CN102171287A - 分散组合物、聚合性组合物、遮光性滤色片、固体摄像元件、液晶显示装置、晶片级镜片以及摄像单元 - Google Patents
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Abstract
本发明提供钛黑的分散性高、而且钛黑不沉降的保存稳定性高的分散组合物。进而,本发明还提供对基板的涂布性良好、能够获得均匀的膜厚,形成图案时未曝光部的残渣被抑制,曝光、显影后的台阶小,图案形状良好的聚合性组合物。上述分散组合物包含(A)钛黑、(B)接枝共聚物、以及(C)溶剂。
Description
技术领域
本发明涉及含有钛黑的分散组合物、含有该分散组合物的聚合性组合物、使用该聚合性组合物而获得的遮光性滤色片、以及具备该遮光性滤色片的固体摄像元件、液晶显示装置、晶片级透镜(wafer level lens)和摄像单元。
背景技术
为了达到遮蔽着色象素间的光、提高对比度等目的,在用于液晶显示装置的滤色片上设置一层被称为黑矩阵的遮光膜。另外,为了防止发生噪音、提高图像质量等目的,在固体摄像元件中也设置有黑矩阵。黑矩阵是通过使用一种含有分散有遮光性的黑色色材的分散组合物、聚合性化合物、聚合引发剂和其他成分的聚合性组合物,采用光刻法等形成图案来制造的。
作为用于形成液晶显示装置用或固体摄像元件用的黑矩阵的组合物,已知有含有炭黑或钛黑等黑色色材的感光性树脂组合物。
作为液晶显示装置用黑矩阵,要求遮光性好的黑矩阵,以便提高对比度和可见性。另一方面,作为固体摄像元件用黑矩阵,除了在可见区的遮光性以外,还必须具备在红外区的遮光性。
过去,作为遮光性的黑矩阵,主要多使用炭黑。但是,如果想要通过使用炭黑来提高黑矩阵的遮光性,则必须提高黑矩阵中的炭黑用量。因此,必须使用作为遮光材料的炭黑的浓度高的分散组合物或者聚合性组合物来形成遮光层的图案。然而,如果为了获得高的遮光性而增加炭黑的含量,则会产生炭黑在组合物中的分散变得困难,以及图案成形性恶化的问题。
进而,还要求在显影后的未曝光部位的组合物残留量少,而且在将感光性树脂组合物涂布到基板上时所形成的涂布膜具有均匀性,并且要求形状良好,不易产生在遮光膜周边部位的膜厚度比遮光膜中央部位的膜厚度薄的区域(即,没有台阶)。
作为液晶显示装置用黑矩阵,主要要求在可见区内的遮光性,而作为固体摄像元件用黑矩阵,除了要求在可见区内的遮光性以外,还要求具备在红外区的遮光性。
另外,液晶显示装置用黑矩阵要求微细化,另一方面,对于固体摄像元件用黑矩阵(特别是用于遮挡与支持体的受光元件形成面相反一侧的面(以下也称为“背面”)的黑矩阵),要求能够对于比液晶显示装置用黑矩阵还要大的面积均匀地遮光的性能。
当使用上述以往的感光性树脂组合物作为固体摄像元件用遮光膜来形成大面积的遮光膜时,往往会在遮光膜周边部位产生膜厚度比遮光膜中央部位的膜厚度薄的区域(台阶),从而导致遮光膜周边部位的遮光能力变低。
另外,当为了获得高的遮光性而增加黑色材料的含量时,就容易在遮光膜周边部位产生残渣,从而使敏感性降低,这是存在的问题。进而,当为了提高敏感性而增加聚合引发剂的用量时,会产生经时稳定性降低的问题。
近年来,在移动电话和PDA(Personal Digital Assistant)等电子设备的移动终端上,搭载小型且薄型的摄像单元。这种摄像单元,一般具备CCD(Charge Coupled Device)图像传感器或CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)图像传感器等固体摄像元件、以及用于在固体摄像元件上形成客体图象的透镜。
随着移动终端的小型化和薄型化,要求摄像单元的小型化和薄型化。另外,为了谋求降低移动终端的成本,希望制造工序高效率化。作为制造这种小型且多个透镜的方法,已知的一种方法是制造在基板上形成了多个透镜的这样结构的晶片级透镜,然后将基板切断以使多个透镜相互分离来量产透镜模块的方法。
另外,已知的另一种方法是,将形成了多个透镜的基板与形成了多个固体摄像元件的传感器基板组合成一体,然后按照将透镜和固体摄像元件作为组件来含有的方式,将上述基板与上述传感器基板一起切断,如此来量产摄像单元的方法。
以往,作为晶片级透镜,记载了通过将形成了多个透镜的基板重叠而构成的多层晶片级透镜(参见例如,特表2005-539276号公报)。晶片级透镜是由基板和透镜能使光透过的透明材料构成,这样,任何部位都能使光透过,因此,在切割晶片级透镜并将其搭载到摄像元件上以制成摄像单元的情况下,一旦在透镜的透镜面以外的区域发生光的透过或反射,则有可能在摄像时容易发生称为重影(ghosting)或闪光(flaring)等光学性能上的缺点。从防止这种缺点的观点考虑,例如在晶片级透镜的透镜以外的区域中,进行设置遮光部件等的加工。
另外,还公开了向基板上供给成形材料,用模具在该基板上形成透镜的方法(参见例如,国际公开2007/107025号小册子)。
为了满足上述那样的遮光性高的黑矩阵的品质要求,人们提出了遮光性高的钛黑是很有用的,并提出了提高钛黑分散性的各种方案(参见例如,特开平10-246955号公报、特开平9-54431号公报、特开平10-46042号公报、特开2007-115921号公报、特开平10-114836号公报、特开2002-275343号公报、特开2005-266189号公报)。
然而,由于钛黑的比重大,因此,难以分散,即使分散,一旦经过一段时间,钛黑就会沉降下来等,所以希望提高其分散性以及分散稳定性。
发明内容
本发明就是鉴于上述情况而进行的,以下记载本发明的方案。
根据本发明的一个方案,提供钛黑的分散性高、能够抑制经时后的钛黑沉降、而且分散性和保存稳定性高的分散组合物。
根据本发明的另一个方案,提供一种对基板的涂布性良好且能够获得均匀的膜厚、在图案成形时能够抑制未曝光部位的残渣、没有曝光·显影后的台阶(黑矩阵中的台阶高差)、图案形状良好的聚合性组合物。
根据本发明的另一个方案,提供通过使用上述聚合性组合物而获得的具有遮光性高的着色图案的遮光性滤色片、以及使用该遮光性滤色片的高图像质量的固体摄像元件、以及液晶显示装置、以及摄像单元。
根据本发明的另一个方案,提供具有遮光性高的着色区域的晶片级透镜。
本发明的具体手段如下。
<1>一种分散组合物,其中含有(A)钛黑、(B)接枝共聚物以及(C)溶剂。
<2><1>所述的分散组合物,其中,上述(B)接枝共聚物具有除氢原子外的原子数在40~10000的范围内的接枝链。
<3><1>或<2>所述的分散组合物,其中,上述(B)接枝共聚物中的接枝链为选自聚酯结构、聚醚结构以及聚丙烯酸酯结构中的至少1种。
<4><1>~<3>中的任意一项所述的分散组合物,其中,上述(B)接枝共聚物至少含有由下述式(1)~式(5)中的任意一个表示的结构单元:
【化1】
式(1)~式(5)中,X1、X2、X3、X4、X5和X6各自独立地表示氢原子或者1价有机基团Y1、Y2、Y3、Y4和Y5各自独立地表示2价连接基;Z1、Z2、Z3、Z4和Z5各自独立地表示氢原子或者1价有机基团;R表示氢原子或者1价有机基团,共聚物中也可以存在结构不同的R;n、m、p、q和r各自独立地为1~500的整数。
<5><1>~<4>中的任意一项所述的分散组合物,其中,由X1、X2、X3、X4、X5或者X6表示的1价有机基团为碳数1~12的烷基。
<6><1>~<5>中的任意一项所述的分散组合物,其中,由Y1、Y2、Y3、Y4或者Y5表示的2价连接基选自下述(Y-1)~(Y-20)的连接基:
【化2】
(Y-1)~(Y-20)中,A表示与式(1)~式(5)中的左末端基的结合键,B表示与式(1)~式(5)中的右末端基的结合键。
<7><1>~<6>中的任意一项所述的分散组合物,其中,由Z1、Z2、Z3、Z4或者Z5表示的1价有机基团为烷基、羟基、烷氧基、芳氧基、杂芳氧基、烷基硫醚基、芳基硫醚基、杂芳基硫醚基、或者氨基。
<8><1>~<7>中的任意一项所述的分散组合物,其中,上述式(5)中由R表示的1价有机基团为烷基、芳基或者杂芳基。
<9><4>~<8>中的任意一项所述的分散组合物,其中,上述(B)接枝共聚物,按照质量换算,相对于该接枝共聚物的总质量,含有10%~90%范围内的由上述式(1)~式(5)中的任一个表示的结构单元。
<10><1>~<9>中的任意一项所述的分散组合物,其中,上述(B)接枝共聚物还含有包含能够与钛黑相互作用的官能基团的结构单元。
<11><1>~<10>中的任意一项所述的分散组合物,其中,上述(B)接枝共聚物还含有羧酸基、磺酸基、磷酸基中的至少1种。
<12>一种聚合性组合物,其中含有<1>~<11>中的任意一项所述的分散组合物、(D)聚合性化合物、以及(E)聚合引发剂。
<13><12>所述的聚合性组合物,其中,上述(E)聚合引发剂为肟聚合引发剂。
<14>一种遮光性滤色片,其中,在基板上具有使用<12>或者<13>所述的聚合性组合物形成的着色图案。
<15>一种固体摄像元件,其中具备<14>所述的遮光性滤色片。
<16>一种液晶显示装置,其中具备<14>所述的遮光性滤色片。
<17>一种晶片级透镜,其中具备多个透镜一体成形的基板以及设置在该基板的除了上述透镜的透镜面以外的区域中的上述<14>所述的遮光性滤色片。
<18>一种摄像单元,其中具备<17>所述的晶片级透镜。
本发明中的分散组合物含有作为分散剂的(B)接枝共聚物,其中优选是具有除氢原子以外的原子数在40~10000的范围内的接枝链的接枝共聚物。因此,接枝链由于具有作为空间排斥基团的功能,因此可以发挥良好的分散性,从而可以使钛黑均匀分散,即使在室温下长期保存分散组合物的情况下,也能通过接枝链与溶剂的相互作用而长期地抑制钛黑的沉降。
另外,在利用使用通常接枝共聚物作为分散剂的聚合性组合物来形成图案的情况下,具有显影性低下,易产生残渣的倾向,但在本发明的分散组合物中,由于使用具有适度长度的接枝链的聚合物,因此可以减少残渣的产生,而残渣被认为是引起在显影液中的溶解性降低的原因。
特别地,在把作为本发明优选形式的含有由式(1)~式(5)中的任一个表示的结构单元的接枝共聚物用于聚合性组合物的情况下,可以推测接枝链的亲水性提高,由此提高接枝共聚物的显影性,并能同时达到提高分散性与减少显影过程中的残渣这两种作用。
另外,可以认为,通过使用本发明的接枝共聚物,就能使得,当涂布使用本发明的分散组合物的聚合性组合物时,涂布面变得均匀。可以推测,这是由于本发明的接枝共聚物的接枝链与溶剂进行良好的相互作用的缘故。
进而,可以认为,特别地,通过将本发明的特定结构的接枝共聚物与肟引发剂合并使用,就能达到不产生台阶,并能使图案形状变得良好。
根据本发明的一个方式,可以提供一种钛黑的分散性高、进而能够抑制钛黑的沉降、且保存稳定性高的分散组合物。
根据本发明的另一个方式,可以提供这样一种聚合性组合物,该组合物在基板上的涂布性良好且获得均匀的膜厚,能够抑制在图案成形时未曝光部分产生残渣、在曝光·显影后不会产生台阶,图案形状良好。
根据本发明的另一个方式,可以提供具有使用上述聚合性组合物而获得的遮光性高的着色图案(例如,黑矩阵)的滤色片,以及使用该滤色片的高图像质量的固体摄像元件、液晶显示装置、以及摄像单元。
根据本发明的再一个方式,可以提供具有遮光性高的着色区域的晶片级透镜。
予以说明,在本发明中,所谓“遮光性滤色片”是指通过使至少含有钛黑分散组合物、聚合性化合物、以及光聚合引发剂的感光性的聚合性组合物曝光、显影而获得的遮光性图案。本发明中的“遮光性滤色片”的色,可以是黑、灰色等无彩色,也可以是有彩色的色调混合而成的黑色、灰色等。
附图说明
图1为示出黑矩阵中产生台阶的样子的模式图。
图2为示出晶片级透镜的结构的一例的平面图。
图3为图2的A-A线截面图。
图4为示出晶片级透镜的另一种结构例的截面图。
图5为示出摄像单元的结构的一例的截面图。
具体实施方式
以下详细地说明本发明。
本发明的一个实施方式所述的分散组合物,含有(A)钛黑、(B)接枝共聚物、以及(C)溶剂。以下对于本发明的分散组合物中所含的各成分进行说明。
(A)钛黑
本发明中的钛黑是指具有钛原子的黑色粒子。优选为低价氧化钛或者氧氮化钛等。对于钛黑粒子为了达到提高分散性、抑制凝聚性等目的,可以根据需要对表面进行改性。例如,可以用氧化硅、氧化钛、氧化锗、氧化铝、氧化镁、氧化锆包覆,另外,也可以用特开2007-302836号公报中公开的疏水性物质进行处理。
作为钛黑的制造方法,可举出将二氧化钛与金属钛的混合物在还原气氛中加热并还原的方法(特开昭49-5432号公报)、将通过四氯化钛的高温水解而得到的超微细二氧化钛在含氢的还原气氛中进行还原的方法(特开昭57-205322号公报)、将二氧化钛或者氢氧化钛在氨存在下进行高温还原的方法(特开昭60-65069号公报、特开昭61-201610号公报)、使钒化合物附着到二氧化钛或者氢氧化钛上并在氨存在下进行高温还原的方法(特开昭61-201610号公报)等,但不限定于此。
钛黑粒子的粒径没有特殊限制,但从分散性、着色性的观点考虑,平均1次粒径优选在3nm~2000nm的范围内,更优选在10nm~500nm的范围内,进一步优选在10nm~100nm的范围内。
钛黑的比表面积没有特殊限定,从通过将所述钛黑用疏水化剂进行表面处理后而获得的疏水性符合规定的性能的观点考虑,采用BET法测定的比表面积优选为5m2/g~150m2/g左右,特别优选为20m2/g~100m2/g。
作为钛黑市售品的例子,可举出例如,三菱材料(株)制钛黑10S、12S、13R、13M、13M-C、13R、13R-N、赤穗化成(株)制Tilack D等,但本发明不限定于此。
另外,在本发明的分散组合物中,除了钛黑以外,也可以根据需要添加体质颜料。作为这种体质颜料,可举出例如,硫酸钡、碳酸钡、碳酸钙、二氧化硅、碱性碳酸镁、氧化铝白、光泽白(gloss white)、钛白、水滑石等。这些体质颜料可以单独使用,或者2种以上混合使用。体质颜料的用量,相对于钛黑100质量份,通常为0~100质量份,优选为5~50质量份,更优选为10~40质量份。在本发明中,上述钛黑和体质颜料可以根据不同场合,用聚合物将它们的表面进行改性后使用。
本发明的分散组合物中添加的钛黑的量,可以进行调整,以便使分散组合物中的钛黑含量在20质量%~94质量%的范围内、更优选在40质量%~92质量%的范围内、进一步优选在40质量%~80质量%的范围内。
当钛黑的量在上述范围内时,本发明的聚合性组合物的固化性变得良好,而且可以形成均匀的膜。另外,由于含有高浓度的钛黑,可以获得充分的遮光性,因此,该含有钛黑的聚合性组合物适用于形成遮光性滤色片。
另外,本发明的分散组合物中,作为遮光用颜料,也可以混合钛黑以外的颜料。
作为这种可混合的遮光用颜料,只要在可见光区具有吸光度,就没有特殊限定,可举出上述的体质颜料、炭黑、C.I.颜料蓝1,2,15,15:1,15:2,15:3,15:4,15:6,16,22,60,64,66,79,80;C.I.颜料紫1,19,23,27,32,37,42;C.I.颜料棕25,28;C.I.颜料黑1,7等有机颜料等。
作为混合钛黑以外的遮光用颜料的例子,可举出钛黑和炭黑的6∶1混合物、钛黑和氧化钛的3∶1混合物等。
混合的钛黑以外的遮光用颜料,相对于钛黑100质量份,可以在0.01~99.99质量份的范围内、优选在20~70质量份的范围内使用。
(B)接枝共聚物
本发明的分散组合物含有接枝共聚物(以下也称为“特定树脂”)。本发明的接枝共聚物优选具有除氢原子以外的原子数为40~10000的范围内的接枝链,该情况下的接枝链表示从共聚物主链的本体(root)开始直到从主链分支出来的基团末端为止的部分。在分散组合物中,该特定树脂为向钛黑赋予分散性的分散树脂,由于具有优良的分散性以及由接枝链带来的与溶剂的亲合性,因此能使钛黑的分散性以及经时后的分散稳定性优良。另外,当制成聚合性组合物时,由于接枝链的作用而使得该特定树脂与聚合性化合物或者其他可并用的树脂等具有亲合性,因此,在碱显影中难以产生残渣。
另外,还可以通过向该特定树脂中进一步引入羧酸基等碱可溶性的部分结构,使该特定树脂具有一种能够通过碱显影而形成图案的显影性的树脂的功能。因此,通过向本发明的分散组合物的接枝共聚物中引入碱可溶性的部分结构,使得本发明的聚合性组合物中的在钛黑分散时所不可缺少的分散树脂本身具有碱可溶性,这种聚合性组合物在曝光部位的遮光性优良,而且,未曝光部的碱显影性提高,因此是优选的。
当接枝链变长时,可使空间排斥效果提高,并使分散性提高,另一方面,如果接枝链过长,则对钛黑的吸附力降低,从而导致分散性降低。因此,作为本发明中使用的(B)接枝共聚物,优选在每1条接枝链上,除氢原子以外的原子数为40~10000,更优选为50~2000,进一步优选为60~500。
作为接枝链的聚合物结构,可以使用聚(甲基)丙烯酸、聚酯、聚氨酯、聚脲、聚酰胺、聚醚等,为了提高接枝部位与溶剂的相互作用性、并由此而提高其分散性,优选为具有聚(甲基)丙烯酸、聚酯、或者聚醚的接枝链,更优选为具有聚酯、聚醚的接枝链。
作为具有这种聚合物结构作为接枝链的大分子单体结构,只要具有可与聚合物主链部反应的取代基、且满足本发明的条件,就没有特殊限定,优选使用具有反应性双键性基团的大分子单体。
作为适用于合成特定树脂的市售大分子单体的例子,可举出AA-6(东亚合成社制)、AA-10(东亚合成社制)、AB-6(东亚合成社制)、AS-6(东亚合成社制)、AN-6(东亚合成社制)、AW-6(东亚合成社制)、AA-714(东亚合成社制)、AY-707(东亚合成社制)、AY-714(东亚合成社制)、AK-5(东亚合成社制)、AK-30(东亚合成社制)、AK-32(东亚合成社制)、BLEMMER PP-100(日油社制)、BLEMMERPP-500(日油社制)、BLEMMER PP-800(日油社制)、BLEMMER PP-1000(日油社制)、BLEMMER 55-PET-800(日油社制)、BLEMMERPME-4000(日油社制)、BLEMMER PSE-400(日油社制)、BLEMMERPSE-1300(日油社制)、BLEMMER 43PAPE-600B(日油社制)等。其中,优选可举出AA-6(东亚合成社制)、AA-10(东亚合成社制)、AB-6(东亚合成社制)、AS-6(东亚合成社制)、AN-6(东亚合成社制)、BLEMMER PME-4000(日油社制)等。
