JPH0629285B2 - 光重合性組成物 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 30
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 36
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 19
- -1 thiol compound Chemical class 0.000 claims description 17
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 9
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BQDBORJXHYJUIV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-bromophenyl)-2-[2-(2-bromophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound BrC1=CC=CC=C1C1(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)Br)N=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=N1 BQDBORJXHYJUIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 claims description 2
- LRHPSBGKBOYRGY-UHFFFAOYSA-N cyclopenta[c][2,1]benzoxazine Chemical compound O1N=C2C=CC=CC2=C2C1=CC=C2 LRHPSBGKBOYRGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 16
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 11
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 5
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N itaconic acid Chemical class OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KOKPBCHLPVDQTK-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-4-methylpentan-2-one Chemical compound COC(C)(C)CC(C)=O KOKPBCHLPVDQTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical class C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 2
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N triacetin Chemical compound CC(=O)OCC(OC(C)=O)COC(C)=O URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- JMMVHMOAIMOMOF-UHFFFAOYSA-N (4-prop-2-enoyloxyphenyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 JMMVHMOAIMOMOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical compound C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCC(O)COC(=O)C=C OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKCQPZUQENGUHZ-UHFFFAOYSA-N 2-(1H-imidazol-2-yl)-1,2,3,4,4,5-hexakis-phenylimidazolidine Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C1C(N(C(N1C1=CC=CC=C1)(C=1NC=CN1)C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 MKCQPZUQENGUHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBOJZXLCJZDBKO-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-2-[2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C1(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)Cl)N=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=N1 GBOJZXLCJZDBKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYQVIILSLSOFDA-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylphenyl)-2-[2-(2-methylphenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound CC1=CC=CC=C1C1(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)C)N=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=N1 GYQVIILSLSOFDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNHQLSVILKHZNI-UHFFFAOYSA-N 2-(2-nitrophenyl)-2-[2-(2-nitrophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1C1(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)[N+]([O-])=O)N=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=N1 FNHQLSVILKHZNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJGHMLJGPSVSLF-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-octanoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)CCCCCCC YJGHMLJGPSVSLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAGHEHQMRFEQMB-UHFFFAOYSA-N 2-ethylidenepropanedioic acid Chemical compound CC=C(C(O)=O)C(O)=O QAGHEHQMRFEQMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- VRBUPQGTJAXZAE-UHFFFAOYSA-N 