51连接的主电极53a和53b进行电解处理。将电解液55从溶液供给入口54经由狭缝56供给至径向鼓辊52与主电极53a和53b之间的溶液通道57中。然后将如在主电解槽50中处理的铝板W在辅助阳极槽60中进行另一电解处理。在辅助阳极槽60中，辅助阳极58设置成与铝板W相对，并且这样供给电解液55以使其流过辅助阳极58和铝板W之间的空间。
电化学砂目化处理也可以通过如下进行：使直流电通过铝板和与板相对的电极之间，以进行电化学砂目化。
在砂目化处理中，电化学砂目化处理可以作为单独的处理或与机械砂目化处理和/或化学砂目化处理组合而进行。
如果与机械砂目化处理组合，则电化学砂目化处理优选在机械砂目化处理之后进行。
<机械砂目化处理>
通常进行机械砂目化处理以对铝板的表面赋予0.35至1.0μm的表面粗糙度Ra。
机械砂目化处理在条件方面不受特别限制，而可以通过如JP 50-40047B中所述的下列方法进行。也可以通过使用浮石悬浮液的刷擦砂目化处理或经由转写(transcription)的砂目化处理而进行机械砂目化。
优选地，机械砂目化处理使用毛直径为0.2至1.61mm的旋转尼龙辊刷和供给至铝板表面上的磨料浆液进行。
可使用任何已知的磨料，但是硅砂，石英，氢氧化铝或它们的混合物是优选的。浆液的比重优选为1.05至1.3。
不用说，机械砂目化也可以如下实现：使用线刷喷射磨料浆液，或转写设置在用于辊压到铝板上的辊的表面上的凹凸形状。
<化学砂目化处理>
化学砂目化处理也不受特别限制，而可以常规地进行。
优选在机械砂目化处理之后进行如下所述的化学蚀刻处理。在机械砂目化处理之后进行化学蚀刻处理以平滑化在铝板表面设置的凹凸形状的边缘，使得可以在印刷中防止墨水在边缘被俘获，因此可以提高平版印刷版的耐污渍性，并且除去了残留在板表面的不期望物质如磨料粒子。
已知的化学蚀刻处理包括使用酸或碱的处理，其中使用碱溶液的化学蚀刻处理(以下也被称为″碱蚀刻处理″)在蚀刻效率方面是特别优异的。
用于上述碱溶液的碱试剂不受特别限制，并且优选实例包括苛性钠，苛性钾，硅酸钠，碳酸钠，铝酸钠和葡糖酸钠。
碱试剂可以含有铝离子。碱溶液的浓度优选不低于0.01重量％，更优选不低于3重量％，而优选不高于30重量％，更优选不高于25重量％。
碱溶液的温度优选为室温以上，更优选为30℃以上，而优选不高于80℃，更优选不高于75℃。
蚀刻量优选为不低于0.1g/m2，更优选为不低于1g/m2，而优选不高于20g/m2，更优选为不高于10g/m2。
处理时间优选为2秒至5分钟，这取决于蚀刻量，其中出于提高生产率的观点，2至10秒的处理时间是更优选的。
如果在机械砂目化处理之后进行碱蚀刻处理，则优选用低温酸溶液进行化学蚀刻处理(以下也被称为″除污处理″)以除去由碱蚀刻处理产生的产物。
用于上述酸溶液的酸不受特别限制，但是示例为硫酸，硝酸和盐酸。酸溶液的浓度优选为1至50重量％。酸溶液的温度优选为20至80℃。如果酸溶液的浓度和温度分别落入上述范围内，则其中使用本发明的平版印刷版载体的平版印刷版将对点状污渍具有大大提高的耐受性。
在如上所述的砂目化处理中，电化学砂目化处理在机械砂目化处理和需要时进行的化学蚀刻处理之后进行。即使电化学砂目化处理在没有在前的机械砂目化处理的情况下进行，使用含有苛性钠等的碱溶液的化学蚀刻处理也可以在电化学砂目化处理之前进行。在这样的情况下，可以除去在铝板表面附近存在的杂质等。
优选在电化学砂目化处理之后进行如下所述的化学蚀刻处理。在进行电化学砂目化处理时，污迹或金属间化合物存在于铝板表面上。在电化学砂目化处理之后的化学蚀刻处理中，对于污迹的有效去除特别有效的是，首先进行使用碱溶液的化学蚀刻处理(碱蚀刻处理)。使用碱溶液的化学蚀刻处理优选在以下条件下进行：处理温度为20至80℃，且处理时间为1至60秒。碱溶液优选地含有铝离子。
在电化学砂目化处理之后进行使用碱溶液的化学蚀刻处理后，优选进行使用低温酸溶液的化学蚀刻处理(除污处理)，以除去由使用碱溶液的化学砂目化处理产生的产物。
即使在电化学砂目化处理之后没有碱蚀刻处理之后，对于污迹的有效去除也优选的是进行除污处理。
对如上所述的化学蚀刻处理的方面没有特别限制，而示例性方法包括浸渍，喷淋和涂覆。
<阳极氧化处理工序>
在阳极氧化处理中，通过使用通过板的直流电或交流电对铝板进行阳极氧化，在铝板表面(包括经过上述砂目化处理的铝板)上形成氧化铝膜形式的阳极氧化膜，该氧化铝膜具有在深度方向(膜厚度方向)上延伸的微孔。
适合形成阳极氧化膜的各种电解质可用于阳极氧化处理。通常，使用硫酸，盐酸，草酸，铬酸或这些酸的混合物。根据适于使用的电解质来选择电解质浓度。
用于阳极氧化处理的条件随使用的电解质而变化。典型地优选的条件是：1至80重量％的电解液浓度；5至70℃的溶液温度；5至60A/dm2的电流密度；1至100V的电压；以及10秒至5分钟的电解时间。
所形成的阳极氧化膜的量优选为1.0至5.0g/m2，更优选为1.5至4.0g/m2。在该范围内的量可以实现良好的印刷寿命(press life)和平版印刷版的非图像区域的高耐擦划性。
<水蒸汽处理工序>
在上述阳极氧化处理之后的水蒸汽处理中，使用水蒸汽处理如上所述的铝板(包括经过上述砂目化处理和/或上述阳极氧化处理的铝板)，即，使铝板与水蒸汽接触。
用于水蒸汽处理的水蒸汽的温度为130至350℃。
存在于铝板表面附近的碳化铝(Al4C3)通过与温度在上述范围内的水蒸汽(H2O)接触而变化为氢氧化铝(Al(OH)3)，并且这样生长(体积增大)。
因此，据推测，如图2中所示，沿着已经生长的氢氧化铝104形成后述的感光层105。因为当形成感光层105时氢氧化铝104已经完成生长(体积增大)，并且即使供给水分时也不再生长，因此这样形成的感光层105将不会随时间被推动。这样抑制了导致图像遗失的凸出部的形成。
如前所述，在阳极氧化处理之后进行的使用100℃或120℃的水蒸汽的处理在阳极氧化膜上产生勃姆石凸起。
相反，如上的水蒸汽处理抑制了勃姆石凸起的产生，导致耐污渍性的提高。
尽管如果经过使用温度超过350℃的水蒸汽的处理，则由于退火效应而降低如前所述的铝板的强度，但是经过上述使用温度不高于350℃的水蒸汽的水蒸汽处理的铝板保持高的强度。
进行水蒸汽处理的压力优选为0.3至1atm，更优选为0.5至1atm。
随着用于水蒸汽处理的处理时间越长，可以更有效地抑制导致图像遗失的凸出部的形成，而在阳极氧化膜上产生勃姆石凸起可以更有效地被抑制，并且随着处理时间越短，所产生的凸起的平均高度可以越小。鉴于这些趋势，处理时间优选为1至60秒。
用于水蒸汽处理的水蒸汽的温度优选为150至350℃，更优选180至350℃，还更优选200至350℃，因为在这些温度实现了更适宜的效果。
使铝板与水蒸汽接触的方法不受特别限制。可以使铝板通过充满由沸水产生的水蒸汽的箱子，或可以通过蒸汽喷嘴将水蒸汽直接喷射到铝板上。
<亲水化处理工序>
本发明的平版印刷版载体制备方法可以在进行如上所述的阳极氧化处理和水蒸汽处理的步骤之后包括进行亲水化处理的步骤。在亲水化处理中，将经过上述阳极氧化处理和水蒸汽处理的铝板进一步进行亲水化。
例如，如JP 2005-254638A的第[0109]至[0114]段中公开的已知方法可用于亲水化处理，而优选通过以下方法进行亲水化：浸渍在碱金属硅酸盐如硅酸钠和硅酸钾的水溶液中；涂覆亲水性乙烯基聚合物或亲水性化合物以形成亲水性下涂层；等。
使用碱金属硅酸盐如硅酸钠和硅酸钾的水溶液的亲水化处理可以在通过如美国专利2,714,066和3,181,461中所述的下列方法和程序进行。
使用亲水性下涂层的亲水化处理可以通过如JP 59-101651 A和JP60-149491 A中所述的下列方法和程序进行。
<预涂覆处理工序>
本发明的平版印刷版载体制备方法可以在阳极氧化处理和水蒸汽处理之间包括进行水预涂覆处理的步骤。
在水预涂覆处理(以下称为″预涂覆处理″)中，在水蒸汽处理之前将水涂覆至阳极氧化膜，所述阳极氧化膜形成于经过阳极氧化处理的铝板的表面上。