本发明中使用的特定树脂中,优选作为接枝部位至少含有由下述式(1)~式(5)中的任意一个表示的结构单元。
【化3】
式(1)~式(5)中,X1、X2、X3、X4、X5和X6各自独立地表示氢原子或者1价有机基团,但从合成上制约的观点考虑,优选为氢原子、或者碳数1~12的烷基,更优选为氢原子或者甲基,特别优选为甲基。
式(1)~式(5)中,Y1、Y2、Y3、Y4和Y5各自独立地为2价连接基,在结构上没有特殊限制。作为具体例,可举出下述的(Y-1)~(Y-20)的连接基等。在下述结构式中,A是指与式(1)~式(5)中的左末端基的结合键,B是指与式(1)~式(5)中的右末端基的结合键。下述所示的结构中,从合成的简便性考虑,更优选(Y-2)、(Y-13)。
【化4】
式(1)~式(5)中,Z1、Z2、Z3、Z4和Z5各自独立地为氢原子或者1价有机基团,1价有机基团在结构上没有特殊限定,作为具体例,可举出羟基、烷氧基、芳氧基、杂芳氧基、烷基硫醚基、芳基硫醚基、杂芳基硫醚基、氨基等。其中,特别是从具有空间排斥效果以便提高分散性的观点考虑,Z1、Z3和Z4优选是碳数5~24的烷氧基,其中,特别优选烷基部位为碳数5~24的支链结构的烷氧基,或者烷基部位为碳数5~24的环状结构的烷氧基。另外,Z2优选具有碳数5~24的烷基部位的烷基羰氧基,其中,特别优选具有碳数5~24的支链烷基的烷基羰氧基或者具有碳数5~24的环状烷基的烷基羰氧基。另外,从合成上的观点考虑,Z5优选为氢原子。
式(1)~式(5)中,n、m、p、q和r各自独立地为1~500的整数。
适用于本发明的特定树脂中,由式(1)~式(5)表示的结构单元,按照质量换算,相对于特定树脂的总质量,其含量优选在10%~90%的范围内,更优选在30%~70%的范围内。当在该范围内时,钛黑的分散性高,并且在做成抗蚀剂(resist)时的显影性良好。另外,作为本发明中使用的特定树脂,也可以将2种以上结构不同的接枝共聚物组合在一起。
式(5)中,R表示氢原子或者1价的有机基团,在结构上没有特殊限定,优选为氢原子、烷基、芳基、杂芳基,更优选为氢原子、烷基。另外,特定树脂中也可以存在2种以上结构不同的R。例如,当在由式(5)表示的结构单元中存在多个R时,多个R可以相同或不同,或者,特定树脂中的由式(5)表示的结构单元可以相同或不同。
在本发明的特定树脂中,可以在接枝部位以外引入能够与钛黑相互作用的官能团。例如,可以将具有酸基的结构单元、具有碱性基的结构单元、具有配位性基的结构单元、具有反应性的结构单元等作为官能团引入特定树脂中。
作为上述酸基,可举出例如,羧酸基、磺酸基、磷酸基、酚性羟基等,特别优选为对钛黑的吸附力良好、且分散性高的羧酸基。可以单独使用它们中的1种,或者将2种以上组合使用。
通过引入这种酸基,还具有提高特定树脂的碱显影性等优点。
适用于本发明的特定树脂的这些共聚成分的含量,优选为0.1摩尔%~50摩尔%,从抑制由于碱显影而导致图象强度受损的观点考虑,特别优选为1摩尔%~30摩尔%。
作为上述碱性基,可举出例如,伯氨基、仲氨基、叔氨基、含N原子的杂环、酰胺基等,特别优选为对颜料的吸附力良好且分散性高的叔氨基。可以单独使用它们中的1种,或者将2种以上组合使用。适用于本发明特定树脂中的这些共聚成分的含量,优选为0.01摩尔%~50摩尔%,从抑制显影性阻碍的观点考虑,特别优选为0.01摩尔%~30摩尔%。
作为上述配位性基、或者具有反应性的基团,可举出例如,乙酰基乙酰氧基、三烷氧基甲硅烷基、异氰酸酯基、酸酐残基、氯化酰残基等,特别优选为对颜料的吸附力良好且分散性高的乙酰基乙酰氧基。可以单独使用它们中的1种,或者将2种以上组合使用。适用于本发明的特定树脂的这些共聚成分的含量,优选为0.5摩尔%~50摩尔%,从抑制显影性阻碍的观点考虑,特别优选为1摩尔%~30摩尔%。
作为除了接枝部位以外能够与钛黑相互作用的官能团的结构,除了上述的接枝部位以外,只要含有能够与钛黑相互作用的官能团,就没有特殊限定,优选具有由下述通式(i)~(iii)中的任一个表示的单体获得的重复单元中的至少1种。
【化5】
上述式(i)~(iii)中,R1、R2和R3各自独立地表示氢原子、卤原子(例如,氟、氯、溴等)、或者碳原子数1~6的烷基(例如,甲基、乙基、丙基等)。
R1、R2和R3更优选为氢原子、或者碳原子数1~3的烷基,最优选为氢原子或者甲基。R2和R3特别优选为氢原子。
X表示氧原子(-O-)或者亚氨基(-NH-),优选为氧原子。
L为单键或者2价连接基。作为2价连接基,可举出2价的脂肪族基团(例如,亚烷基、取代亚烷基、亚烯基、取代亚烯基、亚炔基、取代亚炔基)、2价的芳香族基团(例如,亚芳基、取代亚芳基)、2价的杂环基以及它们与氧原子(-O-)、硫原子(-S-)、亚氨基(-NH-)、取代亚氨基(-NR31-、此处R31为脂肪族基团、芳香族基团或者杂环基)或者羰基(-CO-)的组合等。
上述2价的脂肪族基团,可以具有环状结构或者支链结构。上述脂肪族基团的碳原子数,优选为1~20,更优选为1~15,进一步优选为1~10。在脂肪族基团中,饱和脂肪族基团优于不饱和脂肪族基团。另外,脂肪族基团可以具有取代基。作为该取代基的例子,可举出卤原子、羟基、芳香族基团以及杂环基。
上述2价的芳香族基团的碳原子数,优选为6~20,更优选为6~15,最优选为6~10。另外,上述芳香族基团可以具有取代基。作为该取代基的例子,可举出卤原子、羟基、脂肪族基团、芳香族基团和杂环基。
上述2价的杂环基,优选具有5元环或者6元环作为杂环。杂环上可以稠合其他的杂环、脂肪族环或者芳香族环。另外,杂环基可以具有取代基。作为该取代基的例子,可举出卤原子、羟基、桥氧基(=O)、硫代基(=S)、亚氨基(=NH)、取代亚氨基(=N-R32、此处,R32为脂肪族基团、芳香族基团或者杂环基)、脂肪族基团、芳香族基团以及杂环基。
L优选为单键、亚烷基或者含有氧化烯结构的2价连接基。氧化烯结构更优选为氧乙烯结构或者氧丙烯结构。另外,L可以含有包含氧化烯结构重复单元2个以上的聚氧化烯结构。作为聚氧化烯结构,优选聚氧乙烯结构或者聚氧丙烯结构。聚氧乙烯结构由-(OCH2CH2)n-表示,n优选为2以上的整数,更优选为2~10的整数。
上述式(i)~(iii)中,Z表示除了接枝部位以外能够与钛黑相互作用的官能团,优选为羧酸、叔氨基,更优选为羧酸。另外,Y表示次甲基或者氮原子。
上述式(iii)中,R4、R5和R6各自独立地表示氢原子、卤原子(例如,氟、氯、溴等)、或者碳原子数为1~6的烷基(例如,甲基、乙基、丙基等)、Z、或者-L-Z。此处,L和Z与上述的定义相同。作为R4、R5和R6,优选氢原子、或者碳数1~3的烷基,更优选氢原子。
本发明中,作为由上述通式(i)表示的单体,优选R1、R2和R3为氢原子或者甲基、L为亚烷基或者含有氧化烯结构的2价连接基、X为氧原子或者亚氨基、Z为羧酸的化合物。
另外,作为由上述通式(ii)表示的单体,优选R1为氢原子或者甲基、L为亚烷基、Z为羧酸、Y为次甲基的化合物。
另外,作为由上述通式(iii)表示的单体,优选R4、R5和R6为氢原子或者甲基、Z为羧酸的化合物。
作为由式(i)~(iii)表示的代表性的化合物的例子,可举出:甲基丙烯酸、巴豆酸、异巴豆酸、分子内具有加成聚合性双键和羟基的化合物(例如,甲基丙烯酸2-羟乙酯)与琥珀酸酐的反应物、分子内具有加成聚合性双键和羟基的化合物与苯二甲酸酐的反应物、分子内具有加成聚合性双键和羟基的化合物与四羟基苯二甲酸酐的反应物、分子内具有加成聚合性双键和羟基的化合物与偏苯三酸酐的反应物、分子内具有加成聚合性双键和羟基的化合物与均苯四酸酐的反应物、丙烯酸、丙烯酸二聚物、丙烯酸低聚物、马来酸、衣康酸、富马酸、4-乙烯基苯甲酸、乙烯基苯酚、4-羟苯基甲基丙烯酰胺、等。
从与钛黑的相互作用、分散稳定性和向显影液的浸透性的观点考虑,特定树脂中具有酸性基的单体等能够与钛黑相互作用的官能团的含量,相对于特定树脂,优选为0.05质量%~90质量%,更优选为1.0质量%~80质量%,进一步优选为10质量%~70质量%。
进而,本发明所述的钛黑的分散组合物中所含的特定树脂,为了提高图象强度等各种性能,在不损害本发明效果的条件下,除了上述具有接枝部位的结构单元和能够与钛黑相互作用的官能团以外,还可以含有具有各种功能的其他结构单元作为共聚成分,例如可以将具有与用于分散物中的分散介质具有亲合性的官能团等的结构单元作为共聚成分。
作为可与本发明所述的特定树脂共聚的共聚成分,可举出例如,从丙烯酸酯类、甲基丙烯酸酯类、苯乙烯类、丙烯腈类、甲基丙烯腈类、丙烯酰胺类、甲基丙烯酰胺类等中选出的自由基聚合性化合物。
具体地,可举出例如,丙烯酸烷基酯(该烷基优选为碳原子数1~20的烷基)等丙烯酸酯类(具体地,例如,丙烯酸苄酯、丙烯酸4-联苯酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸仲丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸4-叔丁基苯酯、丙烯酸4-氯苯酯、丙烯酸五氯苯酯、丙烯酸4-氰基苄酯、丙烯酸氰基甲酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸2-乙氧基乙酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸庚酯、丙烯酸己酯、丙烯酸异冰片基酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸3,5-二甲基金刚烷基酯、丙烯酸2-萘酯、丙烯酸新戊酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸苯乙酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸甲苯酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸四氢糠基酯、丙烯酸2-羟乙酯、丙烯酸3-羟丙酯、丙烯酸2-羟丙酯、丙烯酸4-羟丁酯、丙烯酸5-羟戊酯、丙烯酸烯丙酯、丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、丙烯酸炔丙基酯等);
甲基丙烯酸烷基酯(该烷基优选为碳原子1~20的烷基)等甲基丙烯酸酯类(例如,甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸4-联苯酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸4-叔丁基苯酯、甲基丙烯酸4-氯苯酯、甲基丙烯酸五氯苯酯、甲基丙烯酸4-氰基苯酯、甲基丙烯酸氰基甲酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸2-乙氧基乙酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸庚酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸异冰片基酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸甲酯、3,5-二甲基金刚烷基(甲基丙烯酸酯)、2-萘基(甲基丙烯酸酯)、甲基丙烯酸新戊酯、甲基丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸苯乙酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸甲苯基酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸四氢糠基酯、甲基丙烯酸2-羟乙酯、甲基丙烯酸3-羟丙酯、甲基丙烯酸2-羟丙酯、甲基丙烯酸4-羟丁酯、甲基丙烯酸5-羟戊酯、甲基丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、甲基丙烯酸炔丙酯、甲基丙烯酸2-二乙氨基乙酯、甲基丙烯酸2-二甲氨基酯等;
苯乙烯、烷基苯乙烯等苯乙烯类(例如,甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、异丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、环己基苯乙烯、癸基苯乙烯、苄基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙酰氧基甲基苯乙烯等)、烷氧基苯乙烯(例如甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯等)、卤代苯乙烯(例如氯代苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴代苯乙烯、二溴苯乙烯、碘代苯乙烯、氟代苯乙烯、三氟苯乙烯、2-溴-4-三氟甲基苯乙烯、4-氟-3-三氟甲基苯乙烯等)、丙烯腈、甲基丙烯腈等。
这些自由基聚合性化合物中优选使用的为甲基丙烯酸酯类、丙烯酰胺类、甲基丙烯酰胺类、苯乙烯类,特别优选使用的为甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸4-叔丁基苯酯、甲基丙烯酸五氯苯酯、甲基丙烯酸4-氰基苯酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸异冰片基酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸3,5-二甲基金刚烷基酯、甲基丙烯酸2-萘酯、甲基丙烯酸新戊酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸四氢糠基酯、甲基丙烯酸2-羟乙酯、甲基丙烯酸3-羟丙酯、甲基丙烯酸2-羟丙酯、甲基丙烯酸烯丙酯;
丙烯酰胺、N-甲基丙烯酰胺、N-异丙基丙烯酰胺、吗啉基丙烯酰胺、哌啶基丙烯酰胺、N-叔丁基丙烯酰胺、N-环己基丙烯酰胺、N-苯基丙烯酰胺、N-萘基丙烯酰胺、N-羟甲基丙烯酰胺、N-羟乙基丙烯酰胺、N-烯丙基丙烯酰胺、4-羟苯基丙烯酰胺、2-羟苯基丙烯酰胺、N,N-二甲基丙烯酰胺、N,N-二异丙基丙烯酰胺、N,N-二叔丁基丙烯酰胺、N,N-二环己基丙烯酰胺、N,N-苯基丙烯酰胺、N,N-二羟乙基丙烯酰胺、N,N-二烯丙基丙烯酰胺;
甲基丙烯酰胺、N-甲基(甲基丙烯酰胺)、N-异丙基(甲基丙烯酰胺)、吗啉基(甲基丙烯酰胺)、哌啶基(甲基丙烯酰胺)、N-叔丁基(甲基丙烯酰胺)、N-环己基(甲基丙烯酰胺)、N-苯基(甲基丙烯酰胺)、N-萘基(甲基丙烯酰胺)、N-羟甲基(甲基丙烯酰胺)、N-羟乙基(甲基丙烯酰胺)、N-烯丙基(甲基丙烯酰胺)、4-羟苯基(甲基丙烯酰胺)、2-羟苯基(甲基丙烯酰胺)、N,N-二甲基(甲基丙烯酰胺)、N,N-二异丙基(甲基丙烯酰胺)、N,N-二叔丁基(甲基丙烯酰胺)、N,N-二环己基(甲基丙烯酰胺)、N,N-苯基(甲基丙烯酰胺)、N,N-二羟乙基(甲基丙烯酰胺)、N,N-二烯丙基(甲基丙烯酰胺);
苯乙烯、甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、异丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、环己基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙酰氧基甲基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯、氯代苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴代苯乙烯、二溴苯乙烯、碘代苯乙烯、氟代苯乙烯、三氟苯乙烯、2-溴-4-三氟甲基苯乙烯、4-氟-3-三氟甲基苯乙烯。
上述自由基聚合性化合物可以单独使用1种,或者将2种以上组合使用。特定树脂中,这些共聚成分的含量为0摩尔%~90摩尔%,特别优选为0摩尔%~60摩尔%。当含量在上述的范围内时,可以获得充分的图案形成。
作为合成本发明的特定树脂时适用的溶剂,可举出例如,二氯乙烷、环己酮、丁酮、丙酮、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单***、2-甲氧基乙基乙酸酯、1-甲氧基-2-丙醇、1-甲氧基-2-丙基乙酸酯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲亚砜、甲苯、乙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等。这些溶剂可以单独使用,或者也可以2种以上混合使用。
作为这种特定树脂的具体例,可举出以下的例示化合物1~16、以及例示化合物20~71。予以说明,各结构单元的添标(wt%)是指质量基准。
【化6】
【化7】
【化8】
【化9】
【化10】
【化11】
【化12】
【化13】
【化14】
【化15】
【化16】
【化17】
【化18】
【化19】
【化20】
【化21】
【化22】
【化23】
【化24】
【化25】
【化26】
【化27】
【化28】
【化29】
【化30】
【化31】
【化32】
【化33】
【化34】
【化35】
【化36】
【化37】
【化38】
上述特定树脂的酸值优选在5.0mgKOH/g~200mgKOH/g的范围内,更优选在10mgKOH/g~150mgKOH/g的范围内,进一步优选在15mgKOH/g~100mgKOH/g的范围内。如果酸值为200mgKOH/g以下,则在显影时图案剥离被抑制,另外,如果酸值为5.0mgKOH/g以上,则碱显影性良好。
本发明中,特定树脂的酸值可以根据例如,特定树脂中酸基的平均含量算出。另外,通过改变含有构成特定树脂的酸基的单体单元的含量,可以获得具有所希望酸值的树脂。
本发明中的特定树脂的重均分子量,从显影时抑制图案剥离和显影性的观点考虑,优选为10,000~300,000,更优选为15,000~200,000,进一步优选为20,000~100,000,特别优选为25,000~50,000。予以说明,特定树脂的重均分子量,可以利用例如GPC(凝胶渗透色谱)来测定。