2-propylidenebutanedioic acid Chemical compound CCC=C(C(O)=O)CC(O)=O VRBUPQGTJAXZAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADRCREMWPUFGDU-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzothiazol-2-yl)-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2S1 ADRCREMWPUFGDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYKGLCSXVAAXNC-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzothiazol-2-yl)-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2S1 HYKGLCSXVAAXNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYHNMZPERVYEKS-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzoxazol-2-yl)-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2O1 MYHNMZPERVYEKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKBBGUJBGLTNEK-UHFFFAOYSA-N 4-(1h-benzimidazol-2-yl)-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2N1 ZKBBGUJBGLTNEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCAGKECVXUVBNK-UHFFFAOYSA-N 4-[4,6-bis[4-(dimethylamino)phenyl]-1,3,5-triazin-2-yl]-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC(=CC=2)N(C)C)=NC(C=2C=CC(=CC=2)N(C)C)=N1 CCAGKECVXUVBNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAPXNOXKLZJBMT-UHFFFAOYSA-N 4-[5-[4-(dimethylamino)phenyl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=NN=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C)C)O1 FAPXNOXKLZJBMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIERZIUSJOSEGK-UHFFFAOYSA-N 4-cyclopenta[c][1,2]benzoxazin-2-yl-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=CC2=NOC3=CC=CC=C3C2=C1 VIERZIUSJOSEGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RODDOGQBSBJOCQ-UHFFFAOYSA-N 4-cyclopenta[c][2,1]benzoxazin-2-yl-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=CC2=C3C=CC=CC3=NOC2=C1 RODDOGQBSBJOCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- PYGXAGIECVVIOZ-UHFFFAOYSA-N Dibutyl decanedioate Chemical compound CCCCOC(=O)CCCCCCCCC(=O)OCCCC PYGXAGIECVVIOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C(C)=C GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N [4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000006136 alcoholysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- AMEDKBHURXXSQO-UHFFFAOYSA-N azonous acid Chemical group ONO AMEDKBHURXXSQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSUIVCLOAAJSRE-UHFFFAOYSA-N bis(2-methoxyethyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound COCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCOC HSUIVCLOAAJSRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFMQKOWCDKKBIF-UHFFFAOYSA-N bis(3,5-difluorophenyl)phosphane Chemical compound FC1=CC(F)=CC(PC=2C=C(F)C=C(F)C=2)=C1 ZFMQKOWCDKKBIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC=C PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- PUFGCEQWYLJYNJ-UHFFFAOYSA-N didodecyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCCCCCC PUFGCEQWYLJYNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- IQIJRJNHZYUQSD-UHFFFAOYSA-N ethenyl(phenyl)diazene Chemical compound C=CN=NC1=CC=CC=C1 IQIJRJNHZYUQSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 235000013773 glyceryl triacetate Nutrition 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical group 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 150000002689 maleic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- BRFOYCYMKGHNEZ-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-(1h-1,2,4-triazol-5-yl)aniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=NC=NN1 BRFOYCYMKGHNEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBGSBRUWVUWCS-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-pyridin-2-ylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=CC=CC=N1 QTBGSBRUWVUWCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJJJWZAJSLSBKC-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-pyrimidin-2-ylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=NC=CC=N1 RJJJWZAJSLSBKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLNWLOCDPWWNDS-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-quinolin-2-ylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=CC=C(C=CC=C2)C2=N1 KLNWLOCDPWWNDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920002755 poly(epichlorohydrin) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920002338 polyhydroxyethylmethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000003223 protective agent Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002622 triacetin Drugs 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は光重合性組成物に関する。さらに詳しくは、特
に紫外領域の光源に対し高感度を示す安定な光重合性組
成物に関するものである。
に紫外領域の光源に対し高感度を示す安定な光重合性組
成物に関するものである。
従来、光重合系利用の画像形成法は多数知られており、
例えば付加重合可能なエチレン性二重結合を含む化合物
と光重合開始剤、さらに所望により用いられる有機高分
子結合剤、熱重合禁止剤、着色剤、可塑剤等からなる光
重合性組成物を調製し、この光重合性組成物を無溶媒ま
たは溶液となし支持体上に塗布して光重合性組成物の層
を設けた感光材料を作成し所望画像を像露光して露光部
分を重合硬化させ未露光部分を溶解除去することにより
硬化レリーフ画像を形成する方法がある。また、上述感
光材料が、少なくとも一方が透明である2枚の支持体間
に光重合性組成物の層を設けたものであり、透明支持体
側より像露光し光による接着強度の変化を惹起させた後
支持体を剥離することにより画像を形成する方法その他
光重合性組成物層の光によるトナー附着性の変化を利用
した画像作成方法等がある。このような方法に応用され
る光重合性組成物の光重合開始剤としては従来、ベンゾ
イン、ベンゾインアルキルエーテル、ベンゾフエノン、
アントラキノン、ベンジル、あるいはミヒラーケトンな
どが用いられてきた。しかしながら、これらの光重合開
始剤は感度的に必ずしも充分とは言えず、更に高感度化
の試みがなされてきた。その後、2種以上の化合物を併
用する複合開始系によりある程度満足すべき感応性が得
られるようになつた。例えばベンゾフエノンとミヒラー
ケトンの組合せはその代表例である(英国特許第1,0
90,142号)。現在、更に高感度を目指して様々な
検討が行なわれ、報告もなされているが、通常、感度改
善に伴ない保存安定性の減退を招来する場合が多く、未
だ充分な性能を有するものが無いのが実情である。
例えば付加重合可能なエチレン性二重結合を含む化合物
と光重合開始剤、さらに所望により用いられる有機高分
子結合剤、熱重合禁止剤、着色剤、可塑剤等からなる光
重合性組成物を調製し、この光重合性組成物を無溶媒ま
たは溶液となし支持体上に塗布して光重合性組成物の層
を設けた感光材料を作成し所望画像を像露光して露光部
分を重合硬化させ未露光部分を溶解除去することにより
硬化レリーフ画像を形成する方法がある。また、上述感
光材料が、少なくとも一方が透明である2枚の支持体間
に光重合性組成物の層を設けたものであり、透明支持体
側より像露光し光による接着強度の変化を惹起させた後
支持体を剥離することにより画像を形成する方法その他
光重合性組成物層の光によるトナー附着性の変化を利用
した画像作成方法等がある。このような方法に応用され
る光重合性組成物の光重合開始剤としては従来、ベンゾ
イン、ベンゾインアルキルエーテル、ベンゾフエノン、
アントラキノン、ベンジル、あるいはミヒラーケトンな
どが用いられてきた。しかしながら、これらの光重合開
始剤は感度的に必ずしも充分とは言えず、更に高感度化
の試みがなされてきた。その後、2種以上の化合物を併
用する複合開始系によりある程度満足すべき感応性が得
られるようになつた。例えばベンゾフエノンとミヒラー
ケトンの組合せはその代表例である(英国特許第1,0
90,142号)。現在、更に高感度を目指して様々な
検討が行なわれ、報告もなされているが、通常、感度改
善に伴ない保存安定性の減退を招来する場合が多く、未
だ充分な性能を有するものが無いのが実情である。
以上の点に鑑み、本発明者は鋭意検討を重ねた結果、極
めて高感度を有しかつ保存安定性に優れた光重合開始系
を見い出し本発明に至つた。
めて高感度を有しかつ保存安定性に優れた光重合開始系
を見い出し本発明に至つた。
すなわち、本発明の要旨は、エチレン性不飽和二重結合
を少くとも1個有する付加重合可能な化合物および光重
合開始系を含む光重合性組成物において、該光重合開始
系が、 (a)一般式 〔式中、R1およびR2はアルキル基を示し、nは1、2ま
たは3を表わす。環Aは含窒素芳香環を示す。〕で表わ
される化合物および (b)ヘキサアリールビイミダゾール からなることを特徴とする光重合性組成物に存する。
を少くとも1個有する付加重合可能な化合物および光重
合開始系を含む光重合性組成物において、該光重合開始
系が、 (a)一般式 〔式中、R1およびR2はアルキル基を示し、nは1、2ま
たは3を表わす。環Aは含窒素芳香環を示す。〕で表わ
される化合物および (b)ヘキサアリールビイミダゾール からなることを特徴とする光重合性組成物に存する。
以下本発明について詳細に説明する。
本発明の光重合性組成物において第一の必須成分として
含まれるエチレン性不飽和二重結合を少くとも1個有す
る付加重合可能な化合物(以下「エチレン性不飽和二重
結合を有する化合物」と略称する。)は、光重合性組成
物が活性光線の照射を受けた場合に第二の必須成分であ
る光重合開始系の光分解生成物の作用により付加重合す
ることにより硬化し実質的に不溶化をもたらすようなエ
チレン性不飽和二重結合を有する単量体または側鎖もし
くは主鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する重合体で
ある。
含まれるエチレン性不飽和二重結合を少くとも1個有す
る付加重合可能な化合物(以下「エチレン性不飽和二重
結合を有する化合物」と略称する。)は、光重合性組成
物が活性光線の照射を受けた場合に第二の必須成分であ
る光重合開始系の光分解生成物の作用により付加重合す
ることにより硬化し実質的に不溶化をもたらすようなエ
チレン性不飽和二重結合を有する単量体または側鎖もし
くは主鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する重合体で
ある。
エチレン性不飽和結合を有する単量体としては例えば不
飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロ
キシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と芳香族ポ
リヒドロキシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と
多価カルボン酸および前述の脂肪族ポリヒドロキシ化合
物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化
合物とのエステル化反応により得られるエステル等が挙
げられる。
飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロ
キシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と芳香族ポ
リヒドロキシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と
多価カルボン酸および前述の脂肪族ポリヒドロキシ化合
物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化
合物とのエステル化反応により得られるエステル等が挙
げられる。
脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエ
ステルの具体例としては、エチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
エタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート、グリセロールアクリレート等のアクリル
酸エステル;トリエチレングリコールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールエタントリメタクリレート、ペンタエリスリ
トールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレ
ート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペ
ンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラメタクリレート等のメタクリル酸エス
テル;その他、脂肪族ポリヒドロキシ化合物のイタコン
酸エステル、クロトン酸エステルおよびマレイン酸エス
テル等が挙げられる。
ステルの具体例としては、エチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
エタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート、グリセロールアクリレート等のアクリル
酸エステル;トリエチレングリコールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールエタントリメタクリレート、ペンタエリスリ
トールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレ
ート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペ
ンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラメタクリレート等のメタクリル酸エス
テル;その他、脂肪族ポリヒドロキシ化合物のイタコン
酸エステル、クロトン酸エステルおよびマレイン酸エス
テル等が挙げられる。
芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエ
ステルとしては、ハイドロキノンジアクリレート、ハイ
ドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレー
ト、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリア
クリレート等が挙げられる。
ステルとしては、ハイドロキノンジアクリレート、ハイ
ドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレー
ト、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリア
クリレート等が挙げられる。
不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び多価ヒドロキシ
化合物とのエステル化反応により得られるエステルとし
ては必ずしも単一物では無いが代表的な具体例を挙げれ
ば、アクリル酸、フタル酸およびエチレングリコールの
縮合物、アクリル酸、マレイン酸およびジエチレングリ
コールの縮合物、メタクリル酸、テレフタル酸およびペ
ンタエリスリトールの縮合物、アクリル酸、アジピン
酸、ブタンジオールおよびグリセリンの縮合物等があ
る。
化合物とのエステル化反応により得られるエステルとし
ては必ずしも単一物では無いが代表的な具体例を挙げれ
ば、アクリル酸、フタル酸およびエチレングリコールの
縮合物、アクリル酸、マレイン酸およびジエチレングリ
コールの縮合物、メタクリル酸、テレフタル酸およびペ
ンタエリスリトールの縮合物、アクリル酸、アジピン
酸、ブタンジオールおよびグリセリンの縮合物等があ
る。
その他本発明に用いられるエチレン性不飽和二重結合を
有する化合物の例としてはエチレンビスアクリルアミド
等のアクリルアミド類、フタル酸ジアリル等のアリルエ
ステル類、ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物
などが有用である。
有する化合物の例としてはエチレンビスアクリルアミド
等のアクリルアミド類、フタル酸ジアリル等のアリルエ
ステル類、ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物
などが有用である。
主鎖にエチレン性不飽和結合を有する重合体は例えば不
飽和二価カルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反
応により得られるポリエステル、不飽和二価カルボン酸
とジアミンとの重縮合反応により得られるポリアミド等
がある。側鎖にエチレン性不飽和結合を有する重合体は
側鎖に不飽和結合をもつ二価カルボン酸例えばイタコン
酸、プロピリデンコハク酸、エチリデンマロン酸等とジ
ヒドロキシまたはジアミン化合物との縮合重合体があ
る。また側鎖にヒドロキシ基やハロゲン化メチル基の如
き反応活性を有する官能基をもつ重合体、例えばポリビ
ニルアルコール、ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート)、ポリエピクロルヒドリン等と(メタ)アクリ
ル酸、クロトン酸の様な不飽和カルボン酸との高分子反
応により得られるポリマーも好適に使用し得る。
飽和二価カルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反
応により得られるポリエステル、不飽和二価カルボン酸
とジアミンとの重縮合反応により得られるポリアミド等
がある。側鎖にエチレン性不飽和結合を有する重合体は
側鎖に不飽和結合をもつ二価カルボン酸例えばイタコン
酸、プロピリデンコハク酸、エチリデンマロン酸等とジ
ヒドロキシまたはジアミン化合物との縮合重合体があ
る。また側鎖にヒドロキシ基やハロゲン化メチル基の如
き反応活性を有する官能基をもつ重合体、例えばポリビ
ニルアルコール、ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート)、ポリエピクロルヒドリン等と(メタ)アクリ
ル酸、クロトン酸の様な不飽和カルボン酸との高分子反
応により得られるポリマーも好適に使用し得る。
以上記載したエチレン性不飽和二重結合を有する化合物
の内、アクリル酸エステル類またはメタクリル酸エステ