如下所述，在阳极氧化膜表面上的冷凝水被认为通过用于水蒸汽处理的130至350℃的水蒸汽(所谓过热蒸汽)的干燥效应而移除。处于更高温度的过热蒸汽具有更大的干燥效应，即，使过热蒸汽太热将导致不仅在阳极氧化膜表面上的水，而且在阳极氧化膜微孔中的水被移除，这可以抑制在微孔中的勃姆石凸起的产生。在这样的情况下，不太有效地抑制导致图像遗失的凸出部的形成(抑制凸出部形成的机制将在下面描述)。
在这样的情形下，进行预涂覆处理使得可以在水蒸汽处理之前加入足够量的水以获得更适宜的水蒸汽处理效果。
当使用更高温度的水蒸汽进行水蒸汽处理时，预涂覆处理是更有效的。考虑到这一点，用于水蒸汽处理的水蒸汽的温度优选为170至350℃。
尽管水蒸汽处理在进行更久的时间时实现更适宜的效果，但是预涂覆处理也可以使得获得用于水蒸汽处理的处理时间减少的类似效果。
如果进行预涂覆处理，则优选在将水涂覆到其上之前将经过阳极氧化处理的铝板干燥。用于干燥的方法没有特别限制。
所涂覆的水的量为例如0.5至10cc/m2，其中1至6cc/m2的量是优选的，因为实现了更适宜的效果。
所涂覆的水优选为纯水，并且其温度没有特别限制。
水涂覆方法可以是通常的湿法涂覆方法，具体示例为浸涂，辊涂，棒涂，刮涂，气刀涂覆，缝模式涂覆，喷涂和滑涂，其中出于涂覆一致性的观点，接触型辊涂是特别优选的。
如果使用辊涂，则所用的辊的表面用材料优选为橡胶，以免阳极氧化膜由于摩擦而受损，其中可用橡胶的实例包括乙烯-丙烯-二烯(EPDM)橡胶，硅橡胶，聚氨酯橡胶，聚乙烯醇(PVA)和FORTEM(由MEIJI RUBBER &CHEMICAL CO.，LTD.生产)。
在特别是使用其表面由橡胶制成的辊的辊涂中，所涂覆的水的量可以通过改变接触辊的直径，橡胶硬度，接触宽度，接触压力，橡胶层厚度等而控制。
用于辊涂的辊的表面可以设置有与铝板输送方向平行的凹槽、铝板输送方向的对角线上的凹槽、格状凹槽、蜂窝式凹槽等(如在使用通常的辊涂的情况下)，以将水以跨过铝板宽度的量更均匀地涂覆。
<平版印刷版载体>
本发明的平版印刷版载体是通过本发明的平版印刷版载体制备方法获得的平版印刷版载体。
下面基于图6详述本发明的平版印刷版载体。图6是本发明的平版印刷版载体的一部分的示意性横截面图。
如图6中所示，在本发明的平版印刷版载体中，采用勃姆石凸起107对微孔106的内部至少部分地进行封孔。更具体而言：通过氧化铝和水之间的水合反应由微孔106的内壁产生勃姆石凸起107，从而在微孔106的孔径方向(在图6中以″d″所示)上生长。在图6中，如在孔径(d)的方向上测量的勃姆石凸起107的高度以″h″表示。
在微孔106被勃姆石凸起107封孔的情况下，水分几乎不穿过阳极氧化膜102。
换言之，假设存在于铝101表面附近的碳化铝103(参见图1A、1B和2)未生长为氢氧化铝104(参见同样的附图)并且保持完整，后来供给的水分几乎不到达碳化铝103。
结果，防止碳化铝103生长为氢氧化铝104，从而随时间推动感光层105，这进一步抑制了导致图像遗失的凸起的形成。
在勃姆石凸起107的平均高度(h)与微孔106的平均孔径(d)之间的比率的较大值(h/d)表明微孔106更显著地被勃姆石凸起107封孔，并且更有效地抑制了导致图像遗失的凸出部的形成。
考虑到上述情况，比率(h/d)优选为不小于0.2，更优选不小于0.6，还更优选不小于0.8。
在这方面，″平均孔径″是指单个微孔106的孔径(d)的平均值，并且″平均高度″是指多个用来封孔被讨论的微孔106的勃姆石凸起107的高度(h)的平均值。
微孔106的平均孔径(d)和勃姆石凸起107的平均高度(h)可以通过如下测得：在扫描电子显微镜(SEM)以250,000x的放大倍率观察以任何方式(切割，使用夹具的弯曲)制备的横截面，并且分析所得到的横截面图像。
同样在阳极氧化膜102上，引起污渍的勃姆石凸起(未显示)可以通过氧化铝和水之间的水合反应产生，并且在高度方向上(在图6的绘制平面中向上)生长。
然而，在本发明的平版印刷版载体中，任选地在阳极氧化膜上产生的勃姆石凸起具有低于15nm的更小平均高度，此外，其本身的生成的量较小。换言之，由于污渍的原因勃姆石凸起在阳极氧化膜102上的产生在本发明中受到抑制，因此获得了表现出高耐污渍性的平版印刷版。
为了进一步提高耐污渍性，优选在阳极氧化膜102上的勃姆石凸起的平均高度不高于6nm，其中最优选阳极氧化膜102上基本上没有勃姆石凸起。
在阳极氧化膜102上的勃姆石凸起的平均高度可以使用SEM以与勃姆石凸起107的平均高度(h)相同的方式确定。
本发明的平版印刷版载体的阳极氧化膜102上的勃姆石凸起具有小于15nm的更小的平均高度的原因可以解释如下。
在如上所述开始水蒸汽处理时，即，一旦铝板进入进行水蒸汽处理的区域(例如箱子)，就发生冷凝，原因在于铝板和水蒸汽之间的温差。在阳极氧化膜102的表面上的冷凝水被认为通过用于水蒸汽处理的温度不低于130℃的水蒸汽(所谓的过热蒸汽)的干燥效应而去除，因此抑制了在阳极氧化膜102上的勃姆石凸起的产生。
据认为，从阳极氧化膜102的表面而不是从微孔106内部去除了冷凝水，这表示如上所述在微孔106中产生了勃姆石凸起107的原因。
<预制感光版>
本发明的平版印刷版载体可以通过如下制备成预制感光版：在载体上设置图像记录层如感光层和热敏层。对图像记录层不强加特别限制，并且实例包括常规的阳图制版型、常规的阴图制版型、感光聚合物型、热阳图制版型、热阴图制版型和可机上显影型，非显影型的那些，其在JP 2003-1956A的第[0042]至[0198]段中有描述。
本发明的预制感光版优选地具有设置在本发明的平版印刷版载体上的感光层，其中所述感光层含有(A)增感染料，(B)聚合引发剂，(C)可聚合化合物，和(D)粘合剂聚合物，更优选具有设置在感光层上的保护层。
下面，详细描述本发明的预制感光版。
<感光层>
(A)增感染料
本发明的预制感光版的感光层含有响应于来自用于曝光的光源的光的波长的增感染料。增感染料可以在350至450nm的范围内的波长区中具有吸收最大值，在此情况下，示例为部花青染料，苯并吡喃类，香豆素类，芳族酮类，以及蒽类。如JP 2008-46528A的第[0019]至[0056]段等中所述的增感染料被提及作为可用增感染料的具体实例。
适当地规定关于增感染料的使用的细节，如要使用的染料的结构，使用方式，即，是使用单一染料还是使用两种以上染料的组合，以及染料的添加量。
在具有较小厚度的平版印刷版的情况下，优选规定添加的增感染料的量使得感光层的吸光度可以是0.1至1.5，优选0.25至1。通常，添加的增感染料占感光层中的全部固体的优选0.05至30重量％，更优选0.1至20重量％，并且最优选0.2至10重量％。
(B)聚合引发剂
可用的聚合引发剂包括三卤代甲基化合物，羰基化合物，有机过氧化物，偶氮化合物，叠氮化合物，金属茂化合物，六芳基联咪唑化合物，有机硼化合物，二砜化合物，肟酯化合物和盐化合物。其中，优选使用选自六芳基联咪唑化合物，
Figure BDA0000077412240000142
盐，三卤代甲基化合物和金属茂化合物中的至少一种，其中特别优选六芳基联咪唑化合物。
如JP 2008-46528 A的第[0060]至[0067]段等中所述的聚合引发剂被提及作为可用聚合引发剂的具体实例。
适用于感光层的聚合引发剂可以任选地为单一引发剂，或两种以上引发剂的组合。
在感光层中使用的聚合引发剂占感光层中的全部固体的优选0.01至20重量％，更优选0.1至15重量％，还更优选1.0至10重量％。
(C)可聚合化合物
在感光层中所含的可聚合化合物为具有至少一个烯键式不饱和双键的可加聚化合物，并且选自具有至少一个，优选两个末端烯键式不饱和键的化合物。这样的化合物在本发明的技术领域中是广泛已知的，并且可用而没有任何特别的限制。它们具有以下化学形式，包括单体，预聚物，即，二聚物，三聚物或低聚物，或其混合物和其共聚物的形式。示例性单体包括不饱和羧酸(例如，丙烯酸，甲基丙烯酸，衣康酸，巴豆酸，异巴豆酸，马来酸)和其酯和酰胺，其中适当地使用不饱和羧酸和脂族多元醇化合物的酯，以及不饱和羧酸和脂族多价胺化合物的酰胺。还适当地使用具有羟基或亲核取代基例如氨基和巯基的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能或多官能异氰酸酯或环氧化合物的加成反应产物，以及上述酯或酰胺与单官能或多官能羧酸的脱水缩合反应产物。此外，适合的是具有亲电取代基例如异氰酸酯基和环氧基的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能或多官能醇，胺或硫醇的加成反应产物，以及具有可消去取代基，例如，卤素原子和甲苯磺酰氧基的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能或多官能醇，胺或硫醇的取代反应产物。还可以使用的是其各自的上述不饱和羧酸被不饱和膦酸，苯乙烯，乙烯基醚等代替的化合物。