本发明的分散组合物中,特定树脂在全固态成分中的含量,从分散性、分散稳定性的观点考虑,优选在0.1质量%~50质量%的范围内,更优选在5质量%~40质量%的范围内,进一步优选在10质量%~30质量%的范围内。
其他树脂
本发明的分散组合物中,为了调整钛黑的分散性,可以含有上述特定树脂以外的树脂(以下有时称为“其他树脂”)。
作为可以用于本发明中的其他树脂,可举出高分子分散剂〔例如,聚酰胺-胺及其盐、聚羧酸及其盐、高分子量不饱和酸酯、改性聚氨酯、改性聚酯、改性聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸共聚物、萘磺酸甲醛缩合物〕以及聚氧乙烯烷基磷酸酯、聚氧乙烯烷基胺、烷醇胺、颜料衍生物等。
其他树脂可以根据其结构进一步分为直链状高分子、末端改性型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子几类。
其他树脂吸附到钛黑表面以及根据希望并用的颜料的表面上,这样就起到防止再凝聚的作用。因此,作为优选的结构,可举出具有能对颜料表面起锚接作用的部位的末端改性型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。
另一方面,其他树脂具有通过对颜料表面进行改质,促进分散树脂的吸附的效果。
作为其他树脂的具体例,可举出BYK Chemie公司制“Disperbyk-101(聚酰胺-胺磷酸盐)、107(羧酸酯)、110(含有酸基的共聚物)、130(聚酰胺)、161、162、163、164、165、166、170(高分子共聚物)”、“BYK-P104、P105(高分子量不饱和聚羧酸)”、EFKA公司制“EFKA4047、4050、4010、4165(聚氨酯化合物)、EFKA4330、4340(嵌段共聚物)、4400、4402(改性聚丙烯酸酯)、5010(聚酯酰胺)、5765(高分子量聚羧酸盐)、6220(脂肪酸聚酯)、6745(酞菁衍生物)、6750(偶氮颜料衍生物)”、味之素精细技术社制“AJISPER PB821、PB822”、共荣社化学社制“FLOWLEN TG-710(氨基甲酸酯低聚物)”、“POLYFLOW No.50E、No.300(丙烯酸共聚物)”、楠本化成社制“DISPARLON KS-860、873SN、874、#2150(脂肪族多元羧酸)、#7004(聚醚酯)、DA-703-50、DA-705、DA-725”、花王社制“RN、N(萘磺酸甲醛缩聚物)、MS、C、SN-B(芳香族磺酸甲醛缩聚物)”、“HOMOGENOL L-18(高分子聚羧酸)”、“EMULGEN 920、930、935、985(聚氧乙烯壬基苯基醚)”、“ACETAMIN 86(硬脂基胺乙酸酯)”、Lubrizol社制“SOLSPERSE 5000(酞菁衍生物)、22000(偶氮颜料衍生物)、13240(聚酯胺)、3000、17000、27000(末端具有功能部的高分子)、24000、28000、32000、38500(接枝型高分子)”、日光化学社制“NIKKOL T106(聚氧乙烯脱水山梨糖醇单油酸酯)、MYS-IEX(聚氧乙烯单硬脂酸酯)”等。
这些其他树脂可以单独使用,也可以将2种以上组合使用。
(C)溶剂
本发明的分散组合物含有各种有机溶剂作为溶剂。
作为此处使用的溶剂的例子,可举出丙酮、丁酮、环己烷、乙酸乙酯、二氯乙烷、四氢呋喃、甲苯、乙二醇单甲醚、乙二醇单***、乙二醇二甲醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单***、乙酰基丙酮、环己酮、二丙酮醇、乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇***乙酸酯、乙二醇单异丙醚、乙二醇单丁醚乙酸酯、3-甲氧基丙醇、甲氧基甲氧基乙醇、二甘醇单甲醚、二甘醇单***、二甘醇二甲醚、二甘醇二***、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单***乙酸酯、3-甲氧基丙基乙酸酯、N,N-二甲基甲酰胺、二甲亚砜、γ-丁内酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等。
这些溶剂可以单独使用,或者混合使用。固态成分相对于溶剂的浓度,优选为2~60质量%。
聚合性组合物
本发明的一个实施方式所述的聚合性组合物,含有上述分散组合物、(D)聚合性化合物、以及(E)聚合引发剂等。以下详细叙述聚合性组合物。
(D)聚合性化合物
能够用于本发明的聚合性组合物的(D)聚合性化合物,为具有至少一个乙烯性不饱和双键的加成聚合性化合物,从具有至少1个、优选为2个以上末端乙烯性不饱和键的化合物中选择。这类化合物在该产业领域是众所周知的,在本发明中,可以不受约束地使用。
它们具有例如单体、预聚物、即2聚物、3聚物和低聚物、或者它们的混合物以及它们的共聚物等的化学形态。作为单体及其共聚物的例子,可举出不饱和羧酸(例如,丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸等)、以及其酯类、酰胺类,优选使用由不饱和羧酸与脂肪族多元醇化合物形成的酯、由不饱和羧酸与脂肪族多元胺化合物形成的酰胺类。另外,还优选使用具有羟基、氨基、巯基等亲核性取代基的不饱和羧酸酯类或者饱和羧酸酰胺类与单官能或多官能异氰酸酯类或者单官能或多官能环氧类形成的加成反应物;以及由上述不饱和羧酸酯类或者不饱和羧酸酰胺类与单官能或多官能的羧酸形成的脱水缩合反应物等。另外,还优选使用具有异氰酸酯基、环氧基等亲电子性取代基的不饱和羧酸酯类或者不饱和羧酸酰胺类与单官能或多官能的醇类、胺类、硫醇类形成的加成反应物;进而还优选使用具有卤原子基团(halogen group)、甲苯磺酰氧基等离去性取代基的不饱和羧酸酯类或者不饱和羧酸酰胺类与单官能或多官能的醇类、胺类、硫醇类形成的取代反应物。另外,作为其他的例子,还可以使用通过将上述不饱和羧酸取代为不饱和膦酸、苯乙烯、乙烯基醚等而获得的化合物组。
作为脂肪族多元醇化合物与不饱和羧酸形成的酯的单体的具体例,其中,作为丙烯酸酯,可举出二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸三甘醇酯、二丙烯酸1,3-丁二醇酯、二丙烯酸四亚甲基二醇酯、二丙烯酸丙二醇酯、二丙烯酸新戊二醇酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、二丙烯酸己二醇酯、二丙烯酸1,4-环己烷二醇酯、二丙烯酸四甘醇酯、二丙烯酸季戊四醇酯、三丙烯酸季戊四醇酯、四丙烯酸季戊四醇酯、二丙烯酸二季戊四醇酯、六丙烯酸二季戊四醇酯、三丙烯酸山梨糖醇酯、四丙烯酸山梨糖醇酯、五丙烯酸山梨糖醇酯、六丙烯酸山梨糖醇酯、三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、聚酯丙烯酸酯低聚物、异氰脲酸EO改性三丙烯酸酯等;
作为甲基丙烯酸酯,可举出二甲基丙烯酸四亚甲基二醇酯、二甲基丙烯酸三甘醇酯、二甲基丙烯酸新戊二醇酯、三羟甲基丙烷三(甲基丙烯酸酯)、三羟甲基乙烷三(甲基丙烯酸酯)、二甲基丙烯酸乙二醇酯、二甲基丙烯酸1,3-丁二醇酯、二甲基丙烯酸己二醇酯、二甲基丙烯酸季戊四醇酯、三甲基丙烯酸季戊四醇酯、四甲基丙烯酸季戊四醇酯、二甲基丙烯酸二季戊四醇酯、六甲基丙烯酸二季戊四醇酯、三甲基丙烯酸山梨糖醇酯、四甲基丙烯酸山梨糖醇酯、双〔对-(3-甲基丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)苯基〕二甲基甲烷、双-〔对-(甲基丙烯酰氧基乙氧基)苯基〕二甲基甲烷等;
作为衣康酸酯,可举出二衣康酸乙二醇酯、二衣康酸丙二醇酯、二衣康酸1,3-丁二醇酯、二衣康酸1,4-丁二醇酯、二衣康酸四亚甲基二醇酯、二衣康酸季戊四醇酯、四衣康酸山梨糖醇酯等;
作为巴豆酸酯,可举出二巴豆酸乙二醇酯、二巴豆酸四亚甲基二醇酯、二巴豆酸季戊四醇酯、四(二巴豆酸)山梨糖醇酯等;
作为异巴豆酸酯,可举出二异巴豆酸乙二醇酯、二异巴豆酸季戊四醇酯、四异巴豆酸山梨糖醇酯等;
作为马来酸酯,可举出二马来酸乙二醇酯、二马来酸三甘醇酯、二马来酸季戊四醇酯、四马来酸山梨糖醇酯等。
作为其他酯的例子,还优选使用例如,特公昭51-47334号公报、特开昭57-196231号公报记载的脂肪族醇酯类、以及特开昭59-5240号公报、特开昭59-5241号公报、特开平2-226149号公报记载的具有芳香族骨架的酯类、特开平1-165613号公报记载的含有氨基的酯类等。进而,可以使用上述的酯单体的混合物。
另外,作为由脂肪族多元胺化合物与不饱和羧酸形成的酰胺的单体的具体例,可举出亚甲基双-丙烯酰胺、亚甲基双-(甲基丙烯酰胺)、1,6-六亚甲基双-丙烯酰胺、1,6-六亚甲基双-(甲基丙烯酰胺)、二亚乙基三胺三丙烯酰胺、亚二甲苯基双丙烯酰胺、亚二甲苯基双(甲基丙烯酰胺)等。
作为其他的优选酰胺单体的例子,可举出特公昭54-21726号公报记载的具有亚环己基结构的单体。
另外,采用异氰酸酯与羟基的加成反应制造的氨基甲酸酯加成聚合性化合物也是优选的,作为这种具体例,可举出例如,特公昭48-41708号公报中记载的通过向1个分子中具有2个以上异氰酸酯基的聚异氰酸酯化合物中加成由下述式(V)表示的含有羟基的乙烯基单体而获得的、1个分子中具有2个以上聚合性乙烯基的乙烯基氨基甲酸酯化合物等。
下述式(V)中,R7和R8各自独立地表示H或者CH3。
【化39】
H2C=C(R7)COOCH2CH(R8)OH 式(V)
另外,特开昭51-37193号公报、特公平2-32293号公报、特公平2-16765号公报中记载的氨基甲酸酯丙烯酸酯类、特公昭58-49860号公报、特公昭56-17654号公报、特公昭62-39417号公报、特公昭62-39418号公报记载的具有环氧乙烷骨架的氨基甲酸酯化合物类也是优选的。进而,通过使用特开昭63-277653号公报、特开昭63-260909号公报、特开平1-105238号公报中记载的、在分子内具有氨基结构或硫醚结构的聚合性化合物类,可以获得感光速度非常优良的聚合性组合物。
作为其他的例子,可举出特开昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭52-30490号、各公报中记载的聚酯丙烯酸酯类、环氧树脂与(甲基)丙烯酸反应获得的环氧丙烯酸酯类等多官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。另外,还可举出特公昭46-43946号公报、特公平1-40337号公报、特公平1-40336号公报记载的特定的不饱和化合物、特开平2-25493号公报记载的乙烯基膦酸化合物等。另外,在某些情况下,优选使用特开昭61-22048号公报记载的含有全氟烷基的结构。进而,也可以使用日本粘接协会志vol.20、No.7、300~308页(1984年)中记载的光固化性单体和低聚物。
对于这些聚合性化合物,其结构、单独使用或是并用、添加量等的使用方法的详细条件,可以根据聚合性组合物的最终性能设计而任意设定。例如,根据如下观点来选择。
在敏感性方面,优选每1分子中的不饱和基团含量多的结构,在多数情况下,优选2官能以上。另外,为了提高固化膜的强度,优选3官能以上的结构,进而,通过将不同官能数、不同聚合性基团(例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯化合物、乙烯基醚化合物)的结构并用来调节敏感性和强度二者的方法也是有效的。
另外,对于与聚合性组合物中含有的其他成分(例如,聚合引发剂、钛黑等遮光材料(颜料、染料)等)的相溶性、分散性,聚合性化合物的选择、使用方法是重要的因素。例如,通过使用低纯度化合物、2种以上的其他成分并用,有时能够提高相溶性。另外,为了提高与基板等硬质表面的密合性,可以选择特定的结构。
聚合性组合物的全固态成分中,(D)聚合性化合物的量优选在5质量%~90质量%的范围内,更优选在10质量%~85质量%的范围内,进一步优选在20质量%~80质量%的范围内。
如果在该范围内,则色调不会变浅,粘合敏感性和显影性均良好。
(E)聚合引发剂
本发明中适用的(E)聚合引发剂,为受光分解、并引发和/或促进(D)聚合性化合物聚合的化合物,优选在波长300nm~500nm的区域内具有吸收。另外,聚合引发剂可以单独使用,或者将2种以上合并使用。
作为(E)聚合引发剂,可举出例如,有机卤代化合物、二唑化合物、羰基化合物、酮缩醇化合物、苯偶姻化合物、吖啶化合物、有机过氧化化合物、偶氮化合物、香豆素化合物、叠氮化合物、金属茂化合物、六芳基联咪唑化合物、有机硼酸化合物、二磺酸化合物、肟酯化合物、鎓盐化合物、酰基膦(氧化物)化合物。
作为有机卤代化合物的具体例,可举出若林等、“Bull Chem.Soc Japan”42、2924(1969)、美国专利第3,905,815号说明书、特公昭46-4605号公报、特开昭48-36281号公报、特开昭55-32070号公报、特开昭60-239736号公报、特开昭61-169835号公报、特开昭61-169837号公报、特开昭62-58241号公报、特开昭62-212401号公报、特开昭63-70243号公报、特开昭63-298339号公报、M.P.Hutt“Jurnal of Heterocyclic Chemistry”1(No3),(1970)等中记载的化合物,特别地可举出三卤代甲基取代的唑化合物、s-三嗪化合物。
作为s-三嗪化合物,较优选至少一种单、二、或者三卤取代甲基键合到s-三嗪环上的s-三嗪衍生物,具体地可举出例如,2,4,6-三(一氯甲基)-s-三嗪、2,4,6-三(二氯甲基)-s-三嗪、2,4,6-三(三氯甲基)-s-三嗪、2-甲基-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-正丙基-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(α,α,β-三氯乙基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-苯基-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(对-甲氧基苯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3,4-环氧苯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(对氯苯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-〔1-(对甲氧基苯基)-2,4-丁二烯基〕-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-苯乙烯基-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(对甲氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(对-异丙氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(对甲苯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-萘氧基萘基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-苯硫基-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-苄硫基-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2,4,6-三(二溴甲基)-s-三嗪、2,4,6-三(三溴甲基)-s-三嗪、2-甲基-4,6-双(三溴甲基)-s-三嗪、2-甲氧基-4,6-双(三溴甲基)-s-三嗪等。
作为二唑化合物的例子,可举出2-三氯甲基-5-苯乙烯基-1,3,4-氧代二唑、2-三氯甲基-5-(氰基苯乙烯基)-1,3,4-氧代二唑、2-三氯甲基-5-(萘并-1-基)-1,3,4-氧代二唑、2-三氯甲基-5-(4-苯乙烯基)苯乙烯基-1,3,4-氧代二唑等。
作为羰基化合物的例子,可举出二苯甲酮、米蚩酮、2-甲基二苯甲酮、3-甲基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、4-溴二苯甲酮、2-羧基二苯甲酮等二苯甲酮衍生物;2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、1-羟基环己基苯基酮、α-羟基-2-甲基苯基丙酮、1-羟基-1-甲基乙基-(对-异丙基苯基)酮、1-羟基-1-(对-十二烷基苯基)酮、2-甲基-(4’-(甲硫基)苯基)-2-吗啉代-1-丙酮、1,1,1-三氯甲基-(对-丁基苯基)酮、2-苄基-2-二甲氨基-4-吗啉代丙基苯基甲酮等苯乙酮衍生物;噻吨酮、2-乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮等噻吨酮衍生物;对-二甲氨基苯甲酸乙酯、对-二乙氨基苯甲酸乙酯等苯甲酸酯衍生物等。
作为酮缩醇化合物的例子,可举出苄基甲基酮缩醇、苄基-β-甲氧基乙基乙基乙缩醛等。
作为苯偶姻化合物的例子,可举出间-苯偶姻异丙基醚、苯偶姻异丁基醚、苯偶姻甲基醚、甲基邻-苯甲酰基苯甲酸酯等。
作为吖啶化合物的例子,可举出9-苯基吖啶、1,7-双(9-吖啶基)庚烷等。