ル類の単量体が特に好適に使用できる。
の内、アクリル酸エステル類またはメタクリル酸エステ
ル類の単量体が特に好適に使用できる。
次に本発明の光重合性組成物の第2の必須成分である光
重合開始系について説明する。光重合開始系は活性光線
の照射によりラジカルを発生し前述のエチレン性不飽和
結合を有する化合物の付加重合反応をもたらすものであ
る。本発明の光重合開始系は少なくとも2種類の成分の
組合せからなり、その第1の成分(a)は前記一般式
〔I〕で示される化合物である。本化合物は環Aで示さ
れる含窒素芳香環、例えば、オキサゾール、チアゾー
ル、イミダゾール、ピリジン、ピリミジン、またはそれ
らにベンゼン環、ナフタレン環等の炭化水素芳香環が縮
合した縮合環、オキサジアゾール、チアジアゾール、ト
リアゾールおよびs−トリアジン等にp−ジアルキルア
ミノフエニル基が1、2または3個直接結合した構造を
有している。アルキル基R1,R2はメチルまたはエチル基
が好ましい。化合物(a)を具体的に例示するに、2−
(p−ジメチルアミノフエニル)ベンゾオキサゾール
(以下「a−1」と略記する。)、2−(p−ジエチル
アミノフエニル)ベンゾオキサゾール(以下「a−2」
と略記する。)、2−(p−ジメチルアミノフエニル)
ベンゾ〔4,5〕ベンゾオキサゾール(以下「a−3」と
略記する。)、2−(p−ジメチルアミノフエニル)ベ
ンゾ〔6,7〕ベンゾオキサゾール(以下「a−4」と略
記する。)、2,5−ビス−(p−ジメチルアミノフエニ
ル)1,3,4−オキサジアゾール(以下「a−5」と略記
する。)、2−(p−ジメチルアミノフエニル)ベンゾ
チアゾール(以下「a−6」と略記する。)、2−(p
−ジエチルアミノフエニル)ベンゾチアゾール(以下
「a−7」と略記する。)、2−(p−ジメチルアミノ
フエニル)ベンズイミダゾール(以下「a−8」と略記
する。)、2,5−ビス(p−ジメチルアミノフエニル)
−1,3,4−チアジアゾール、2−(p−ジメチルアミノ
フエニル)ピリジン、2−(p−ジメチルアミノフエニ
ル)キノリン、2−(p−ジメチルアミノフエニル)ピ
リミジン、2,4,6−トリス(p−ジメチルアミノフエニ
ル)−s−トリアジンおよび2−(p−ジメチルアミノ
フエニル)−1,3,4−トリアゾール等が挙げられる。
重合開始系について説明する。光重合開始系は活性光線
の照射によりラジカルを発生し前述のエチレン性不飽和
結合を有する化合物の付加重合反応をもたらすものであ
る。本発明の光重合開始系は少なくとも2種類の成分の
組合せからなり、その第1の成分(a)は前記一般式
〔I〕で示される化合物である。本化合物は環Aで示さ
れる含窒素芳香環、例えば、オキサゾール、チアゾー
ル、イミダゾール、ピリジン、ピリミジン、またはそれ
らにベンゼン環、ナフタレン環等の炭化水素芳香環が縮
合した縮合環、オキサジアゾール、チアジアゾール、ト
リアゾールおよびs−トリアジン等にp−ジアルキルア
ミノフエニル基が1、2または3個直接結合した構造を
有している。アルキル基R1,R2はメチルまたはエチル基
が好ましい。化合物(a)を具体的に例示するに、2−
(p−ジメチルアミノフエニル)ベンゾオキサゾール
(以下「a−1」と略記する。)、2−(p−ジエチル
アミノフエニル)ベンゾオキサゾール(以下「a−2」
と略記する。)、2−(p−ジメチルアミノフエニル)
ベンゾ〔4,5〕ベンゾオキサゾール(以下「a−3」と
略記する。)、2−(p−ジメチルアミノフエニル)ベ
ンゾ〔6,7〕ベンゾオキサゾール(以下「a−4」と略
記する。)、2,5−ビス−(p−ジメチルアミノフエニ
ル)1,3,4−オキサジアゾール(以下「a−5」と略記
する。)、2−(p−ジメチルアミノフエニル)ベンゾ
チアゾール(以下「a−6」と略記する。)、2−(p
−ジエチルアミノフエニル)ベンゾチアゾール(以下
「a−7」と略記する。)、2−(p−ジメチルアミノ
フエニル)ベンズイミダゾール(以下「a−8」と略記
する。)、2,5−ビス(p−ジメチルアミノフエニル)
−1,3,4−チアジアゾール、2−(p−ジメチルアミノ
フエニル)ピリジン、2−(p−ジメチルアミノフエニ
ル)キノリン、2−(p−ジメチルアミノフエニル)ピ
リミジン、2,4,6−トリス(p−ジメチルアミノフエニ
ル)−s−トリアジンおよび2−(p−ジメチルアミノ
フエニル)−1,3,4−トリアゾール等が挙げられる。
以下にa−1〜a−8の化合物の構造式を示す。
a−1 a−2 a−3 a−4 a−5 a−6 a−7 a−8 これらの内、含窒素芳香環がベンゾオキサゾール、ベン
ゾ〔4,5〕ベンゾオキサゾールおよびオキサジアゾール
であるものが特に好ましい。以上の化合物は、例えば、
Zh.Obshch.Kim.32 2617(1962)、英国特許第746,047号等
の方法により合成することができる。
ゾ〔4,5〕ベンゾオキサゾールおよびオキサジアゾール
であるものが特に好ましい。以上の化合物は、例えば、
Zh.Obshch.Kim.32 2617(1962)、英国特許第746,047号等
の方法により合成することができる。
第2の成分(b)はヘキサアリールビイミダゾールであ
る。これは2,4,5−トリアリールイミダゾリル二量体と
も呼ばれ2個のイミダゾールが1個の共有結合で結ばれ
た下記式の構造を有する化合物である。
る。これは2,4,5−トリアリールイミダゾリル二量体と
も呼ばれ2個のイミダゾールが1個の共有結合で結ばれ
た下記式の構造を有する化合物である。
本発明においては上記化合物の種々の異性体を使用する
ことができる。
ことができる。
前記アリール基としてはフエニル基が好ましい。かかる
フエニル基は置換基を有していてもよく、特に2位およ
び2′位のフエニル基のオルト位が弗素原子、塩素原子
または臭素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、メチル基
で置換されたヘキサフエニルビイミダゾールが熱安定
性、光反応速度の特性面から有利である。
フエニル基は置換基を有していてもよく、特に2位およ
び2′位のフエニル基のオルト位が弗素原子、塩素原子
または臭素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、メチル基
で置換されたヘキサフエニルビイミダゾールが熱安定
性、光反応速度の特性面から有利である。
ヘキサアリールビイミダゾールの具体例としては、2,
2′−ビス(o−クロロフエニル)−4,4′,5,5′−テト
ラフエニルビイミダゾール(以下「b−1」と略記す
る。)、2,2′−ビス(o−ブロモフエニル)−4,4′,
5,5′−テトラフエニルビイミダゾール(以下「b−
2」と略記する。)、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフエ
ニル)−4,4′,5,5′−テトラフエニルビイミダゾー
ル、2,2′−ビス(o−クロロフエニル)−4,4′,5,5′
−テトラ(m−メトキシフエニル)ビイミダゾール、2,
2′−ビス(o,o′−ジクロロフエニル)−4,4′,5,5′
−テトラフエニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−
ニトロフエニル)−4,4′,5,5′−テトラフエニルビイ
ミダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフエニル)−4,
4′,5,5′−テトラフエニルビイミダゾール等が挙げら
れる。
2′−ビス(o−クロロフエニル)−4,4′,5,5′−テト
ラフエニルビイミダゾール(以下「b−1」と略記す
る。)、2,2′−ビス(o−ブロモフエニル)−4,4′,
5,5′−テトラフエニルビイミダゾール(以下「b−
2」と略記する。)、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフエ
ニル)−4,4′,5,5′−テトラフエニルビイミダゾー
ル、2,2′−ビス(o−クロロフエニル)−4,4′,5,5′
−テトラ(m−メトキシフエニル)ビイミダゾール、2,