如JP 2008-46528 A的第[0070]至[0078]段等中所述的可聚合化合物被提及作为可用的可聚合化合物的具体实例。
根据适合用于最终预制感光版的性能设计，规定关于可聚合化合物的使用的细节，如要使用的化合物的结构，使用方式，即，是使用单一化合物还是使用化合物的组合，以及化合物的添加量。
在感光层中使用的可聚合化合物占感光层中的全部固体的优选5至80重量％，更优选25至75重量％。可聚合化合物可以任选地为单一化合物，或两种以上化合物的组合。
(D)粘合剂聚合物
使用可溶于或可溶胀于碱性水中的有机高聚物作为粘合剂聚合物，因为作为成膜剂包含在感光层中的粘合剂聚合物应当同时溶解于碱性显影剂溶液中。作为可溶于或可溶胀于碱性水中的聚合物的粘合剂聚合物在使用碱性显影剂显影的过程中被除去，并且根据需要通过刷擦加压。
要使用的粘合剂聚合物是具有由下式(1)至(3)表示的结构单元的粘合剂聚合物。
[化学式1]
Figure BDA0000077412240000161
在式中，R1和R2各自独立地为氢原子或碳数为1至6的烷基；R3是氢原子、碳数为1至6的烷基，或被羟基、卤素原子、氨基、甲氧基或羧基取代的碳数为1至6的烷基；X是选自-COOH、-CO-W1-L1-COOH和-SO3H中的官能团，其中W1是氧原子，硫原子或-NH-基团，并且L1是二价有机基团；Y为-CO-O-CH2-CH＝CH2基团或-CO-W2-L2-O-CO-CR4＝CH2基团，其中W2为氧原子、硫原子或-NH-基团，L2为二价有机基团，并且R4为氢原子或碳数为1至6的烷基；W3为氧原子、硫原子或-NH-基团；且R5为碳数为1至18的烷基、碳数为5至20的具有脂环族结构的烷基、或碳数为6至20的具有芳环的基团。
如JP 2008-46528 A的第[0085]至[0090]段等中所述的粘合剂聚合物被提及作为上述粘合剂聚合物的具体实例。
优选地，要使用的粘合剂聚合物具有适合的分子量和酸值，其中特别优选重均分子量为5000至300,000且酸值为0.5至200的高聚物。酸值是指中和1g样品中所含的游离脂肪酸所需的氢氧化钾的毫克数。更优选的酸值落入5.0至180的范围内，其中还更优选10至150的酸值。
如分别由式(1)和(3)表示的结构单元的总量与如由式(2)表示的具有烯键式不饱和双键的结构单元的量的重量比优选为0.1至3.0，更优选0.1至2.0，最优选0.1至1.0。
如由式(1)至(3)表示的结构单元可以以任何比率混合在一起，只要所论述的比率满足落入如上所述它们各自的范围内的分子量、酸值和双键量即可。只要分子量、酸值和双键量被保持在如上所述它们各自的范围内，就可以增加除由式(1)至(3)表示的那些结构单元以外的其它结构单元。
在感光层中可以以任何量包含粘合剂聚合物，而考虑到所形成的图像的强度等，粘合剂聚合物含量通常被规定为不高于90重量％，优选10至90重量％，更优选为30至80重量％。
还可以使用除上述那些以外的可溶于或可溶胀于碱性水中的其它聚合物，或者通过与其它聚合物混合来使用如上所述的聚合物。
尽管可溶于或可溶胀于碱性水中的其它有机高聚物示例为各种聚合物，但是，如果使用水进行显影，则可以使用水溶性有机高聚物。水溶性有机高聚物的实例包括在侧链上具有羧酸基的加聚物，如在JP 2008-46528A第[0093]段中所述的加聚物。
为了确保感光层的显影性，优选要使用的粘合剂聚合物具有适合的分子量和酸值，其中特别优选重均分子量为5000至300,000且酸值为20至200的高聚物。
(E)巯基化合物
优选使感光层含有具有巯基的巯基化合物，因为该化合物对于提高灵敏性是有效的。如JP 2008-46528 A的第[0096]至[0102]段，JP 2008-89788 A的第[0078]至[0086]段等中所述的巯基化合物被提及作为可用巯基化合物的具体实例。
所添加的巯基化合物通常占感光层中的全部成分的0.5至20重量％，优选1至15重量％，更优选为1至10重量％。
(F)其它添加剂
适宜的是，添加少量热聚合抑制剂以在预制感光版的制备或储存中防止在感光层中不期望的热聚合。适合的热聚合抑制剂包括在JP 2008-46528A的第[0103]段中所述的那些。
所添加的热聚合抑制剂优选占感光层的总固体成分的约0.01％至约5重量％。
可以根据需要添加山嵛酸、山嵛酰胺或其它高级脂肪酸衍生物，以使其排他地存在于在涂布后干燥的感光层的表面上，以防止氧抑制聚合。所添加的高级脂肪酸衍生物等优选占感光层的总固体成分的约0.5％至约10重量％。
着色剂也可以被添加以将感光层着色。示例性的着色剂包括在JP2008-46528A第[0103]段中所述的那些。所添加的着色剂优选占感光层中的全部固体的约0.5％至约20重量％。另外，可以添加诸如无机填充剂和增塑剂的添加剂以提高固化层的物理性能，其中后者示例为邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二甲酯和磷酸三甲苯酯。所添加的用于提高物理性能的添加剂优选占感光层中的全部固体的不高于10重量％。
如果使用在蓝至紫外光谱区特别是350至450nm中发射的激光进行曝光，则优选添加黄色染料或颜料。适合的黄色染料和颜料包括如JP 2008-89788A第[0119]段中所述的染料。
<感光层的形成>
在用于形成感光层的涂布工序中，将如上所述的组分溶解于溶剂中，以制备涂布溶液。要使用的溶剂可以是有机溶剂，其中具体实例包括在JP2008-46528A第[0104]段中所述的那些。溶剂可以任选地是单一溶剂或溶剂混合物。
涂布溶液的固体浓度通常为1至50重量％。
可以将表面活性剂添加至涂布溶液中以改善涂布表面的质量。
涂膜形式的感光层的量(以干燥后的重量的形式被测量)通常为约0.1g至约10g/m2，其中0.3至5g/m2的量是优选的，并且0.5至3g/m2的量是更优选的。
<保护层>
如上所述提及的保护层优选含有水溶性树脂。保护层也用作阻氧层，该阻氧层用于阻挡在曝光中抑制聚合反应的氧的扩散侵入。如在1个大气压的压力和25℃测量的保护层的氧渗透率A优选落入1.0≤A≤20(mL/m2·天)的范围内。在低于1.0(mL/m2·天)的极低氧渗透率A的情况下，可能在未曝光的预制感光版的制备或储存中发生不期望的聚合反应，或可能在图像式曝光中发生不期望的起雾(fogging)或图像线的增厚。另一方面，超过20(mL/m2·天)的太高氧渗透率A可能降低灵敏度。更优选在1.5至12(mL/m2·天)的范围内的氧渗透率A，并且还更优选在2.0至8.0(mL/m2·天)的范围内的那些氧渗透率A。除具有落入如上所述的范围内的氧渗透率以外，所需的保护层对于用于曝光的光基本上是透明的，具有与感光层良好的附着性，并且可以在曝光后的显影工序中容易被移除。如美国专利3,458,311和JP 55-49729B中详细描述的，已经付出了努力来获得这样的保护层。
例如，优选将较高结晶性的水溶性高分子化合物用于保护层，其中其具体实例包括在JP 2008-46528A的第[0108]段中所述的那些，其可以单独或组合使用。其中，使用聚乙烯醇作为主要组分对于获得优异的基本性能如阻氧性能和显影去除性的保护层是最有效的。
要用于保护层的聚乙烯醇可以部分地被酯、醚或缩醛取代，只要它含有赋予其所需的阻氧性能和水溶解性的未取代的乙烯醇单元即可。还可以的是，聚乙烯醇的一部分含有除乙烯醇以外的其它单体作为可共聚组分。典型的聚乙烯醇可以具有71至100摩尔％的水解率，并且含有300至2400个聚合重复单元。聚乙烯醇的具体实例包括在JP 2008-46528A的第[0109]段中所述的那些，其可以单独地或组合使用。在一个优选的实施方案中，聚乙烯醇在保护层中的含量为20至95重量％，其中30至90重量％的含量是更优选的。