作为有机过氧化化合物,可举出例如,三甲基环己酮过氧化物、乙酰基丙酮过氧化物、1,1-双(叔丁基过氧化)-3,3,5-三甲基环己烷、1,1-双(叔丁基过氧化)环己烷、2,2-双(叔丁基过氧化)丁烷、叔丁基过氧化氢、枯烯过氧化氢、二异丙苯过氧化氢、2,5-二甲基己烷-2,5-二氢过氧化物、1,1,3,3-四甲基丁基过氧化氢、叔丁基过氧化枯基、二枯基过氧化物、2,5-二甲基-2,5-二(叔丁基过氧化)己烷、2,5-复盆子酮基(oxanoyl)过氧化物、过氧化琥珀酸、过氧化苯甲酰、2,4-二氯过氧化苯甲酰、二异丙基过氧化二碳酸酯、二-2-乙基己基过氧化二碳酸酯、二-2-乙氧基乙基过氧化二碳酸酯、二甲氧基异丙基过氧化碳酸酯、二(3-甲基-3-甲氧基丁基)过氧化二碳酸酯、叔丁基过氧化乙酸酯、叔丁基过氧化新戊酸酯、叔丁基过氧化新癸酸酯、叔丁基过氧化辛酸酯、叔丁基过氧化月桂酸酯、3,3’,4,4’-四-(叔丁基过氧化羰基)二苯甲酮、3,3’,4,4’-四-(叔己基过氧化羰基)二苯甲酮、3,3’,4,4’-四-(对-异丙基枯基过氧化羰基)二苯甲酮、羰基二(叔丁基过氧化二氢二邻苯二甲酸酯)、羰基二(叔己基过氧化二氢二邻苯二甲酸酯)等。
作为偶氮化合物,可举出例如,特开平8-108621号公报中记载的偶氮化合物等。
作为香豆素化合物,可举出例如,3-甲基-5-氨基-((s-三嗪-2-基)氨基)-3-苯基香豆素、3-氯-5-二乙氨基-((s-三嗪-2-基)氨基)-3-苯基香豆素、3-丁基-5-二甲氨基-((s-三嗪-2-基)氨基)-3-苯基香豆素等。
作为叠氮化合物的例子,可举出美国专利第2848328号说明书、美国专利第2852379号说明书以及美国专利第2940853号说明书中记载的有机叠氮化合物、2,6-双(4-叠氮基亚苄基)-4-乙基环己酮(BAC-E)等。
作为金属茂化合物的例子,可举出特开昭59-152396号公报、特开昭61-151197号公报、特开昭63-41484号公报、特开平2-249号公报、特开平2-4705号公报、特开平5-83588号公报记载的各种二茂钛化合物,作为具体例,可举出二-环戊二烯基-Ti-双-苯基、二-环戊二烯基-Ti-双-2,6-二氟苯基-1-基、二-环戊二烯基-Ti-双-2,4-二-氟苯基-1-基、二-环戊二烯基-Ti-双-2,4,6-三氟苯基-1-基、二-环戊二烯基-Ti-双-2,3,5,6-四氟苯基-1-基、二-环戊二烯基-Ti-双-2,3,4,5,6-五氟苯基-1-基、二-甲基环戊二烯基-Ti-双-2,6-二氟苯基-1-基、二-甲基环戊二烯基-Ti-双-2,4,6-三氟苯基-1-基、二-甲基环戊二烯基-Ti-双-2,3,5,6-四氟苯基-1-基、二-甲基环戊二烯基-Ti-双-2,3,4,5,6-五氟苯基-1-基、特开平1-304453号公报、特开平1-152109号公报记载的铁-芳烃配合物等。
作为联咪唑化合物,优选例如,六芳基联咪唑化合物(2,4,5-三苯基咪唑二聚化合物)等。
作为六芳基联咪唑化合物,可举出例如,特公昭45-37377号公报、特公昭44-86516号公报记载的2,4,5-三苯基咪唑二聚物类、特公平6-29285号公报、美国专利第3,479,185号、美国专利第4,311,783号、美国专利第4,622,286号等各说明书中记载的各种化合物,作为具体例,可举出2,2’-双(邻-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基联咪唑、2,2’-双(邻-溴苯基)-4,4’,5,5’-四苯基联咪唑、2,2’-双(邻、对-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基联咪唑、2,2’-双(邻-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(间-甲氧基苯基)联咪唑、2,2’-双(邻、邻’-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基联咪唑、2,2’-双(邻-硝基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基联咪唑、2,2’-双(邻-甲基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基联咪唑、2,2’-双(邻-三氟苯基)-4,4’,5,5’-四苯基联咪唑等。
作为有机硼酸盐化合物的具体例,可举出例如,特开昭62-143044号、特开昭62-150242号、特开平9-188685号、特开平9-188686号、特开平9-188710号、特开2000-131837、特开2002-107916、专利第2764769号、特开2002-116539号等各公报以及Kunz,Martin“Rad Tech’98.Proceeding April 19-22,1998,Chicago”等中记载的有机硼酸盐;特开平6-157623号公报、特开平6-175564号公报、特开平6-175561号公报中记载的有机硼锍配合物或者有机硼氧代锍配合物、特开平6-175554号公报、特开平6-175553号公报中记载的有机硼碘鎓配合物;特开平9-188710号公报中记载的有机硼鏻配合物;特开平6-348011号公报、特开平7-128785号公报、特开平7-140589号公报、特开平7-306527号公报、特开平7-292014号公报等有机硼过渡金属配位化合物等。
作为二砜化合物的例子,可举出特开昭61-166544号公报、特开2002-328465号说明书等中记载的化合物等。
作为本发明中使用的(E)聚合引发剂,从敏感性、经时稳定性、后加热时的着色的观点考虑,优选肟化合物。
作为肟化合物,可举出J.C.S.Perkin II(1979)1653-1660)、J.C.S.Perkin II(1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202-232、特开2000-66385号公报记载的化合物、特开2000-80068号公报、特表2004-534797号公报记载的化合物等。
作为本发明中适用的肟化合物,从敏感性、经时稳定性的观点考虑,更优选由下述式(a)表示的化合物。
【化40】
式(a)中,R和X各自独立地表示一价取代基,A表示二价有机基团,Ar表示芳基。n为0~5的整数。当存在多个X时,多个X可以相同或不同。
作为由式(a)的R表示的一价取代基的例子,优选可举出以下所示的一价非金属原子基团。
作为式(a)的由R表示的一价非金属原子基团的例子,可举出可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的烯基、可以具有取代基的炔基、可以具有取代基的烷基亚硫酰基、可以具有取代基的芳基亚硫酰基、可以具有取代基的烷基磺酰基、可以具有取代基的芳基磺酰基、可以具有取代基的酰基、可以具有取代基的烷氧羰基、可以具有取代基的芳氧羰基、可以具有取代基的膦酰基(phosphinoyl)、可以具有取代基的杂环基、可以具有取代基的烷基硫代羰基、可以具有取代基的芳基硫代羰基、可以具有取代基的二烷基氨基羰基、可以具有取代基的二烷基氨基硫代羰基等。
作为可以具有取代基的烷基,优选碳数1~30的烷基,可举出例如,甲基、乙基、丙基、丁基、己基、辛基、癸基、十二烷基、十八烷基、异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、1-乙基戊基、环戊基、环己基、三氟甲基、2-乙基己基、苯甲酰甲基、1-萘甲酰甲基、2-萘甲酰甲基、4-甲基硫烷基(methylsulfanyl)苯甲酰甲基、4-苯基硫烷基苯甲酰甲基、4-二甲氨基苯甲酰甲基、4-氰基苯甲酰甲基、4-甲基苯甲酰甲基、2-甲基苯甲酰甲基、3-氟苯甲酰甲基、3-三氟甲基苯甲酰甲基、3-硝基苯甲酰甲基等。
作为可以具有取代基的芳基,优选碳数6~30的芳基,可举出例如,苯基、联苯基、1-萘基、2-萘基、9-蒽基、9-菲基、1-芘基、5-并四苯基、1-茚基、2-薁基、9-芴基、三联苯基、四联苯基、邻-、间-和对-甲苯基、二甲苯基、邻-、间-和对-枯烯基、基、并环戊二烯基、联二萘基、三联萘基、四联萘基、庚搭烯基、亚联苯基、引达省(indacenyl)基、荧蒽基、苊基、醋蒽烯(aceanthrylenyl)基、非那烯(phenalenyl)基、芴基、蒽基、联蒽基、三联蒽基、四联蒽基、蒽醌基、菲基、苯并[9,10]菲基、芘基、基、并四苯基、七曜烯(pleiadenyl)基、苉基、苝基、五苯基、并五苯基、四亚苯基、六苯基、并六苯基、玉红省基、蒄基、联三萘基、庚芬基、并七苯基、皮蒽基、卵苯基等。
作为可以具有取代基的烯基,优选碳数2~10的烯基,可举出例如,乙烯基、烯丙基、苯乙烯基等。
作为可以具有取代基的炔基,优选碳数2~10的炔基,可举出例如,乙炔基、丙炔基、炔丙基等。
作为可以具有取代基的烷基亚硫酰基,优选碳数1~20的烷基亚硫酰基,可举出例如,甲基亚硫酰基、乙基亚硫酰基、丙基亚硫酰基、异丙基亚硫酰基、丁基亚硫酰基、己基亚硫酰基、环己基亚硫酰基、辛基亚硫酰基、2-乙基己基亚硫酰基、癸酰基亚硫酰基、十二烷酰基亚硫酰基、十八烷酰基亚硫酰基、氰基甲基亚硫酰基、甲氧基甲基亚硫酰基等。
作为可以具有取代基的芳基亚硫酰基,优选碳数6~30的芳基亚硫酰基,可举出例如,苯基亚硫酰基、1-萘基亚硫酰基、2-萘基亚硫酰基、2-氯苯基亚硫酰基、2-甲基苯基亚硫酰基、2-甲氧基苯基亚硫酰基、2-丁氧基苯基亚硫酰基、3-氯苯基亚硫酰基、3-三氟甲基苯基亚硫酰基、3-氰基苯基亚硫酰基、3-硝基苯基亚硫酰基、4-氟苯基亚硫酰基、4-氰基苯基亚硫酰基、4-甲氧基苯基亚硫酰基、4-甲基硫烷基苯基亚硫酰基、4-苯基硫烷基苯基亚硫酰基、4-二甲氨基苯基亚硫酰基等。
作为可以具有取代基的烷基磺酰基,优选碳数1~20的烷基磺酰基,可举出例如,甲基磺酰基、乙基磺酰基、丙基磺酰基、异丙基磺酰基、丁基磺酰基、己基磺酰基、环己基磺酰基、辛基磺酰基、2-乙基己基磺酰基、癸酰基磺酰基、十二烷酰基磺酰基、十八烷酰基磺酰基、氰基甲基磺酰基、甲氧基甲基磺酰基、全氟烷基磺酰基等。
作为可以具有取代基的芳基磺酰基,优选碳数6~30的芳基磺酰基,可举出例如,苯基磺酰基、1-萘基磺酰基、2-萘基磺酰基、2-氯苯基磺酰基、2-甲基苯基磺酰基、2-甲氧基苯基磺酰基、2-丁氧基苯基磺酰基、3-氯苯基磺酰基、3-三氟甲基苯基磺酰基、3-氰基苯基磺酰基、3-硝基苯基磺酰基、4-氟苯基磺酰基、4-氰基苯基磺酰基、4-甲氧基苯基磺酰基、4-甲基硫烷基苯基磺酰基、4-苯基硫烷基苯基磺酰基、4-二甲氨基苯基磺酰基等。
作为可以具有取代基的酰基,优选碳数2~20的酰基,可举出例如,乙酰基、丙酰基、丁酰基、三氟甲基羰基、戊酰基、苯甲酰基、1-萘甲酰基、2-萘甲酰基、4-甲基硫烷基苯甲酰基、4-苯基硫烷基苯甲酰基、4-二甲氨基苯甲酰基、4-二乙氨基苯甲酰基、2-氯苯甲酰基、2-甲基苯甲酰基、2-甲氧基苯甲酰基、2-丁氧基苯甲酰基、3-氯苯甲酰基、3-三氟甲基苯甲酰基、3-氰基苯甲酰基、3-硝基苯甲酰基、4-氟苯甲酰基、4-氰基苯甲酰基、4-甲氧基苯甲酰基等。
作为可以具有取代基的烷氧羰基,优选碳数2~20的烷氧羰基,可举出例如,甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、丁氧基羰基、己氧基羰基、辛氧基羰基、癸氧基羰基、十八烷氧羰基、三氟甲氧基羰基等。
作为可以具有取代基的芳氧羰基,可举出例如,苯氧基羰基、1-萘氧基羰基、2-萘氧基羰基、4-甲基硫烷基苯氧基羰基、4-苯基硫烷基苯氧基羰基、4-二甲氨基苯氧基羰基、4-二乙氨基苯氧基羰基、2-氯苯氧基羰基、2-甲基苯氧基羰基、2-甲氧基苯氧基羰基、2-丁氧基苯氧基羰基、3-氯苯氧基羰基、3-三氟甲基苯氧基羰基、3-氰基苯氧基羰基、3-硝基苯氧基羰基、4-氟苯氧基羰基、4-氰基苯氧基羰基、4-甲氧基苯氧基羰基等。
作为可以具有取代基的膦酰基(Phosphinoyl),优选总碳数2~50的膦酰基,可举出例如,二甲基膦酰基、二乙基膦酰基、二丙基膦酰基、二苯基膦酰基、二甲氧基膦酰基、二乙氧基膦酰基、二苯甲酰基膦酰基、双(2,4,6-三甲基苯基)膦酰基等。
作为可以具有取代基的杂环基,优选含有氮原子、氧原子、硫原子、磷原子的芳香族或者脂肪族的杂环。可举出例如,噻吩基、苯并[b]噻吩基、萘并[2,3-b]噻吩基、噻蒽基、呋喃基、吡喃基、异苯并呋喃基、色烯基、呫吨基、吩噻基(phenoxathiinyl)、2H-吡咯基、吡咯基、咪唑基、吡唑基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、吲哚嗪基、异吲哚基、3H-吲哚基、吲哚基、1H-吲唑基、嘌呤基、4H-喹嗪基、异喹啉基、喹啉基、酞嗪基、萘啶基、喹喔啉基、喹唑啉基、噌啉基、蝶啶基、4aH-咔唑基、咔唑基、β-咔啉基、菲啶基、吖啶基、白啶基、菲咯啉基、吩嗪基、吩砒嗪基、异噻唑基、吩噻嗪基、异唑基、呋咱基、吩嗪基、异色满基、色满基、吡咯烷基、吡咯啉基、咪唑烷基、咪唑啉基、吡唑烷基、吡唑啉基、哌啶基、哌嗪基、二氢吲哚基、异二氢吲哚基、奎宁环基、吗啉基、噻吨酮基等。
作为可以具有取代基的烷基硫代羰基,可举出例如,甲基硫代羰基、丙基硫代羰基、丁基硫代羰基、己基硫代羰基、辛基硫代羰基、癸基硫代羰基、十八烷基硫代羰基、三氟甲基硫代羰基等。
作为可以具有取代基的芳基硫代羰基,可举出例如,1-萘基硫代羰基、2-萘基硫代羰基、4-甲基硫烷基苯基硫代羰基、4-苯基硫烷基苯基硫代羰基、4-二甲氨基苯基硫代羰基、4-二乙氨基苯基硫代羰基、2-氯苯基硫代羰基、2-甲基苯基硫代羰基、2-甲氧基苯基硫代羰基、2-丁氧基苯基硫代羰基、3-氯苯基硫代羰基、3-三氟甲基苯基硫代羰基、3-氰基苯基硫代羰基、3-硝基苯基硫代羰基、4-氟苯基硫代羰基、4-氰基苯基硫代羰基、4-甲氧基苯基硫代羰基等。
作为可以具有取代基的二烷基氨基羰基,可举出例如,二甲氨基羰基、二甲氨基羰基、二丙氨基羰基、二丁氨基羰基等。
作为可以具有取代基的二烷基氨基硫代羰基,可举出例如,二甲氨基硫代羰基、二丙氨基硫代羰基、二丁氨基硫代羰基等。
其中,从高敏感性化的观点考虑,作为式(a)的R,更优选酰基,具体地,优选乙酰基、ethyloyl、丙酰基(propioyl)、苯甲酰基、甲苯酰基。
作为式(a)的由A表示的二价有机基团,可举出可以具有取代基的碳数1~12的亚烷基、可以具有取代基的亚环己基、可以具有取代基的亚炔基。
作为能够引入到这些基团中的取代基,可举出例如,氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等卤原子基团;甲氧基、乙氧基、叔丁氧基等烷氧基、苯氧基、对甲苯氧基等芳氧基;甲氧基羰基、丁氧基羰基、苯氧基羰基等烷氧羰基;乙酰氧基、丙酰氧基、苯甲酰氧基等酰氧基;乙酰基、苯甲酰基、异丁酰基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、甲草酰基等酰基;甲基硫烷基、叔丁基硫烷基等烷基硫烷基;苯基硫烷基、对甲苯基硫烷基等芳基硫烷基;甲氨基、环己基氨基等烷基氨基;二甲氨基、二乙氨基、吗啉代基、哌啶子基等二烷基氨基;苯基氨基、对甲苯基氨基等芳基氨基;甲基、乙基、叔丁基、十二烷基等烷基;苯基、对甲苯基、二甲苯基、枯烯基、萘基、蒽基、菲基等芳基等,此外,还可举出羟基、羧基、甲酰基、巯基、磺基、甲磺酰基、对甲苯磺酰基、氨基、硝基、氰基、三氟甲基、三氯甲基、三甲基甲硅烷基、磷酸亚基、膦酰基、三甲基铵基、二甲基锍基、三苯基苯甲酰甲基鏻基等。
其中,作为式(a)的A,从提高敏感性、抑制加热经时带来的着色的观点考虑,优选无取代的亚烷基、被烷基(例如,甲基、乙基、叔丁基、十二烷基)取代的亚烷基、被烯基(例如,乙烯基、烯丙基)取代的亚烷基、被芳基(例如,苯基、对-甲苯基、二甲苯基、枯烯基、萘基、蒽基、菲基、苯乙烯基)取代的亚烷基。
作为式(a)的由Ar表示的芳基,优选碳数6~30的芳基,而且,可以具有取代基。
作为具体例,可举出苯基、联苯基、1-萘基、2-萘基、9-蒽基、9-菲基、1-芘基、5-并四苯基、1-茚基、2-薁基、9-芴基、三联苯基、四联苯基、邻-、间-和对-甲苯基、二甲苯基、邻-、间-和对-枯烯基、基、并环戊二烯基、联二萘基、三联萘基、四联萘基、庚搭烯基、亚联苯基、引达省(indacenyl)基、荧蒽基、苊基、醋蒽烯(aceanthrylenyl)基、非那烯(phenalenyl)基、芴基、蒽基、联蒽基、三联蒽基、四联蒽基、蒽醌基、菲基、苯并[9,10]菲基、芘基、基、并四苯基、七曜烯(pleiadenyl)基、苉基、苝基、五苯基、并五苯基、四亚苯基、六苯基、并六苯基、玉红省基、蒄基、联三萘基、庚芬基、并七苯基、皮蒽基、卵苯基等。
其中,从提高敏感性、抑制加热经时带来的着色的观点考虑,优选取代或者无取代的苯基。
当上述苯基具有取代基时,作为其取代基,可举出例如,氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等卤原子基团;甲氧基、乙氧基、叔丁氧基等烷氧基;苯氧基、对甲苯氧基等芳氧基;甲基硫氧基(methythioxy group)、乙基硫氧基、叔丁基硫氧基等烷基硫氧基;苯基硫氧基、对甲苯基硫氧基等芳基硫氧基;甲氧基羰基、丁氧基羰基、苯氧基羰基等烷氧羰基;乙酰氧基、丙酰氧基、苯甲酰氧基等酰氧基;乙酰基、苯甲酰基、异丁酰基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、甲草酰基等酰基;甲基硫烷基、叔丁基硫烷基等烷基硫烷基;苯基硫烷基、对甲苯基硫烷基等芳基硫烷基;甲氨基、环己基氨基等烷基氨基;二甲氨基、二乙氨基、吗啉代基、哌啶子基等二烷基氨基;苯基氨基、对甲苯基氨基等芳基氨基;乙基、叔丁基、十二烷基等烷基;羟基、羧基、甲酰基、巯基、磺基、甲磺酰基、对甲苯磺酰基、氨基、硝基、氰基、三氟甲基、三氯甲基、三甲基甲硅烷基、磷酸亚基、膦酰基、三甲基铵基、二甲基锍基、三苯基苯甲酰甲基鏻基等。
式(a)中,由上述Ar与相邻的S形成的“SAr”的结构,从敏感性的观点考虑,优选为以下所示结构。
【化41】
作为式(a)的由X表示的一价取代基,可举出可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的烯基、可以具有取代基的炔基、可以具有取代基的烷氧基、可以具有取代基的芳氧基、可以具有取代基的烷基硫氧基、可以具有取代基的芳基硫氧基、可以具有取代基的酰氧基、可以具有取代基的烷基硫烷基、可以具有取代基的芳基硫烷基、可以具有取代基的烷基亚硫酰基、可以具有取代基的芳基亚硫酰基、可以具有取代基的烷基磺酰基、可以具有取代基的芳基磺酰基、可以具有取代基的酰基、可以具有取代基的烷氧羰基、可以具有取代基的氨基甲酰基、可以具有取代基的氨磺酰基、可以具有取代基的氨基、可以具有取代基的膦酰基、可以具有取代基的杂环基、卤原子基团等。