2′−ビス(o,o′−ジクロロフエニル)−4,4′,5,5′
−テトラフエニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−
ニトロフエニル)−4,4′,5,5′−テトラフエニルビイ
ミダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフエニル)−4,
4′,5,5′−テトラフエニルビイミダゾール等が挙げら
れる。
これらのヘキサアリールビイミダゾール類は例えばBul
l.Chem.Soc.Japan,33,565(1960)およびJ.org.Chem.,36
〔16〕2262(1971)に開示されている方法により容易に
合成することができる。
l.Chem.Soc.Japan,33,565(1960)およびJ.org.Chem.,36
〔16〕2262(1971)に開示されている方法により容易に
合成することができる。
本発明の光重合性組成物に用いられる光重合開始系は以
上の(a),(b)2種化合物の組合せを基本としたものであ
つて紫外線領域を主体とする光線に対し優れた感応性を
有する。
上の(a),(b)2種化合物の組合せを基本としたものであ
つて紫外線領域を主体とする光線に対し優れた感応性を
有する。
前記光重合開始系には更に第3成分として、 (c)一般式 〔式中、Zは-O-,-S-または-NH-を示す。〕で示される
チオール化合物を含有させるのが好ましい。本発明の光
重合開始系にこのチオール化合物を添加併用すると更に
感度を向上させることができる。このチオール化合物の
具体例を示せば2−メルカプトベンゾチアゾール(以下
「c1」と略記する。)、2−メルカプトベンゾオキサ
ゾール(以下「c−2」と略記する。)および2−メル
カプトベンズイミダゾール(以下「c−3」と略記す
る。)を挙げることができる。
チオール化合物を含有させるのが好ましい。本発明の光
重合開始系にこのチオール化合物を添加併用すると更に
感度を向上させることができる。このチオール化合物の
具体例を示せば2−メルカプトベンゾチアゾール(以下
「c1」と略記する。)、2−メルカプトベンゾオキサ
ゾール(以下「c−2」と略記する。)および2−メル
カプトベンズイミダゾール(以下「c−3」と略記す
る。)を挙げることができる。
以上述べてきた各成分は相互に効果的に作用し合い、優
れた光重合開始系を形成する。これら各構成成分の好適
な使用量はエチレン性不飽和二重結合を有する化合物に
対し、重量比率で成分(a)0.1〜15%、好ましくは1〜
10%、成分(b)0.5〜30%、好ましくは2〜15%で
あり、更に場合により用いられる成分(c)の使用量は同
じく0.1〜20%、好ましくは1〜15%である。
れた光重合開始系を形成する。これら各構成成分の好適
な使用量はエチレン性不飽和二重結合を有する化合物に
対し、重量比率で成分(a)0.1〜15%、好ましくは1〜
10%、成分(b)0.5〜30%、好ましくは2〜15%で
あり、更に場合により用いられる成分(c)の使用量は同
じく0.1〜20%、好ましくは1〜15%である。
本発明の光重合性組成物は前記の各構成成分の他に本組
成物の改質、光硬化後の物性改善の為に結合剤として有
機高分子物質を更に添加することができる。結合剤は相
溶性、皮膜形成性、現像性、接着性等改善目的に応じて
適宜選択すればよい。具体的には例えば水系現像性改善
には(メタ)アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合
体、部分エステル化マレイン酸共重合体、側鎖にカルボ
キシル基を有する酸性セルロース変性物、ポリエチレン
オキシド、ポリビニルピロリドン等があり、皮膜強度、
接着性の改善にはエピクロロヒドリンとビスフエノール
Aとのポリエーテル、可溶性ナイロン、ポリメチルメタ
クリレートの様なポリメタクリル酸アルキルやポリアク
リル酸アルキル、メタクリル酸アルキルとアクリロニト
リル、アクリル酸、メタクリル酸、塩化ビニル、塩化ビ
ニリデン、スチレン等との共重合体、アクリロニトリル
と塩化ビニル、塩化ビニリデンとの共重合体、塩化ビニ
リデン、塩素化ポリオレフイン、塩化ビニルと酢酸ビニ
ルとの共重合体、ポリ酢酸ビニル、アクリロニトリルと
スチレンとの共重合体、アクリロニトリルとブタジエ
ン、スチレンとの共重合体、ポリビニルアルキルエーテ
ル、ポリビニルアルキルケトン、ポリスチレン、ポリア
ミド、ポリウレタン、ポリエチレンテレフタレートイソ
フタレート、アセチルセルロースおよびポリビニルブチ
ラール等を挙げることができる。これらの結合剤はエチ
レン性不飽和二重結合を有する化合物に対し、重量比率
で500%以下、好ましくは200%以下の範囲で添加
混合することができる。
成物の改質、光硬化後の物性改善の為に結合剤として有
機高分子物質を更に添加することができる。結合剤は相
溶性、皮膜形成性、現像性、接着性等改善目的に応じて
適宜選択すればよい。具体的には例えば水系現像性改善
には(メタ)アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合
体、部分エステル化マレイン酸共重合体、側鎖にカルボ
キシル基を有する酸性セルロース変性物、ポリエチレン
オキシド、ポリビニルピロリドン等があり、皮膜強度、
接着性の改善にはエピクロロヒドリンとビスフエノール
Aとのポリエーテル、可溶性ナイロン、ポリメチルメタ
クリレートの様なポリメタクリル酸アルキルやポリアク
リル酸アルキル、メタクリル酸アルキルとアクリロニト
リル、アクリル酸、メタクリル酸、塩化ビニル、塩化ビ
ニリデン、スチレン等との共重合体、アクリロニトリル
と塩化ビニル、塩化ビニリデンとの共重合体、塩化ビニ
リデン、塩素化ポリオレフイン、塩化ビニルと酢酸ビニ
ルとの共重合体、ポリ酢酸ビニル、アクリロニトリルと
スチレンとの共重合体、アクリロニトリルとブタジエ
ン、スチレンとの共重合体、ポリビニルアルキルエーテ
ル、ポリビニルアルキルケトン、ポリスチレン、ポリア
ミド、ポリウレタン、ポリエチレンテレフタレートイソ
フタレート、アセチルセルロースおよびポリビニルブチ
ラール等を挙げることができる。これらの結合剤はエチ
レン性不飽和二重結合を有する化合物に対し、重量比率
で500%以下、好ましくは200%以下の範囲で添加
混合することができる。
本発明の光重合性組成物は必要に応じ更に熱重合防止
剤、着色剤、可塑剤、表面保護剤、平滑剤、塗布助剤等
を含有していてもよい。
剤、着色剤、可塑剤、表面保護剤、平滑剤、塗布助剤等
を含有していてもよい。
熱重合防止剤としては例えばハイドロキノン、p−メト
キシフエノール、ピロガロール、カテコール、2,6−ジ
−t−ブチル−p−クレゾール、β−ナフトールなどが
あり着色剤としては例えばフタロシアニン系顔料、アゾ
系顔料、カーボンブラツク、酸化チタンなどの顔料、エ
チルバイオレツト、クリスタルバイオレツトなどのトリ
フエニルメタン系染料、アゾ系染料、アントラキノン系
染料、シアニン系染料がある。これら熱重合防止剤や着
色剤の添加量はエチレン性不飽和二重結合を有する化合
物と結合剤との合計重量に対し熱重合防止剤が0.01%な
いし3%、着色剤0.1%ないし20%が好ましい。可塑
剤としては例えばジオクチルフタレート、ジドデシルフ
タレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジ
メチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフエー
ト、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、グリ
セロールトリアセテート等がありエチレン性不飽和二重
結合基を有する化合物と結合剤との合計重量に対し5%
以下添加することができる。
キシフエノール、ピロガロール、カテコール、2,6−ジ
−t−ブチル−p−クレゾール、β−ナフトールなどが
あり着色剤としては例えばフタロシアニン系顔料、アゾ
