WO2017033219A1 - 荷電粒子顕微鏡の観察支援ユニットおよびこれを用いた試料観察方法 - Google Patents

荷電粒子顕微鏡の観察支援ユニットおよびこれを用いた試料観察方法 Download PDF

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observation
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diaphragm
charged particle
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祐介 大南
明子 久田
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株式会社 日立ハイテクノロジーズ
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    • H01J2237/2007Holding mechanisms

Definitions

  • the present invention relates to a charged particle beam apparatus capable of observing a sample under atmospheric pressure, a desired gas pressure or a gas species, and an observation support unit for the charged particle beam apparatus.
  • a scanning electron microscope (SEM), a transmission electron microscope (TEM), or the like is used.
  • SEM scanning electron microscope
  • TEM transmission electron microscope
  • a housing for placing a sample is evacuated and the sample atmosphere is evacuated to image the sample.
  • the sample is damaged or changed in state by a vacuum.
  • an SEM apparatus capable of observing the observation target sample under atmospheric pressure, a desired gas pressure, or a gas species is strongly desired.
  • Patent Document 1 it is disclosed to perform SEM observation of a sample under atmospheric pressure using a sample stage disposed immediately below the diaphragm in a non-contact state between the diaphragm and the sample, and to adjust the position of the sample for observation. Has been.
  • the present invention has been made in view of such problems, and provides a sample observation method capable of observing a water-containing sample in an air atmosphere, a gas atmosphere, or a desired pressure with good convenience, and an observation support unit used therefor. For the purpose.
  • a charged particle beam for irradiating and observing a sample placed in a non-vacuum space separated from the internal space of a charged particle optical column generating a charged particle beam by a diaphragm Provide an observation support unit.
  • the observation support unit includes a hole that forms an observation region where the sample is observed and a main body that covers the sample. The observation support unit is directly placed on the sample between the sample and the diaphragm.
  • a sample observation method using the present observation support unit a sample having a step of directly mounting the observation support unit on the sample and a step of bringing the sample in a state in which the observation support unit is mounted closer to the diaphragm Provide an observation method.
  • the present invention by arranging a cover as an observation support unit between the diaphragm and the sample, it is possible to greatly reduce the probability that extra droplets contact the diaphragm. As a result, the image of the water-containing sample can be clearly and conveniently acquired. In addition, since the probability that the droplet contacts the diaphragm is greatly reduced, the frequency of diaphragm replacement can be reduced and the running cost can be suppressed.
  • FIG. 1 is an overall configuration diagram of a charged particle microscope according to Embodiment 1.
  • FIG. FIG. 3 is an explanatory view of the vicinity of a sample when the cover in Example 1 is used. Explanatory drawing of operation when arrange
  • FIG. FIG. 3 is a diagram illustrating the shape of a cover in the first embodiment.
  • FIG. 3 is an overall configuration diagram of a charged particle microscope according to a second embodiment.
  • FIG. Relationship between water droplet drying time and evaporation time Explanatory drawing of the water-containing sample vicinity when a cover and a sealing member in Example 2 are used. Explanatory drawing of the water-containing sample vicinity when a cover and a sealing member in Example 2 are used. Explanatory drawing of the water-containing sample vicinity when a cover and a sealing member in Example 2 are used. Explanatory drawing of the water-containing sample vicinity when a cover and a sealing member in Example 2 are used. Explanatory drawing of the water-containing sample vicinity when a cover and a sealing member in Example 2 are used. Explanatory drawing of the operation procedure for using the cover and the sealing member in Example 2. FIG.
  • a charged particle beam microscope will be described as an example of a charged particle beam apparatus.
  • this is merely an example of the present invention, and the present invention is not limited to the embodiments described below.
  • the present invention can also be applied to a scanning electron microscope, a scanning ion microscope, a scanning transmission electron microscope, a combined device of these and a sample processing device, or an analysis / inspection device to which these are applied.
  • atmospheric pressure means an atmospheric atmosphere or a predetermined gas atmosphere, and means a pressure environment of atmospheric pressure or a slight negative pressure state. Specifically, the pressure is about 10 5 Pa (atmospheric pressure) to 10 3 Pa. In addition, this pressure range is sometimes referred to as “non-vacuum”.
  • FIG. 1 shows an overall configuration diagram of the charged particle microscope of the present embodiment.
  • a following example intends and demonstrates a scanning electron microscope, as above-mentioned, this invention is not limited to this.
  • the charged particle microscope shown in FIG. 1 is an apparatus for observing a sample placed in a non-vacuum space separated from the internal space of a charged particle optical column by a diaphragm with a charged particle beam.
  • the charged particle microscope shown in FIG. 1 mainly includes a charged particle optical column 2 that generates a charged particle beam, a housing (vacuum chamber) 7 that is connected to and supports the charged particle optical column 2, and an atmospheric atmosphere. It is comprised by the sample stage 5 arrange
  • the control system which controls these.
  • the vacuum pump 4 When the charged particle microscope is used, the inside of the charged particle optical column 2 and the housing 7 is evacuated by the vacuum pump 4.
  • the start / stop operation of the vacuum pump 4 is also controlled by the control system. Although only one vacuum pump 4 is shown in the figure, two or more vacuum pumps may be provided. It is assumed that the charged particle optical column 2 and the housing 7 are supported by a pillar (not shown).