出于阻氧性能、显影去除性等的观点，聚乙烯吡咯烷酮或改性聚乙烯吡咯烷酮适合用作与聚乙烯醇混合的组分。聚乙烯吡咯烷酮或改性聚乙烯吡咯烷酮在保护层中的含量为3.5至80重量％，优选10至60重量％，更优选为15至30重量％。
保护层的组分(即，无论是否为PVA，均使用给定的添加剂等作为组分)，涂膜形式保护层等的量是不仅考虑到阻氧性能和显影去除性而且考虑到引起起雾的风险、附着性和耐擦划性而确定的。通常，当使用的PVA具有更高的水解率(在保护层中的未取代的乙烯醇单元的含量更高)并且保护层具有更大的厚度时，实现了更高的阻氧性能，因此实现了更适宜的灵敏度。要使用的高分子化合物如上述聚乙烯醇(PVA)可以具有2000至10,000,000的分子量，其中适当地使用分子量为20,000至3,000,000的化合物。
可以以等于所用的高分子化合物的量的几个重量百分比的量添加甘油，一缩二丙二醇等作为保护层的另一成分，以使层变得柔韧。还可以以等于所用的高分子化合物的量的几个重量百分比的量添加阴离子表面活性剂如烷基硫酸钠和烷基磺酸钠；两性表面活性剂如烷基氨基羧酸盐和烷基氨基二羧酸盐；或非离子表面活性剂如聚氧乙烯烷基苯基醚。保护层适宜地具有0.5至5μm的厚度，其中1至3μm的厚度是特别适合的。
出于处理预制感光版的观点，对感光层的附着性和耐擦划性也是很重要的。如果在亲油性感光层上形成由水溶性聚合物制成的亲水性层，则该层容易由于差的附着性而彼此分离，因此侵入分离层之间的氧抑制了聚合，从而引起诸如感光层的不充分固化的缺陷。已经提出了各种建议以提高两个层之间的附着性。例如，在序列号为292,501和44,563的美国专利申请中描述了：将丙烯酸类乳液、水不溶性乙烯吡咯烷酮-乙酸乙烯酯共聚物等以20至60重量％的量混合到主要由聚乙烯醇组成的亲水性聚合物中，并且将所得的混合物涂覆至感光层上，以在其上形成另一个层，从而实现在层间的充分粘附。用于形成如上所述这样的保护层的涂布方法详细描述于例如美国专利3,458,311或JP 55-49729B中。
以干重量计，涂膜形式的保护层的量通常为0.1g至10g/m2，优选0.5至5g/m2。
<下涂层>
本发明的预制感光版可以具有下涂层，该下涂层设置在本发明的平版印刷版载体和上述感光层之间。
如JP 2006-259536A第[0023]至[0026]段、JP 2008-46528A第[0124]至[0158]段中所述的化合物等可用于下涂层，其中如JP 2006-259536A第[0024]和[0025]段中所述的有机下涂层是适用的。
涂膜形式的下涂层的量优选为2至1000mg/m2，更优选5至200mg/m2，最优选10至50mg/m2。尽管各种技术适用于在载体上形成下涂层，但是对于实现落入上述范围内的下涂层量最优选的是下列技术，其中制备用于形成下涂层的溶液，涂覆在载体上，然后干燥。
<背涂层>
在将载体进行表面处理或形成下涂层之后，可以根据需要将背涂层设置在载体的背侧。
背涂层适宜地示例为由金属氧化物组成的涂层，该金属氧化物是通过如JP 5-45885A中公开的有机高分子化合物或如JP 6-35174A中公开的有机或无机金属化合物的水解和缩聚而得到。特别优选使用硅的烷氧基化合物，如Si(OCH3)4，Si(OC2H5)4，Si(OC3H7)4和Si(OC4H9)4，因为这样的化合物成本低并且容易获得。
<制版>
平版印刷版通过将本发明的预制感光版进行图像式曝光和显影处理而制备。在显影处理中，可以使用显影剂溶液进行显影。
<显影剂溶液>
要使用的显影剂溶液不受特别限制，其中可以适当地使用含有无机碱盐和表面活性剂且通常具有11.0至12.7的pH的水溶液。
要使用的无机碱盐适当地选择，并且示例为如JP 2008-46528A第[0162]段中所述的无机碱盐，其可以单独地或以它们中的两种以上组合使用。
如果使用硅酸盐，则通过改变作为硅酸盐成分的氧化硅SiO2和碱性氧化物M2O(M为碱金属或铵基)之间的混合比率以及它们的浓度，容易控制显影剂溶液的显影能力。如上所述的碱性水溶液在氧化硅SiO2和碱性氧化物M2O之间的混合比率(SiO2/M2O；摩尔比)优选为0.5至3.0，更优选1.0至2.0。所添加的SiO2和M2O优选占碱性水溶液的1至10重量％，更优选3至8重量％，最优选4至7重量％。在这样的浓度下，不发生显影或处理能力的下降，不产生沉淀物或晶体，此外，当舍弃废液时在中和过程中未观察到胶凝，即，进行废液处置没有困难。
有机碱试剂可以另外用于碱浓度的精细调节或感光层溶解性的提高。可用的有机碱试剂包括在JP 2008-46528A第[0164]段中所述的那些，其可以单独地或以它们中的两种以上组合使用。
要使用的表面活性剂适当地选择，并且示例为如JP 2008-46528A第[0165]段中所述的表面活性剂。特别优选具有聚氧化烯醚基的非离子表面活性剂。
如JP 2008-46528 A第[0167]至[0171]段中所述的各自具有聚氧化烯醚基的非离子表面活性剂是适用的。
表面活性剂可以任选为单一表面活性剂或表面活性剂的组合。
显影剂溶液的pH通常为11.0至12.7，优选11.5至12.5，以免图像区或曝光区在显影过程中受损。
显影剂溶液的电导率优选为3至30mS/cm，更优选为5至20mS/cm。
<曝光和显影处理>
可以通过如下在作为载体的铝板的表面上形成图像：使用来自常规光源如碳弧灯，高压汞蒸气灯，氙灯，金属卤化物灯，荧光灯，钨灯，卤素灯，氦-镉激光器，氩离子激光器，FD-YAG激光器，氦-氖激光器和半导体激光器(350至600nm)的光化光线将本发明的预制感光版进行图像式曝光，然后使用显影剂溶液显影处理。用于曝光的光源优选为在350至600nm发射的激光器。
在图像式曝光和显影之间，可以在50至140℃的温度进行加热1秒至5分钟以提高感光层固化的效率。在落入上述范围内的温度加热对于提高感光层固化的效率是有效的，而没有由未曝光区中的暗聚合引起的层残留物。
如果将保护层设置在本发明的预制感光版的感光层上，则保护层可以以已知的方式去除，即，在去除感光层的未曝光区的同时用显影剂溶液去除，或备选地，在通过显影去除感光层的未曝光区之前用水或热水去除。在后一种情况下，可以在水或热水中包含如JP 10-10754A中公开的杀菌剂等或如JP8-278636A中公开的有机溶剂等。
用于对本发明的预制感光版进行的显影处理的显影剂溶液优选含有具有聚氧化烯醚基的非离子表面活性剂。
如上所述使用显影剂溶液的显影在0至60℃，优选约15至40℃的温度通过下列惯用程序对本发明的预制感光版进行：例如，将曝光后的预制感光版浸渍在显影剂溶液中，并且由此用刷子擦洗。
如果在自动处理机上进行显影处理，则显影剂溶液的处理能力随着生产量增加而降低。处理能力可以通过添加显影剂溶液或用新鲜溶液代替显影剂溶液而恢复。在显影处理之后，通常将预制感光版进行使用漂洗水、含有表面活性剂等的漂洗溶液或含有***胶、淀粉衍生物等的脱敏剂溶液(如JP54-8002A、JP 55-115045A、JP 59-58431A等中所公开)的后处理。在本发明中，可以将各种处理组合用于对预制感光版进行的后处理。
可以通过基于如JP 2000-89478A中公开的方法将其进行后曝光处理，或加热处理如燃烧而提高由如上所述的处理得到的印刷版的印刷寿命。
将这样制备的平版印刷版安装在胶印机上以产生大量的印刷纸张。
实施例
(实施例1至43，以及比较例1至3)
本发明通过下列实施例进行说明，而本发明绝不限于所述实施例。
<平版印刷版载体的制备>
<铝板>
将具有不同碳化铝浓度的质量1S的铝合金的0.24mm厚的板各自进行如下所述的砂目化处理(A)至(C)中的一个，其中相关处理如表1中显示所见，然后进行阳极氧化处理、任选的预涂覆处理和水蒸汽处理，以制备平版印刷版载体。