作为可以具有取代基的烷基,优选碳数1~30的烷基,可举出例如,甲基、乙基、丙基、丁基、己基、辛基、癸基、十二烷基、十八烷基、异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、1-乙基戊基、环戊基、环己基、三氟甲基、2-乙基己基、苯甲酰甲基、1-萘甲酰基甲基、2-萘甲酰基甲基、4-甲基硫烷基苯甲酰甲基、4-苯基硫烷基苯甲酰甲基、4-二甲氨基苯甲酰甲基、4-氰基苯甲酰甲基、4-甲基苯甲酰甲基、2-甲基苯甲酰甲基、3-氟苯甲酰甲基、3-三氟甲基苯甲酰甲基、3-硝基苯甲酰甲基等。
作为可以具有取代基的芳基,优选碳数6~30的芳基,可举出苯基、联苯基、1-萘基、2-萘基、9-蒽基、9-菲基、1-芘基、5-并四苯基、1-茚基、2-薁基、9-芴基、三联苯基、四联苯基、邻-、间-和对-甲苯基、二甲苯基、邻-、间-和对-枯烯基、基、并环戊二烯基、联二萘基、三联萘基、四联萘基、庚搭烯基、亚联苯基、引达省(indacenyl)基、荧蒽基、苊基、醋蒽烯(aceanthrylenyl)基、非那烯(phenalenyl)基、芴基、蒽基、联蒽基、三联蒽基、四联蒽基、蒽醌基、菲基、苯并[9,10]菲基、芘基、基、并四苯基、七曜烯(pleiadenyl)基、苉基、苝基、五苯基、并五苯基、四亚苯基、六苯基、并六苯基、玉红省基、蒄基、联三萘基、庚芬基、并七苯基、皮蒽基、卵苯基等。
作为可以具有取代基的烯基,优选碳数2~10的烯基,可举出例如,乙烯基、烯丙基、苯乙烯基等。
作为可以具有取代基的炔基,优选碳数2~10的炔基,可举出例如,乙炔基、丙炔基、炔丙基等。
作为可以具有取代基的烷氧基,优选碳数1~30的烷氧基,可举出例如,甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、异戊氧基、己氧基、庚氧基、辛氧基、2-乙基己氧基、癸氧基、十二烷氧基、十八烷氧基、乙氧基羰基甲基、2-乙基己氧基羰基甲氧基、氨基羰基甲氧基、N,N-二丁氨基羰基甲氧基、N-甲氨基羰基甲氧基、N-乙氨基羰基甲氧基、N-辛氨基羰基甲氧基、N-甲基-N-苄基氨基羰基甲氧基、苄氧基、氰基甲氧基等。
作为可以具有取代基的芳基氧基,优选碳数6~30的芳基氧基,可举出例如,苯基氧基、1-萘基氧基、2-萘基氧基、2-氯苯基氧基、2-甲基苯基氧基、2-甲氧基苯基氧基、2-丁氧基苯基氧基、3-氯苯基氧基、3-三氟甲基苯基氧基、3-氰基苯基氧基、3-硝基苯基氧基、4-氟苯基氧基、4-氰基苯基氧基、4-甲氧基苯基氧基、4-二甲氨基苯基氧基、4-甲基硫烷基苯基氧基、4-苯基硫烷基苯基氧基等。
作为可以具有取代基的烷基硫氧基(thioxy),优选碳数1~30的硫代烷氧基,可举出例如,甲基硫氧基、乙基硫氧基、丙基硫氧基、异丙基硫氧基、丁基硫氧基、异丁基硫氧基、仲丁基硫氧基、叔丁基硫氧基、戊基硫氧基、异戊基硫氧基、己基硫氧基、庚基硫氧基、辛基硫氧基、2-乙基己基硫氧基、癸基硫氧基、十二烷基硫氧基、十八烷基硫氧基、苄基硫氧基等。
作为可以具有取代基的芳基硫氧基,优选碳数6~30的芳基硫氧基,可举出例如,苯基硫氧基、1-萘基硫氧基、2-萘基硫氧基、2-氯苯基硫氧基、2-甲基苯基硫氧基、2-甲氧基苯基硫氧基、2-丁氧基苯基硫氧基、3-氯苯基硫氧基、3-三氟甲基苯基硫氧基、3-氰基苯基硫氧基、3-硝基苯基硫氧基、4-氟苯基硫氧基、4-氰基苯基硫氧基、4-甲氧基苯基硫氧基、4-二甲氨基苯基硫氧基、4-甲基硫烷基苯基硫氧基、4-苯基硫烷基苯基硫氧基等。
作为可以具有取代基的酰氧基,优选碳数2~20的酰氧基,可举出例如,乙酰氧基、丙酰氧基、丁酰氧基、戊酰氧基、三氟甲基碳酰氧基、苯甲酰氧基、1-萘基碳酰氧基、2-萘基碳酰氧基等。
作为可以具有取代基的烷基硫烷基,优选碳数1~20的烷基硫烷基,可举出例如,甲基硫烷基、乙基硫烷基、丙基硫烷基、异丙基硫烷基、丁基硫烷基、己基硫烷基、环己基硫烷基、辛基硫烷基、2-乙基己基硫烷基、癸酰基硫烷基、十二烷酰基硫烷基、十八烷酰基硫烷基、氰基甲基硫烷基、甲氧基甲基硫烷基等。
作为可以具有取代基的芳基硫烷基,优选碳数6~30的芳基硫烷基,可举出例如,苯基硫烷基、1-萘基硫烷基、2-萘基硫烷基、2-氯苯基硫烷基、2-甲基苯基硫烷基、2-甲氧基苯基硫烷基、2-丁氧基苯基硫烷基、3-氯苯基硫烷基、3-三氟甲基苯基硫烷基、3-氰基苯基硫烷基、3-硝基苯基硫烷基、4-氟苯基硫烷基、4-氰基苯基硫烷基、4-甲氧基苯基硫烷基、4-甲基硫烷基苯基硫烷基、4-苯基硫烷基苯基硫烷基、4-二甲氨基苯基硫烷基等。
作为可以具有取代基的烷基亚硫酰基,优选碳数1~20的烷基亚硫酰基,可举出例如,甲基亚硫酰基、乙基亚硫酰基、丙基亚硫酰基、异丙基亚硫酰基、丁基亚硫酰基、己基亚硫酰基、环己基亚硫酰基、辛基亚硫酰基、2-乙基己基亚硫酰基、癸酰基亚硫酰基、十二烷酰基亚硫酰基、十八烷酰基亚硫酰基、氰基甲基亚硫酰基、甲氧基甲基亚硫酰基等。
作为可以具有取代基的芳基亚硫酰基,优选碳数6~30的芳基亚硫酰基,可举出例如,苯基亚硫酰基、1-萘基亚硫酰基、2-萘基亚硫酰基、2-氯苯基亚硫酰基、2-甲基苯基亚硫酰基、2-甲氧基苯基亚硫酰基、2-丁氧基苯基亚硫酰基、3-氯苯基亚硫酰基、3-三氟甲基苯基亚硫酰基、3-氰基苯基亚硫酰基、3-硝基苯基亚硫酰基、4-氟苯基亚硫酰基、4-氰基苯基亚硫酰基、4-甲氧基苯基亚硫酰基、4-甲基硫烷基苯基亚硫酰基、4-苯基硫烷基苯基亚硫酰基、4-二甲氨基苯基亚硫酰基等。
作为可以具有取代基的烷基磺酰基,优选碳数1~20的烷基磺酰基,可举出例如,甲基磺酰基、乙基磺酰基、丙基磺酰基、异丙基磺酰基、丁基磺酰基、己基磺酰基、环己基磺酰基、辛基磺酰基、2-乙基己基磺酰基、癸酰基磺酰基、十二烷酰基磺酰基、十八烷酰基磺酰基、氰基甲基磺酰基、甲氧基甲基磺酰基等。
作为可以具有取代基的芳基磺酰基,优选碳数6~30的芳基磺酰基,可举出例如,苯基磺酰基、1-萘基磺酰基、2-萘基磺酰基、2-氯苯基磺酰基、2-甲基苯基磺酰基、2-甲氧基苯基磺酰基、2-丁氧基苯基磺酰基、3-氯苯基磺酰基、3-三氟甲基苯基磺酰基、3-氰基苯基磺酰基、3-硝基苯基磺酰基、4-氟苯基磺酰基、4-氰基苯基磺酰基、4-甲氧基苯基磺酰基、4-甲基硫烷基苯基磺酰基、4-苯基硫烷基苯基磺酰基、4-二甲氨基苯基磺酰基等。
作为可以具有取代基的酰基,优选碳数2~20的酰基,可举出例如,乙酰基、丙酰基、丁酰基、三氟甲基羰基、戊酰基、苯甲酰基、1-萘甲酰基、2-萘甲酰基、4-甲基硫烷基苯甲酰基、4-苯基硫烷基苯甲酰基、4-二甲氨基苯甲酰基、4-二乙氨基苯甲酰基、2-氯苯甲酰基、2-甲基苯甲酰基、2-甲氧基苯甲酰基、2-丁氧基苯甲酰基、3-氯苯甲酰基、3-三氟甲基苯甲酰基、3-氰基苯甲酰基、3-硝基苯甲酰基、4-氟苯甲酰基、4-氰基苯甲酰基、4-甲氧基苯甲酰基等。
作为可以具有取代基的烷氧基羰基,优选碳数2~20的烷氧基羰基,可举出例如,甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、丁氧基羰基、己氧基羰基、辛氧基羰基、癸氧基羰基、十八烷氧羰基、苯氧基羰基、三氟甲基氧基羰基、1-萘氧基羰基、2-萘氧基羰基、4-甲基硫烷基苯基氧基羰基、4-苯基硫烷基苯基氧基羰基、4-二甲氨基苯基氧基羰基、4-二乙氨基苯基氧基羰基、2-氯苯基氧基羰基、2-甲基苯基氧基羰基、2-甲氧基苯基氧基羰基、2-丁氧基苯基氧基羰基、3-氯苯基氧基羰基、3-三氟甲基苯基氧基羰基、3-氰基苯基氧基羰基、3-硝基苯基氧基羰基、4-氟苯基氧基羰基、4-氰基苯基氧基羰基、4-甲氧基苯基氧基羰基等。
作为可以具有取代基的氨基甲酰基,优选总碳数1~30的氨基甲酰基,可举出例如,N-甲基氨基甲酰基、N-乙基氨基甲酰基、N-丙基氨基甲酰基、N-丁基氨基甲酰基、N-己基氨基甲酰基、N-环己基氨基甲酰基、N-辛基氨基甲酰基、N-癸基氨基甲酰基、N-十八烷基氨基甲酰基、N-苯基氨基甲酰基、N-2-甲基苯基氨基甲酰基、N-2-氯苯基氨基甲酰基、N-2-异丙氧基苯基氨基甲酰基、N-2-(2-乙基己基)苯基氨基甲酰基、N-3-氯苯基氨基甲酰基、N-3-硝基苯基氨基甲酰基、N-3-氰基苯基氨基甲酰基、N-4-甲氧基苯基氨基甲酰基、N-4-氰基苯基氨基甲酰基、N-4-甲基硫烷基苯基氨基甲酰基、N-4-苯基硫烷基苯基氨基甲酰基、N-甲基-N-苯基氨基甲酰基、N,N-二甲氨基甲酰基、N,N-二丁氨基甲酰基、N,N-二苯基氨基甲酰基等。
作为可以具有取代基的氨磺酰基,优选总碳数0~30的氨磺酰基,可举出例如,氨磺酰基、N-烷基氨磺酰基、N-芳基氨磺酰基、N,N-二烷基氨磺酰基、N,N-二芳基氨磺酰基、N-烷基-N-芳基氨磺酰基等。作为更具体的例子,可举出N-甲基氨磺酰基、N-乙基氨磺酰基、N-丙基氨磺酰基、N-丁基氨磺酰基、N-己基氨磺酰基、N-环己基氨磺酰基、N-辛基氨磺酰基、N-2-乙基己基氨磺酰基、N-癸基氨磺酰基、N-十八烷基氨磺酰基、N-苯基氨磺酰基、N-2-甲基苯基氨磺酰基、N-2-氯苯基氨磺酰基、N-2-甲氧基苯基氨磺酰基、N-2-异丙氧基苯基氨磺酰基、N-3-氯苯基氨磺酰基、N-3-硝基苯基氨磺酰基、N-3-氰基苯基氨磺酰基、N-4-甲氧基苯基氨磺酰基、N-4-氰基苯基氨磺酰基、N-4-二甲氨基苯基氨磺酰基、N-4-甲基硫烷基苯基氨磺酰基、N-4-苯基硫烷基苯基氨磺酰基、N-甲基-N-苯基氨磺酰基、N,N-二甲基氨磺酰基、N,N-二丁基氨磺酰基、N,N-二苯基氨磺酰基等。
作为可以具有取代基的氨基,优选总碳数0~50的氨基,可举出例如,-NH2、N-烷基氨基、N-芳基氨基、N-酰基氨基、N-磺酰基氨基、N,N-二烷基氨基、N,N-二芳基氨基、N-烷基-N-芳基氨基、N,N-二磺酰基氨基等。作为更具体的例子,可举出N-甲氨基、N-乙氨基、N-丙氨基、N-异丙氨基、N-丁氨基、N-叔丁氨基、N-己氨基、N-环己氨基、N-辛氨基、N-2-乙基己基氨基、N-癸基氨基、N-十八烷基氨基、N-苄基氨基、N-苯基氨基、N-2-甲基苯基氨基、N-2-氯苯基氨基、N-2-甲氧基苯基氨基、N-2-异丙氧基苯基氨基、N-2-(2-乙基己基)苯基氨基、N-3-氯苯基氨基、N-3-硝基苯基氨基、N-3-氰基苯基氨基、N-3-三氟甲基苯基氨基、N-4-甲氧基苯基氨基、N-4-氰基苯基氨基、N-4-三氟甲基苯基氨基、N-4-甲基硫烷基苯基氨基、N-4-苯基硫烷基苯基氨基、N-4-二甲氨基苯基氨基、N-甲基-N-苯基氨基、N,N-二甲氨基、N,N-二乙氨基、N,N-二丁氨基、N,N-二苯基氨基、N,N-二乙酰基氨基、N,N-二苯甲酰基氨基、N,N-(二丁基羰基)氨基、N,N-(二甲基磺酰基)氨基、N,N-(二乙基磺酰基)氨基、N,N-(二丁基磺酰基)氨基、N,N-(二苯基磺酰基)氨基、吗啉代基、3,5-二甲基吗啉代基、咔唑基等。
作为可以具有取代基的膦酰基,优选总碳数2~50的膦酰基,可举出例如,二甲基膦酰基、二乙基膦酰基、二丙基膦酰基、二苯基膦酰基、二甲氧基膦酰基、二乙氧基膦酰基、二苯甲酰基膦酰基、双(2,4,6-三甲基苯基)膦酰基等。
作为可以具有取代基的杂环基,优选含有氮原子、氧原子、硫原子、磷原子的芳香族或者脂肪族的杂环。可举出例如,噻吩基、苯并[b]噻吩基、萘并[2,3-b]噻吩基、噻蒽基、呋喃基、吡喃基、异苯并呋喃基、色烯基、呫吨基、吩噻基(phenoxathiinyl)、2H-吡咯基、吡咯基、咪唑基、吡唑基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、吲哚嗪基、异吲哚基、3H-吲哚基、吲哚基、1H-吲唑基、嘌呤基、4H-喹嗪基、异喹啉基、喹啉基、酞嗪基、萘啶基、喹喔啉基、喹唑啉基、噌啉基、蝶啶基、4aH-咔唑基、咔唑基、β-咔啉基、菲啶基、吖啶基、白啶基、菲咯啉基、吩嗪基、吩砒嗪基、异噻唑基、吩噻嗪基、异唑基、呋咱基、吩嗪基、异色满基、色满基、吡咯烷基、吡咯啉基、咪唑烷基、咪唑啉基、吡唑烷基、吡唑啉基、哌啶基、哌嗪基、二氢吲哚基、异二氢吲哚基、奎宁环基、吗啉基、噻吨酮基等。
作为卤原子基团,可举出例如,氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。
进而,上述的可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的烯基、可以具有取代基的炔基、可以具有取代基的烷氧基、可以具有取代基的芳氧基、可以具有取代基的烷基硫氧基、可以具有取代基的芳基硫氧基、可以具有取代基的酰氧基、可以具有取代基的烷基硫烷基、可以具有取代基的芳基硫烷基、可以具有取代基的烷基亚硫酰基、可以具有取代基的芳基亚硫酰基、可以具有取代基的烷基磺酰基、可以具有取代基的芳基磺酰基、可以具有取代基的酰基、可以具有取代基的烷氧基羰基、可以具有取代基的氨基甲酰基、可以具有取代基的氨磺酰基、可以具有取代基的氨基、可以具有取代基的杂环基,也可以进一步具有其他的取代基。
作为这种其他的取代基,可举出例如,氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等卤原子基团;甲氧基、乙氧基、叔丁氧基等烷氧基;苯氧基、对甲苯氧基等芳氧基;甲氧基羰基、丁氧基羰基、苯氧基羰基等烷氧羰基;乙酰氧基、丙酰氧基、苯甲酰氧基等酰氧基;乙酰基、苯甲酰基、异丁酰基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、甲草酰基等酰基;甲基硫烷基、叔丁基硫烷基等烷基硫烷基;苯基硫烷基、对甲苯基硫烷基等芳基硫烷基;甲氨基、环己基氨基等烷基氨基;二甲氨基、二乙氨基、吗啉代基、哌啶子基等二烷基氨基;苯基氨基、对甲苯基氨基等芳基氨基;甲基、乙基、叔丁基、十二烷基等烷基;苯基、对甲苯基、二甲苯基、枯烯基、萘基、蒽基、菲基等芳基等,此外,还可举出羟基、羧基、甲酰基、巯基、磺基、甲磺酰基、对甲苯磺酰基、氨基、硝基、氰基、三氟甲基、三氯甲基、三甲基甲硅烷基、磷酸亚基、膦酰基、三甲基铵基、二甲基锍基、三苯基苯甲酰甲基鏻基等。
其中,作为式(a)的X,从提高溶剂溶解性和长波段的吸收效率的观点考虑,优选可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的烯基、可以具有取代基的炔基、可以具有取代基的烷氧基、可以具有取代基的芳氧基、可以具有取代基的烷基硫氧基、可以具有取代基的芳基硫氧基、可以具有取代基的氨基。
另外,式(a)中n表示0~5的整数,优选0~2的整数。
以下示出由式(a)表示的肟化合物的具体例,但本发明不受它们的限定。
【化42】
【化43】
【化44】
【化45】
【化46】
【化47】
【化48】
【化49】
【化50】
【化51】
【化52】
【化53】
【化54】
由式(a)表示的肟化合物,具有作为受光分解、引发和/或促进光聚合性化合物聚合的光聚合引发剂的功能。特别地,该肟化合物对于365nm和405nm的光源具有优良的敏感性。
作为鎓盐化合物,可举出例如,S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)中记载的重氮鎓盐、美国专利第4,069,055号说明书、特开平4-365049号等中记载的铵盐、美国专利第4,069,055号、同4,069,056号各说明书中记载的鏻盐、欧州专利第104,143号说明书、特开平2-150848号、特开平2-296514号各公报中记载的碘鎓盐等。
能够适用于本发明中的碘鎓盐,为二芳基碘鎓盐,从稳定性的观点考虑,优选被烷基、烷氧基、芳氧基等给电子基团取代2个以上。
作为能够适用于本发明的锍盐,可举出欧州专利第370,693号、同390,214号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、美国专利第4,933,377号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、德国专利第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号各说明书中记载的锍盐,从稳定性和敏感性的观点考虑,优选被吸电子基团取代。吸电子基团优选哈米特值(Hammett value)大于0。作为优选的吸电子基团的例子,可举出卤原子、羧酸等。
另外,作为其他优选的锍盐,可举出三芳基锍盐中的1个取代基具有香豆素结构或者蒽醌结构、并且在300nm以上具有吸收的锍盐。作为其他优选的锍盐,可举出三芳基锍盐具有烯丙氧基或者芳硫基作为取代基、并且在300nm以上具有吸收的锍盐。
另外,作为鎓盐化合物的例子,可举出J.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)中记载的硒盐、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)中记载的鉮盐等鎓盐等。
作为酰基膦(氧化物)化合物的例子,可举出汽巴特种化学品公司制的IRGACURE 819、DAROCURE 4265、DAROCURE TPO等。
作为适用于本发明的聚合性组合物的(E)聚合引发剂,从曝光敏感性的观点考虑,优选从三卤代甲基三嗪化合物、苄基二甲基酮缩醇化合物、α-羟基酮化合物、α-氨基酮化合物、酰基膦化合物、氧化膦化合物、金属茂化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚酸、鎓类化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物及其衍生物、环戊二烯—苯—铁配位化合物及其盐、卤代甲基二唑化合物、3-芳基取代香豆素化合物中选出的化合物。
更优选为,三卤代甲基三嗪化合物、α-氨基酮化合物、酰基膦化合物、氧化膦化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚酸、鎓类化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物,最优选为从三卤代甲基三嗪化合物、α-氨基酮化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚酸、二苯甲酮化合物中选出的至少一种化合物。