  • the charged particle optical column 2 includes an element such as a charged particle source 8 that generates a charged particle beam, an optical lens 1 that focuses the generated charged particle beam and guides it to the lower part of the column and scans the sample 6 as a primary charged particle beam. Consists of. Due to problems such as the lifetime of the charged particle source, the atmosphere around the charged particle source is generally an atmospheric pressure of 10 ⁇ 1 Pa or less (hereinafter referred to as a high vacuum).
  • the charged particle optical column 2 is installed so as to protrude into the housing 7 and is fixed to the housing 7 via a vacuum sealing member 123.
  • a detector 3 for detecting secondary charged particles (secondary electrons or reflected electrons) obtained by irradiation with the primary charged particle beam is disposed at the end of the charged particle optical column 2. An image of the sample is acquired based on the signal obtained by the detector 3.
  • the detector 3 may be outside or inside the charged particle optical column 2.
  • the charged particle optical column may include other lenses, electrodes, and detectors, or some of them may be different from the above, and the configuration of the charged particle optical system included in the charged particle optical column Is not limited to this.
  • the charged particle microscope of the present embodiment has a control system such as a computer 35 used by the user of the apparatus, a host controller 36 connected to the computer 35 for communication, and a vacuum pumping system and a charge according to a command transmitted from the host controller 36.
  • a lower control unit 37 that controls the particle optical system and the like is provided.
  • the computer 35 includes a monitor on which an operation screen (GUI) of the apparatus is displayed, and input means for an operation screen such as a keyboard and a mouse.
  • GUI operation screen
  • the upper control unit 36, the lower control unit 37, and the computer 35 are connected by communication lines 43 and 44, respectively.
  • the lower control unit 37 is a part that transmits and receives control signals for controlling the vacuum pump 4, the charged particle source 8, the optical lens 1, and the like, and further converts the output signal of the detector 3 into a digital image signal to perform higher control. It transmits to the part 36.
  • the output signal from the detector 3 is connected to the lower control unit 37 via an amplifier 154 such as a preamplifier. If an amplifier is not necessary, it may not be necessary.
  • the upper control unit 36 and the lower control unit 37 may include a mixture of analog circuits, digital circuits, etc., and the upper control unit 36 and the lower control unit 37 may be unified.
  • the charged particle microscope may include a control unit that controls the operation of each part.
  • the upper control unit 36 and the lower control unit 37 may be configured as hardware by a dedicated circuit board, or may be configured by software executed by the computer 35. When configured by hardware, it can be realized by integrating a plurality of arithmetic units for executing processing on a wiring board or in a semiconductor chip or package. When configured by software, it can be realized by mounting a high-speed general-purpose CPU on a computer and executing a program for executing desired arithmetic processing.
  • the housing 7 is connected to a vacuum pipe 16 having one end connected to the vacuum pump 4 so that the inside can be maintained in a vacuum state.
  • a leak valve 14 for opening the inside of the housing to the atmosphere is provided, and the inside of the housing 7 can be opened to the atmosphere during maintenance.
  • the leak valve 14 may not be provided, and may be two or more. Further, the arrangement location of the leak valve 14 in the housing 7 is not limited to the location shown in FIG. 1, and may be arranged at another position on the housing 7.
  • control system shown in FIG. 1 is merely an example, and modifications of the control unit, valve, vacuum pump, communication wiring, and the like can be applied to the SEM of this embodiment as long as the functions intended in this embodiment are satisfied. It belongs to the category of charged particle beam equipment.
  • a diaphragm 10 is provided on the lower surface of the housing at a position directly below the charged particle optical column 2.
  • the diaphragm 10 can transmit or pass the primary charged particle beam emitted from the lower end of the charged particle optical column 2, and the primary charged particle beam passes through the diaphragm 10 and finally reaches the sample stage 506.
  • the sample 6 mounted is reached.
  • a closed space that is, the inside of the charged particle optical column 2 and the housing 7) configured to be isolated from the sample mounting space by the diaphragm 10 can be evacuated.
  • the charged particle optical column 2 can be maintained in a vacuum state and the atmosphere around the sample 6 is maintained at atmospheric pressure for observation. Can do.
  • the space in which the sample is installed is an air atmosphere or communicates with the space in the air atmosphere, so that the sample 6 can be freely exchanged during observation.
  • the diaphragm 10 is formed or deposited on the diaphragm holding member 9.
  • the diaphragm 10 is a carbon material, an organic material, a metal material, silicon nitride, silicon carbide, silicon oxide, or the like.
  • the diaphragm holding member 159 is a member such as silicon or a metal member. Multiple portions of the diaphragm 10 may be arranged.
  • the thickness of the diaphragm capable of transmitting or passing the primary charged particle beam is about several nm to several ⁇ m.
  • the diaphragm must not break under the differential pressure to separate atmospheric pressure and vacuum. Therefore, the area of the diaphragm 10 is about several tens ⁇ m to at most several mm.
  • a fixing member 155 that supports the diaphragm 10 is provided on the diaphragm holding member 159.
  • the fixing member 155 and the diaphragm holding member 159 are bonded to the fixing member 155 or the like to be subsequently operated by an O-ring, packing, adhesive, double-sided tape, or the like that can be vacuum-sealed.
  • the diaphragm holding member 159 is detachably fixed to the lower surface side of the housing 7 through a vacuum sealing member 124.
  • the diaphragm 10 is very thin with a thickness of about several nanometers to several micrometers or less because of the requirement for transmission of the charged particle beam, so that there is a possibility that the diaphragm 10 may deteriorate with time or be damaged during observation preparation. Moreover, since the diaphragm 10 and the base 9 which supports it are small, it is very difficult to handle directly. Therefore, as in the present embodiment, the diaphragm 10 and the fixing member 155 are integrated with the diaphragm holding member 159 so that the fixing member 155 can be handled not via the direct but via the diaphragm holding member 159. The handling (particularly replacement) of the member 155 becomes very easy.