通过气相色谱(遵循轻金属工业标准LIS-A07-1971)确定如表1中所述的碳化铝浓度。在处理工序之间，必不可少地进行使用水的漂洗处理，并且在每次漂洗处理结束时使用夹持辊去除液体。
<砂目化处理(A)>
(A-a)碱蚀刻处理
通过如下将铝板进行蚀刻处理：使用苛性钠浓度为26重量％，铝离子浓度为6.5重量％且温度为70℃的苛性钠水溶液从喷射管线喷射板。在处理之后，使用用于漂洗的水喷射铝板。从要进行电化学砂目化处理的板表面溶解掉的铝的量为5g/m2。
(A-b)在酸水溶液中的除污处理
然后在硝酸水溶液中进行除污处理。用于除污处理的硝酸水溶液为来自如电化学砂目化的下一步骤中使用的硝酸水溶液的废物。溶液温度为35℃。使用除污溶液通过喷射进行除污3秒。
(A-c)电化学砂目化处理
通过使用60Hz的交流电压在含硝酸的溶液中电解，对铝板连续地进行电化学砂目化处理。用于处理的电解液通过如下制备：将硝酸铝添加到35℃的10.4g/L硝酸水溶液以使溶液具有4.5g/L的铝离子浓度。AC电源波形显示在图3中，即，将梯形波形的交流电在以下条件下用于电化学砂目化处理：电流从0转变至峰值的时间tp为0.8毫秒且占空率为1∶1。使用碳电极作为对电极，且铁氧体用于辅助阳极。电解槽如图4中所示。在电流峰值处的电流密度为30A/dm2，且来自电源的电流以5％的比率分流至辅助阳极。当铝板作为阳极时，以总电量计的电量为250C/dm2。在该处理之后，使用用于漂洗的水喷射铝板。
(A-d)碱蚀刻处理
通过如下将这样获得的铝板进行蚀刻处理：使用苛性钠浓度为5重量％，铝离子浓度为0.5重量％且温度为50℃的苛性钠水溶液从喷射管线喷射板。在处理之后，使用用于漂洗的水喷射铝板。溶解掉的铝的量为0.2g/m2。
(A-e)在酸水溶液中的除污处理
使用在阳极氧化处理工序中产生的废液(其中溶解有5g/L铝离子的170g/L硫酸水溶液)，在35℃的溶液温度进行除污处理4秒。通过喷射除污溶液进行除污3秒。
<砂目化处理(B)>
(B-a)碱蚀刻处理
通过如下将铝板进行蚀刻处理：使用苛性钠浓度为26重量％，铝离子浓度为6.5重量％且温度为70℃的苛性钠水溶液从喷射管线喷射板。在处理之后，使用用于漂洗的水喷射铝板。从经过电化学砂目化处理的板表面溶解掉的铝的量为1.0g/m2。
(B-b)在酸水溶液中的除污处理(第一除污处理)
然后在酸水溶液中进行除污处理。用于除污处理的酸水溶液为150g/L硫酸水溶液。溶液温度为30℃。通过使用除污溶液喷射进行除污3秒。在处理之后，使用水漂洗铝板。
(B-c)在盐酸水溶液中的电化学砂目化处理
随后，使用电解液对铝板进行使用交流电的电解砂目化处理，该电解液具有14g/L的盐酸浓度、13g/L的铝离子浓度和3g/L的硫酸浓度。电解液的温度为30℃。通过添加氯化铝而调节铝离子浓度。
所使用的交流电具有正弦波形，其中正和负波形彼此对称，并且频率为50Hz，其中在交流电的一个循环中用于阳极反应的时间和用于阴极反应的时间是这样的：在它们之间的比率为1∶1，并且在交流波形峰值的电流密度为75A/dm2。以用于铝板上的阳极反应的总电量计，电量为450C/dm2。电解通过施加以4秒的时间间隔4次施加125C/dm2的电力而进行。使用碳电极作为与铝板相对的对电极。在处理之后，使用水漂洗铝板。
(B-d)碱蚀刻处理
通过如下将电化学砂目化处理后的铝板进行蚀刻处理：使用苛性钠浓度为5重量％，铝离子浓度为0.5重量％且温度为35℃的苛性钠水溶液从喷射管线喷射板。从经过电化学砂目化处理的板表面溶解掉的铝的量为0.1g/m2。在处理之后，使用水漂洗铝板。
(B-e)在酸水溶液中的除污处理
最后，在酸水溶液中进行除污处理。用于除污处理的酸水溶液为在阳极氧化处理工序中产生的废液(其中溶解有5.0g/L铝离子的170g/L硫酸水溶液)。溶液温度为30℃。通过使用除污溶液进行除污3秒。
<砂目化处理(C)>
(C-a)机械砂目化处理(刷擦砂目化)
使用如图5中所示这样的设备，在将浮石悬浮液(比重，1.1g/cm2)供给至板表面作为磨料浆液的同时，对铝板进行使用旋转刷毛的机械砂目化处理。图5显示了铝板1，辊刷(即，其上设置有刷毛的辊)2和4，磨料浆液3和载辊5、6、7和8。
在所进行的机械砂目化处理中，磨料具有30μm的中值直径，刷子数量为4个，并且刷子转速为250rpm。用于刷毛的材料为尼龙6.10，毛直径为0.3mm，并且毛长度为50mm。对于每一个刷子，毛密集地设置在形成于直径为300mm的不锈钢圆筒中的孔内。在各自的辊刷下的2个载辊(各自的直径为200mm)之间的距离为300mm。将刷毛按压到铝板上，使得用于旋转驱动辊刷的电动机的负荷相对于在毛对铝板按压之前增加10kW。刷子在与移动铝板的方向相同的方向上旋转。
(C-b)碱蚀刻处理
通过如下将这样获得的铝板进行蚀刻处理：使用苛性钠浓度为26重量％，铝离子浓度为6.5重量％且温度为70℃的苛性钠水溶液从喷射管线喷射板。在处理之后，使用用于漂洗的水喷射铝板。溶解掉的铝的量为10g/m2。
(C-c)在酸水溶液中的除污处理
然后在硝酸水溶液中进行除污处理。用于除污处理的硝酸水溶液为来自如电化学砂目化的下一步骤中使用的硝酸水溶液的废物。溶液温度为35℃。使用除污溶液通过喷射进行除污3秒。
(C-d)电化学砂目化处理
通过使用60Hz的交流电压在含硝酸的溶液中电解，对铝板连续地进行电化学砂目化处理。用于处理的电解液通过如下制备：将硝酸铝添加到35℃的10.4g/L硝酸水溶液以使溶液具有4.5g/L的铝离子浓度。AC电源波形显示在图3中，即，将梯形波形的交流电在以下条件下用于电化学砂目化处理：电流从0转变至峰值的时间tp为0.8毫秒且占空率为1∶1。使用碳电极作为对电极，且铁氧体用于辅助阳极。电解槽如图4中所示。在电流峰值处的电流密度为30A/dm2，且来自电源的电流以5％的比率分流至辅助阳极。当铝板作为阳极时，以总电量计的电量为185C/dm2。在该处理之后，使用用于漂洗的水喷射铝板。
(C-e)碱蚀刻处理
通过如下将这样得到的铝板进行蚀刻处理：使用苛性钠浓度为5重量％，铝离子浓度为0.5重量％且温度为50℃的苛性钠水溶液从喷射管线喷射板。在处理之后，使用用于漂洗的水喷射铝板。溶解掉的铝的量为0.5g/m2。
(C-f)在酸水溶液中的除污处理。
然后在硫酸水溶液中进行除污处理。用于除污处理的硫酸水溶液具有170g/L的硫酸浓度和5g/L的铝离子浓度。溶液温度为30℃。使用除污溶液通过喷射进行除污3秒。
(C-g)电化学砂目化处理
通过使用60Hz的交流电压在含盐酸的溶液中电解，对铝板连续地进行电化学砂目化处理。用于处理的电解液通过如下制备：将氯化铝添加到35℃的6.2g/L盐酸水溶液以使溶液具有4.5g/L的铝离子浓度。AC电源波形显示在图3中，即，将梯形波形的交流电在以下条件下用于电化学砂目化处理：电流从0转变至峰值的时间tp为0.8毫秒且占空率为1∶1。使用碳电极作为对电极，且铁氧体用于辅助阳极。电解槽如图4中所示。
在电流峰值处的电流密度为25A/dm2，且当铝板作为阳极时，以总电量计，在盐酸水溶液中用于电解的电量为63C/dm2。在该处理之后，使用用于漂洗的水喷射铝板。
(C-h)碱蚀刻处理
通过如下将这样得到的铝板进行蚀刻处理：使用苛性钠浓度为5重量％，铝离子浓度为0.5重量％且温度为50℃的苛性钠水溶液从喷射管线喷射板。在处理之后，使用用于漂洗的水喷射铝板。溶解掉的铝的量为0.1g/m2。
(C-i)在酸水溶液中的除污处理
使用在阳极氧化处理工序中产生的废液(其中溶解有5g/L铝离子的170g/L硫酸水溶液)，在35℃的溶液温度进行除污处理4秒。通过使用除污溶液喷射进行除污3秒。
<阳极氧化处理>
然后将经过砂目化处理(A)至(C)之一的铝板在20重量％的33℃硫酸水溶液中进行阳极氧化处理50秒。使用位于铝板的砂目化表面上的阴极以5A/dm2的电流密度进行阳极氧化。所形成的阳极氧化膜的量为2.6g/m2。
<预涂覆处理>
预涂覆处理任选地在阳极氧化处理之后进行。水的预涂覆通过辊涂进行。更具体而言：将经过阳极氧化处理的铝板浸渍在浸渍槽中的纯水中，然后使其通过辊以调节所涂覆的水的量。所涂覆的水的量如在下面所示的表1的栏″涂覆量[cc/m2]″中所述。在上述栏中的符号″-″表示未进行预涂覆处理。
