JP2003149801A - カラーレジスト組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】薄膜で高色純度を達成し、かつ塗布均一性、光
硬化性、現像性、パターン形状、保存安定性等を満足さ
せる、液晶表示素子用のカラーフィルター材料として好
適なカラーレジスト組成物を提供する。 【解決手段】高分子結合剤（Ａ）、不飽和二重結合を有
する化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、着色剤
（Ｄ）、顔料分散剤および／または添加剤（Ｅ）、およ
び溶媒（Ｆ）を含有するカラーレジスト組成物におい
て、重量比Ｄ／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｅ）が０．７〜２．０、
重量比Ｂ／Ａが０．５〜２．０、重量比Ｃ／Ｂが０．１
〜２．０、重量比Ｅ／Ｄが０．１〜１．０、重量比（Ａ
＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ）／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ＋Ｆ）が
０．１〜０．４であるカラーレジスト組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はカラー液晶表示素子
やＥＬ表示素子などに用いられるカラーフィルターを製
造するためのカラーレジスト組成物、それを用いたカラ
ーフィルターおよび表示素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラーレジスト組成物からカラーフィル
ターを製造する場合には、まず基板上にカラーレジスト
組成物をスピンコート法等で塗布し、乾燥する。この塗
膜に所望のパターンを有するマスクを通して紫外線を照
射露光し、未露光部分をアルカリ現像液で溶解除去し、
さらに加熱硬化させる。この工程を、色の数と同じ回数
繰り返し行う。このため、カラーレジスト組成物には塗
布均一性、光硬化性、現像性、適正なパターン形状、保
存安定性、液晶に対して悪影響を与えない、等の多くの
特性が要求されている。液晶に対して悪い影響とは、た
とえば電圧保持率が低下したり、残留ＤＣが上昇したり
することがあげられる。このような現象が起こると、液
晶パネルに焼き付きが起きることが知られている。した
がって、液晶に対して悪い影響を与えないことは、カラ
ーレジスト組成物にとって非常に重要な特性である。

【０００３】最近になって、薄膜で高色純度のテレビ用
カラーフィルターを製造するためのカラーレジスト組成
物が求められている。本明細書の中では「薄膜で高色純
度」の基準を、１．７μｍ以下の膜厚で、赤のＣＩＥ標
色値のｘが０．６４以上、緑のＣＩＥ標色値のｙが０．
６０以上、青のＣＩＥ標色値のｙが０．１０以下とす
る。薄膜で高色純度を達成するためには、全固形分中の
顔料の割合を高めればよい。しかしながら、顔料の割合
を高めていくと多くの問題が起きる。たとえば、液晶に
対する影響が大きくなりパネルの焼き付きが起こるこ
と、塗布時の膜厚の均一性が低下すること、現像後未露
光部分に組成物の未溶解物（残渣）が残存すること、感
度が低下するため露光量を増やさなければならないこ
と、パターンエッジの形状がオーバーハングの逆テーパ
ーになること、保存安定性が低下することが挙げられ
る。これらの問題解決のために多くの特許が出願されて
いる。たとえば、特開２０００−８１５０６には、熱反
応性あるいは光反応性の官能基を持ちかつ着色剤に吸着
される化合物を、カラーフィルタ用感放射線性組成物
（本発明のカラーレジスト組成物と同義）に添加するこ
とで残渣を低減できる、と開示されている。しかしなが
ら、組成物に新たな化合物を追加して問題の解決を図る
という方法では、必然的に全固形分中の顔料の割合が低
下してしまう。これでは薄膜で高色純度を達成すること
はできないばかりか、液晶に対する悪い影響は全く解決
されていない。また、特開２０００−３２１４１７では
緑顔料中の不純物を低減することで焼き付きを回避でき
る、とされている。しかしながら、この方法では現像時
の未溶解物の残存に対する効果が不十分である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
カラーレジスト組成物において、薄膜で高色純度を達成
し、かつ塗布均一性、光硬化性、現像性、パターン形
状、保存安定性等を満足することは、非常に難しい問題
であった。本発明の目的は、液晶に対し悪い影響を与え
ず、薄膜で高色純度を達成し、かつ塗布均一性、光硬化
性、現像性、パターン形状、保存安定性等を満足するカ
ラーレジスト組成物を提供することである。さらに、該
カラーレジスト組成物を用いたカラーフィルター、さら
には該カラーフィルターを用いた表示素子を提供するこ
とである。また、本発明のもうひとつの目的は、前記カ
ラーレジスト組成物の優れた性質を安定に保つための保
存方法を提供するものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は以下の構成を取
ることによって上記課題を解決した。なお、アクリル酸
誘導体とメタクリル酸誘導体の両者を示すために、
「（メタ）アクリル酸誘導体」のように表記することが
ある。

【０００６】［１］高分子結合剤（Ａ）、不飽和二重結
合を有する化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、着色剤
（Ｄ）、顔料分散剤および／または添加剤（Ｅ）、およ
び溶媒（Ｆ）を含有するカラーレジスト組成物におい
て、重量比Ｄ／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｅ）が０．７〜２．０、
重量比Ｂ／Ａが０．５〜２．０、重量比Ｃ／Ｂが０．１
〜２．０、重量比Ｅ／Ｄが０．１〜１．０、かつ、重量
比（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ）／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ＋
Ｆ）が０．１〜０．４であるカラーレジスト組成物。

【０００７】［２］高分子結合剤（Ａ）、不飽和二重結
合を有する化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、着色剤
（Ｄ）、顔料分散剤および／または添加剤（Ｅ）、およ
び溶媒（Ｆ）を混合、溶解、分散して調製されたカラー
レジスト組成物において、高分子結合剤（Ａ）が、溶液
中でモノマーを重合させた後、後処理によって分離され
たポリマーであって、このポリマーに含まれる分子量１
０００以下のオリゴマーと未反応モノマーとの合計がポ
リマーに基づいて１０重量％以下である、カラーレジス
ト組成物。

【０００８】［３］高分子結合剤（Ａ）が、モノマーを
溶液中で重合させて得られる重合体溶液に貧溶媒を混合
することによって分離させたポリマーである、前記
［２］に記載のカラーレジスト組成物。

【０００９】［４］光重合開始剤（Ｃ）が一般式（１）
で表される有機過酸化物を２０〜９０重量％含有する光
重合開始剤である、前記［１］〜［３］のいずれか一項
に記載のカラーレジスト組成物。 （Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ独立して炭素数１
〜１３のアルキル基であり、Ｘ^１、Ｘ^２はそれぞれ独立
に−Ｏ−、−Ｏ−Ｏ−、または−ＮＨ−である。）

【００１０】［５］光重合開始剤（Ｃ）が、一般式
（１）で表される化合物およびビイミダゾール系化合物
の群から選ばれる少なくとも１種を含有し、さらに、ア
ミノ基とベンゾフェノン構造を有する化合物、トリハロ
メチル基とトリアジン環を有する化合物、メルカプト基
を有する化合物、およびベンゾイル基を有する化合物の
群から選ばれる少なくとも１種を含有する光重合開始剤
である、前記［１］〜［４］のいずれか一項に記載のカ
ラーレジスト組成物。 （Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ独立して炭素数１
〜１３のアルキル基であり、Ｘ^１、Ｘ^２はそれぞれ独立
に−Ｏ−、−Ｏ−Ｏ−、または−ＮＨ−である。）

【００１１】［６］高分子結合剤（Ａ）が、カルボキシ
ル基を有するラジカル重合性モノマーの少なくとも１種
と、スチレン、（メタ）アクリル酸エステル、Ｎ−フェ
ニルマレイミド、ポリスチレンマクロモノマー、および
一般式（２）で表される化合物の群から選ばれる少なく
とも１種とから、ラジカル重合法により合成された共重
合体である、前記［１］〜［５］のいずれか一項に記載
のカラーレジスト組成物。 （Ｒ^５は水素原子またはメチル基であり；Ｒ^６は水素原
子または炭素数１〜５のアルキル基であり；ｎは１〜５
の整数である。）

【００１２】［７］（メタ）アクリル酸エステルが、メ
チル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレ
ート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ブチル
（メタ）アクリレート、および２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも１種であ
る、前記［６］に記載のカラーレジスト組成物。

【００１３】［８］高分子結合剤（Ａ）が連鎖移動剤の
存在下でラジカル重合法により合成された共重合体であ
る、前記［１］〜［７］のいずれか一項に記載のカラー
レジスト組成物。

【００１４】［９］着色剤（Ｄ）がピグメントレッド２
５４、ピグメントレッド２４２、ピグメントレッド２２
４、ピグメントレッド２０９、ピグメントレッド２０
８、ピグメントレッド４８：１、ピグメントレッド１７
９、ピグメントレッド１４９、ピグメントレッド１７
７、ピグメントイエロー８３、ピグメントイエロー１１
０、ピグメントイエロー１３８、ピグメントイエロー１
３９、ピグメントイエロー１５０、ピグメントイエロー
１８５、ピグメントオレンジ３８、ピグメントオレンジ
４３、ピグメントオレンジ７１、ピグメントグリーン３
６、ピグメントグリーン７、ピグメントブルー１５：
６、ピグメントブルー１５、ピグメントブルー１５：
３、ピグメントブルー１５：４、ピグメントバイオレッ
ト２３、およびピグメントレッド１２２からなる群から
選ばれる少なくとも１種を含有する着色剤である前記
［１］〜［８］のいずれか一項に記載のカラーレジスト
組成物。