  • the entire fixing member 155 may be replaced. Even if the diaphragm 10 has to be directly replaced, the entire fixing member 155 is taken out of the apparatus, and the diaphragm 10 is removed from the fixing member 155 integrated with the diaphragm 10, thereby removing the diaphragm 10 from the apparatus outside. Can be exchanged.
  • the sample of the charged particle microscope is placed on the sample stage 5.
  • the sample stage 5 has at least a Z-axis drive mechanism.
  • the Z-axis direction refers to the direction 54 of the charged particle beam optical axis.
  • This Z-axis drive mechanism is a mechanism used for arbitrarily adjusting the distance between the sample 6 and the diaphragm 10.
  • the sample stage 5 of the charged particle microscope may have an XY plane drive mechanism.
  • the XY plane refers to a plane perpendicular to the aforementioned Z axis.
  • This XY plane moving mechanism is a mechanism used for observing an arbitrary part on the sample stage. Thereby, it is possible to search for an arbitrary observation target site on the sample and move to the center of the visual field.
  • the distance between the diaphragm 10 and the observation target portion of the sample 6 is several hundred ⁇ m in order to suppress scattering of charged particle beams as much as possible and prevent the diaphragm from being damaged by contact with the sample. It is necessary to adjust to about several tens ⁇ m or several ⁇ m. This operation is very delicate, and making the operation of bringing the diaphragm and the sample close to each other greatly contributes to improving the convenience of the charged particle microscope that performs observation under atmospheric pressure.
  • an optical microscope capable of observing the sample may be disposed immediately below or near the sample 6.
  • the diaphragm 10 is on the upper side of the sample, and the optical microscope is observed from the lower side of the sample. Therefore, in this case, the sample stage 52 needs to be transparent to the light of the optical microscope.
  • the transparent member include transparent glass, transparent plastic, and transparent crystal.
  • a transparent sample table such as a slide glass (or a preparation) or a dish (or a petri dish).
  • a voltage heater that can generate an electric field in the temperature heater or the sample may be provided. In this case, it is possible to observe how the sample is heated or cooled and how the electric field is applied to the sample.
  • the detector 3 is in the vacuum space 11, but a transmission detector capable of detecting a transmission signal may be directly under or near the sample.
  • Two or more diaphragms may be arranged.
  • a second diaphragm may be provided below the first diaphragm that separates the vacuum and the atmosphere, and a sample may be included between the second diaphragm and the sample stage.
  • the contact site 508 cannot be observed, so that the apparatus operator has contacted the base 159 with the droplet 500. Is not recognized. As a result, the apparatus operator further brings the sample 6 closer to the diaphragm 10 without knowing that the droplet 500 has contacted the diaphragm holding member 159. Thereafter, the droplet 500 spreads and reaches the diaphragm 10. Since the charged particle beam does not reach the sample 6 at the portion where the droplet exists (A portion in the figure), the sample surface of the A portion cannot be observed. Thus, even if there is no droplet in the sample portion 6a to be observed, observation is difficult if the droplet 500 exists outside the range of the window length Dm of the diaphragm 10.
  • the droplets do not exist on the sample 6 within the range of the width Dw of the diaphragm holding member 159.
  • the width Dw of the diaphragm holding member 159 is several mm to several tens mm. Because of the size of a corner (diaphragm shape shown in FIG. 3A), it is very difficult to create such a situation with a water-containing sample containing a large amount of water.
  • a member as shown in FIG. 3B is used as an observation support unit (hereinafter referred to as a cover).
  • the cover 501 shown in FIG. 3B is a ring-shaped part having a thickness t in which a hole having an outer diameter Do and an inner diameter Di is opened.
  • the sample directly below the main body 501b of the cover cannot be observed, the sample can be observed via the hole 501a.
  • the cover 501 is placed directly on the sample.
  • the hole 501a of the cover 501 forms an observation region for observing the sample
  • the cover body 501b is a portion that covers the sample.
  • the sample portion 6a to be observed is brought directly under the hole 501a of the cover 501 (FIG. 4A).
  • the cover 501 is mounted on the sample 6.
  • the droplet 500 is divided into a droplet 500b spreading inside the cover hole 501a and a droplet 500a spreading between the cover main body 501b and the sample 6 (FIG. 4 (b)).
  • the droplet 500b hinders observation with a charged particle microscope, the droplet 500b is removed with a filter paper 502 or the like.
  • the droplet 500b may be blown off by applying air pressure. In this way, it is possible to create a state in which no droplet exists only on the surface of the sample at the portion opened by the cover hole 501a (FIG. 4C).
  • a water-containing sample is not suitable for observation because the sample is dried when all moisture is removed. For example, if the droplets on the surface of the water-containing sample are removed with filter paper or the like, the water-containing sample will be dried too much.
  • the cover 501 is used in this way, it is possible to remove droplets only in the region to be observed while moisture remains under the cover 501, and the charged particles of the sample in a state where drying is prevented. Microscopic observation is possible.
  • the cover hole 501a becomes the observation region
  • the main body 501b of the cover 501 becomes the non-observation region.
  • the observation area refers to an area that is used as an observation window when observing a sample
  • the non-observation area is a region that covers the sample and cannot observe the sample that is the object of observation. I mean.
  • the ring shape with one hole portion is taken as an example.