所涂覆的水的量，即涂覆量通过改变所用辊的条件(接触辊直径，橡胶硬度，接触宽度，接触压力和橡胶层厚度)而调节。在涂覆量和所用辊的条件之间的关系如下面所示的表2中所述。
<水蒸汽处理>
使用处理条件对上述阳极氧化处理(或预涂覆处理)后的铝板进行水蒸汽处理，所述处理条件即为如稍后所示的表1中所述那样规定的水蒸汽温度(在″温度[℃]″)栏中)，处理时间(在″时间[s]″栏中)和压力条件(在″压力[atm]栏中″)。在该处理中，将铝板引入到充满水蒸汽的箱子中以使板与蒸汽接触。在箱子中测量水蒸汽的温度和压力。如果用于水蒸汽处理的″温度″、″时间″和″压力″在表中全部以″-″描述，则表示未对相关铝板进行水蒸汽处理。
<平均高度>
在扫描电子显微镜(SEM；型号S-4800，由Hitachi，Ltd.生产)下以250,000x的放大倍率观察如上所述制备的每一个平版印刷版载体的横截面，并且分析所得到的SEM图像以测得在阳极氧化膜上的勃姆石凸起的平均高度[nm]。结果显示在表1中。
<比率(h/d)>
分析以与上述类似的方式获得的SEM图像以得到在阳极氧化膜中形成的微孔的平均孔径(d)和勃姆石凸起将所论及的微孔进行封孔的平均高度(h)，以确定平均高度(h)与平均孔径(d)的比率(h/d)。结果显示在表1中。
如表1中所述的比率(h/d)是在SEM图像中通过从上至下观察阳极氧化膜的横截面而观察到的任何5个微孔的比率(h/d)的平均值。
<预制感光版的制备>
<下涂层>
使用棒涂机将其组成比率如下所示的用于形成下涂层的溶液涂覆至每一个载体上，使得所涂覆的下涂层的量以干重量计可以是2mg/m2，然后在80℃干燥20秒。
用于形成下涂层的溶液的组成比率：
聚合物(P1)    0.3重量份
纯水          60.0重量份
甲醇          939.7重量份
[化学式2]
Figure BDA0000077412240000281
<预制感光版的制备>
使用棒涂机将其组成比率如下所示的感光组合物(1)涂覆至每一个载体上，然后在90℃干燥1分钟以形成感光层。干燥后的感光层的量为1.35g/m2。
感光组合物(1)的组成比率：
如下的可聚合化合物(1)(PLEX 6661-O，由Evonik Degussa Japan Co.，Ltd.生产)                        1.69重量份
如下的粘合剂聚合物(1)    1.87重量份
如下的增感染料(1)        0.13重量份
如下的聚合引发剂(1)
                         0.46重量份
如下的链转移剂(1)        0.44重量份
ε-酞菁颜料的分散体
                         1.70重量份
(15重量份颜料；10重量份分散剂(重均分子量为60,000共聚摩尔比为83/17的甲基丙烯酸烯丙酯-甲基丙烯酸共聚物)；15重量份环己酮)
热聚合抑制剂(N-亚硝基苯基羟基胺铝盐)    0.012重量份
黄色颜料分散体                          0.5重量份
(15重量份Novoperm Yellow H2G(由Clariant Corp.生产)，黄色颜料；10重量份分散剂(重均分子量为60,000且共聚摩尔比为83/17的甲基丙烯酸烯丙酯-甲基丙烯酸共聚物)；15重量份环己酮)
如下的氟化学表面活性剂(1)(重均分子量，10,000)    0.03重量份
甲基乙基酮                                       27.0重量份
丙二醇单甲醚                                     26.7重量份
[化学式3]
Figure BDA0000077412240000301
可聚合化合物(1)
[化学式4]
Figure BDA0000077412240000302
粘合剂聚合物(1)
[化学式5]
Figure BDA0000077412240000303
增感染料(1)
[化学式6]
Figure BDA0000077412240000304
聚合引发剂(1)
[化学式7]
Figure BDA0000077412240000311
链转移剂(1)
[化学式8]
Figure BDA0000077412240000312
氟化学表面活性剂(1)
在感光层上，使用棒涂机涂覆其组成比率如下所示的用于涂覆保护层的溶液，使得所涂覆的保护层的量以干重量计可以是2.5g/m2，然后在120℃干燥1分钟以获得预制感光版。
用于涂覆保护层的溶液的组成比率：
PVA 105(皂化率为98摩尔％的聚乙烯醇，由KURARAY CO.，LTD.生产)1.80重量份
PVP-K30(聚乙烯吡咯烷酮，由BASF Corp.生产)
                    0.40重量份
EMALEX 710(由Nihon Emulsion Co.，Ltd.生产)
                    0.03重量份
Luviskol VA 64W(由BASF Corp.生产)
                    0.04重量份
如上的聚合物(1)     0.05重量份
纯水                36.5重量份
<评价>
<凸出部>
将这样获得的预制感光版留置30天以在版表面形成凸出部(各自具有约100μm的直径)。然后将版在CTP机Vx9600(光源波长，405nm)(FUJIFILMCorp.的产品)进行图像式曝光，进行调节使得用于曝光的光量可以为0.05mJ/cm2。在曝光后的30秒内，在由Glunz & Jensen Corp.生产的PS处理机InterPlater 850 HD上进行显影，其中将其组成比率如下所示的碱性显影剂溶液装入处理机，并且在使用前预热至25℃。
碱性显影剂溶液的组成比率：
在显影后，通过对至少400cm2的区域中观察到的图像遗失(铝中的缺陷)进行计数，间接地关于凸出部的数量评价预制感光版。评价结果显示在表1中。对于评价，使用下列标准。
A：0至2处图像遗失/400cm2；
A′：3至5处图像遗失/400cm2；
B：6至8处图像遗失/400cm2；
B′：9至11处图像遗失/400cm2；
C：12至14处图像遗失/400cm2；
C′：15至17处图像遗失/400cm2；
D：18至20处图像遗失/400cm2；
E：21至25处图像遗失/400cm2；
F：26至30处图像遗失/400cm2；
G：不少于31处图像遗失/400cm2。
优选凸出部的数量减少，因为图像遗失相应地减少。出于实用的观点，预制感光版的凸出部数量不应评价为等级F或G。
<印刷寿命>
将这样获得的预制感光版在CTP机Vx9600(光源波长，405nm)(FUJIFILM Corp.的产品)上进行图像式曝光，进行调节使得用于曝光的光量可以为0.05mJ/cm2。在曝光后的30秒内，在由Glunz & Jensen Corp.生产的PS处理机InterPlater 850 HD上进行显影，其中将其组成比率如下所示的碱性显影剂溶液装入处理机，并且在使用前预热至25℃。使用这样制备的平版印刷版，在由Komori Corporation生产的Lithrone印刷机上用可获自DICCorporation的黑色墨水DIC-GEOS(N)进行印刷。通过视觉检查，按照在实心图像的密度开始下降时已经由印刷版制备的印刷纸张的数量评价的平版印刷版的印刷寿命。评价结果显示在表1中。
碱性显影剂溶液的组成比率：
Figure BDA0000077412240000331
<耐污渍性>
将所得的预制感光版在CTP机Vx9600(光源波长，405nm)(FUJIFILMCorp.的产品)进行图像式曝光，进行调节使得用于曝光的光量可以为0.05mJ/cm2。在曝光后的30秒内，在由Glunz & Jensen Corp.生产的PS处理机InterPlater 850 HD上进行显影，其中将其组成比率如下所示的碱性显影剂溶液装入处理机，并且在使用前预热至25℃。应当注意，要曝光和显影的预制感光版的灵敏度是优异的。
碱性显影剂溶液组成比率：