【００１５】［１０］不飽和二重結合を有する化合物
（Ｂ）が、不飽和二重結合を５個以上有する化合物と不
飽和結合を１〜４個有する化合物との混合物であり、こ
の混合物に基づいて不飽和二重結合を５個以上有する化
合物の含有量が５０〜９８重量％、不飽和結合を１〜４
個有する化合物の含有量が２〜５０重量％である、前記
［１］〜［９］のいずれか一項に記載のカラーレジスト
組成物。

【００１６】［１１］顔料分散剤および／または添加剤
（Ｅ）が、少なくとも１種のシリコン樹脂（Ｅ１）と、
少なくとも１種のフッソ系界面活性剤（Ｅ２）とを含有
し、かつ、溶媒（Ｆ）との重量比Ｅ１／Ｆが０．０００
０１〜０．０５であり、重量比Ｅ２／Ｆが０．００００
１〜０．０５である、前記［１］〜［１０］のいずれか
一項に記載のカラーレジスト組成物。

【００１７】［１２］溶媒（Ｆ）が、沸点が１００℃〜
２００℃であり、ベンゼン環を有する化合物の少なくと
も１種を１〜４０重量％含有する、前記［１］〜［１
１］のいずれか一項に記載のカラーレジスト組成物。

【００１８】［１３］遮光状態かつ−５℃〜２５℃の温
度範囲で保存することを特徴とする、前記［１］〜［１
２］のいずれか一項に記載のカラーレジスト組成物の保
存方法。

【００１９】［１４］前記［１］〜［１２］のいずれか
一項に記載のカラーレジスト組成物を用いて製造された
カラーフィルター。

【００２０】［１５］前記［１４］に記載のカラーフィ
ルターを使用してなる表示素子。

【００２１】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について以下
に詳細に説明する。本発明における高分子結合剤
（Ａ）、不飽和二重結合を有する化合物（Ｂ）、光重合
開始剤（Ｃ）、着色剤（Ｄ）、顔料分散剤および／また
は添加剤（Ｅ）、溶媒（Ｆ）の最適な混合割合を以下に
示す。

【００２２】着色剤（Ｄ）の混合割合は重量比Ｄ／（Ａ
＋Ｂ＋Ｃ＋Ｅ）が０．７〜２．０であり、０．９〜１．
７であればより好ましく、１．０〜１．５であればさら
に一層好ましい。重量比Ｄ／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｅ）が０．
７〜２．０の範囲であれば薄膜で高色純度を達成するこ
と可能で、現像残渣がなく、パターン形状が順テーパー
である。

【００２３】不飽和二重結合を有する化合物（Ｂ）の混
合割合は重量比Ｂ／Ａが０．５〜２．０であり、０．７
〜１．５であればより好ましい。重量比Ｂ／Ａが０．５
〜２．０の範囲であれば現像時に膜表面の荒れが発生せ
ず、現像残渣がなく、現像時間が適性で、パターン形状
が順テーパーである。

【００２４】光重合開始剤（Ｃ）の混合割合は重量比Ｃ
／Ｂが０．１〜２．０であり、０．２〜１．５であれば
より好ましい。重量比Ｃ／Ｂが０．１〜２．０の範囲で
あれば、露光時の硬化が十分であるので現像時に剥離を
生じることがなく、現像残渣なく、現像時間が適正であ
る。

【００２５】顔料分散剤および／または添加剤（Ｅ）の
混合割合は重量比Ｅ／Ｄが０．０５〜１．０であり、
０．１〜０．８であればより好ましい。重量比Ｅ／Ｄが
０．０５〜１．０の範囲であれば、組成物の経時安定性
が良好で、現像残渣がなく、塗布均一性が良好である。

【００２６】また、重量比（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ）／
（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ＋Ｆ）は０．１〜０．４であり、
０．１５〜０．３５であればより好ましい。重量比（Ａ
＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ）／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ＋Ｆ）が
０．１〜０．４の範囲であれば、組成物の経時安定性が
良好で、塗布均一性が良好である。

【００２７】本発明における光重合開始剤（Ｃ）として
は、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４´−ビ
ス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チ
オキサントン、イソプロピルキサントン、２，４−ジエ
チルチオキサントン、２−エチルアントラキノン、アセ
トフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェ
ノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−４´−イソプロピ
ルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソ
ブチルベンゾインエーテル、２，２−ジエトキシアセト
フェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２−メ
チル−１− [４−（メチルチオ）フェニル ]−２−モル
ホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチ
ルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン
−１、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチ
ルアミノ安息香酸イソアミル、

【００２８】４，４´−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカル
ボニル）ベンゾフェノン、３，４，４´−トリ（ｔ−ブ
チルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３
´，４，４´−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニ
ル）ベンゾフェノン、３，３´，４，４´−テトラ（ｔ
−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、
３，３´−ジ（メトキシカルボニル）−４，４´−ジ
（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、
３，４´−ジ（メトキシカルボニル）−４，３´−ジ
（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、
４，４´−ジ（メトキシカルボニル）−３，３´−ジ
（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、
２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフ
ィンオキサイド、２−（４´−メトキシスチリル）−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−（３´，４´−ジメトキシスチリル）−４，６−ビ
ス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２
´，４´−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２´−メトキ
シスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（４´−ペンチルオキシスチリル）
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、４−［ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチ
ル）］−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２´
−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス
（トリクロロメチル）−５−（４´−メトキシフェニ
ル）−ｓ−トリアジン、

【００２９】２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベン
ズオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）
ベンズチアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、
３，３´−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリ
ン）、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，４´，５，５
´−テトラフェニル−１，２´−ビイミダゾール、２，
２´−ビス（２−クロロフェニル）−４，４´，５，５
´−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−
１，２´−ビイミダゾール、２，２´−ビス（２，４−
ジクロロフェニル）−４，４´，５，５´−テトラフェ
ニル−１，２´−ビイミダゾール、２，２´−ビス
（２，４−ジブロモフェニル）−４，４´，５，５´−
テトラフェニル−１，２´−ビイミダゾール、２，２´
−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４
´，５，５´−テトラフェニル−１，２´−ビイミダゾ
ール、３−（２−メチル−２−ジメチルアミノプロピオ
ニル）カルバゾール、３，６−ビス（２−メチル−２−
モルホリノプロピオニル）−９−ｎ−ドデシルカルバゾ
ール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等
をあげることができる。これらの化合物の２種以上を混
合して使用することも有効である。

【００３０】特に薄膜で高色純度のカラーフィルターを
形成するためには、高濃度の顔料による光の吸収に打ち
勝って光硬化することが必要であるため、より高感度な
光重合開始剤が必要である。そこで、本発明のカラーレ
ジスト組成物は一般式（１）で表される化合物あるいは
ビイミダゾール系化合物の少なくとも１種を含有し、さ
らにアミノ基とベンゾフェノン構造を有する化合物、ト
リハロメチル基とトリアジン環を有する化合物、メルカ
プト基を有する化合物およびベンゾイル基を有する化合
物の少なくとも１種以上の混合物であることが好まし
い。

【００３１】中でも３，３´，４，４´−テトラ（ｔ−
ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３
´−ジ（メトキシカルボニル）−４，４´−ジ（ｔ−ブ
チルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４´
−ジ（メトキシカルボニル）−４，３´−ジ（ｔ−ブチ
ルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４´−
ジ（メトキシカルボニル）−３，３´−ジ（ｔ−ブチル
ペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４´−ビ
ス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メチル−１
− [４−（メチルチオ）フェニル ]−２−モルホリノプ
ロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ
−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２
−（４´−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｏ−クロロフェ
ニル）−４，４´，５，５´−テトラフェニル−１，２
´−ビイミダゾール、３−（２−メチル−２−ジメチル
アミノプロピオニル）カルバゾール、２−メルカプトベ
ンゾチアゾールから選ばれた混合物は高感度であり特に
好ましい。

【００３２】本発明における高分子結合剤（Ａ）として
は、カルボキシル基と不飽和二重結合を有する単官能単
量体（ａ１）と、これと共重合可能な他の単官能単量体
（ａ２）とが、連鎖移動剤の存在下でラジカル重合法に
より合成された共重合体が好ましい。

【００３３】単量体（ａ１）の具体的な例としては、
（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α―クロルアクリル
酸、けい皮酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水
シトラコン酸、メサコン酸、ω―カルボキシポリカプロ
ラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ（２
−アクリロイロキシエチル）等をあげることができる。
中でも（メタ）アクリル酸、コハク酸モノ（２−アクリ
ロイロキシエチル）が好ましく、特に（メタ）アクリル
酸が、薄膜、現像残渣が少なく、カラーレジスト組成物
の保存安定性に優れ、好ましい。単量体（ａ１）は単独
でも、または２種以上を混合しても使用することができ
る。

【００３４】単量体（ａ２）の具体的な例としては、ス
チレン、メチルスチレン、ビニルトルエン、クロルメチ
ルスチレン、（メタ）アクリルアミド、トリシクロ[５・
２・１・０^2,6]デカニル（メタ）アクリレート、ジシクロ
ペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル
オキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）
アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、シクロヘ
キシル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アク
リレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレー
ト、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、Ｎ−フェ
ニルマレイミド、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメ
チルメタクリレートマクロモノマー、インデン、一般式
（１）で表される化合物、等をあげることができる。

【００３５】中でもスチレン、ベンジル（メタ）アクリ
レート、メチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル
（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、 Ｎ−フ
ェニルマレイミド、一般式（１）で表される化合物が、
組成物の安定性や形成したカラーフィルターの耐熱性の
面から好ましい。特に一般式（１）で表される化合物を
必須成分とすることが、パターンエッジ形状が順テーパ
ーであり現像時の残査も少なく、好ましい。単量体（ａ
２）は単独でも、または２種以上を混合しても使用する
ことが出来る。