  • the hole portion 501a of the cover does not have to be one place, and has a mesh shape.
  • the outer shape of the sheet may not be circular, and the gap may be set as the observation region 501a by arranging two or more sheet-like covers. In this case, it can be said that one cover is formed by combining a plurality of sheets. In this way, the case where the cover is formed by combining a plurality of members is referred to as an observation support unit.
  • the hole 501a of the cover be as large as or slightly larger than the window area of the diaphragm. Therefore, it is desirable to perform the work of mounting the cover 501 on the sample 6 under an optical microscope in order to accurately align the cover hole 501a with the sample site 6a to be observed.
  • FIG. 5 shows a state in which the cover 501 is arranged with an optical microscope.
  • FIG. 5A shows the state immediately after the sample is placed on the optical microscope
  • FIG. 5B shows the state after the cover 501 is mounted and the excess droplet 501b is removed.
  • the optical microscope 402 includes an objective lens 412 that can collect light, a position driving mechanism 406 that can drive the position of the optical microscope, and a base 407.
  • the base 407 includes a sample placement unit 401 on which the sample stage 506 can be mounted. After the sample stage 506 is installed in the sample placement unit 401, the sample is mounted on the sample stage. Thereafter, while observing with an optical microscope, the cover 501 is arranged so that the hole 501a of the cover is positioned on the sample 6a to be observed.
  • FIG. 6 illustrates a state in which the sample 6 on which the cover 501 is mounted is installed in the charged particle microscope apparatus.
  • the sample portion 6 a to be observed may not be directly under the diaphragm 10. Therefore, it is necessary to move the sample in the direction of the white arrow in the figure.
  • the sample is moved in the horizontal direction (in the plane perpendicular to the optical axis of the charged particle beam) in the figure at a position (distance h1) where the diaphragm 10 and the sample 6 are sufficiently apart from each other.
  • FIG. 6B shows a state where the sample portion 6a to be observed has come directly below the diaphragm 10.
  • the sample 6 is brought close to the diaphragm 10 to irradiate the sample 6 with the charged particle beam to detect charged particle beams such as secondary electrons and reflected electrons emitted from the sample 6, and radiation such as X-rays and luminescence. This makes it possible to acquire a microscope image.
  • the cover 501 functions as a distance limiting member in order to limit the distance between the diaphragm 10 and the sample 6.
  • a charged particle beam has a short penetration depth (or mean free path) inside a substance.
  • an acceleration voltage of a charged particle beam of a general charged particle beam microscope apparatus it is about several ⁇ m to 1 mm or less.
  • the mean free path MFP
  • the thickness of the cover is set to be equal to or less than the above value (the charged particle beam mean free path under observation conditions).
  • the cover has a thickness that satisfies Equation 1, the charged particle beam reaches the sample surface before the sample under the cover 501 and the diaphragm 10 come into contact with each other. That is, in a state where the cover 501 and the diaphragm holding member 159 are in contact, the sample can be brought closer to the diaphragm 10 below the mean free path. Therefore, the cover 501 in the present invention can also be used for the purpose of safely bringing the sample 6 and the diaphragm 10 close to each other.
  • the thickness of the cover refers to the thickness around the hole of the cover (at least the portion facing the diaphragm holding member), and need not be the thickness of the entire cover.
  • the sample is made of a material that can be easily deformed
  • the cover 501 and the sample holder The sample 6 may be deformed by being sandwiched between them.
  • the diaphragm 10 and the sample 6 may come into contact with each other.
  • the position of the sample portion 6a to be observed which is observed from the hole 501 of the cover, moves in the lateral direction or the shape is crushed. For this reason, if a movement that causes the shape to collapse or expand while observing the sample 6 is stopped, the diaphragm 10 and the sample 6 are prevented from coming into contact with each other by stopping driving the sample stage. can do.
  • the cover thickness t needs to be equal to or less than the length of the mean free path of the charged particle beam and is very thin. Therefore, the cover 501 needs to be operated with tweezers. In order to accurately operate the thin cover with tweezers, it is more desirable to carry out under an optical microscope as shown in FIG. (About materials) Further, the cover 501 in this embodiment is preferably made of a material different from that of the sample 6. The effect when the material of the cover 501 and the sample 6 to be observed are different will be described with reference to FIG. When there is no cover hole 501a directly under the diaphragm 10, the operator needs to adjust the charged particle microscope using the sample stage so that the cover hole 501a is positioned directly under the diaphragm.
  • the cover 501 and the sample 6 have different contrast microscopic images. That is, the main body of the cover 501 is preferably made of a material different from the main component of the sample. More specifically, when the cover 501 and the sample 6 are made of different materials, the primary charged particle beam 506 generated by irradiating the sample 6 with the primary charged particle beam PE1 through the hole 501a of the cover, and the primary The amount of signal differs in the secondary charged particle beam 507 generated by irradiating the cover 501 with the charged particle beam PE2.
  • the secondary charged particle beam 507 is larger than the secondary charged particle beam 506, and thus the charged particle microscope image is the cover 501.
  • the part is observed brighter. That is, the sample portion (that is, the hole portion of the cover) that is observed darkly by moving the diaphragm 10 and the sample 6 close to a distance (h1) that can recognize the difference in brightness and moving the sample stage 5 in the XY plane direction. 501a) can be easily found.
  • the entire main body of the cover 501 does not need to be made of a material different from that of the sample.
  • the peripheral portion of the hole of the cover may be made of a material different from that of the sample.