Figure BDA0000077412240000332
使用这样制备的平版印刷版，在印刷机Mitsubishi DAIYA F2(由Mitsubishi Heavy Industries，Ltd.生产)上用红色墨水DIC-GEOS(s)进行印刷。在得到10,000张已印刷纸之后，通过视觉检查橡皮布(blanket)上的污迹，评价平版印刷版的耐污渍性。评价结果显示在表1中。对于评价，使用下列标准。
A：在橡皮布上几乎没有污迹。
B：橡皮布确实有污迹，但是程度是可接受的。
C：橡皮布有污迹，并且已印刷纸张明显被弄脏。
出于实用的观点，平版印刷版不应被评价为等级C。
[表1]
Figure BDA0000077412240000341
Figure BDA0000077412240000361
表4
表2
Figure BDA0000077412240000371
从如表1中所示的结果看出，在实施例1至43的每一个中，有效地抑制了导致图像遗失的凸出部的形成，并且耐污渍性是优异的。
其中在阳极氧化膜上的勃姆石凸起的平均高度小于6nm的实施例，与其中平均高度不小于6nm但小于15nm的实施例相比，具有更高的耐污渍性。
在实施例1至43中，在阳极氧化膜上的勃姆石凸起的平均高度可以随着用于水蒸汽处理的水蒸汽的温度越高或处理时间越短而降低。
当彼此比较各自的水蒸汽温度为130℃的实施例1至3时，随着处理时间越长，比率(h/d)越大，因此更有效地抑制了凸出部的形成。该趋势适用于各自的水蒸汽温度为150℃的实施例4至9，各自的水蒸汽温度为170℃的实施例18至20，各自的水蒸汽温度为200℃的实施例10至12以及各自的水蒸汽温度为350℃的实施例17，21和22。
当相互比较碳化铝浓度彼此不同的实施例6、13和14时，在具有最低的碳化铝浓度(2ppm)的实施例6中，最有效地抑制了导致图像遗失的凸出部的形成。
当相互比较砂目化处理条件彼此不同的实施例6、15和16时，在它们的任何一个中，有效地抑制了导致图像遗失的凸出部的形成，并且耐污渍性是优异的，而与砂目化处理条件无关。
当相互比较各自用于水蒸汽处理的处理时间为5秒的实施例2，6，11和17时，随着水蒸汽温度越高，比率(h/d)越大，因此更有效地抑制了导致图像遗失的凸出部的形成。
通过在实施例1至22和实施例23至43之间进行比较，发现，比率(h/d)受到预涂覆处理的影响。换言之，比率值(h/d)可能增加，从而通过进行预涂覆处理导致对凸出部形成的更有效抑制。
作为一个实例：当将其中用于水蒸汽处理的水蒸汽具有130℃的温度的实施例2与具有130℃的相同水蒸汽温度的实施例23至27比较时，比率(h/d)可能更大，从而在采用预涂覆处理的实施例23至27中，与没有预涂覆处理的实施例2相比，导致对凸出部形成的更有效抑制，即使相同地规定了其它条件。
这样的趋势也从以下比较的结果看到：各自的水蒸汽温度为170℃的实施例19和实施例28至31之间的比较，各自的水蒸汽温度为200℃并且用于水蒸汽处理的时间为1秒的实施例10和实施例32至35之间的比较，各自的水蒸汽温度为200℃并且用于水蒸汽处理的时间为5秒的实施例11和实施例36至39之间的比较，以及各自的水蒸汽温度为350℃的实施例21和实施例40至43之间的比较。
另外，发现，比率(h/d)也受到在预涂覆处理中涂覆的水的量的影响。
对于实施例23至27，例如，与在没有预涂覆处理的实施例2中的比率(h/d)相比，在以0.5cc/m2的水进行预涂覆处理的实施例23中的比率(h/d)没有增加，并且与实施例2中的比率(h/d)相比，在以10cc/m2的水进行预涂覆处理的实施例27中的比率(h/d)略微降低。另一方面，在以1至6cc/m2的水进行预涂覆处理的实施例24至26中的每一个的比率(h/d)大于在实施例2中的比率(h/d)。
当用于水蒸汽处理的水蒸汽的温度更高时，预涂覆处理是更有效的。当水蒸汽温度为例如130℃时，在采用预涂覆处理的实施例25中的比率(h/d)为没有预涂覆处理的实施例2中的比率(h/d)的约1.2倍，而当水蒸汽温度为170℃时，在采用预涂覆处理的实施例29中的比率(h/d)为没有预涂覆处理的实施例19中的比率(h/d)的约1.3倍。
相反，在其中未进行水蒸汽处理的比较例1中，未以任何方式抑制导致图像遗失的凸出部的形成。
在其中水蒸汽处理在低于130℃的温度进行的比较例2和3中，在阳极氧化膜上的勃姆石凸起的平均高度超过15nm，因此耐污渍性差。另外，比率(h/d)小于0.2，即，没有如此有效地抑制了导致图像遗失的凸出部的形成。

Claims (6)

1.一种平版印刷版载体，所述平版印刷版载体包括铝板和设置在所述铝板上的铝的阳极氧化膜，并且具有微孔，所述微孔在所述阳极氧化膜中从与面向所述铝板的膜表面相反的膜表面在深度方向上延伸，其中：
所述微孔的内部被由勃姆石构成的凸起至少部分地封孔，并且位于所述阳极氧化膜上的由勃姆石构成的凸起的平均高度小于15nm。
2.根据权利要求1所述的平版印刷版载体，其中所述微孔的平均孔径(d)和用于将所述微孔进行封孔的所述凸起的平均高度(h)使得所述平均高度与所述平均孔径的比率(h/d)不小于0.2，所述用于将所述微孔进行封孔的所述凸起的平均高度(h)是在孔径方向上测量的。
3.一种预制感光版，所述预制感光版包括根据权利要求1所述的平版印刷版载体和设置在所述载体上的感光层，其中所述感光层含有(A)增感染料、(B)聚合引发剂、(C)可聚合化合物和(D)粘合剂聚合物。
4.一种预制感光版，所述预制感光版包括根据权利要求2所述的平版印刷版载体和设置在所述载体上的感光层，其中所述感光层含有(A)增感染料、(B)聚合引发剂、(C)可聚合化合物和(D)粘合剂聚合物。
5.根据权利要求3所述的预制感光版，所述预制感光版包括保护层，所述保护层设置在所述感光层上。
6.根据权利要求4所述的预制感光版，所述预制感光版包括保护层，所述保护层设置在所述感光层上。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104487261A (zh) * 2012-07-27 2015-04-01 富士胶片株式会社 平版印刷版用支撑体及其制造方法、以及平版印刷版原版

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104066591A (zh) * 2012-01-24 2014-09-24 富士胶片株式会社 平版印刷版用支承体、平版印刷版用支承体的制造方法、以及平版印刷版原版
JP6562500B2 (ja) * 2015-03-31 2019-08-21 地方独立行政法人山口県産業技術センター 表面処理アルミニウム材とその製造方法
WO2018094715A1 (en) * 2016-11-28 2018-05-31 Shenzhen Zhongchuang Green Plate Technology Ltd. Treatment methods for printing plates
WO2019087516A1 (ja) 2017-10-31 2019-05-09 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法、印刷方法およびアルミニウム支持体の製造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0485958A1 (en) * 1990-11-13 1992-05-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Process for preparing a substrate for a lithographic plate
JP2000255177A (ja) * 1999-03-09 2000-09-19 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性平版印刷版
CN1326861A (zh) * 2000-05-15 2001-12-19 富士胶片株式会社 平版印刷印版的支持体和感光性树脂平版