特别地,在将本发明的聚合性组合物用于制作固体摄像元件的滤色片时,必须以清晰的形状形成微细的象素,因此,重要的是该组合物要具有固化性以及在显影时未曝光部分没有残渣。从这种观点考虑,特别优选肟化合物。特别地,当在固体摄像元件中形成微细的象素时,在固化用曝光中采用步进式曝光(stepper exposure),该曝光机有时会被卤素损伤,因此必须降低聚合引发剂的添加量,考虑到这些方面,为了形成例如象固体摄像元件那样的微细着色图案,最优选使用肟化合物作为(E)聚合引发剂。
(E)聚合引发剂在本发明的聚合性组合物中的含量,相对于聚合性组合物的全固态成分,优选为0.1质量%~50质量%,更优选为0.5质量%~30质量%,进一步优选为1质量%~20质量%。在该范围内,可以获得良好的敏感性和图案形成性。
钛黑在本发明的聚合性组合物的全固态成分中的量,从实现必要的遮光性、赋予显影性等的观点考虑,优选在0.1质量%~60质量%的范围内,更优选在1质量%~40质量%的范围内,进一步优选在5质量%~30质量%的范围内。
本发明的聚合性组合物还可根据需要,含有以下详述的任意成分。以下对聚合性组合物中可以含有的任意成分进行说明。
增感剂
本发明的聚合性组合物中,为了提高自由基引发剂的自由基发生效率、感光波长的长波长化,可以含有增感剂。
作为可以适用于本发明的增感剂,优选对于上述的(E)聚合引发剂利用电子移动机理或者能量移动机理来使其增敏。
作为增感剂,可举出属于以下列举的化合物类、而且在300nm~450nm的波长区域内具有吸收波长的化合物。
例如,多环芳香族类(例如,菲、蒽、芘、苝、苯并[9,10]菲、9,10-二烷氧基蒽)、呫吨类(例如,荧光素、曙红、赤藓红、若丹明B、玫瑰红)、噻吨酮类(异丙基噻吨酮、二乙基噻吨酮、氯代噻吨酮)、花青类(例如,噻碳菁、碳菁)、部花青类(例如,部花青、碳部花青)、酞菁类、噻嗪类(例如,硫堇、亚甲基蓝、甲苯胺蓝)、吖啶类(例如,吖啶橙、氯黄素、吖啶黄)、蒽醌类(例如,蒽醌)、方酸内鎓盐(squarylium)类(例如,方酸内鎓盐)、吖啶橙、香豆素类(例如,7-二乙氨基-4-甲基香豆素)、香豆素酮、吩噻嗪类、吩嗪类、苯乙烯基苯类、偶氮化合物、二苯基甲烷、三苯基甲烷、二苯乙烯基苯类、咔唑类、卟啉、螺化合物、喹吖酮、靛蓝、苯乙烯基、吡喃鎓化合物、吡咯亚甲基【pyrromethene】化合物、吡唑并***化合物、苯并噻唑化合物、巴比土酸衍生物、硫代巴比土酸衍生物、苯乙酮、二苯甲酮、噻吨酮、米蚩酮等芳香族酮化合物;N-芳基唑烷酮等杂环化合物等。
作为适用于本发明的增感剂的更优选的例子,可举出由下述通式(e-1)~(e-4)表示的化合物。
【化55】
式(e-1)中,A1表示硫原子或者NR50,R50表示烷基或者芳基,L1表示与相邻的A1和碳原子共同形成色素的碱性环(basic nucleus)的非金属原子基团,R51和R52各自独立地表示氢原子或者一价的非金属原子基团,R51和R52也可以相互键合,形成色素的酸性环(acidic nucleus)。W表示氧原子或者硫原子。
【化56】
式(e-2)中,Ar1和Ar2各自独立地表示芳基,它们通过-L2-的结合而连接在一起。此处,-L2-表示-O-或者-S-。另外,W与式(e-1)中的W的含义相同。
【化57】
式(e-3)中,A2表示硫原子或者NR59,L3表示与A2和碳原子共同形成色素的碱性环的非金属原子基团,R53、R54、R55、R56、R57和R58各自独立地表示一价非金属原子基团,R59表示烷基或者芳基。
【化58】
式(e-4)中,A3和A4各自独立地表示-S-或者-NR62,R62表示取代或未取代的烷基、或者取代或未取代的芳基,L4表示与相邻的A3和碳原子共同形成色素的碱性环的非金属原子基团,L5表示与相邻的A4和碳原子共同形成色素的碱性环的非金属原子基团,R60和R61各自独立地表示一价的非金属原子基团,或者也可以相互键合形成脂肪族性或芳香族性的环。
聚合性组合物中的增感剂的量,从向深部的光吸收效率和引发剂的分解效率的观点考虑,按固态成分换算,优选为0.1质量%~20质量%,更优选为0.5质量%~15质量%。
增感剂可以单独使用1种,也可以将2种以上合并使用。
另外,作为聚合性组合物中可以含有的优选增感剂,除了上述增感剂以外,还可举出由下述通式(II)表示的化合物以及由通式(III)表示的化合物中选出的至少一种。
它们可以单独使用一种,也可以将二种以上合并使用。
【化59】
通式(II)中,R11和R12各自独立地表示一价的取代基,R13、R14、R15和R16各自独立地表示氢原子或者一价的取代基。n表示0~5的整数,n’表示0~5的整数,n和n’不会同时为0。当n为2以上时,存在的多个R11可以分别相同或不同。当n’为2以上时,存在的多个R12可以分别相同或不同。予以说明,通式(II)不限定于由于双键位置不同而形成的异构体中的任何一种。
由通式(II)表示的化合物,优选为在波长365nm处的摩尔吸光系数ε为500mol-1·L·cm-1以上,更优选为在波长365nm处的ε为3000mol-1·L·cm-1以上,最优选为在波长365nm处的ε为20000mol-1·L·cm-1以上。如果在各波长处的摩尔吸光系数ε的值处于上述范围内,从光吸收效率的观点考虑,提高敏感性的效果好,因此是优选的。
以下示出由通式(II)表示的化合物的优选具体例,但本发明不限定于此。
予以说明,本说明书中,化学式有时用简略结构式来描述,在此情况下,没有特别明示元素或取代基的实线等,表示烃基。
【化60】
【化61】
通式(III)中,A5表示可以具有取代基的芳香族环或者杂环,X4表示氧原子、硫原子、或者-N(R23)-,Y表示氧原子、硫原子、或者-N(R23)-。R21、R22和R23各自独立地表示氢原子或者一价非金属原子基团,A5、R21、R22和R23可以分别相互键合,形成脂肪族性或者芳香族性的环。
通式(III)中,R21、R22和R23各自独立地表示氢原子或者一价非金属原子基团。当R21、R22和R23表示一价非金属原子时,优选为取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的芳香族杂环残基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的烷硫基、羟基、或者卤原子。
由通式(III)表示的化合物,从提高光聚合引发剂的分解效率的观点考虑,Y优选为氧原子、或者-N(R23)-。R23表示氢原子或者一价非金属原子基团。进而,Y最优选为-N(R23)-。
以下示出由通式(III)表示的化合物的优选具体例,但本发明不限定于此。另外,对连接酸性核和碱性核的双键所导致形成的异构体没有详细说明,但本发明不限定于其中的任一种异构体。
【化62】
共增感剂
本发明的聚合性组合物优选还含有共增感剂。
本发明中,共增感剂具有可进一步提高(E)聚合引发剂或增感剂对活性放射线的敏感性、或者抑制由氧造成的(D)聚合性化合物的聚合阻碍等作用。
作为这种共增感剂的例子,可举出胺类,例如,M.R.Sander等著“Journal of Polymer Society”第10卷3173页(1972)、特公昭44-20189号公报、特开昭51-82102号公报、特开昭52-134692号公报、特开昭59-138205号公报、特开昭60-84305号公报、特开昭62-18537号公报、特开昭64-33104号公报、Research Disclosure 33825号记载的化合物等,具体地可举出三乙醇胺、对二甲氨基苯甲酸乙酯、对甲酰基二甲基苯胺、对甲硫基二甲基苯胺等。
作为共增感剂的其他例子,可举出硫醇和硫醚类,例如,特开昭53-702号公报、特公昭55-500806号公报、特开平5-142772号公报记载的硫醇化合物、特开昭56-75643号公报的二硫醚化合物等,具体地,可举出2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基-4(3H)-喹唑啉、β-巯基萘等。
另外,作为共增感剂的其他例子,可举出氨基酸化合物(例如N-苯基甘氨酸等)、特公昭48-42965号公报记载的有机金属化合物(例如乙酸三丁基锡等)、特公昭55-34414号公报记载的供氢体、特开平6-308727号公报记载的硫化合物(例如三噻烷等)等。
关于这些共增感剂的量,从聚合成长速度与由于链转移的平衡所带来的固化速度提高的观点考虑,相对于聚合性组合物的全固态成分的质量,优选在0.1质量%~30质量%的范围内,更优选在1质量%~25质量%的范围内,进一步优选在1.5质量%~20质量%的范围内。
阻聚剂
在本发明中,在聚合性组合物的制造中或者保存中,为了阻止可聚合的具有乙烯性不饱和双键的化合物发生不需要的聚合,优选添加阻聚剂。
作为适用于本发明的阻聚剂,可举出含有酚式羟基的化合物、N-氧化物化合物类、哌啶1-氧基自由基化合物类(piperidine-1-oxyl free radical compounds)、吡咯烷1-氧基自由基化合物类、N-亚硝基苯基羟胺类、重氮化合物类和阳离子染料类、含有硫醚基的化合物类、含有硝基的化合物类、FeCl3、CuCl2等过渡金属化合物类。
含有酚式羟基的化合物优选为从氢醌、对甲氧基苯酚、二叔丁基-对-甲酚、连苯三酚、叔丁基邻苯二酚、苯醌、4,4-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2′-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、酚树脂类和甲酚树脂类中选出的化合物。
N-氧化物化合物类优选为从5,5-二甲基-1-吡咯啉N-氧化物、4-甲基吗啉N-氧化物、吡啶N-氧化物、4-硝基吡啶N-氧化物、3-羟基吡啶N-氧化物、吡啶甲酸N-氧化物、烟酸N-氧化物、以及异烟酸N-氧化物中选出的化合物。
哌啶1-氧基自由基化合物类优选为从哌啶1-氧基自由基、2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-氧代-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-羟基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-乙酰氨基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-马来酰亚胺基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基和4-膦酰氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基中选出的化合物。
吡咯烷1-氧基自由基化合物类优选为3-羧基丙氧基自由基(3-羧基-2,2,5,5-四甲基吡咯烷1-氧基自由基)(3-carboxyproxyl free radical (3-carboxy-2,2,5,5-tetramethyl pyrrolidine-1-oxyl free radical)。
N-亚硝基苯基羟胺类优选为从N-亚硝基苯基羟胺亚铈(III)盐和N-亚硝基苯基羟胺铝盐的化合物组中选出的化合物。
重氮化合物类优选为4-重氮苯基二甲胺的硫酸氢盐、4-重氮二苯胺的四氟硼酸盐和3-甲氧基-4-重氮二苯胺的六氟磷酸盐中选出的化合物。
阳离子染料类优选为从结晶紫、甲基紫、乙基紫和维多利亚蓝BOH中选出的化合物。
以下示出适用于本发明的优选的阻聚剂的例子,但本发明不限定于此。予以说明,作为酚阻聚剂,可举出下述例示化合物(P-1)~(P-24)。
【化63】
【化64】
【化65】
【化66】
作为胺阻聚剂,可举出下述例示化合物(N-1)~(N-7)。
【化67】
作为含硫阻聚剂,可举出下述例示化合物(S-1)~(S-5)。
【化68】
(S-1)(C18H37OCOCH2CH2)2S
(S-2)(C12H25OCOCH2CH2)2S
(S-3)(C13H27OCOCH2CH2)2S
(S-4)(C14H29OCOCH2CH2)2S
(S-5)(CH2OCOCH2CH2SC12H25)4C
作为亚磷酸酯阻聚剂,可举出下述例示化合物(R-1)~(R-5)。
【化69】
进而,以下所示的各化合物也能够作为优选的阻聚剂使用。
【化70】
(C-1)
CuCl3
(F-1) (F-2)
FeCl3 FeBr3
上述例示化合物中,优选为氢醌、对—甲氧基苯酚、二叔丁基-对-甲酚、连苯三酚、叔丁基邻苯二酚、苯醌、4,4-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2′-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)的含有酚式羟基的化合物、哌啶1-氧基自由基化合物类或者、2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-氧代-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-羟基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-乙酰胺-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-马来酰亚胺-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基以及4-膦酰氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基的哌啶1-氧基自由基化合物、或者N-亚硝基苯基羟胺亚铈(III)盐和N-亚硝基苯基羟胺铝盐的N-亚硝基苯基羟胺化合物;
更优选为2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-氧代-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-羟基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-乙酰胺基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-马来酰亚胺基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基以及4-膦酰氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基的哌啶1-氧基自由基化合物、或者N-亚硝基苯基羟胺亚铈(III)盐以及N-亚硝基苯基羟胺铝盐的N-亚硝基苯基羟胺化合物;
进一步优选为N-亚硝基苯基羟胺亚铈(III)盐和N-亚硝基苯基羟胺铝盐的N-亚硝基苯基羟胺化合物。
作为阻聚剂的优选添加量,相对于(E)聚合引发剂100质量份,优选为0.01质量份~10质量份,更优选为0.01质量份~8质量份,最优选在0.05质量份~5质量份的范围内。
通过使阻聚剂添加量处于上述范围,可使对非图象部固化反应的抑制作用以及对图象部固化反应的促进作用变得充分,从而使图象形成性以及敏感性变得良好。
粘合剂聚合物
在聚合性组合物中,为了提高皮膜特性等,根据需要,还可以使用粘合剂聚合物。作为粘合剂,优选使用线型有机聚合物。作为这种线型有机聚合物,可以任意地使用公知的聚合物。为了能够进行水显影或者弱碱水显影,优选选择在水或者弱碱水中为可溶性或者溶胀性的线型有机聚合物。线型有机聚合物不仅可根据作为皮膜形成剂的用途、而且也可根据作为水、弱碱水或者有机溶剂显影剂的用途来选择使用。例如,使用水可溶性有机聚合物,则水显影成为可能。作为这种线型有机聚合物,可举出侧链上具有羧酸基的自由基聚合物,例如在特开昭59-44615号公报、特公昭54-34327号公报、特公昭58-12577号公报、特公昭54-25957号公报、特开昭54-92723号公报、特开昭59-53836号公报、特开昭59-71048号公报中记载的聚合物,即,通过使具有羧基的单体均聚或者共聚而成的树脂、使具有酸酐的单体均聚或者共聚并使酸酐单元水解或者半酯化或者半酰胺化而成的树脂、将环氧树脂用不饱和一元羧酸和酸酐改性而成的环氧丙烯酸酯等。作为具有羧基的单体,可举出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、马来酸、富马酸、4-羧基苯乙烯等,作为具有酸酐的单体,可举出马来酸酐等。
另外,同样包括侧链上具有羧酸基的酸性纤维素衍生物。此外,使环状酸酐加成到具有羟基的聚合物上而形成的聚合物等也适用。
本发明中,当使用共聚物作为粘合剂聚合物时,作为可共聚的化合物,也可以使用上文举出的单体以外的其他单体。作为其他单体的例子,可举出下述(1)~(12)的化合物。
(1)丙烯酸2-羟乙酯、丙烯酸2-羟丙酯、丙烯酸3-羟丙酯、丙烯酸4-羟丁酯、甲基丙烯酸2-羟乙酯、甲基丙烯酸2-羟丙酯、甲基丙烯酸3-羟丙酯、甲基丙烯酸4-羟丁酯等具有脂肪族羟基的丙烯酸酯类和甲基丙烯酸酯类。
(2)丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸己酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸-2-氯乙酯、丙烯酸缩水甘油基酯、丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯、丙烯酸乙烯基酯、丙烯酸2-苯基乙烯基酯、丙烯酸1-丙烯基酯、丙烯酸烯丙基酯、丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、丙烯酸炔丙基酯等丙烯酸烷基酯。