  • indicate the hole part direction of a cover may be made into the cover. This makes it easy to search for a hole when the hole is not observed.
  • the cover 501 is preferably a metal material.
  • the cover material is particularly preferably a metal such as aluminum, molybdenum, tungsten, platinum, copper, iron, or SUS.
  • the cover member 501 is preferably an organic material such as plastic.
  • the sample 6 is mounted on the sample stage 506.
  • the sample stage 506 can be mounted, and the sample stage 506 is mounted on the stage 401 provided in the optical microscope 402. The order of the two steps may be reversed.
  • observation is started by aligning the focal position 408 of the objective lens 412 of the optical microscope 402 with the sample 6 using the height adjusting mechanism 406 provided in the optical microscope. This state is shown in FIG.
  • the sample portion 6a to be observed with an optical microscope is found.
  • a sample stage (not shown) provided in the optical microscope may be used, the sample may be moved by tweezers or the like, and a driving mechanism capable of changing the sample position provided in the sample stage 506 is provided. It may be used.
  • you may implement the step which mounts a sample on a sample stand under an optical microscope.
  • a mark may be pre-marked on the sample stage 506 so that the sample part 6a to be observed from the beginning can be observed under the optical microscope.
  • the cover 501 is placed on the sample 6a to be observed.
  • the body portion 501b of the cover 501 is held with tweezers or the like, and the sample portion 6a to be observed is arranged immediately below the hole 501a of the cover 501.
  • the series of operations up to this point is preferably performed using an optical microscope.
  • excess droplets 500 on the sample surface exposed from the cover hole 501a are removed with a filter paper or the like. This state is shown in FIG.
  • the sample stage 506 is placed in the charged particle microscope apparatus and observation is started.
  • the hole 501a is identified using the difference in contrast (brightness) in the charged particle microscope image of the sample part exposed from the cover part (cover main body part) and the cover hole part, and the diaphragm is moved by moving the sample stage.
  • the hole 501a is disposed immediately below.
  • the sample portion 6a can be observed by bringing the sample with the cover mounted thereon close to the diaphragm 10 to a distance (h1) that can confirm the shape of the cover or the position of the hole 501a of the cover. it can.
  • the cover 501 and the diaphragm holding member 159 may be brought into contact with each other. That is, the distance h2 between the cover 500 and the diaphragm holding member 159 may be zero. If the thickness of the cover 500 is t, the sample will not contact the diaphragm 10 if the height of the sample portion protruding from the cover hole 501a is smaller than the thickness t.
  • the contact can be recognized because the sample stage 5 cannot be moved in the Z-axis direction after the cover 501 and the diaphragm holding member 159 are brought into contact with each other.
  • the cover 501 pushes the diaphragm holding member 159
  • the diaphragm 10 moves up and down, left and right together with the diaphragm holding member 159.
  • the cover 501 and the diaphragm holding member 159 are in contact with each other.
  • the diameter Di of the hole portion 500a of the cover is smaller than the window length Dm of the diaphragm 10 (the portion through which the charged particle beam is transmitted is referred to as “window”), the field of view is narrowed, so Di ⁇ Dm is preferable.
  • the diameter Di of the hole portion 500a of the cover is larger than the window length Dm of the diaphragm 10, the number of droplets 500 that must be removed increases. Therefore, the diameter Di of the hole portion 500a of the cover is equal to the window length Dm of the diaphragm 10. Somewhat larger is better. It is preferably at least smaller than the length Dw of the diaphragm holding member.
  • the outer diameter Do of the cover 501 (that is, the diameter of the cover main body) is smaller than the length Dw of the diaphragm holding member 159, the droplet 500 can contact the diaphragm holding member 159 from the outside of the outer diameter of the cover 501. Therefore, it is desirable that the outer diameter Do of the cover 501 is larger than the length Dw of the diaphragm holding member 159.
  • the outer diameter Do of the cover 501 is, for example, several mm or more.
  • the cover 501 is provided with a cover holding member 508 made of a material harder or thicker than the main body 501b of the cover 501 on the outer periphery of the cover 501, the operability is improved. preferable.
  • the thickness of the cover holding member 508 should not be such a size as to obstruct the approach of the cover 501 to the diaphragm 10.
  • the thickness t1 of the cover holding member 508 is preferably smaller than the distance t2 between the fixing member 155 that supports the diaphragm holding member 159 and the diaphragm 10.
  • the cover holding member 508 may not be a component provided separately from the cover main body.
  • the outer peripheral part of the cover main body part may be made of a material that is thicker or harder than the periphery of the cover hole part of the cover main body part.
  • the thickness of the non-observation region 501b (cover body portion) in the vicinity of the hole portion 501a that is the observation region needs to be constant at least by the thickness t. By doing so, it becomes possible to carry out observation while keeping the distance between the diaphragm 10 and the observation sample 6 constant.
  • FIG. 9 shows a charged particle microscope used in this example.
  • FIG. 9 shows an overall configuration diagram of the charged particle microscope of the present example.
  • the charged particle optical column 2 is inserted into the first casing (vacuum chamber) 7 and the first casing 7 which support the charged particle optical column with respect to the apparatus installation surface. It is comprised by the 2nd housing
  • At least one side surface of the second space (the open surface of the second housing 121) can be covered with the lid member 122, and various functions are realized. it can. This will be described below.
  • the space 12 in which the sample is placed is used under a reduced pressure condition that is slightly vacuum than the pressure set to atmospheric pressure (about 10 5 Pa) to about 10 3 Pa using the vacuum pump 103.