【００３６】高分子結合剤（Ａ）の合成方法は、溶液中
のラジカル重合法が好ましい。重合温度は使用する重合
開始剤からラジカルが十分発生する温度であれば特に限
定しないが、通常５０〜１５０℃の範囲である。重合時
間は特に限定しないが、通常３〜２４ｈｒの範囲であ
る。

【００３７】重合反応に使用する溶媒は（ａ１）、（ａ
２）、および生成する高分子結合剤（Ａ）を溶解する溶
媒が好ましい。単独の溶媒で溶解できないときは、混合
溶媒にすればよい。具体例としては、メタノール、エタ
ノール、１−プロパノール、２−プロパノール、アセト
ン、２−ブタノン、酢酸エチル、酢酸プロピル、テトラ
ヒドロフラン、アセトニトリル、ジオキサン、トルエ
ン、キシレン、シクロヘキサノン、エチレングリコール
モノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチル
エーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、３
−エトキシプロピオン酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、酢酸、水等をあげることができる。

【００３８】重合開始剤は熱によりラジカルを発生する
化合物、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系開始剤
や、過酸化ベンゾイル等の過酸化物系開始剤を使用する
ことができる。

【００３９】本発明における高分子結合剤（Ａ）は、重
量平均分子量が２，０００〜２０，０００の範囲である
と、未露光部分がアルカリ現像液で溶解されるまでの現
像時間が適正であり、現像残渣も無く、現像時に膜の表
面が荒れないので好ましい。

【００４０】高分子結合剤を製造する重合反応において
は、分子量を適当な値にコントロールするために、連鎖
移動剤を添加することが好ましい。連鎖移動剤の具体的
な例としては、チオ−β−ナフトール、チオフェノー
ル、ｎ−ブチルメルカプタン、エチルチオグリコレー
ト、メルカプトエタノール、メルカプト酢酸、イソプロ
ピルメルカプタン、ｔ−ブチルメルカプタン、ドデカン
チオール、チオリンゴ酸、ペンタエリスリトールテトラ
（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリト
ールテトラ（３−メルカプトアセテート）、ジフェニル
ジサイファイド、ジエチルジチオグリコレート、ジエチ
ルジサルファイド、トルエン、メチルイソブチレート、
四塩化炭素、イソプロピルベンゼン、ジエチルケトン、
クロロホルム、エチルベンゼン、塩化ブチル、ｓｅｃ−
ブチルアルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、塩化プロピレン、メチルクロロホルム、ｔ
−ブチルベンゼン、ｎ−ブチルアルコール、イソブチル
アルコール、酢酸、酢酸エチル、アセトン、ジオキサ
ン、四塩化エタン、クロロベンゼン、メチルシクロヘキ
サン、ｔ−ブチルアルコール、ベンゼン等をあげること
ができる。

【００４１】中でもメルカプタン類が最も効果的な連鎖
移動剤として好ましく、特にメルカプト酢酸が、高分子
結合剤の分子量を下げ、分子量分布の均一性を増大し、
現像残渣が少ないので好ましい。連鎖移動剤は単独で
も、または２種以上を混合しても使用することができ
る。

【００４２】本発明における着色剤（Ｄ）としては、染
料、無機顔料、有機顔料が使用できる。着色剤の具体例
としては、アゾ染料、アントラキノン染料、トリフェニ
ルメタン染料、ポリメチン染料、金属錯塩染料、ビスア
ゾ染料、トリスアゾ染料、硫化染料、インジゴイド染料
等の合成染料や、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２、１
３、１４、１７、２０、２４、３１、５５、８３、９
３、１０９、１１０、１３７、１３８、１３９、１５
０、１５３、１５４、１６６、１６８、１７３、１８
０、１８５、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６、３８、
４３、５１、７１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、９
７、１２２、１２３、１４９、１７６、１７７、１７
９、１８０、２０８、２０９、２１５、２２４、２４
２、２５４、４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレッ
ト１９、２３、２９、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、
１５：３、１５：４、１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメントグ
リーン７、３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２８、
Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、７等の有機顔料をあげ
ることができる。

【００４３】特に薄膜で高色純度のカラーフィルターを
製造するためには、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、
１４９、１７７、１７９、２０８、２０９、２２４、２
４２、２５４、４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー
８３、１１０、１３８、１３９，１５０、１８０，１８
５、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６、Ｃ．Ｉ．ピ
グメントブルー１５、１５：３、１５：４、１５：６、
Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３、及びＣ．Ｉ．
ピグメントオレンジ３８、４３、７１からなる群から選
ばれる少なくとも１種を用いることが好ましい。

【００４４】本発明における不飽和二重結合を有する化
合物（Ｂ）としては、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）ア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）ア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）ア
クリレート、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチル
フォスフェート、ポリエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、イソシアヌール酸エチレンオキシド変性ト
リ（メタ）アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオ
キシド変性ジ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メ
タ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリ
レート等の多官能モノマー、（メタ）アクリル酸、（メ
タ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリ
ル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−
ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸メチル、（メ
タ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソプロピ
ル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル
酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メ
タ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル
酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メ
タ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸トリデシ
ル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸
ステアリル、

【００４５】（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）ア
クリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸２−メトキシエ
チル、（メタ）アクリル酸エトキシエチル、（メタ）ア
クリル酸３−メトキシブチル、（メタ）アクリル酸フェ
ノキシエチル、（メタ）アクリル酸セチル、（メタ）ア
クリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸ジメチルア
ミノエチル、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレー
ト四級化物、（メタ）アクリル酸モルホリノエチル、
（メタ）アクリル酸トリメチルシロキシエチル、シクロ
ヘキセン−３，４−ジカルボン酸−[２−モノ（メタ）
アクリロイルオキシ]エチル、３−シクロヘキセニルメ
チル（メタ）アクリレート、２−テトラヒドロフタルイ
ミドエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルア
ミド、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、スチレン、α−
メチルスチレン、無水マレイン酸、Ｎ−ビニルピロリド
ン、４−アクリロイルモルホリン等の単官能モノマーを
あげることができる。これらの単官能モノマーは単独で
使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。

【００４６】中でもトリメチロールプロパントリアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、ジグリセリンテトラアクリレー
ト、またはイソシアヌール酸エチレンオキシド変性トリ
アクリレートは重合速度を速くする効果があり好まし
い。

【００４７】不飽和二重結合を有する化合物（Ｂ）は現
像残渣にも大きく影響する。単独で使用するよりも、不
飽和二重結合を５個以上有する化合物が５０〜９８重量
％、不飽和二重結合を１〜４個有する化合物が２〜５０
重量％となるように調製すると、現像残渣が低減でき、
好ましい。中でもジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの組
み合わせ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
とトリメチロールプロパントリアクリレートの組み合わ
せ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジグ
リセリンテトラアクリレートの組み合わせ、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレートとイソシアヌール酸エ
チレンオキシド変性トリアクリレートの組み合わせは現
像残渣を低減する効果が大きく、特に好ましい。

【００４８】本発明における顔料分散剤および／または
添加剤（Ｅ）としては、顔料に官能基を導入した顔料の
誘導体、アクリル系あるいはスチレン系あるいはポリエ
チレンイミン系あるいはウレタン系の高分子分散剤、ア
ニオン系あるいはカチオン系あるいはノニオン系あるい
はフッ素系の界面活性剤、シリコン樹脂等の塗布性向上
剤、シランカップリング剤等の密着性向上剤、アルコキ
シベンゾフェノン類等の紫外線吸収剤、ポリアクリル酸
ナトリウム等の凝集防止剤、エポキシ化合物あるいはメ
ラミン化合物あるいはビスアジド化合物等の熱架橋剤、
有機カルボン酸等のアルカリ溶解性促進剤、フェノール
系化合物等の熱重合禁止剤等がある。顔料分散剤は、顔
料を分散する工程において顔料の微細化と安定化を目的
として添加される物質であり、高分子結合剤、不飽和二
重結合を有する化合物、光重合開始剤、着色剤、溶媒以
外のものを指す。また添加剤は、顔料の微細化と安定化
には特に寄与しないが、各種特性向上のために添加され
る物質であり、高分子結合剤、不飽和二重結合を有する
化合物、光重合開始剤、着色剤、溶媒以外のものを指
す。

【００４９】顔料分散剤の具体例としては、ＥＦＫＡ−
７４５、ＥＦＫＡ−４６、ＥＦＫＡ−４７、ＥＦＫＡ−
４７ＥＡ、ＥＦＫＡポリマー１００、ＥＦＫＡポリマー
４００、ＥＦＫＡポリマー４０１、ＥＦＫＡポリマー４
５０（以上森下産業製）、ソルスパーズ３０００、５０
００、９０００、１２０００、１３２４０、１３９４
０、１７０００、２００００、２４０００、２４０００
ＧＲ、２６０００、２８０００、３２０００（以上ゼネ
カ製）、ディスパースエイド６、ディスパースエイド
８、ディスパースエイド１５、ディスパースエイド９１
００（以上サンノプコ製）、ポリフローＮｏ．７５、ポ
リフローＮｏ．９０、ポリフローＮｏ．９５（以上共栄
社油脂化学工業製）、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１６１、Ｄｉ
ｓｐｅｒｂｙｋ１６２、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１６３、Ｄ
ｉｓｐｅｒｂｙｋ１６４、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１６６、
Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１７０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１８
０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１８１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１
８２（以上ビックケミー製）等をあげることができる。
顔料分散剤は、顔料、溶媒、高分子結合剤の種類によっ
て適宜選択される。