(3)甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸-2-氯乙酯、甲基丙烯酸缩水甘油基酯、甲基丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯、甲基丙烯酸乙烯基酯、甲基丙烯酸2-苯基乙烯基酯、甲基丙烯酸1-丙烯基酯、甲基丙烯酸烯丙基酯、甲基丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、甲基丙烯酸炔丙基酯等甲基丙烯酸烷基酯。
(4)丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-羟甲基丙烯酰胺、N-乙基丙烯酰胺、N-己基(甲基丙烯酰胺)、N-环己基丙烯酰胺、N-羟乙基丙烯酰胺、N-苯基丙烯酰胺、N-硝基苯基丙烯酰胺、N-乙基-N-苯基丙烯酰胺、乙烯基丙烯酰胺、乙烯基(甲基丙烯酰胺)、N,N-二烯丙基丙烯酰胺、N,N-二烯丙基(甲基丙烯酰胺)、烯丙基丙烯酰胺、烯丙基(甲基丙烯酰胺)等丙烯酰胺或者甲基丙烯酰胺。
(5)乙基乙烯基醚、2-氯乙基乙烯基醚、羟乙基乙烯基醚、丙基乙烯基醚、丁基乙烯基醚、辛基乙烯基醚、苯基乙烯基醚等乙烯基醚类。
(6)乙酸乙烯基酯、氯乙酸乙烯基酯、丁酸乙烯基酯、苯甲酸乙烯基酯等乙烯基酯类。
(7)苯乙烯、α-甲基苯乙烯、甲基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、对-乙酰氧基苯乙烯等苯乙烯类。
(8)甲基·乙烯基酮、乙基·乙烯基酮、丙基·乙烯基酮、苯基·乙烯基酮等乙烯基酮类。
(9)乙烯、丙烯、异丁烯、丁二烯、异戊二烯等烯烃类。
(10)N-乙烯基吡咯烷酮、丙烯腈、甲基丙烯腈等。
(11)马来酰亚胺、N-丙烯酰基丙烯酰胺、N-乙酰基(甲基丙烯酰胺)、N-丙酰基(甲基丙烯酰胺)、N-(对-氯苯甲酰基)(甲基丙烯酰胺)等不饱和酰亚胺。
(12)α位上键合杂原子的甲基丙烯酸单体(例如,特开2002-309057号说明书、特开2002-311569号说明书等中记载的化合物)。
其中,侧链上具有烯丙基或乙烯基酯基和羧基的(甲基)丙烯酸树脂以及特开2000-187322号公报、特开2002-62698号公报中记载的侧链上具有双键的碱可溶性树脂、特开2001-242612号公报中记载的侧链上具有酰胺基的碱可溶性树脂的膜强度、敏感性、显影性等性能平衡优良,因此是优选的。
另外,特公平7-12004号公报、特公平7-120041号公报、特公平7-120042号公报、特公平8-12424号公报、特开昭63-287944号公报、特开昭63-287947号公报、特开平1-271741号公报等中记载的含有酸基的氨基甲酸酯粘合剂聚合物、特开2002-107918号公报中记载的侧链上具有酸基和双键的氨基甲酸酯粘合剂聚合物,由于其强度非常优良,因此在耐印刷性、低曝光适应性方面是有利的。
另外,欧州专利993966、欧州专利1204000、特开2001-318463号公报等中记载的具有酸基的缩醛改性聚乙烯醇粘合剂聚合物,其膜强度、显影性的平衡优良,因此是优选的。
进而,作为其他的水溶性线型有机聚合物,聚乙烯基吡咯烷酮和聚环氧乙烷等是适用的。另外,为了提高固化皮膜的强度,醇可溶性尼龙、2,2-双-(4-羟苯基)-丙烷与表氯醇形成的聚醚等也适用。
本发明的聚合性组合物中适用的粘合剂聚合物的重均分子量,优选为5,000以上,更优选在1万~30万的范围内,数均分子量优选为1,000以上,更优选在2,000~25万的范围内。多分散度(重均分子量/数均分子量)优选为1以上,更优选在1.1~10的范围内。
这些粘合剂聚合物可以是无规聚合物、嵌段聚合物、接枝聚合物等的任一种。
本发明中适用的粘合剂聚合物,可以采用以往公知的方法来合成。作为合成时使用的溶剂,可举出例如,四氢呋喃、二氯乙烷、环己酮、丁酮、丙酮、甲醇、乙醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单***、乙酸2-甲氧基乙酯、二甘醇二甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、乙酸1-甲氧基-2-丙酯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、甲苯、乙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、二甲亚砜、水等。这些溶剂可以单独使用,或者将2种以上混合使用。
作为在合成本发明的聚合性组合物中适用的粘合剂聚合物时使用的自由基聚合引发剂的例子,可举出偶氮引发剂、过氧化物引发剂等公知的化合物。
聚合性组合物的全固态成分中,粘合剂聚合物的量优选为1质量%~40质量%,更优选为3质量%~30质量%,进一步优选为4质量%~20质量%。
密合改善剂
本发明的聚合性组合物中,为了提高与基板等的硬质表面的密合性,可以添加密合改善剂。作为密合改善剂的例子,可举出硅烷偶合剂和钛偶合剂等。
作为硅烷偶合剂,可举出例如,γ-(2-氨乙基)氨丙基三甲氧基硅烷、γ-(2-氨乙基)氨丙基二甲氧基硅烷、β-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-异氰酸酯丙基三甲氧基硅烷、γ-异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷、N-β-(N-乙烯基苄基氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷·盐酸盐、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、氨基硅烷、γ-巯丙基三甲氧基硅烷、γ-巯丙基三乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-氯丙基三甲氧基硅烷、六甲基二硅氮烷、γ-苯胺基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、十八烷基二甲基[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]氯化铵、γ-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-巯丙基甲基二甲氧基硅烷、甲基三氯硅烷、二甲基二氯硅烷、三甲基氯硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、双烯丙基三甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、双(三甲氧基甲硅烷基)己烷、苯基三甲氧基硅烷、N-(3-丙烯酰氧基-2-羟丙基)-3-氨丙基三乙氧基硅烷、N-(3-甲基丙烯酰氧基-2-羟丙基)-3-氨丙基三乙氧基硅烷、(甲基丙烯酰氧基甲基)甲基二乙氧基硅烷、(丙烯酰氧基甲基)甲基二甲氧基硅烷等。
其中,优选γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-巯丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷,最优选γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷。
密合改善剂的添加量,在聚合性组合物的全固态成分中,优选为0.5质量%~30质量%,更优选为0.7质量%~20质量%。
其他添加剂
进而,相对于聚合性组合物,可以加入用于改良固化皮膜的物性的无机填充剂、增塑剂、敏化剂等公知的添加剂。
作为增塑剂,可举出例如,邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二(十二烷基)酯、二辛酸三甘醇酯、邻苯二甲酸二甲基二醇酯、磷酸三甲苯基酯、己二酸二辛酯、癸二酸二丁酯、三乙酰基甘油等。当使用结合剂时,相对于聚合性化合物与粘合剂聚合物的合计质量,可以添加10质量%以下量的增塑剂。
予以说明,如果使用本发明的聚合性组合物,则钛黑的分散性高,未曝光部的残渣受到抑制,在基板上涂布时的涂布性良好,因此,可以适用于遮光性滤色片的形成。
遮光性滤色片
本发明的具有着色图案的遮光性滤色片,可以使用上述的本发明的聚合性组合物来形成。使用本发明的聚合性组合物形成的着色图案(例如黑矩阵),残渣被抑制,平坦性高,没有台阶,具有良好的形状。
本发明中台阶是指,在对聚合性组合物进行涂布、曝光、显影所形成的一条边长为200μm左右以上的着色图案(例如黑矩阵)中观察到的阶梯差。如果用光学显微镜从膜面上方观察着色图案(例如黑矩阵),则台阶有时作为与着色图案(例如黑矩阵)的图案边缘大致相似形状的线来被观察到。
图1为示意地表示出黑矩阵10中台阶产生的情况的图。实线表示遮光性滤色片的图案边缘1,虚线表示台阶2。
对于黑矩阵的膜厚而言,在台阶外侧的区域(图1中,由图案边缘1与台阶2夹住的区域)要比台阶内侧的区域(图1中,由台阶2包围的区域)薄。即,在台阶外侧的区域(以下也称为“台阶区域”),由于遮光能力低,当作为固体摄像元件用的黑矩阵使用时成为噪音的原因等,因此对固体摄像元件的性能有不良影响。
予以说明,在使用本发明的聚合性组合物形成黑矩阵时,可以抑制黑矩阵周边部的膜厚度比中央部的膜厚度薄的区域(台阶区域)的现象的产生,因此可以抑制周边部的遮光能力降低。
着色图案(例如黑矩阵)的膜厚没有特殊限定,从更有效地获得本发明的效果的观点考虑,干燥后的膜厚优选为0.2μm~50μm,更优选为0.5μm~30μm,进一步优选为0.7μm~20μm。
着色图案(例如黑矩阵)的大小(一条边的长度),从更有效地获得本发明的效果的观点考虑,优选为0.001mm~5mm,更优选为0.05mm~4mm,进一步优选为0.1mm~3.5mm。
遮光性滤色片及其制造方法
下面说明本发明的遮光性滤色片及其制造方法。
本发明的遮光性滤色片,在基板上具有通过使用本发明的聚合性组合物形成的着色图案(例如黑矩阵)。
以下通过其制造方法来详细描述本发明的具有着色图案(例如黑矩阵)的遮光性滤色片。
本发明的遮光性滤色片的制造方法包括:在基板上涂布本发明的聚合性组合物,形成聚合性组合物层(以下适宜地简称为“聚合性组合物层形成工序”);透过掩模对上述聚合性组合物层进行曝光(以下适宜地简称为“曝光工序”);将曝光后的上述聚合性组合物层显影,形成着色图案(以下适宜地简称为“显影工序”)。
具体地,将本发明的聚合性组合物直接地或者介由其他层涂布到基板上,形成聚合性组合物层(聚合性组合物层形成工序),介由规定的掩模图案进行曝光,仅使被光照射到的涂布膜部分固化(曝光工序),用显影液进行显影(显影工序),由此形成包含象素的图案状皮膜,可以制造本发明的遮光性滤色片。
以下说明本发明的遮光性滤色片的制造方法中的各工序。
聚合性组合物层形成工序
聚合性组合物层形成工序中,在基板上涂布本发明的聚合性组合物,形成聚合性组合物层。
作为上述基板,可举出例如,液晶显示装置等中使用的无碱玻璃、钠玻璃、派热克斯牌(PYREX)(注册商标)玻璃、石英玻璃以及在这些玻璃上附着透明导电膜而成的玻璃、固体摄像元件等中使用的光电转换元件基板(例如硅基板等)、互补性金属氧化膜半导体(CMOS)等。
另外,在这些基板上,可以根据需要,设置底涂层,以便改善与上部层的密合性、防止物质扩散或者使基板表面平坦化。
作为本发明的聚合性组合物在基板上的涂布方法,可以采用狭缝涂布、喷墨法涂布、旋转涂布、流延涂布、辊涂、丝网印刷法等各种涂布方法。
当制造具有固体摄像元件用的黑矩阵的滤色片时,聚合性组合物的涂布膜厚,从分辨率和显影性的观点考虑,优选为0.35μm~1.5μm,更优选为0.40μm~1.0μm。
涂布到基板上的聚合性组合物,通常可在70℃~110℃下、在2分钟~4分钟左右的条件下干燥,形成聚合性组合物层。
曝光工序
曝光工序中,介由掩模对在上述聚合性组合物层形成工序中形成的聚合性组合物层曝光,仅使被光照射到的涂布膜的部分固化。
曝光优选通过照射放射线来进行,作为曝光时能够使用的放射线,特别优选使用g线、h线、i线等紫外线,更优选高压水银灯。照射强度优选为5mJ/cm2~1500mJ/cm2,更优选为10mJ/cm2~1000mJ/cm2,最优选为10mJ/cm2~800mJ/cm2。
显影工序
曝光工序之后,进行碱显影处理(显影工序),使曝光工序中未受到光照射的部分溶出到碱水溶液中。由此,只剩下光固化了的部分。
作为显影液,在制作具有固体摄像元件用的黑矩阵的遮光性滤色片的情况下,希望使用不会对底层的电路等引起损害的有机碱显影液。显影温度通常为20℃~30℃,显影时间为20秒~90秒。
作为上述碱性水溶液,可举出例如,作为无机显影液,由氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸氢钠、硅酸钠、或者偏硅酸钠,以及作为有机碱显影液,由氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、胆碱、吡咯、哌啶、1,8-二氮杂双环-[5,4,0]-7-十一碳烯等碱性化合物按照浓度为0.001质量%~10质量%、优选为0.01质量%~1质量%的条件溶解而成的碱性水溶液。碱性水溶液中,也可以适量添加例如甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂或表面活性剂等。予以说明,当使用这类含有碱性水溶液的显影液时,一般在显影后要用纯水洗涤(漂洗)。
予以说明,本发明的遮光性滤色片的制造方法中,在进行了上述的聚合性组合物层形成工序、曝光工序和显影工序之后,还可以根据需要包括通过加热和/或曝光使所形成的着色图案(例如黑矩阵)固化的工序(固化工序)。
本发明的遮光性滤色片由于使用本发明的聚合性组合物,所形成的着色图案(例如黑矩阵)显示出与支持体基板的高的密合性,由于固化了的组合物的耐显影性优良,因此,曝光敏感性优良,与曝光部的基板的密合性良好,而且,可以形成能赋予所希望截面形状的高分辨率的图案。
因此,可以适用于液晶显示装置和CCD(Charge Coupled Device)等固体摄像元件,特别适用于超过100万象素的高分辨率的CCD元件和CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)等。即,本发明的具备黑矩阵的遮光性滤色片优选适用于固体摄像元件。
本发明的遮光性滤色片可以作为例如配置在构成CCD的各象素的受光部与用于集光的微透镜之间的黑矩阵使用。
固体摄像元件
本发明的固体摄像元件具备滤色片,所述滤色片具有上述的本发明的遮光性滤色片(例如黑矩阵)、以及根据需要具有的由其他颜色(3色或者4色)的象素形成的图案状皮膜。
本发明的固体摄像元件具备周边部的遮光能力的降低得到了抑制的本发明的遮光性滤色片(例如黑矩阵),因此,可以减少噪音,从而可以提高颜色再现性。
作为本发明的固体摄像元件的结构,只要是具备本发明的遮光性滤色片(例如黑矩阵)的结构,并且能够发挥作为固体摄像元件的功能的结构,就没有特殊限定,可举出例如,在基板上具有用于构成固体摄像元件(CCD图像传感器、CMOS图像传感器等)的受光区域的多个光电二极管以及由多晶硅等构成的受光元件,并在基板的与受光元件形成面相反一侧的面上具备本发明的遮光性滤色片(例如黑矩阵)的结构等。
液晶显示装置
本发明的一个实施方案中所述的液晶显示装置,至少包括:处于至少1个是光透过性的1对基板之间的滤色片、液晶层和液晶驱动装置(包括单纯矩阵驱动方式和有源矩阵驱动方式),其中,作为滤色片,如上所述,使用这样一种滤色片,该滤色片具有多个象素群而由本发明的聚合性组合物制成的遮光性滤色片(例如黑矩阵;下同)可以将构成上述象素群的各象素相互分隔开。由于上述遮光性滤色片的平坦性好,因此,具备该遮光性滤色片的液晶显示装置中,在滤色片与基板之间不会发生单元间隙(cell gap)不均匀的现象,并且不会发生颜色不均匀等显示不良。
另外,本发明的其他实施方案中所述的液晶显示装置,至少包括处于至少1个是光透过性的1对基板之间的滤色片、液晶层和液晶驱动装置,上述液晶驱动装置具有有源元件(例如TFT),而且在各有源元件之间具有由本发明的聚合性组合物制成的遮光性滤色片(例如黑矩阵)。
晶片级透镜
本发明的晶片级透镜是通过设置具有上述的本发明的遮光性滤色片(例如黑矩阵)的滤色片来构成的。图2为示出晶片级透镜结构的一例的平面图,图3为图2的A-A线截面图。
晶片级透镜具备基板1、在该基板1上排列的多个透镜10。多个透镜10相对于基板1按照1维或者2维排列。在该结构例中举例说明,如图2所示,多个透镜10相对于基板1按照2维排列的结构。透镜10由与基板1相同的材料构成,在该基板1上成形而成。
如图3所示,透镜10具有凹状的透镜面10a以及在该透镜面10a周围的透镜边缘部10b。此处,透镜面10a是指如下部位的面,即具有能使入射到透镜10的光集中或者发散到所希望的方向上的光学特性,并且其曲率和表面形状是考虑该光学特性而被设计的。在该例中,按照透镜边缘部10b相对于基板1的高度要比透镜面10a的中央高的方式来构成。予以说明,透镜10的形状没有特殊限定,例如,可以是透镜面10a按照凸状突出的、所谓凸状透镜,或者也可以是非球面的透镜。
此处,例示了在基板1的一个面上设置多个透镜10的结构,但也可以是在基板1的两个面上设置多个透镜10的结构。当在基板1的两个面上设置多个透镜10时,按照一个面的各透镜的光轴与另一个面的各透镜的光轴一致的方式进行成形。
图3中,晶片级透镜是具有1层成形了多个透镜10的基板1的结构,也可以是将2层以上的基板积层的结构。
晶片级透镜中设置有遮光层14,其覆盖透镜10的透镜边缘部10b的表面和透镜10之间的基板1的表面。遮光层14在基板1中,在上述透镜的除透镜面10a以外的区域内形成图案。在晶片级透镜具有1层以上基板的结构中,在至少1层的基板表面上具备遮光层14。遮光层14由黑色抗蚀剂层构成。由于黑色抗蚀剂层的光反射率比金属层等的光反射率低,因此,可以减轻伴随光反射而产生的重影或闪光等缺点。黑色抗蚀剂层含有黑色抗蚀剂组合物。
图4为示出晶片级透镜的其他结构例的截面图。