  • the charged particle beam emitted from the lower end of the charged particle optical column 2 passes through the diaphragm 10 shown in FIG. 9 through the first space 11 maintained at a high vacuum, and further, atmospheric pressure or a desired pressure. It enters the second space 12 maintained in the state or gas state.
  • the atmosphere in the second space is atmospheric pressure or a pressure comparable to atmospheric pressure. Since charged particle beams are scattered by gas molecules, the mean free path is shortened.
  • the lid member 122 is provided with the attachment portion of the vacuum pipe 100.
  • the vacuum pipe 100 is connected to the vacuum pump 103 by the connecting portion 102, whereby the inside of the second space 12 can be decompressed.
  • a gas control valve 101 is disposed in the middle of the vacuum pipe 100, and the gas flow rate for exhausting the inside of the pipe can be controlled. Therefore, a signal line extends from the gas control valve 101 to the lower control unit 37, and the apparatus user can control the exhaust amount on the operation screen displayed on the monitor of the computer 35.
  • the gas control valve 101 may be manually opened and closed.
  • the illustrated vacuum pump 103 may be provided in a charged particle microscope or may be attached later by an apparatus user.
  • the space in which the sample is placed can be controlled to an arbitrary degree of vacuum from atmospheric pressure (about 10 5 Pa) to about 10 3 Pa.
  • atmospheric pressure about 10 5 Pa
  • the electron beam column and the sample chamber communicate with each other, so if the pressure in the sample chamber is reduced to a pressure close to atmospheric pressure, the pressure in the electron beam column also changes accordingly. Therefore, it was difficult to control the sample chamber to a pressure of atmospheric pressure (about 10 5 Pa) to about 10 3 Pa.
  • the second space and the first space are separated by the thin film, the pressure of the atmosphere in the second space surrounded by the second casing 121 and the lid member 122 and The gas species can be freely controlled.
  • the sample chamber can be controlled to a pressure of atmospheric pressure (about 10 5 Pa) to about 10 3 Pa, which has been difficult to control until now. Furthermore, not only the observation at atmospheric pressure (about 10 5 Pa) but also the state of the sample can be observed by continuously changing the pressure in the vicinity thereof.
  • the charged particle microscope of the present embodiment includes a sample stage 5 as means for moving the observation field.
  • the sample stage 5 includes an XY drive mechanism in the in-plane direction and a Z-axis drive mechanism in the height direction.
  • a support plate 107 serving as a bottom plate for supporting the sample stage 5 is attached to the lid member 122, and the sample stage 5 is fixed to the support plate 107.
  • the support plate 107 is attached so as to extend toward the inside of the second casing 121 toward the surface of the lid member 122 facing the second casing 121.
  • Support shafts extend from the Z-axis drive mechanism and the XY drive mechanism, respectively, and are connected to the operation knob 108 and the operation knob 109, respectively.
  • the apparatus user adjusts the position of the sample 6 in the second housing 121 by operating these operation knobs 108 and 109.
  • the charged particle microscope of this embodiment includes a lid member support member 19 and a bottom plate 20 on the bottom surface of the first housing 7 and the bottom surface of the lid member 122, respectively.
  • the lid member 122 is detachably fixed to the second housing 121 via a vacuum sealing member 125.
  • the lid member support member 19 is also detachably fixed to the bottom plate 20, and the lid member 122 and the lid member support member 19 can be removed from the second housing 121 as shown in FIG. 9. Is possible.
  • electric wiring etc. are abbreviate
  • the bottom plate 20 is provided with a post 18 (not shown) that is used as a guide during removal.
  • the support column 18 is stored in a storage portion provided on the bottom plate 20 and is configured to extend in the pull-out direction of the lid member 122 when being removed.
  • the support column 18 is fixed to the lid member support member 19, and when the lid member 122 is removed from the second housing 121, the lid member 122 and the charged particle microscope main body are not completely separated. ing. Thereby, the fall of the sample stage 5 or the sample 6 can be prevented.
  • the sample 6 is moved away from the diaphragm 10 by turning the Z-axis operation knob of the sample stage 5. Thereafter, after confirming that the inside of the second housing is not in a reduced pressure state or an extremely pressurized state, the lid member 122 is pulled out to the side opposite to the apparatus main body. As a result, the sample 6 can be exchanged. After the sample replacement, the lid member 122 is pushed into the second housing 121, the lid member 122 is fixed to the mating portion 132 with a fastening member (not shown), and then a replacement gas is introduced as necessary.
  • the above operation can also be executed when a high voltage is applied to the optical lens 2 inside the electron optical column 2 or when an electron beam is emitted from the charged particle beam source 8. Therefore, the charged particle microscope of the present embodiment can start observation quickly after exchanging the sample.
  • the sample stage 5 and its operation knobs 108 and 109, the vacuum pipe 100, and the pressure adjustment valve 104 are all attached to the lid member 122. Therefore, the apparatus user can perform the operation of the operation knobs 108 and 109, the sample replacement operation, or the detachment operation of the vacuum pipe 100 and the pressure adjustment valve 104 on the same surface of the first housing. Therefore, the state for observation under atmospheric pressure and the state for observation under high vacuum are switched as compared with a charged particle microscope in which the above-described components are separately attached to the other surfaces of the sample chamber. The operability at the time is greatly improved.
  • the apparatus shown in FIG. 9 may be used to remove water droplets. That is, the second space 12 is evacuated by the vacuum pump 103 while the sample 6 is in the vicinity of the diaphragm 10.
  • vacuuming means a state where the pressure is slightly reduced from 1 atm.