【００５０】添加剤の具体例としては、フルオロアルキ
ルベンゼンスルホン酸塩、フルオルアルキルカルボン酸
塩、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、フ
ルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキ
ルベタイン、フルオロアルキルスルホン酸塩、ジグリセ
リンテトラキス（フルオロアルキルポリオキシエチレン
エーテル）、フルオロアルキルトリメチルアンモニウム
塩、フルオロアルキルアミノスルホン酸塩、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポ
リオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレ
ントリデシルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエー
テル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオ
キシエチレンラウレート、ポリオキシエチレンオレレー
ト、ポリオキシエチレンステアレート、ポリオキシエチ
レンラウリルアミン、ソルビタンラウレート、ソルビタ
ンパルミテート、ソルビタンステアレート、ソルビタン
オレエート、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエ
チレンソルビタンラウレート、ポリオキシエチレンソル
ビタンパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンス
テアレート、ポリオキシエチレンソルビタンオレエー
ト、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩、アルキルジフェニルエーテルジス
ルホン酸塩、ビックケミー（株）製ＢＹＫ３００、同Ｂ
ＹＫ３１０、同ＢＹＫ３２０、同ＢＹＫ３３０、同ＢＹ
Ｋ３４６、共栄社化学（株）製ポリフローＮｏ．４５、
同ポリフローＫＬ−２４５等をあげることができる。

【００５１】添加剤は微量でも現像残渣に影響する。添
加剤は２色以上のカラーフィルターを製造する工程で、
２色目以降の現像残渣に特に影響する。２色目以降の現
像残渣を低減するためには、添加剤が、少なくとも１種
のシリコン樹脂（Ｅ１）と、少なくとも１種のフッ素系
界面活性剤（Ｅ２）を含み、かつ、溶媒（Ｆ）に対する
重量比Ｅ１／Ｆが０．００００１〜０．０５、重量比Ｅ
２／Ｆが０．００００１〜０．０５であることが好まし
い。

【００５２】添加剤の具体例として挙げた界面活性剤
は、顔料分散剤としての効果もある。もとより、上記の
化合物群が顔料分散剤として機能しているか、その他の
添加剤に該当するのか議論することは、本発明において
重要ではない。

【００５３】本発明における溶媒（Ｆ）としては、水、
エタノール、２−プロパノール、２−ブタノン、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、
オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチ
ル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキ
シ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチ
ル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピ
オン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−
メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン
酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキ
シプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチ
ル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプ
ロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、
２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロ
ピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２
−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ
−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−
メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシー２−メチル
プロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エ
チル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト
酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブ
タン酸エチル、メチルエチルケトン、ジオキサン、

【００５４】エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、
１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソ
プロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエー
テル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エ
チレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シク
ロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル
アセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、トルエン、キシレン、
γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等
からなる群から選ばれる少なくとも１種を用いることが
好ましい。

【００５５】中でもプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキ
シプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチ
ルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、乳酸エチル、酢酸ブチル、シクロヘキサノ
ン、トルエン、キシレンが好ましく用いられる。

【００５６】着色剤の濃度が高くても膜厚均一性の高い
塗膜を得るという点からは、トルエン、キシレン等のよ
うな、分子構造にベンゼン環を有する沸点１００℃〜２
００℃の溶媒を１〜４０重量％含有することが特に好ま
しい。

【００５７】本発明のカラーレジスト組成物には、これ
まで述べてきた高分子結合剤（Ａ）〜溶媒（Ｆ）の成分
の他に、感度やパターン形状を調整するための単官能単
量体を添加することもできる。例えば、（メタ）アクリ
ル酸、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メ
タ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アク
リル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸メチ
ル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イ
ソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）
アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチ
ル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）
アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシ
ル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸
トリデシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）ア
クリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸フェニル、
（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸２−
メトキシエチル、（メタ）アクリル酸エトキシエトキシ
エチル、（メタ）アクリル酸３−メトキシブチル、（メ
タ）アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸
セチル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）ア
クリル酸ジメチルアミノエチル、ジメチルアミノエチル
（メタ）アクリレート四級化物、（メタ）アクリル酸モ
ルホリノエチル、（メタ）アクリル酸トリメチルシロキ
シエチル、

【００５８】大阪有機化学（株）製ビスコート＃１９
３、ビスコート＃３２０、ビスコート＃２３１１ＨＰ、
ビスコート＃２２０、ビスコート＃２０００、ビスコー
ト＃２１００、ビスコート＃２１５０、ビスコート＃２
１８０、ビスコート３Ｆ、ビスコート３ＦＭ、ビスコー
ト４Ｆ、ビスコート４ＦＭ、ビスコート６ＦＭ、ビスコ
ート８Ｆ、ビスコート８ＦＭ、ビスコート１７Ｆ、ビス
コート１７ＦＭ、ビスコートＭＴＧ、東亜合成（株）製
Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｍ−１１０、Ｍ−１１３、Ｍ
−１１７、Ｍ−１２０、Ｍ−５３００、Ｍ−５６００、
Ｍ−５７００、ＴＯ−８５０、ＴＯ−８５１、ＴＯ−１
２４８、ＴＯ−１２４９、ＴＯ−１３０１、ＴＯ−１３
１７、ＴＯ−１３１５、ＴＯ−９８１、ＴＯ−１２１
５、ＴＯ−１３１６、ＴＯ−１３２２、ＴＯ−１３４
２、ＴＯ−１３４０、ＴＯ−１２２５、シクロヘキセン
−３，４−ジカルボン酸−［２−モノ（メタ）アクリロ
イルオキシ］エチル、３−シクロヘキセニルメチル（メ
タ）アクリレート、２−テトラヒドロフタルイミドエチ
ル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、ジ
メチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアクリルアミド、スチレン、α−メチルスチ
レン、無水マレイン酸、Ｎ−ビニルピロリドン、４−ア
クリロイルモルホリン等は、先に挙げた各種特性を向上
させるのに有効である。

【００５９】これまで述べてきたように、高分子結合剤
（Ａ）は重合反応で得られた重合体溶液を精製すること
なくそのまま使用してもよい。しかし、高分子結合剤
（Ａ）を合成した重合体溶液中に存在する未反応モノマ
ーおよび低分子量オリゴマーを除去することにより、現
像残渣をより少なくすることができる。さらに、カラー
フィルターを使用した液晶表示素子において、液晶の電
気特性を低下させる要因を除くことができるので好まし
い。すなわち、高分子結合剤（Ａ）の合成過程で、重合
体溶液と貧溶媒を混合して高分子結合剤の沈殿を生成さ
せ、この沈殿を乾燥することにより、分子量１０００以
下のオリゴマーと未反応モノマーの合計量が乾燥した高
分子結合剤の１０重量％以下、好ましくは５重量％以
下、より好ましくは３重量％以下とすることが重要であ
る。このようにして得られた高分子結合剤を含有するカ
ラーレジスト組成物は、現像残渣がなく、液晶に対して
悪い影響を与えないという特長を持つ。重合体溶液と混
合する貧溶媒は特に限定されないが、次工程での乾燥を
考慮して沸点２００℃以下の溶媒が好ましい。具体的に
は、シクロヘキサン、ヘキサン、シクロペンタン、ペン
タン、トルエン、水等が使用できる。

【００６０】本発明のカラーレジスト組成物は−５℃〜
２５℃の範囲で遮光して保存すると、組成物の経時安定
性が良好である。保存温度が３℃〜１０℃であれば、経
時安定性が一層良好である。

【００６１】本発明のカラーレジスト組成物を露光後に
現像する方法は、現像残渣が少ないという点でシャワー
現像が好ましい。その際のシャワー圧は０．００１ＭＰ
ａ〜１．０ＭＰａの範囲が、現像残渣が少なく、また、
パターンが剥離することもなく好ましい。シャワー圧が
０．０２ＭＰａ〜０．２ＭＰａの範囲であれば、より好
ましい。

【００６２】

【実施例】以下実施例により本発明をさらに説明する
が、本発明はこれらによって制限されるものではない。
なお、本願実施例及び比較例で使用した顔料は全て平均
粒径２００ｎｍ以下で、５００ｎｍ以下の粒子が全粒子
の８０％以上である分散液を使用した。

【００６３】実施例１ 高分子結合剤（Ａ１）の合成 攪拌器付４つ口フラスコに以下を仕込み、還流温度で６
ｈｒ加熱した。 酢酸エチル ３３４ｇ メタノール １６６ｇ ベンジルメタクリレート １３０ｇ 一般式（２）で表される化合物である 日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＣ１１０Ｓ ２０ｇ ２−ヒドロキシエチルメタクリレート ２０ｇ メタクリル酸 ３０ｇ アゾビスイソブチロニトリル １ｇ チオグリコール酸 ３ｇ 得られた重合体溶液を真空乾燥処理にて溶媒を除去し、
１５６ｇの高分子結合剤（Ａ１）を得た。ポチエチレン
オキシドを標準としたＧＰＣ分析により、重量平均分子
量は８，５００であった。

【００６４】顔料分散液の調製 溶媒であるプロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート（以下ＰＧＭＥＡと略す）７９ｇ、顔料分散剤
であるゼネカ（株）製ソルスパーズ３２０００（以下ソ
ルスパーズと略す）を２ｇ、前記高分子結合剤（Ａ１）
を２ｇ計量後混合溶解し、これに顔料であるＣ．Ｉ．ピ
グメントグリーン３６を１０ｇ、Ｃ．Ｉ．ピグメントイ
エロー１５０を７ｇ加え、ホモジナイザーで５ｈｒ分散
した。この分散液をガラスベッセルに移し、２ｍｍジル
コニアビーズを加えてサンドミルで６００ｒｐｍの低速
で２０ｈｒ分散した。分散液とビーズを分離後、分散液
に０．６ｍｍジルコニアビーズを加えてサンドミルで１
０００ｒｐｍで２０ｈｒ分散した。分散液とビーズを分
離後、分散液に０．３ｍｍジルコニアビーズを加えてサ
ンドミルで５００ｒｐｍで２０ｈｒ分散した。分散液と
ビーズを分離後、分散液を０．５μｍフィルターでろ過
し、緑色の顔料分散液を得た。