在该例中,在基板1的一个面上形成有与图3同样形状的透镜10,在另一面上形成有凸状的透镜20。另外,在另一面上形成有用于在重叠到其他晶片透镜阵列上时确保距离的隔离物。隔离物12在平面视图中为格子状的部件,与基板1的另一面相接合。在该例中,在晶片级透镜上接合隔离物后,通过切割使其分离成在基板1上具备透镜10和透镜20各1个的结构。隔离物12可以是作为基板1的一部分在该基板1上一体成形。
图5为示出一例摄像单元结构的截面图。
摄像单元具备:通过将晶片级透镜切割以将各透镜相互分离而成的透镜模块、摄像元件(此处,固体摄像元件)D、设置有固体摄像元件D的传感器基板W。该例中具有3个透镜模块LM1、LM2、LM3从光的入射侧(图5的上侧)按照该顺序积层的结构。
透镜模块LM1在基板1A的上侧表面上形成有凸状的透镜10A、在下侧表面上形成有具有凹状的透镜面的透镜20A。在基板1A的上侧表面上,在除透镜10A的透镜面以外的区域内设置有形成了图案的遮光层14。在透镜20A上,在透镜面以外的区域内设置有形成了图案的遮光层14。
透镜模块LM2在基板1B的上侧表面上形成有凹状的透镜10B、在下侧表面上形成有具有凸状的透镜面的透镜20B。该透镜模块LM2与图4所示的结构基本相同。在基板1A的上侧表面上,在除透镜10A的透镜面以外的区域内,即透镜边缘部和基板表面的区域内设置有形成了图案的遮光层14。在该例中,不在基板1B的下侧表面上设置遮光层14,但是可以在除透镜20B的透镜面以外的区域内设置形成了图案的遮光层14。
透镜模块LM3在基板1C的上侧表面上形成有非球面形状的透镜10C、在下侧表面上形成有具有非球面形状的透镜面的透镜20C。透镜10C和透镜20C上在除透镜面以外的区域内设置有形成了图案的遮光层14。
上述透镜模块中,遮光层14是使用本发明的分散组合物或者聚合性组合物来形成。
予以说明,透镜10A、10B、10C、20A、20B、20C均按照相对于光轴成为旋转对称的形状来设置。透镜模块LM1、LM2、LM3按照使全部的透镜10A、10B、10C、20A、20B、20C的光轴一致的方式借助隔离物12来接合。
透镜模块LM1、LM2、LM3借助隔离物12与传感器基板W接合。透镜模块LM1、LM2、LM3的透镜10A、10B、10C、20A、20B、20C在设置于传感器基板W上的固体摄像元件D上将客体图象(object image)成像。
传感器基板W通过将例如由硅等半导体材料形成的晶片切成从平面视图上看来大致为矩形来成形。固体摄像元件D设置在传感器基板W的大致中央部。固体摄像元件D为例如CCD图像传感器或CMOS图像传感器。固体摄像元件D可以在制成芯片后结合到已形成了配线等的半导体基板上来构成。或者固体摄像元件D可以通过对传感器基板W进行公知的成膜工序、光刻工序、蚀刻工序、掺杂(impurity-adding)工序等,在该传感器基板W上形成电极、绝缘膜、配线等来构成。
透镜模块LM3的隔离物12与传感器基板W,使用例如粘接剂等来接合。各隔离物12被设计成透镜模块LM1、LM2、LM3的透镜10A、10B、10C、20A、20B、20C能将客体图象成像于固体摄像元件D上。另外,各隔离物12为了使透镜10A、10B、10C、20A、20B、20C、相互重叠的透镜模块LM1、LM2、LM3之间、或者、透镜模块LM3与传感器基板W之间不会相互接触,按照将彼此之间隔开规定距离的厚度来形成。
隔离物12只要处于能使透镜模块LM1、LM2、LM3之间、或者、透镜模块LM3与传感器基板W之间的间隔保持在隔开规定距离的位置关系的范围内,对其形状就没有特殊限定,可以适当变形。例如,隔离物12可以是在基板1A、1B、1C的4个角处分别设置的柱状部件。另外,隔离物12也可以是将固体摄像元件D的周围包围起来的框形部件。如果通过将固体摄像元件D用框形隔离物12包围而与外部隔绝,这样就能遮光而不让透过透镜的光以外的光入射到固体摄像元件D中。另外,通过将固体摄像元件D从外部密封,这样可以防止尘埃附着到固体摄像元件D上。
如图5所示,当形成基板1A、1B、1C多个重叠的结构时,可以在最靠近光入射侧的最上部基板的表面上,设置反射层来代替遮光层14。反射层包含对光的透过率在0.01%以下那么小、以及反射率在(4%)以上那么高的反射材料。作为反射材料,优选使用铬(Cr)等金属或者金属材料。
按照以上那样构成的摄像单元被回流封装(reflow-mounted)到在携带终端等中内置的未图示的电路基板上。在电路基板上,在安装摄像单元的位置上预先适宜印刷糊状的焊料,再在其上搭载摄像单元,对包含该摄像单元的电路基板实施红外线的照射或吹热风等热处理,使摄像单元熔敷到电路基板上。
【实施例】
以下用实施例更具体地说明本发明,但只要不超出本发明的宗旨,本发明不受以下实施例的限定。予以说明,只要没有特地指明,“份”和“%”均以质量为基准。
特定树脂1的合成
向500mL三口烧瓶中加入ε-己内酯600.0g、2-乙基-1-己醇22.8g,一边吹入氮气,一边搅拌以使其溶解。加入单丁基氧化锡0.1g,加热至100℃。8小时后,用气相色谱确认原料消失后,冷却至80℃。添加2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚0.1g后,添加2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯27.2g。5小时后,用1H-NMR确认原料消失后,冷却至室温,获得固体状的前驱体M1(下述结构)200g。通过1H-NMR、IR、质量分析,确认为M1。
【化71】
将前驱体M180.0g、甲基丙烯酸20.0g、十二烷基硫醇2.3g和丙二醇单甲醚乙酸酯233.3g加入到氮气置换过的三口烧瓶中,用搅拌机(新东科学(株):THREE-ONE motor)搅拌,一边将氮气通入到烧瓶内一边加热升温至75℃。向其中加入2,2-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)(和光纯药工业(株)制的“V-65”)0.2g,在75℃下加热搅拌2小时。2小时后,再次加入0.2g的V-65,加热搅拌3小时后,获得特定树脂1的30%溶液。
特定树脂2~13和比较树脂1~3的合成
改变特定树脂1的构成要素,采用与特定树脂1的合成方法相同的方法,合成下述记载的特定树脂2~13以及比较树脂1~3。表1示出这些树脂的组成比、除氢原子以外的接枝链的原子数、重均分子量。
【化72】
【化73】
【化74】
【化75】
【化76】
【化77】
[表1]
实施例1
钛黑分散物的配制
将下述组成1用捏和机混炼30分钟后,用双辊进行高粘度分散处理,获得分散物。
组成1
·平均一次粒径75nm的钛黑(三菱材料(株)制13M-C) 39份
·丙二醇单甲醚乙酸酯 60份
向得到的分散物中添加下述组成2,在3000rpm的条件下使用均化器搅拌3小时。用0.3mm直径的氧化锆珠,用分散机(商品名:DISPERMATGETZMANN社制)对得到的混合溶液进行4小时微分散处理,获得钛黑分散液A(以下标记为“TB分散液A”)。
组成2
·特定树脂1的丙二醇单甲醚乙酸酯30质量%溶液 30份
随后,用搅拌机将下述组成A中的成分混合,配制聚合性组合物A。
组成A
具有固体摄像元件用黑矩阵的滤色片的制作
将上述的聚合性组合物A制成抗蚀剂溶液,按照使该涂布膜的干燥膜厚成为0.7μm的条件,在带有底涂层的硅晶片的底涂层上进行旋转涂布。然后,在该状态下保持10分钟,使用100℃的加热板加热处理(预烘烤)120秒钟。
接着,使用i线步进曝光装置FPA-3000i5+(Canon(株)制),在365nm的波长下,透过2μm四方的Island图案掩模,以1000mJ/cm2的曝光量对图案进行曝光。
然后,将形成了照射过的涂布膜的硅晶片基板放置在旋转喷淋显影机(DW-30型、Chemitronics(株)制)的水平旋转台上,使用CD-2000(Fujifilm Electronic Materials(株)制),在23℃下进行60秒钟桨式显影。
接着,将形成了涂布膜的硅晶片以真空吸盘(vacuum chuck)方式固定于上述水平旋转台上,一边利用旋转装置使该硅晶片基板以旋转数50rpm旋转,一边从该旋转中心的上方将纯水从喷嘴按照喷洒状供给,进行淋洗处理。然后喷雾干燥,形成具有黑矩阵的晶片。
实施例2~实施例18和比较例1~比较例6
在实施例1的分散组合物的配制过程中,将特定树脂1替换为表2所示的特定树脂、或者比较树脂,而且将聚合性组合物的聚合引发剂替换为表2所示的聚合引发剂,除此之外,其余与实施例1同样地进行操作。
[表2]
表2中记载的聚合引发剂如下。
【化78】
【化79】
【化80】
【化81】
【化82】
【化83】
评价
使用上述那样得到的分散组合物以及聚合性组合物,进行以下的评价。其结果示于表2。
分散组合物的粘度
使用E型旋转粘度计(东机产业社制)测定分散组合物的粘度。显示出分散组合物的粘度越小,分散性越高。
保存稳定性(经时稳定性)评价
将各聚合性组合物在室温下保存1个月后,按照下述判定基准评价钛黑的沉降程度。表示保存稳定性的数值,是利用可见光吸光度计(varian制cary-5),根据用PGMEA稀释至1000倍的聚合性组合物的吸光度变化率算出的。
判定基准
○:观测到0%以上、小于2%的钛黑沉降。
△:观测到2%以上、小于5%的钛黑沉降。
×:观测到5%以上的钛黑沉降。
残渣的评价
用SEM观察在上述曝光工序中未照射光的区域(未曝光部)有无残渣,评价残渣。评价基准如下。
评价基准
○:在未曝光部完全看不到残渣。
△:在未曝光部看到少量残渣,但只是在实用上不成问题的程度。
×:在未曝光部显著看到残渣。
涂布时的均匀涂布性的评价
对于各聚合性组合物在涂布时的均匀涂布性,按照下述方法进行评价。即,将各聚合性组合物用旋转涂布机涂布,以使干燥后的膜厚成为1μm,用光学显微镜观察,评价均匀涂布性。评价基准如下。
评价基准
○:完全看不到涂布不均匀。
△:多少看到一些涂布不均匀。
×:看到大量的涂布不均匀。
对台阶(step)的评价
用光学显微镜(倍率100倍)拍摄得到的黑矩阵(由聚合性组合物形成的图案),测定台阶区域的宽度。如图1所示,测定黑矩阵(具有黑矩阵的滤色片)10中,由聚合性组合物形成的作为图案端部的图案边缘1与台阶区域(黑矩阵的周边部中膜厚比中央部薄的区域)的边界线2之间的距离。将该距离除以所形成图案的1条边的长度,其结果表2中以%来表示。
从表2可以看出,在将含有特定结构接枝共聚物的本发明分散组合物用于固体摄像元件用黑矩阵的实施例1~18中,分散组合物的粘度小,钛黑的分散性良好。与此相反,在不使用本发明的特定结构接枝共聚物的比较例中,分散组合物的粘度高,钛黑的分散性不良。另外还可以看出,如果使用含有本发明分散组合物的聚合性组合物,则制成的黑矩阵显示出良好的保存稳定性,而且在涂布到基板上时的均匀涂布性良好,未曝光部的残渣被抑制,曝光、显影时的台阶宽度(the width of the step)小,形状良好。
另外可以看出,实施例1~14通过使用肟化合物作为聚合引发剂,可以进一步减小台阶宽度,图案形状优良。
实施例19~32和比较例7~12
液晶显示装置用黑矩阵的制作
接着,直接使用在固体摄像元件中使用的聚合性组合物,制作具有液晶显示装置用黑矩阵的滤色片,进行评价。
即,使用与制作固体摄像元件用滤色片时所用相同的聚合性组合物,在250mm×350mm的玻璃基板上,在下述条件下进行狭缝涂布。然后,在该状态下保持10分钟,进行真空干燥和预烘烤(100℃、80秒),形成聚合性组合物塗膜。然后,在整个表面上进行1000mJ/cm2的曝光(照度为20mW/cm2),用碱显影液(商品名:CDK-1、FujiFilm Electronics Materials(株)制)的1%水溶液覆盖曝过光的涂布膜,保持60秒钟。然后,将纯水以喷洒状散布,冲洗显影液。如以上所述,将进行过曝光处理和显影处理的涂布膜在220℃的烘箱中加热处理1小时(后烘烤),在玻璃基板上形成黑矩阵。
狭缝涂布条件
评价
使用上述那样得到的涂布基板、以及聚合性组合物,进行以下的评价。
其结果示于表3。
涂布时的均匀涂布性的评价
用上述聚合性组合物进行狭缝涂布后,在该状态下保持10分钟后,再次将组合物涂布到玻璃基板上,用加热板在90℃下预烘烤60秒钟。然后,在钠光源照射下目视观察涂布面的条纹状的不均匀情况,按照以下的基准进行评价。
对涂布基板表面状态的评价基准
○:在涂布面上完全没有条纹状的不均匀。
△:观察到1~5根条纹状的不均匀。
×:观察到条纹状的不均匀在6根以上、或者观察到异物。
对残渣的评价
用SEM观察在上述的曝光工序中未照射光的区域(未曝光部)有无残渣,评价残渣。评价基准如下。
评价基准
○:在未曝光部完全看不到残渣。
△:在未曝光部看到少量残渣,但只是在实用上不成问题的程度。
×:在未曝光部显著看到残渣。
对台阶的评价
用光学显微镜(倍数10倍)对所获的黑矩阵(由聚合性组合物形成的图案)进行拍摄,测定台阶区域的宽度。如图1所示,测定黑矩阵(具有黑矩阵的滤色片)10中,由聚合性组合物形成的作为图案端部的图案边缘1与台阶区域(在黑矩阵的周边部,其膜厚比中央部薄的区域)的边界线2之间的距离。将该距离除以所形成图案的1条边的长度,表3中以%来表示。
[表3]
从上述表3可以看出,如果将本发明的聚合性组合物用于具有液晶显示装置用的黑矩阵的滤色片,则在涂布到基板上时的均匀涂布性良好,未曝光部的残渣被抑制,曝光、显影时的台阶宽度小,形状良好。
实施例33
固体摄像元件的制作
彩色的着色聚合性组合物的配制
将含有下述颜料40份、作为分散剂的Disperbyk-161(BYK Chemie(BYK)社制、30%溶液)50份以及作为溶剂的丙二醇单甲醚110份的混合液用珠磨机混合、分散15小时,配制颜料分散液(P1)。
RGB各色着色象素形成用的彩色颜料
·红色(R)用颜料
C.I.颜料红254
·绿色(G)用颜料
C.I.颜料绿36与C.I.颜料黄219的30/70〔质量比〕混合物
·蓝色(B)用颜料
C.I.颜料蓝15:6与C.I.颜料紫23的30/70〔质量比〕混合物
使用上述分散处理的颜料分散液(P1),按照成为下述组成比搅拌混合,配制聚合性组合物的涂布液R-1、G-1、B-1。
组成
固体摄像元件用滤色片的制作
在上述实施例1中制作的具有黑矩阵的遮光性滤色片的晶片上,依次使用上述红色(R)用的涂布液R-1,形成1.6×1.6μm的红色(R)着色图案。进而,同样地使用绿色(G)用的涂布液G-1,形成1.6×1.6μm的绿色(G)着色图案,以及使用蓝色(B)用的涂布液B-1,形成蓝色(B)着色图案,制作固体摄像元件用的滤色片。
评价
当将全色的滤色片组装入固体摄像元件中时,确认该固体摄像元件的黑矩阵的遮光性好,分辨率高,色分离性优良。
实施例34
液晶显示装置的制作
彩色的着色聚合性组合物的配制
使用上述分散处理了的颜料分散液(P1),按照达到下述组成比搅拌混合,配制聚合性组合物的涂布液R-2。
组成
使用为了制作上述固体摄像元件用滤色片而用的彩色颜料,与所配制的涂布液R-2同样地配制绿色(G)用的涂布液G-2和蓝色(B)用的涂布液B-2。
液晶显示装置用滤色片的制作
将上述实施例1中制作的遮光性滤色片作为黑矩阵,在该黑矩阵上,使用上述红色(R)用的涂布液R-2,按照与实施例1中记载的方法相同的要领,依次形成80×80μm的红色(R)着色图案。进而,同样地使用绿色(G)用的涂布液G-2,形成绿色(G)的彩色着色图案,再使用蓝色(B)用的涂布液B-2,形成蓝色(B)的彩色着色图案,如此制作液晶显示装置用的具有黑矩阵的滤色片。
评价
在全色的滤色片上进行ITO透明电极、取向膜等加工,设置液晶显示装置。本发明的聚合性组合物的涂布面的均匀性良好,液晶显示装置也没有显示不均匀,图象质量良好。
实施例35
晶片级透镜的制作
使用实施例1中制作的聚合性组合物,将其涂布到设置有透镜的硅晶片上,由此制作设置有遮光层的晶片级透镜。
将所制作的晶片级透镜切断,在其上制作透镜模块后,安装摄像元件和传感器基板,制作摄像单元。
本发明的晶片级透镜,其遮光层部分的涂布面的均匀性好,遮光性高,使用该晶片级透镜的摄像单元的图像质量良好。
Claims (18)
1.一种分散组合物,其中含有(A)钛黑、(B)接枝共聚物以及(C)溶剂。
2.如权利要求1所述的分散组合物,其中,上述(B)接枝共聚物具有除氢原子以外的原子数在40~10000范围的接枝链。
3.如权利要求1或者权利要求2所述的分散组合物,其中,上述(B)接枝共聚物中的接枝链为选自聚酯结构、聚醚结构以及聚丙烯酸酯结构中的至少1种。
5.如权利要求1~4中的任意一项所述的分散组合物,其中,由X1、X2、X3、X4、X5或者X6表示的1价有机基团为碳数1~12的烷基。
7.如权利要求1~6中的任意一项所述的分散组合物,其中,由Z1、Z2、Z3、Z4或者Z5表示的1价有机基团为烷基、羟基、烷氧基、芳氧基、杂芳氧基、烷基硫醚基、芳基硫醚基、杂芳基硫醚基或者氨基。
8.如权利要求1~7中的任意一项所述的分散组合物,其中,上述式(5)中由R表示的1价有机基团为烷基、芳基或者杂芳基。
9.如权利要求4~8中的任意一项所述的分散组合物,其中,上述(B)接枝共聚物相对于该接枝共聚物的总质量,按照质量换算,含有10%~90%范围的由上述式(1)~式(5)中的任一个表示的结构单元。
10.如权利要求1~9中的任意一项所述的分散组合物,其中,上述(B)接枝共聚物还含有包含能够与钛黑相互作用的官能团的结构单元。
11.如权利要求1~10中的任意一项所述的分散组合物,其中,上述(B)接枝共聚物还含有羧酸基、磺酸基、磷酸基中的至少1种。
12.一种聚合性组合物,其中含有权利要求1~11中的任意一项所述的分散组合物、(D)聚合性化合物以及(E)聚合引发剂。
13.如权利要求12所述的聚合性组合物,其中,上述(E)聚合引发剂为肟聚合引发剂。
14.一种遮光性滤色片,其中,在基板上具有通过使用权利要求12或者权利要求13所述的聚合性组合物来形成的着色图案。
15.一种固体摄像元件,其中具备权利要求14所述的遮光性滤色片。
16.一种液晶显示装置,其中具备权利要求14所述的遮光性滤色片。
17.一种晶片级透镜,其中具备多个透镜一体成形的基板以及设置在该基板的除了上述透镜的透镜面以外的区域的权利要求14所述的遮光性滤色片。
18.一种摄像单元,其中具备权利要求17所述的晶片级透镜。
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