系顔料、カーボンブラツク、酸化チタンなどの顔料、エ
チルバイオレツト、クリスタルバイオレツトなどのトリ
フエニルメタン系染料、アゾ系染料、アントラキノン系
染料、シアニン系染料がある。これら熱重合防止剤や着
色剤の添加量はエチレン性不飽和二重結合を有する化合
物と結合剤との合計重量に対し熱重合防止剤が0.01%な
いし3%、着色剤0.1%ないし20%が好ましい。可塑
剤としては例えばジオクチルフタレート、ジドデシルフ
タレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジ
メチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフエー
ト、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、グリ
セロールトリアセテート等がありエチレン性不飽和二重
結合基を有する化合物と結合剤との合計重量に対し5%
以下添加することができる。
本発明の光重合性組成物は無溶剤にて感光材料を形成す
るかまたは適当な溶剤に溶解して溶液となしこれを支持
体上に塗布、乾燥して感光材料を調製する。溶剤として
は例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸
ブチル、酢酸アミル、プロピオン酸エチル、トルエン、
キシレン、モノクロロベンゼン、四塩化炭素、トリクロ
ロエチレン、トリクロロエタン、ジメチルホルムアミ
ド、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒド
ロフラン、ペントキソン(4−メチル−4−メトキシ−
2−ペンタノン)等がある。
るかまたは適当な溶剤に溶解して溶液となしこれを支持
体上に塗布、乾燥して感光材料を調製する。溶剤として
は例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸
ブチル、酢酸アミル、プロピオン酸エチル、トルエン、
キシレン、モノクロロベンゼン、四塩化炭素、トリクロ
ロエチレン、トリクロロエタン、ジメチルホルムアミ
ド、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒド
ロフラン、ペントキソン(4−メチル−4−メトキシ−
2−ペンタノン)等がある。
本発明の光重合性組成物を用いて感光材料を調製する際
に適用される支持体としては例えばアルミニウム、マグ
ネシウム、銅、亜鉛、クロム、ニツケル、鉄等の金属ま
たはそれらを主成分とした合金のシート、上質紙、アー
ト紙、剥離紙の様な紙類、ガラス、セラミツクスの如き
無機シート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、塩化
ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、6−
ナイロン、セルローストリアセテート、セルロースアセ
テートブチレートの様なポリマーシートなどがある。
に適用される支持体としては例えばアルミニウム、マグ
ネシウム、銅、亜鉛、クロム、ニツケル、鉄等の金属ま
たはそれらを主成分とした合金のシート、上質紙、アー
ト紙、剥離紙の様な紙類、ガラス、セラミツクスの如き
無機シート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、塩化
ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、6−
ナイロン、セルローストリアセテート、セルロースアセ
テートブチレートの様なポリマーシートなどがある。
また本発明の光重合性組成物はさらに酸素による感度低
下や保存安定性の劣化等の悪影響を防止する為の公知技
術、例えば、感光層上に剥離可能な透明カバーシートを
設けたり酸素透過性の小さいロウ状物質、水溶性ポリマ
ー等による被覆層を設けることもできる。
下や保存安定性の劣化等の悪影響を防止する為の公知技
術、例えば、感光層上に剥離可能な透明カバーシートを
設けたり酸素透過性の小さいロウ状物質、水溶性ポリマ
ー等による被覆層を設けることもできる。
本発明の組成物に適用し得る露光光源としてはカーボン
アーク、高圧水銀燈、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、螢光ランプ、紫外線アルゴンイオンレーザー等
180nm以上の紫外線を含む汎用の光源を好適に使用
し得る。
アーク、高圧水銀燈、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、螢光ランプ、紫外線アルゴンイオンレーザー等
180nm以上の紫外線を含む汎用の光源を好適に使用
し得る。
本発明の光重合性組成物は広範囲な応用分野に有用であ
つて例えば平版、凸版用印刷版の作成、プリント配線や
IC、LSI作成の為のフオトレジスト、ドライフイル
ム、レリーフ像や画像複製などの画像形成、光硬化性の
インク、塗料、接着剤等に利用できる。
つて例えば平版、凸版用印刷版の作成、プリント配線や
IC、LSI作成の為のフオトレジスト、ドライフイル
ム、レリーフ像や画像複製などの画像形成、光硬化性の
インク、塗料、接着剤等に利用できる。
以下本発明を実施例ならびに比較例により具体的に説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。
実施例1〜17および比較例1〜4 ポリメチルメタクリレート(三菱レイヨン社製BR−8
3、商品名)を常法により15モル%加水分解して得ら
れたメチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体5
g、トリメチロールプロパントリアクリレート(大阪有
機化学社製)5g、ビクトリアピユアブルーBOH(保
土ヶ谷化学工業社製、商品名)30mgおよびp−メトキ
シフエノール30mgをメチルエチルケトン90gに溶解
し感光液原液とした。次に表1に示した光重合開始系各
成分を表1に示した量添加溶解し、その試料感光液を砂
目立ておよび陽極酸化を施したアルミニウムシート上に
ホワラーを用いて、乾燥膜厚が2.0μmとなる様塗布
し、80℃で5分間乾燥した。更にその上にポリビニル
アルコール(日本合成化学社製GL−05、商品名)の
水溶液を乾燥膜厚1.0μmに塗布し、オーバーコート層
を設けた。かくして得られた感光材料試料を露光し、ブ
チルセロソルブ9重量%、ケイ酸ソーダ1重量%を含む
水溶液で現像を行ない、最小硬化画像形成エネルギー値
を測定し感度を求めた。結果は表1に示したが、表中、
相対感度Aは高圧水銀燈(UMH-3000、ウシオ電機社製)
を露光光源とし、366、405、436各nmを含むマ
ルチラインに対するものであり、相対感度Bは分光照射
装置(ナルミ社製RM-23)を用い、366nmのモノクロ
ーム光線に対する値を示したものである。共にベンゾフ
エノン/ミヒラーケトンを組合せた光重合開始系(比較
例1)を基準とした相対値で示してある。また光重合開
始系の各成分の略号は本文中に記載したものを用いてあ
り、添加量は感光液原液の固形分重量に対する割合で示
した。
3、商品名)を常法により15モル%加水分解して得ら
れたメチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体5
g、トリメチロールプロパントリアクリレート(大阪有
機化学社製)5g、ビクトリアピユアブルーBOH(保
土ヶ谷化学工業社製、商品名)30mgおよびp−メトキ
シフエノール30mgをメチルエチルケトン90gに溶解
し感光液原液とした。次に表1に示した光重合開始系各
成分を表1に示した量添加溶解し、その試料感光液を砂
目立ておよび陽極酸化を施したアルミニウムシート上に
ホワラーを用いて、乾燥膜厚が2.0μmとなる様塗布
し、80℃で5分間乾燥した。更にその上にポリビニル
アルコール(日本合成化学社製GL−05、商品名)の
水溶液を乾燥膜厚1.0μmに塗布し、オーバーコート層
を設けた。かくして得られた感光材料試料を露光し、ブ