  • FIG. 11 shows an experimental example in which the relationship between the pressure at which water droplets actually evaporate and the time are acquired. This is a result of an experiment conducted at room temperature on a drop of water (10 ⁇ L) on an aluminum table and how long it evaporates.
  • the time required for 10 ⁇ L of water droplets to evaporate at 1 atmosphere (100 kPa) is about 120 minutes, while the time required for 10 ⁇ L of water droplets to evaporate at 0.3 atmospheres (30 kPa) is about 20 minutes.
  • the time for the water droplets to evaporate is shorter when the pressure is reduced than when the pressure is atmospheric (1 atm).
  • a sealing member 503 that restricts the evaporation of moisture from the sample 6 is provided on the cover 501 as shown in FIG.
  • the sealing member 503 is provided, the evaporation of the droplet 500a on the lower surface of the cover 501 is limited, and the evaporation proceeds only from the hole portion of the cover 501, so that the water droplet attached to the sample 6a evaporates first (FIG. 12). (B)).
  • the space 13 is not directly connected to the space 12 by the sealing member 503, the evaporation rate is slow. As a result, it is possible to observe a portion to be observed in a state where no water droplets are attached to the surface of the sample portion 6a to be observed and the entire sample 6 is not dried or contracted.
  • the sealing member 503 contacts or closely contacts the cover 501 and the sample stage 506 to seal the space between the cover main body and the sample stage.
  • the sealing member 503 may be an adhesive material that allows the cover 501, the sample table 506, and the sealing member 503 to be in close contact like a double-sided tape.
  • a solidifying member such as an adhesive may be used.
  • the sealing member 503 may be provided with a vent 507 as shown in FIG.
  • the vent 507 has a smaller area or conductance than the hole 501 a of the cover 501.
  • vents 507 may be provided between the cover 501, the sealing member 503, and the sample stage 506. That is, the vent 507 may be a hole other than the hole of the cover communicating with the outside from the space surrounded by the cover 501, the sample table 506, and the sealing member 503.
  • the sealing member 504 may be located above the cover 501. However, in this case, it is necessary that the portion protruding above the cover 501 does not contact the diaphragm holding member 159 or the base 155 when the diaphragm 10 and the sample 6 are brought close to each other.
  • the thickness t1 of the portion protruding above the cover 501 is larger than the thickness t0 of the diaphragm holding member 159. It is necessary to be thin.
  • the cover 501 Since the cover 501 has a thickness shorter than the mean free path of the electron beam, the cover 501 may be bent toward the sample stage 506 as shown in FIG. 15 (507 part in the figure). In this case, since the upper surface of the cover 501 can be arranged on the upper side or the upper surface of the sealing portion 504, in this case, it is not always necessary to satisfy Expression 4.
  • the sample 6 is mounted on the sample stage 506.
  • the sample stage 506 can be mounted, and the sample stage 506 is mounted on the stage 401 provided in the optical microscope 402. The order of the two steps may be reversed.
  • observation is started by aligning the focal position 408 of the objective lens 412 of the optical microscope 402 with the surface of the sample 6 using the height adjusting mechanism 406 provided in the optical microscope.
  • the sample portion 6a to be observed with an optical microscope is found.
  • the cover 501 is placed on the sample 6a to be observed.
  • the sealing member 503 or 504 is attached.
  • the sealing member 503 or 504 may be attached to the sample stage or the cover 501 from the beginning. The subsequent steps are the same as in FIG.
  • this invention is not limited to the above-mentioned Example, Various modifications are included.
  • the above-described embodiments have been described in detail for easy understanding of the present invention, and are not necessarily limited to those having all the configurations described.
  • a part of the configuration of one embodiment can be replaced with the configuration of another embodiment, and the configuration of another embodiment can be added to the configuration of one embodiment.
  • Each of the above-described configurations, functions, processing units, processing means, and the like may be realized by hardware by designing a part or all of them with, for example, an integrated circuit.
  • Each of the above-described configurations, functions, and the like may be realized by software by interpreting and executing a program that realizes each function by the processor.
  • Information such as programs, tables, and files for realizing each function can be stored in a recording device such as a memory, a hard disk, an SSD (Solid State Drive), or a recording medium such as an IC card, an SD card, or an optical disk.
  • a recording device such as a memory, a hard disk, an SSD (Solid State Drive), or a recording medium such as an IC card, an SD card, or an optical disk.
  • control lines and information lines indicate what is considered necessary for the explanation, and not all the control lines and information lines on the product are necessarily shown. Actually, it may be considered that almost all the components are connected to each other.