【００６５】カラーレジスト組成物の調製この顔料分散
液に、高分子結合剤（Ａ１）、不飽和二重結合を有する
化合物であるジペンタエリスルトールヘキサアクリレー
ト（東亜合成（株）製アロニックスＭ４００、以下Ｍ４
００と略す）およびペンタエリスリトールテトラアクリ
レート（東亜合成（株）製アロニックスＭ４５０、以下
Ｍ４５０と略す）、一般式（１）で表される光重合開始
剤である３，３´，４，４´−テトラ（ｔ−ブチルペル
オキシカルボニル）ベンゾフェノンの２５％トルエン溶
液（日本油脂（株）製ＢＴＴＢ−２５、以下ＢＴＴＢと
略す）およびトリハロメチル基とトリアジン環を有する
化合物であるみどり化学（株）製ＴＡＺ−１１０（以下
ＴＡＺと略す）及びアミノ基とベンゾフェノン構造を有
する化合物であるジエチルアミノベンゾフェノン（保土
谷化学（株）製ＥＡＢ−Ｆ、以下ＥＡＢと略す）、シリ
コン樹脂であるビックケミー製ＢＹＫ−３００（以下Ｅ
１と略す）、フッ素系界面活性剤であるネオス（株）製
フタージェント２５１（以下Ｅ２と略す）を下記組成に
て混合溶解し、緑色のカラーレジスト組成物を得た。 緑色顔料分散液 Ｄ＋Ｅ＋Ｆ ９７．００ｇ 高分子結合剤（Ａ１） Ａ ５．００ｇ Ｍ４００ Ｂ ４．４５ｇ Ｍ４５０ Ｂ １．１０ｇ ＢＴＴＢ（２５％トルエン溶液） Ｃ＋Ｆ ８．８９ｇ ＴＡＺ Ｃ ０．３１ｇ ＥＡＢ Ｃ ０．８０ｇ Ｅ１ Ｅ ０．０８ｇ Ｅ２ Ｅ ０．０５ｇ ＰＧＭＥＡ Ｆ ２０．７４ｇ 上記カラーレジスト組成物の重量比Ｄ／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋
Ｅ）は０．９１、重量比Ｂ／Ａは０．８、重量比Ｃ／Ｂ
は０．６、重量比Ｅ／Ｄは０．１４、重量比（Ａ＋Ｂ＋
Ｃ＋Ｄ＋Ｅ）／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ＋Ｆ）は０．２
５、重量比Ｅ１／Ｆは０．０００８、重量比Ｅ２／Ｆは
０．０００５、分子構造にベンゼン環を有する沸点１０
０℃〜２００℃の溶媒であるトルエンの溶媒中の含有率
は６．４％であった。

【００６６】この緑色カラーレジスト組成物をガラス基
板上に８００ｒｐｍで５秒間スピンコートし、９０℃の
ホットプレート上で１分間乾燥した。この基板をウシオ
（株）製ＵＩ−５０１Ｃ超高圧水銀灯で２０μｍのスト
ライプパターンのマスクを介して、空気中、ギャップ１
００μｍで露光した。露光量はウシオ（株）製積算光量
計ＵＩＴ−１０２、受光器ＵＶＤ−３６５ＰＤで測定し
て１００ｍｊ／ｃｍ^２とした。露光後のガラス基板を、
純水５０００ｇに水酸化カリウム２．５ｇとポリオキシ
エチレンラウリルエーテル７．５ｇを溶解した現像液で
シャワー現像し、未露光部を除去した。基板表面が現れ
る時間は１７秒であった。現像後の基板を純水で２０秒
間洗ってから、２２０℃で３０分ポストベイクした後、
１万倍のＳＥＭで観察したところ、現像残渣はみられ
ず、パターンエッジの形状は順テーパーであった。ＣＩ
Ｅ標色値を測定し、ｘ＝０．３０、ｙ＝０．６０という
高色純度を達成するための膜厚は１．６０μｍであっ
た。この緑色カラーレジスト組成物を遮光した５℃の冷
蔵庫中で３ヶ月保存したが、粘度、塗布均一性、現像残
渣に変化はなかった。

【００６７】実施例２ ＰＧＭＥＡ８１ｇ、ソルスパーズ４ｇ、実施例１の高分
子結合剤（Ａ１）５ｇを混合溶解し、これに顔料である
Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を９ｇ、Ｃ．Ｉ．ピ
グメントバイオレット２３を１ｇ加え、これを実施例１
に準じた操作を行って青色の顔料分散液を調製した。さ
らに、下記組成にて高分子結合剤等を混合溶解し、青色
のカラーレジスト組成物を得た。 青色顔料分散液 Ｄ＋Ｅ＋Ｆ １７１．８９ｇ 高分子結合剤（Ａ１） Ａ ５．００ｇ Ｍ４００ Ｂ ５．５０ｇ Ｍ４５０ Ｂ １．３０ｇ ＢＴＴＢ（２５％トルエン溶液） Ｃ＋Ｆ ９．５２ｇ ＴＡＺ Ｃ ０．２２ｇ ＥＡＢ Ｃ ０．８０ｇ Ｅ１ Ｅ ０．３３ｇ Ｅ２ Ｅ ０．０６ｇ ＰＧＭＥＡ Ｆ ２３．００ｇ 上記カラーレジスト組成物の重量比Ｄ／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋
Ｅ）は０．５４、重量比Ｂ／Ａは０．５、重量比Ｃ／Ｂ
は０．５、重量比Ｅ／Ｄは０．４８、重量比（Ａ＋Ｂ＋
Ｃ＋Ｄ＋Ｅ）／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ＋Ｆ）は０．２
３、重量比Ｅ１／Ｆは０．００２、重量比Ｅ２／Ｆは
０．０００４、分子構造にベンゼン環を有する沸点１０
０℃〜２００℃の溶媒であるトルエンの溶媒中の含有率
は４．２％であった。

【００６８】この青色カラーレジスト組成物を実施例１
に準じた方法で塗布、乾燥、露光を行った。露光後のガ
ラス基板を、純水５０００ｇに水酸化カリウム２．５ｇ
とポリオキシエチレンラウリルエーテル７．５ｇを溶解
した現像液でシャワー現像し、未露光部を除去した。基
板表面が現れる時間は１４秒であった。現像後の基板を
純水で２０秒間洗ってから、２２０℃で３０分ポストベ
イクした後、１万倍のＳＥＭで観察したところ、現像残
渣はみられず、パターンエッジの形状は順テーパーであ
った。ＣＩＥ標色値を測定し、ｘ＝０．１４、ｙ＝０．
１０という高色純度を達成するための膜厚は１．４２μ
ｍであった。この青色カラーレジスト組成物を遮光した
５℃の冷蔵庫中で３ヶ月保存したが、粘度、塗布均一
性、現像残渣に変化はなかった。

【００６９】比較例１ ＰＧＭＥＡ７９ｇ、ソルスパーズ２ｇ、合成例１の高分
子結合剤（Ａ１）２ｇを混合溶解し、これに顔料である
Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６を１０ｇ、Ｃ．Ｉ．ピ
グメントイエロー１５０を７ｇ加え、これを実施例１に
準じた操作を行って緑色の顔料分散液を調製し、下記組
成にて高分子結合剤等を混合溶解し、緑色のカラーレジ
スト組成物を得た。 緑色顔料分散液 Ｄ＋Ｅ＋Ｆ ３６．６６ｇ 高分子結合剤（Ａ１） Ａ ５．００ｇ Ｍ４００ Ｂ ２．３０ｇ Ｍ４５０ Ｂ ０．５８ｇ ＢＴＴＢ（２５％トルエン溶液） Ｃ＋Ｆ ２．３０ｇ ＴＡＺ Ｃ ０．０７ｇ ＥＡＢ Ｃ ０．１５ｇ Ｅ１ Ｅ ０．０６ｇ Ｅ２ Ｅ ０．０４ｇ ＰＧＭＥＡ Ｆ ３７．６８ｇ 上記カラーレジスト組成物の重量比Ｄ／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋
Ｅ）は０．６１、重量比Ｂ／Ａは０．５０、重量比Ｃ／
Ｂは０．２８、重量比Ｅ／Ｄは０．１４、重量比（Ａ＋
Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ）／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ＋Ｆ）は０．
２０、重量比Ｅ１／Ｆは０．０００８、分子構造にベン
ゼン環を有する沸点１００℃〜２００℃の溶媒であるト
ルエンの溶媒中の含有率は２．５％であった。

【００７０】この緑色カラーレジスト組成物を実施例１
に準じた方法で塗布、乾燥、露光を行った。露光後のガ
ラス基板を、純水５０００ｇに水酸化カリウム２．５ｇ
とポリオキシエチレンラウリルエーテル７．５ｇを溶解
した現像液でシャワー現像し、未露光部を除去した。基
板表面が現れる時間は１７秒であった。現像後の基板を
純水で２０秒間洗ってから、２２０℃で３０分ポストベ
イクした後、１万倍のＳＥＭで観察したところ、現像残
渣はみられず、パターンエッジの形状は順テーパーであ
った。ＣＩＥ標色値を測定し、ｘ＝０．３０、ｙ＝０．
６０という高色純度を達成するための膜厚は１．７５μ
ｍであった。この緑色カラーレジスト組成物を遮光した
５℃の冷蔵庫中で３ヶ月保存したが、粘度、塗布均一
性、現像残渣に変化はなかった。