チルセロソルブ9重量%、ケイ酸ソーダ1重量%を含む
水溶液で現像を行ない、最小硬化画像形成エネルギー値
を測定し感度を求めた。結果は表1に示したが、表中、
相対感度Aは高圧水銀燈(UMH-3000、ウシオ電機社製)
を露光光源とし、366、405、436各nmを含むマ
ルチラインに対するものであり、相対感度Bは分光照射
装置(ナルミ社製RM-23)を用い、366nmのモノクロ
ーム光線に対する値を示したものである。共にベンゾフ
エノン/ミヒラーケトンを組合せた光重合開始系(比較
例1)を基準とした相対値で示してある。また光重合開
始系の各成分の略号は本文中に記載したものを用いてあ
り、添加量は感光液原液の固形分重量に対する割合で示
した。
実施例18〜24及び比較例5 下記表2に示す感光材料試料を55℃のオーブン中に1
50時間保持した後実施例1の相対感度Aの評価方法に
従つて感度を求め、その初期感度からの変化量を測定し
た。結果を表2に示す。
50時間保持した後実施例1の相対感度Aの評価方法に
従つて感度を求め、その初期感度からの変化量を測定し
た。結果を表2に示す。
実施例25 スチレン/無水マレイン酸共重合体の部分アルコーリシ
ス反応物(スチライトCM-2L、三京化成社)に、更にペ
ンタエリスリトールトリアクリレートを付加反応させて
得た重合体90g、ポリメチルメタクリレート部分加水
分解物10gおよびトリメチロールプロパントリアクリ
レート100gをエチルセロソルブ1.8に溶解し、更
に開始系成分a−1を2g、b−1を16gおよびc−
1を6gならびに色素ビクトリアピュアブルー1.5gを
添加溶解し感光液を調製した。これより実施例1と同様
な方法により感光材試料を作成した。これにリスフイル
ム画像およびステツプタブレツトを通して実施例1と同
様の光源によりマルチラインの光を0.3mJ/cm3露光し
た。次いでケイ酸ソーダ1重量%を含む水溶液で現像を
行なつた結果、硬化段数5段の優れた画像を得た。得ら
れた印刷版を用いて印刷を行なつた所、10万枚問題な
く印刷し得た。その時点における印刷版上の画像には異
状が認められなかつた。
ス反応物(スチライトCM-2L、三京化成社)に、更にペ
ンタエリスリトールトリアクリレートを付加反応させて
得た重合体90g、ポリメチルメタクリレート部分加水
分解物10gおよびトリメチロールプロパントリアクリ
レート100gをエチルセロソルブ1.8に溶解し、更
に開始系成分a−1を2g、b−1を16gおよびc−
1を6gならびに色素ビクトリアピュアブルー1.5gを
添加溶解し感光液を調製した。これより実施例1と同様
な方法により感光材試料を作成した。これにリスフイル
ム画像およびステツプタブレツトを通して実施例1と同
様の光源によりマルチラインの光を0.3mJ/cm3露光し
た。次いでケイ酸ソーダ1重量%を含む水溶液で現像を
行なつた結果、硬化段数5段の優れた画像を得た。得ら
れた印刷版を用いて印刷を行なつた所、10万枚問題な
く印刷し得た。その時点における印刷版上の画像には異
状が認められなかつた。
Claims (5)
- 【請求項1】エチレン性不飽和二重結合を少くとも1個
有する付加重合可能な化合物および光重合開始系を含む
光重合性組成物において、該光重合開始系が、 (a)一般式 [式中、R1およびR2はアルキル基を示し、nは1、
2または3を表わす。環Aは含窒素芳香環を示す。]で
表わされる化合物および (b)ヘキサアリールビイミダゾール からなることを特徴とする光重合性組成物。 - 【請求項2】エチレン性不飽和二重結合を少くとも1個
有する付加重合可能な化合物および光重合開始系を含む
光重合性組成物において、該光重合開始系が、 (a)一般式 [式中、R1およびR2はアルキル基を示し、nは1、
2または3を表わす。環Aは含窒素芳香環を示す。]で
表わされる化合物 (b)ヘキサアリールビイミダゾールおよび (c)一般式 [式中、Zは−O−,−S−または−NH−を示す。]
で表わされるチオール化合物 からなることを特徴とする光重合性組成物。 - 【請求項3】エチレン性不飽和二重結合を有する付加重
合可能な化合物が、アクリル酸エステルまたはメタクリ
ル酸エステル化合物である特許請求の範囲第1項または
第2項記載の組成物。 - 【請求項4】一般式[I]の化合物が2−(p−ジアル
キルアミノフエニル)ベンゾオキサゾール、2−(p−
ジアルキルアミノフエニル)ベンゾ[4,5]ベンゾオ
キサゾールまたは2,5−ビス(p−ジアルキルアミノ
フエニル)−1,3,4−オキサジアゾールである特許
請求の範囲第1項または第2項記載の組成物。 - 【請求項5】ヘキサアリールビイミダゾールが2,2′
−ビス(o−クロロフエニル)−4,4′,5,5′−
テトラフエニルビイミダゾールまたは2,2′−ビス
(o−ブロモフエニル)−4,4′,5,5′−テトラ
フエニルビイミダゾールである特許請求の範囲第1項ま
たは第2項記載の組成物。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58192212A JPH0629285B2 (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | 光重合性組成物 |
AU34015/84A AU563655B2 (en) | 1983-10-14 | 1984-10-08 | Initiators for photopolymerisable compositions |
EP84112103A EP0138187B1 (en) | 1983-10-14 | 1984-10-09 | Photopolymerizable composition |
DE8484112103T DE3476068D1 (en) | 1983-10-14 | 1984-10-09 | Photopolymerizable composition |
CA000465081A CA1230004A (en) | 1983-10-14 | 1984-10-10 | Photopolymerizable composition |
US06/660,088 US4594310A (en) | 1983-10-14 | 1984-10-12 | Photopolymerizable composition comprising tertiary aromatic amine and hexaarylbiimazole initiators |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58192212A JPH0629285B2 (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | 光重合性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6084304A JPS6084304A (ja) | 1985-05-13 |
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Country | Link |
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EP (1) | EP0138187B1 (ja) |
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AU3401584A (en) | 1985-04-18 |
AU563655B2 (en) | 1987-07-16 |
CA1230004A (en) | 1987-12-08 |
EP0138187B1 (en) | 1989-01-11 |
JPS6084304A (ja) | 1985-05-13 |
EP0138187A3 (en) | 1985-08-28 |
EP0138187A2 (en) | 1985-04-24 |
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