US20020182538A1 (en) * 2000-12-20 2002-12-05 Tadabumi Tomita Lithographic printing plate precursor
CN1577086A (zh) * 2003-07-23 2005-02-09 富士胶片株式会社 光聚合型平版印刷版
EP1557283A1 (en) * 2004-01-20 2005-07-27 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Printing plate material and its developing process

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE540601A (zh) 1950-12-06
US3181461A (en) 1963-05-23 1965-05-04 Howard A Fromson Photographic plate
US3458311A (en) 1966-06-27 1969-07-29 Du Pont Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers
BE757124A (fr) 1969-10-09 1971-04-06 Kalle Ag Plaques d'impression a plat composee de feuilles
JPS5040047B2 (zh) 1971-09-06 1975-12-22
JPS5549729B2 (zh) 1973-02-07 1980-12-13
JPS548002A (en) 1977-06-17 1979-01-22 Fuji Photo Film Co Ltd Method of developing flat printing plate
JPS55115045A (en) 1979-02-27 1980-09-04 Fuji Photo Film Co Ltd Printing plate preparation
JPS5958431A (ja) 1982-09-29 1984-04-04 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 平版印刷版の製版方法
US4456370A (en) 1982-11-08 1984-06-26 Xerox Corporation Charge control system
JPS59101651A (ja) 1982-12-02 1984-06-12 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPS59114100A (ja) 1982-12-21 1984-06-30 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版の製造方法
JPH0694234B2 (ja) 1984-01-17 1994-11-24 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2739395B2 (ja) 1991-08-19 1998-04-15 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JPH05195300A (ja) 1992-01-23 1993-08-03 Fuji Photo Film Co Ltd 電解処理装置
JP2907643B2 (ja) 1992-07-16 1999-06-21 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版およびその処理方法
JPH08278636A (ja) 1995-04-06 1996-10-22 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性感光性平版印刷版の処理方法
JPH1010754A (ja) 1996-06-26 1998-01-16 Konica Corp 感光性平版印刷版の処理方法
JP2000089478A (ja) 1998-09-14 2000-03-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性平版印刷版の製版方法
JP3761478B2 (ja) 2001-03-15 2006-03-29 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用支持体および平版印刷版原版
JP2005254638A (ja) 2004-03-12 2005-09-22 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の製造方法
JP2006001183A (ja) * 2004-06-18 2006-01-05 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版および平版印刷方法
JP4406617B2 (ja) 2005-03-18 2010-02-03 富士フイルム株式会社 感光性組成物および平版印刷版原版
JP4714650B2 (ja) 2006-08-21 2011-06-29 富士フイルム株式会社 光重合型感光性平版印刷版原版
JP2008089788A (ja) 2006-09-29 2008-04-17 Fujifilm Corp 光重合型感光性平版印刷版原版

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0485958A1 (en) * 1990-11-13 1992-05-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Process for preparing a substrate for a lithographic plate
JP2000255177A (ja) * 1999-03-09 2000-09-19 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性平版印刷版
CN1326861A (zh) * 2000-05-15 2001-12-19 富士胶片株式会社 平版印刷印版的支持体和感光性树脂平版
US20020182538A1 (en) * 2000-12-20 2002-12-05 Tadabumi Tomita Lithographic printing plate precursor
CN1577086A (zh) * 2003-07-23 2005-02-09 富士胶片株式会社 光聚合型平版印刷版
EP1557283A1 (en) * 2004-01-20 2005-07-27 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Printing plate material and its developing process

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104487261A (zh) * 2012-07-27 2015-04-01 富士胶片株式会社 平版印刷版用支撑体及其制造方法、以及平版印刷版原版
CN104487261B (zh) * 2012-07-27 2016-08-24 富士胶片株式会社 平版印刷版用支撑体及其制造方法、以及平版印刷版原版

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EP2447085B1 (en) 2014-03-19

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