【００７１】比較例２ ＰＧＭＥＡ７９ｇ、ソルスパーズ２ｇ、実施例１の高分
子結合剤（Ａ１）２ｇを混合溶解し、これに顔料である
Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６を１０ｇ、Ｃ．Ｉ．ピ
グメントイエロー１５０を７ｇ加え、これを実施例１に
準じた操作を行って緑色の顔料分散液を調製し、下記組
成にて高分子結合剤等を混合溶解し、緑色のカラーレジ
スト組成物を得た。 緑色顔料分散液 Ｄ＋Ｅ＋Ｆ ７０．５３ｇ 高分子結合剤（Ａ１） Ａ ５．００ｇ Ｍ４００ Ｂ ２．３０ｇ Ｍ４５０ Ｂ ０．５７ｇ ＢＴＴＢ（２５％トルエン溶液） Ｃ＋Ｆ ２．３０ｇ ＴＡＺ Ｃ ０．０７ｇ ＥＡＢ Ｃ ０．１５ｇ Ｅ１ Ｅ ０．０６ｇ Ｅ２ Ｅ ０．０４ｇ ＰＧＭＥＡ Ｆ １９．０９ｇ 上記カラーレジスト組成物の重量比Ｄ／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋
Ｅ）は１．０２、重量比Ｂ／Ａは０．４５、重量比Ｃ／
Ｂは０．２８、重量比Ｅ／Ｄは０．１４、重量比（Ａ＋
Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ）／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ＋Ｆ）は０．
２４、重量比Ｅ１／Ｆは０．０００７、分子構造にベン
ゼン環を有する沸点１００℃〜２００℃の溶媒であるト
ルエンの溶媒中の含有率は２．３％であった。

【００７２】この緑色カラーレジスト組成物を実施例１
に準じた方法で塗布、乾燥、露光を行った。露光後のガ
ラス基板を、純水５０００ｇに水酸化カリウム２．５ｇ
とポリオキシエチレンラウリルエーテル７．５ｇを溶解
した現像液でシャワー現像し、未露光部を除去した。基
板表面が現れる時間は３３秒であった。一部パターンは
剥離していた。現像後の基板を純水で２０秒間洗ってか
ら、２２０℃で３０分ポストベイクした後、１万倍のＳ
ＥＭで観察したところ、現像残渣があり、パターンエッ
ジの形状は逆テーパーであった。ＣＩＥ標色値を測定し
ｘ＝０．３０、ｙ＝０．６０という高色純度を達成する
ための膜厚は１．５７μｍであった。この緑色カラーレ
ジスト組成物を遮光した５℃の冷蔵庫中で３ヶ月保存し
たが、粘度が増加し、塗布均一性が低下していた。

【００７３】比較例３ ＰＧＭＥＡ８１ｇ、ソルスパーズ５ｇ、実施例１の高分
子結合剤（Ａ１）５ｇを混合溶解し、これに顔料である
Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を９ｇ、Ｃ．Ｉ．ピ
グメントバイオレット２３を１ｇ加え、これを実施例１
に準じた操作を行って青色の顔料分散液を調製し、下記
組成にて高分子結合剤等を混合溶解し、青色のカラーレ
ジスト組成物を得た。 青色顔料分散液 Ｄ＋Ｅ＋Ｆ ５４．７０ｇ 高分子結合剤（Ａ１） Ａ ５．００ｇ Ｍ４００ Ｂ ４．３３ｇ Ｍ４５０ Ｂ １．０９ｇ ＢＴＴＢ（２５％トルエン溶液） Ｃ＋Ｆ ２．１７ｇ ＴＡＺ Ｃ ０．０７ｇ ＥＡＢ Ｃ ０．２０ｇ Ｅ１ Ｅ ０．０７ｇ Ｅ２ Ｅ ０．０１ｇ ＰＧＭＥＡ Ｆ ３９．３６ｇ 上記カラーレジスト組成物の重量比Ｄ／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋
Ｅ）は０．３３、重量比Ｂ／Ａは０．７０、重量比Ｃ／
Ｂは０．１５、重量比Ｅ／Ｄは０．４７、重量比（Ａ＋
Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ）／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ＋Ｆ）は０．
２１、重量比Ｅ１／Ｆは０．０００８、分子構造にベン
ゼン環を有する沸点１００℃〜２００℃の溶媒であるト
ルエンの溶媒中の含有率は１．９％であった。

【００７４】この青色カラーレジスト組成物を実施例１
に準じた方法で塗布、乾燥、露光を行った。露光後のガ
ラス基板を、純水５０００ｇに水酸化カリウム２．５ｇ
とポリオキシエチレンラウリルエーテル７．５ｇを溶解
した現像液でシャワー現像し、未露光部を除去した。基
板表面が現れる時間は１４秒であった。現像後の基板を
純水で２０秒間洗ってから、２２０℃で３０分ポストベ
イクした後、１万倍のＳＥＭで観察したところ、現像残
渣はみられず、パターンエッジの形状は順テーパーであ
った。ＣＩＥ標色値を測定し、ｘ＝０．１４、ｙ＝０．
１０という高色純度を達成するための膜厚は１．８２μ
ｍであった。この青色カラーレジスト組成物を遮光した
５℃の冷蔵庫中で３ヶ月保存したが、粘度、塗布均一
性、現像残渣に変化はなかった。以上の実施例、比較例
の結果を表１にまとめた。

【００７５】

【００７６】実施例３ 高分子結合剤（Ａ２）の合成 攪拌器付４つ口フラスコに以下を仕込み、還流温度で６
ｈｒ加熱した。 酢酸エチル １６７．０ｇ メタノール ８３．０ｇ ベンジルメタクリレート ６５．０ｇ 一般式（２）で表される化合物である 日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＣ１１０Ｓ １０．０ｇ ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １０．０ｇ メタクリル酸 １５．０ｇ アゾビスイソブチロニトリル ０．５ｇ チオグリコール酸 １．５ｇ 得られた重合体溶液とシクロヘキサン２０００ｇを混合
し、餅状の沈殿を生成させ、上澄みをデカンテーション
により除去した。餅状の沈殿に酢酸エチル１６７ｇとメ
タノール８３ｇを加えて均一溶液とし、これとシクロヘ
キサン２０００ｇを混合して、再度餅状の沈殿を生成さ
せた。餅状沈殿をバットに移し、５０℃で３０ｈｒ真空
乾燥し、７８ｇの高分子結合剤（Ａ２）を得た。ポチエ
チレンオキシドを標準としたＧＰＣ分析により、重量平
均分子量は８，５００、分子量１０００以下のオリゴマ
ーの含有率は２．５重量％であった。また、ガスクロマ
トグラフィーによる分析で、未反応モノマーの含有率は
０．４重量％であった。

【００７７】顔料分散液の調製 ＰＧＭＥＡ８０．０ｇ、ソルスパーズ５．０ｇを混合溶
解し、これに顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５
４を１３．５ｇ、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９を
１．５ｇ加え、これを実施例１に準じた操作を行って赤
色の顔料分散液を調製した。

【００７８】カラーレジスト組成物の調製 下記組成にて高分子結合剤等を混合溶解し、赤色のカラ
ーレジスト組成物を得た。 赤色顔料分散液 ：Ｄ＋Ｅ＋Ｆ ２７．５３ｇ 高分子結合剤（Ａ１） ：Ａ １．００ｇ Ｍ４００ ：Ｂ ０．６０ｇ Ｍ４５０ ：Ｂ ０．２０ｇ ＢＴＴＢ（２５％トルエン溶液）：Ｃ＋Ｆ １．２８ｇ ＴＡＺ ：Ｃ ０．０４ｇ ＥＡＢ ：Ｃ ０．１２ｇ Ｅ１ ：Ｅ ０．０１ｇ Ｅ２ ：Ｅ ０．０１ｇ 上記カラーレジスト組成物の重量比Ｄ／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋
Ｅ）は１．１２、重量比Ｂ／Ａは０．８、重量比Ｃ／Ｂ
は０．６、重量比Ｅ／Ｄは０．３４、重量比（Ａ＋Ｂ＋
Ｃ＋Ｄ＋Ｅ）／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ＋Ｆ）は０．２
５、重量比Ｅ１／Ｆは０．０００４、重量比Ｅ２／Ｆは
０．０００４、分子構造にベンゼン環を有する沸点１０
０℃〜２００℃の溶媒であるトルエンの溶媒中の含有率
は４．２重量％であった。

【００７９】この赤色カラーレジスト組成物を実施例１
に準じた方法で塗布、乾燥、露光を行った。露光後のガ
ラス基板を、純水５０００ｇに水酸化カリウム２．５ｇ
とポリオキシエチレンラウリルエーテル７．５ｇを溶解
した現像液でディップ現像を６０秒間行い、未露光部を
除去した。基板表面が現れる時間は１５秒であった。現
像後の基板を純水で２０秒間洗ってから、２２０℃で３
０分ポストベイクした後、１万倍のＳＥＭで観察したと
ころ、現像残渣はみらず、パターンエッジの形状は順テ
ーパーであった。また、ＣＩＥ標色値を測定したとこ
ろ、膜厚１．２μｍでｘ＝０．６４、ｙ＝０．３４とい
う高色純度を達成していた。ポストベイク後の基板表面
から硬化した膜を削りとり、液晶（チッソ（株）製ＪＣ
−５００４ＬＡ）に対し１．５重量％添加し、６０℃で
４８ｈｒ保持した後、０．２μｍのテフロン（登録商
標）製メンブランフィルターでろ過を行い、得られた液
晶の電気特性を測定したところ、比抵抗は１．５×１０
¹¹［Ω・ｃｍ］、電圧保持率は９１．９％、残留ＤＣは
８５０ｍＶであった。この赤色カラーレジスト組成物を
遮光した５℃の冷蔵庫中で３ヶ月保存したが、粘度、塗
布均一性、現像残渣に変化はなかった。

【００８０】実施例４ 高分子結合剤（Ａ３）の合成 攪拌器付４つ口フラスコに以下を仕込み、７０℃で６ｈ
ｒ加熱した。 ３−エトキシプロピオン酸エチル ２５０．０ｇ ベンジルメタクリレート ６５．０ｇ ポリスチレンマクロモノマー ５．０ｇ ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １０．０ｇ メタクリル酸 ２０．０ｇ アゾビスイソブチロニトリル ０．５ｇ チオグリコール酸 １．５ｇ 得られた重合体溶液に合成例１と同様の操作を行い、７
５ｇの高分子結合剤（Ａ３）を得た。ポチエチレンオキ
シドを標準としたＧＰＣ分析により、重量平均分子量は
８，０００、分子量１０００以下のオリゴマーの含有率
は２．２重量％であった。また、ガスクロマトグラフィ
ーによる分析で、未反応モノマーの含有率は０．６重量
％であった。

【００８１】顔料分散液の調整 ＰＧＭＥＡ８０．０ｇ、ソルスパーズ５．０ｇを混合溶
解し、これに顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントグリーン３
６を９．０ｇ、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０を
６．０ｇ加え、これを実施例１と同様の操作を行って緑
色の顔料分散液を得た。

【００８２】カラーレジスト組成物の調整 この顔料分散液に、下記組成にて高分子結合剤等を混合
溶解し、緑色のカラーレジスト組成物を得た。 緑色顔料分散液 ：Ｄ＋Ｅ＋Ｆ ２７．５３ｇ 高分子結合剤（Ａ２） ：Ａ １．００ｇ Ｍ４００ ：Ｂ ０．６０ｇ Ｍ４５０ ：Ｂ ０．２０ｇ ＢＴＴＢ（２５％トルエン溶液）：Ｃ＋Ｆ １．２８ｇ ＴＡＺ ：Ｃ ０．０４ｇ ＥＡＢ ：Ｃ ０．１２ｇ Ｅ１ ：Ｅ ０．０１ｇ Ｅ２ ：Ｅ ０．０１ｇ

【００８３】得られた緑色カラーレジスト組成物の粘度
を、（株）トキメック製Ｅ型粘度計を用いて２５℃にて
測定したところ、８．０ｍＰａ・ｓであった。この緑色
カラーレジスト組成物を実施例１と同様に塗布、乾燥、
露光を行った。露光後のガラス基板を、純水５０００ｇ
に水酸化カリウム２．５ｇとポリオキシエチレンラウリ
ルエーテル７．５ｇを溶解した現像液でディップ現像を
６０秒間行い、未露光部を除去した。基板表面が現れる
時間は１７秒であった。現像後の基板を純水で２０秒間
洗ってから、２２０℃で３０分ポストベイクした後、１
万倍のＳＥＭで観察したところ、現像残渣はみらず、パ
ターンエッジの形状は順テーパーであった。また、ＣＩ
Ｅ標色値を測定したところ、膜厚１．６μｍでｘ＝０．
３０、ｙ＝０．６０という高色純度を達成していた。ポ
ストベイク後の基板表面から硬化した膜を削りとり、実
施例１と同様の方法で電気特性を測定したところ、比抵
抗は１．２×１０¹¹［Ω・ｃｍ］、電圧保持率は９６．
９％、残留ＤＣは３６６ｍＶであった。この緑色カラー
レジスト組成物を遮光した５℃の冷蔵庫中で３ヶ月保存
したが、粘度、塗布均一性、現像残渣に変化はなかっ
た。

【００８４】実施例５ 高分子結合剤（Ａ４）の合成 攪拌器付４つ口フラスコに以下を仕込み、還流温度で６
ｈｒ加熱した。 酢酸エチル １６７．０ｇ メタノール ８３．０ｇ ベンジルメタクリレート ７５．０ｇ ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １０．０ｇ メタクリル酸 １５．０ｇ アゾビスイソブチロニトリル ０．５ｇ チオグリコール酸 １．５ｇ 得られた重合体溶液に合成例１と同様の操作を行い、８
１ｇの高分子結合剤（Ａ４）を得た。ポチエチレンオキ
シドを標準としたＧＰＣ分析により、重量平均分子量は
８，８００、分子量１０００以下のオリゴマーの含有率
は２．４重量％であった。また、ガスクロマトグラフィ
ーによる分析で、未反応モノマーの含有率は０．５重量
％であった。

【００８５】顔料分散液の調整 ＰＧＭＥＡ８０．０ｇ、ソルスパーズ５．０ｇを混合溶
解し、これに顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントブルー１
５：６を１４．２５ｇ、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレッ
ト２３を０．７５ｇ加え、これを実施例１と同様の操作
を行って青色の顔料分散液を得た。

【００８６】カラーレジスト組成物の調整 この顔料分散液に、下記組成にて高分子結合剤等を混合
溶解し、青色のカラーレジスト組成物を得た。 青色顔料分散液 ：Ｄ＋Ｅ＋Ｆ ２７．５３ｇ 高分子結合剤（Ａ３） ：Ａ １．００ｇ Ｍ４００ ：Ｂ ０．６０ｇ Ｍ４５０ ：Ｂ ０．２０ｇ ＢＴＴＢ（２５％トルエン溶液）：Ｃ＋Ｆ １．２８ｇ ＴＡＺ ：Ｃ ０．０４ｇ ＥＡＢ ：Ｃ ０．１２ｇ Ｅ１ ：Ｅ ０．０１ｇ Ｅ２ ：Ｅ ０．０１ｇ

【００８７】この青色のカラーレジスト組成物を実施例
１と同様に塗布、乾燥、露光を行った。、露光後のガラ
ス基板を、純水５０００ｇに水酸化カリウム２．５ｇと
ポリオキシエチレンラウリルエーテル７．５ｇを溶解し
た現像液でディップ現像を６０秒間行い、未露光部を除
去した。基板表面が現れる時間は１４秒であった。現像
後の基板を純水で２０秒間洗ってから、２２０℃で３０
分ポストベイクした後、１万倍のＳＥＭで観察したとこ
ろ、現像残渣はみらず、パターンエッジの形状は順テー
パーであった。また、ＣＩＥ標色値を測定したところ、
膜厚１．０μｍでｘ＝０．１４、ｙ＝０．０９という高
色純度を達成していた。ポストベイク後の基板表面から
硬化した膜を削りとり、実施例１と同様の方法で電気特
性を測定したところ、比抵抗は７．６×１０¹⁰［Ω・ｃ
ｍ］、電圧保持率は８７．４％、残留ＤＣは９５２ｍＶ
であった。この青色のカラーレジスト組成物を遮光した
５℃の冷蔵庫中で３ヶ月保存したが、粘度、塗布均一
性、現像残渣に変化はなかった。

【００８８】比較例４ 高分子結合剤（Ａ５）の合成 攪拌器付４つ口フラスコに以下を仕込み、還流温度で６
ｈｒ加熱した。 酢酸エチル １６７．０ｇ メタノール ８３．０ｇ ベンジルメタクリレート ６５．０ｇ 一般式（１）で表される化合物である 日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＣ１１０Ｓ １０．０ｇ ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １０．０ｇ メタクリル酸 １５．０ｇ アゾビスイソブチロニトリル ０．５ｇ チオグリコール酸 １．５ｇ 得られた重合体溶液をバットに移し、５０℃で３０ｈｒ
真空乾燥し、１０５ｇの高分子結合剤（Ａ４）を得た。
ポチエチレンオキシドを標準としたＧＰＣ分析により、
重量平均分子量は６，８００、分子量１０００以下のオ
リゴマーの含有率は６．８重量％であった。また、ガス
クロマトグラフィーによる分析で、未反応モノマーの含
有率は４．４重量％であった。

【００８９】カラーレジスト組成物の調整 実施例３で得られた赤色顔料分散液を使用して、下記組
成にて赤色カラーレジスト組成物を調製した。 赤色顔料分散液 ：Ｄ＋Ｅ＋Ｆ ２７．５３ｇ 高分子結合剤（Ａ４） ：Ａ １．００ｇ Ｍ４００ ：Ｂ ０．６０ｇ Ｍ４５０ ：Ｂ ０．２０ｇ ＢＴＴＢ（２５％トルエン溶液）：Ｃ＋Ｆ １．２８ｇ ＴＡＺ ：Ｃ ０．０４ｇ ＥＡＢ ：Ｃ ０．１２ｇ Ｅ１ ：Ｅ ０．０１ｇ Ｅ２ ：Ｅ ０．０１ｇ

【００９０】この赤色カラーレジスト組成物を実施例１
と同様に塗布、乾燥、露光を行った。露光後のガラス基
板を、純水５０００ｇに水酸化カリウム２．５ｇとポリ
オキシエチレンラウリルエーテル７．５ｇを溶解した現
像液でディップ現像を６０秒間行い、未露光部を除去し
た。基板表面が現れる時間は２８秒であった。現像後の
基板を純水で２０秒間洗ってから、２２０℃で３０分ポ
ストベイクした後、１万倍のＳＥＭで観察したところ、
一面に現像残渣が見られた。ポストベイク後の基板表面
から硬化した膜を削りとり、実施例１と同様の方法で電
気特性を測定したところ、比抵抗は４．７×１０¹⁰［Ω
・ｃｍ］、電圧保持率は７７．０％、残留ＤＣは１２６
３ｍＶであり、実施例３と比較して悪い値を示した。こ
の赤色カラーレジスト組成物を遮光した５℃の冷蔵庫中
で３ヶ月保存したところ、ゲル化した。

【００９１】比較例５ 前記の実施例４で調整した緑色カラーレジスト組成物
を、４０℃の恒温槽中で７日間保存したところ、２５℃
における粘度は９．５ｍＰａ・ｓに上昇していた。ま
た、４０℃保存後の緑色カラーレジスト組成物を上記の
方法に準拠して、塗布、乾燥したところ、塗布均一性が
低下して、基板中央に膜厚の厚い部分が目視で確認され
た。さらに、露光を行い、ディップ現像、洗浄の後、ポ
ストベイクした基板表面をＳＥＭで観察したところ、現
像残渣がみられた。

【００９２】

【発明の効果】本発明のカラーレジスト組成物は、これ
を用いてカラーフィルタを製造すると、薄膜で高色純度
を達成することが可能であり、かつ現像性に優れ現像残
査がない。また、塗布均一性、光硬化性、保存安定性に
も優れている。液晶に対して悪い影響を与えず、パター
ン形状に優れたカラーフィルターを得ることができる。
また、本発明の保存方法によれば、カラーレジスト組成
物の優れた特性を安定的に保つことができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ ４Ｊ１００ Ｇ０３Ｆ 7/028 Ｇ０３Ｆ 7/028 7/033 7/033 (72)発明者 佐藤 弘幸 神奈川県横浜市金沢区大川５丁目１番地 チッソ株式会社横浜研究所内 Ｆターム(参考） 2H025 AA03 AA04 AA11 AA13 AA18 AB13 AC01 AD01 BC13 BC42 CA03 CB14 CB16 CB25 CB45 CC11 CC12 FA17 2H048 BA48 BB42 4J011 AA05 PA02 PA22 PA26 PA29 PA30 PA45 PA65 PA69 PA70 PA75 PB26 QA02 QA03 QA13 QA14 QA15 QA24 QA38 QA42 QA45 RA03 RA04 4J026 AA43 AA44 BA25 BA26 BA28 BA30 BA38 BA44 BA50 DA02 DA08 FA05 GA07 4J027 AB02 AB18 AB25 AB33 BA06 CC04 CD10 4J100 AB02Q AB03Q AB04Q AB08Q AJ01P AJ02P AJ08P AJ09P AK31P AK32P AL03Q AL08Q AL09Q AL10Q AL11Q AM15Q AM45Q AM47Q AR10Q BA03Q BC04Q BC07Q BC28Q BC43Q CA04 CA05 CA06 DA01 JA05 JA38

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】高分子結合剤（Ａ）、不飽和二重結合を有
   する化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、着色剤
   （Ｄ）、顔料分散剤および／または添加剤（Ｅ）、およ
   び溶媒（Ｆ）を含有するカラーレジスト組成物におい
   て、重量比Ｄ／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｅ）が０．７〜２．０、
   重量比Ｂ／Ａが０．５〜２．０、重量比Ｃ／Ｂが０．１
   〜２．０、重量比Ｅ／Ｄが０．１〜１．０、重量比（Ａ
   ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ）／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ＋Ｆ）が
   ０．１〜０．４であるカラーレジスト組成物。
2. 【請求項２】高分子結合剤（Ａ）、不飽和二重結合を有
   する化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、着色剤
   （Ｄ）、顔料分散剤および／または添加剤（Ｅ）、およ
   び溶媒（Ｆ）を混合、溶解、分散して調製されたカラー
   レジスト組成物において、高分子結合剤（Ａ）が、溶液
   中でモノマーを重合させた後、後処理によって分離され
   たポリマーであって、このポリマーに含まれる分子量１
   ０００以下のオリゴマーと未反応モノマーとの合計がポ
   リマーに基づいて１０重量％以下である、カラーレジス
   ト組成物。
3. 【請求項３】高分子結合剤（Ａ）が、モノマーを溶液中
   で重合させて得られる重合体溶液に貧溶媒を混合するこ
   とによって分離させたポリマーである、請求項２に記載
   のカラーレジスト組成物。
4. 【請求項４】光重合開始剤（Ｃ）が一般式（１）で表さ
   れる有機過酸化物を２０〜９０重量％含有する光重合開
   始剤である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のカラ
   ーレジスト組成物。 （Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ独立して炭素数１
   〜１３のアルキル基であり、Ｘ^１、Ｘ^２はそれぞれ独立
   に−Ｏ−、−Ｏ−Ｏ−、または−ＮＨ−である。）
5. 【請求項５】光重合開始剤（Ｃ）が、一般式（１）で表
   される化合物およびビイミダゾール系化合物の群から選
   ばれる少なくとも１種を含有し、さらに、アミノ基とベ
   ンゾフェノン構造を有する化合物、トリハロメチル基と
   トリアジン環を有する化合物、メルカプト基を有する化
   合物、およびベンゾイル基を有する化合物の群から選ば
   れる少なくとも１種を含有する光重合開始剤である、請
   求項１〜４のいずれか一項に記載のカラーレジスト組成
   物。 （Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ独立して炭素数１
   〜１３のアルキル基であり、Ｘ^１、Ｘ^２はそれぞれ独立
   に−Ｏ−、−Ｏ−Ｏ−、または−ＮＨ−である。）
6. 【請求項６】高分子結合剤（Ａ）が、カルボキシル基を
   有するラジカル重合性モノマーの少なくとも１種と、ス
   チレン、（メタ）アクリル酸エステル、Ｎ−フェニルマ
   レイミド、ポリスチレンマクロモノマー、および一般式
   （２）で表される化合物の群から選ばれる少なくとも１
   種とから、ラジカル重合法により合成された共重合体で
   ある、請求項１〜５のいずれか一項に記載のカラーレジ
   スト組成物。 （Ｒ^５は水素原子またはメチル基であり；Ｒ^６は水素原
   子または炭素数１〜５のアルキル基であり；ｎは１〜５
   の整数である。）
7. 【請求項７】（メタ）アクリル酸エステルが、メチル
   （メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレー
   ト、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ブチル（メ
   タ）アクリレート、および２−ヒドロキシエチル（メ
   タ）アクリレートから選ばれる少なくとも１種である、
   請求項６に記載のカラーレジスト組成物。
8. 【請求項８】高分子結合剤（Ａ）が、連鎖移動剤の存在
   下でラジカル重合法により合成された共重合体である、
   請求項１〜７のいずれか一項に記載のカラーレジスト組
   成物。
9. 【請求項９】着色剤（Ｄ）が、ピグメントレッド２５
   ４、ピグメントレッド２４２、ピグメントレッド２２
   ４、ピグメントレッド２０９、ピグメントレッド２０
   ８、ピグメントレッド４８：１、ピグメントレッド１７
   ９、ピグメントレッド１４９、ピグメントレッド１７
   ７、ピグメントイエロー８３、ピグメントイエロー１１
   ０、ピグメントイエロー１３８、ピグメントイエロー１
   ３９、ピグメントイエロー１５０、ピグメントイエロー
   １８５、ピグメントオレンジ３８、ピグメントオレンジ
   ４３、ピグメントオレンジ７１、ピグメントグリーン３
   ６、ピグメントグリーン７、ピグメントブルー１５：
   ６、ピグメントブルー１５、ピグメントブルー１５：
   ３、ピグメントブルー１５：４、ピグメントバイオレッ
   ト２３、およびピグメントレッド１２２からなる群から
   選ばれる少なくとも１種を含有する着色剤である請求項
   １〜８のいずれか一項に記載のカラーレジスト組成物。
10. 【請求項１０】不飽和二重結合を有する化合物（Ｂ）
    が、不飽和二重結合を５個以上有する化合物と不飽和結
    合を１〜４個有する化合物との混合物であり、この混合
    物に基づいて不飽和二重結合を５個以上有する化合物の
    含有量が５０〜９８重量％、不飽和結合を１〜４個有す
    る化合物の含有量が２〜５０重量％である、請求項１〜
    ９のいずれか一項に記載のカラーレジスト組成物。
11. 【請求項１１】顔料分散剤および／または添加剤（Ｅ）
    が、少なくとも１種のシリコン樹脂（Ｅ１）と、少なく
    とも１種のフッソ系界面活性剤（Ｅ２）とを含有し、か
    つ、溶媒（Ｆ）との重量比Ｅ１／Ｆが０．００００１〜
    ０．０５であり、重量比Ｅ２／Ｆが０．００００１〜
    ０．０５である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載
    のカラーレジスト組成物。
12. 【請求項１２】溶媒（Ｆ）が、沸点が１００℃〜２００
    ℃であり、ベンゼン環を有する化合物の少なくとも１種
    を１〜４０重量％含有する、請求項１〜１１のいずれか
    一項に記載のカラーレジスト組成物。
13. 【請求項１３】遮光状態かつ−５℃〜２５℃の温度範囲
    で保存することを特徴とする、請求項１〜１２のいずれ
    か一項に記載のカラーレジスト組成物の保存方法。
14. 【請求項１４】請求項１〜１２のいずれか一項に記載の
    カラーレジスト組成物を用いて製造されたカラーフィル
    ター。
15. 【請求項１５】請求項１４に記載のカラーフィルターを
    使用してなる表示素子。