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Abstract

利便性良く含水試料を大気雰囲気またはガス雰囲気または所望の圧力下で観察するために、本発明では、荷電粒子線を発生する荷電粒子光学鏡筒の内部空間から隔膜によって隔離された非真空空間に配置された試料に対して荷電粒子線を照射して観察するための観察支援ユニットを提供する。 当該観察支援ユニットは、試料(6)が観察される観察領域を形成する穴部(501a)と前記試料を蓋う本体部(502b)とを備え、前記試料(6)と前記隔膜の間であって、前記試料上に直接載置される。

Description

荷電粒子顕微鏡の観察支援ユニットおよびこれを用いた試料観察方法
 本発明は、試料を大気圧下、所望のガス圧下またはガス種下で観察可能な荷電粒子線装置および当該荷電粒子線装置向けの観察支援ユニットに関する。
 物体の微小な領域を観察するために、走査型電子顕微鏡(SEM)や透過型電子顕微鏡(TEM)などが用いられる。一般的に、これらの装置では試料を配置するための筐体を真空排気し、試料雰囲気を真空状態にして試料を撮像する。しかしながら、生物試料や液体試料などの含水試料の場合は真空によってダメージを受け、または状態が変わってしまう。一方で、このような試料を電子顕微鏡で観察したいというニーズは大きいため、観察対象試料を大気圧下や所望のガス圧下またはガス種下で観察可能なSEM装置が強く望まれている。
 そこで、近年、電子光学系と試料の間に電子線が透過可能な隔膜や微***を設けて電子線が飛来する真空状態と試料雰囲気下を仕切ることによって、大気圧下や所望のガス圧下またはガス種下に試料が配置可能なSEM装置が知られている。特許文献1では、隔膜直下に配備された試料ステージを使って隔膜と試料とが非接触な状態で大気圧下の試料をSEM観察することおよび観察のために試料の位置を調整することが開示されている。
特開2012-221766号公報(米国特許出願公開第2014/0021347号明細書)
 特許文献1に記載の荷電粒子線装置では、観察のために隔膜と試料との間の距離が非常に小さく調整されることが必要であるが、観察対象が含水試料の場合、試料表面上に存在する水滴が隔膜と試料との間に入り、試料観察が困難になる場合がある。特に、観察したい部位や隔膜直下に水滴がない状態であっても、隔膜に試料を接近させると隔膜を保持する部材に水滴が接触したことによって、隔膜側に液滴が押し寄せるといった問題があった。そのため、従来の装置では含水試料を観察することが困難であった。
 本発明は、かかる問題に鑑みてなされたもので、利便性良く含水試料を大気雰囲気またはガス雰囲気または所望の圧力下で観察することが可能な試料観察方法及びこれに用いる観察支援ユニットを提供することを目的とする。
 上記課題を解決するために、荷電粒子線を発生する荷電粒子光学鏡筒の内部空間から隔膜によって隔離された非真空空間に配置された試料に対して荷電粒子線を照射して観察するための観察支援ユニットを提供する。当該観察支援ユニットは、試料が観察される観察領域を形成する穴部と試料を蓋う本体部とを備える。また、当該観察支援ユニットは試料と隔膜の間であって、試料上に直接載置される。
 また、本観察支援ユニットを用いた試料観察方法として、当該観察支援ユニットを直接試料上に搭載するステップと、当該観察支援ユニットが搭載された状態の試料を隔膜に接近させるステップと、を有する試料観察方法を提供する。
 本発明によれば、隔膜と試料間に観察支援ユニットとしてのカバーを配置することによって、余分な液滴が隔膜に接触する確率を大幅に低減させることができる。その結果、含水試料の画像を利便性良く明瞭に取得することができる。また、液滴が隔膜に接触する確率が大幅に低減することによって、隔膜交換の頻度を低減しランニングコストを抑えることができる。
 上記した以外の課題、構成及び効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。
実施例1の荷電粒子顕微鏡の全体構成図。 カバーを用いない場合の隔膜と含水試料近傍の説明図。 実施例1における隔膜およびカバーの説明図。 実施例1におけるカバーを用いた場合の試料近傍の説明図。 実施例1において光学顕微鏡を用いてカバーを配置するときの操作の説明図。 実施例1におけるカバーを用いて荷電粒子顕微鏡を操作するときの説明図。 実施例1におけるカバーを用いるための操作手順の説明図。 実施例1におけるカバーの形状を説明する図。 実施例2の荷電粒子顕微鏡の全体構成図。 実施例2におけるカバーを用いて荷電粒子顕微鏡を操作するときの説明図。 水滴の乾燥時間と蒸発時間の関係。 実施例2における、カバー及び封止部材を用いた時の含水試料近傍の説明図。 実施例2における、カバー及び封止部材を用いた時の含水試料近傍の説明図。 実施例2における、カバー及び封止部材を用いた時の含水試料近傍の説明図。 実施例2における、カバー及び封止部材を用いた時の含水試料近傍の説明図。 実施例2における、カバー及び封止部材を用いるための操作手順の説明図。
 以下、図面を用いて各実施形態について説明する。
 以下では、荷電粒子線装置の一例として、荷電粒子線顕微鏡について説明する。ただし、これは本発明の単なる一例であって、本発明は以下説明する実施の形態に限定されるものではない。本発明は、走査電子顕微鏡、走査イオン顕微鏡、走査透過電子顕微鏡、これらと試料加工装置との複合装置、またはこれらを応用した解析・検査装置にも適用可能である。
 また、本明細書において「大気圧」とは大気雰囲気または所定のガス雰囲気であって、大気圧または若干の負圧状態の圧力環境のことを意味する。具体的には約105Pa(大気圧)から103Pa程度である。また、この圧力範囲を「非真空」と称することもある。
 本実施例では、基本的な実施形態について説明する。図1には、本実施例の荷電粒子顕微鏡の全体構成図を示す。なお、以下の実施例は走査電子顕微鏡を意図して説明するが、上記の通り本発明はこれに限らない。
 図1に示される荷電粒子顕微鏡は、荷電粒子光学鏡筒の内部空間から隔膜によって隔離された非真空空間に配置された試料に対して荷電粒子線を照射して観察する装置である。図1に示される荷電粒子顕微鏡は、主として、荷電粒子線を発生する荷電粒子光学鏡筒2、荷電粒子光学鏡筒2と接続されこれを支持する筐体(真空室)7、大気雰囲気下に配置される試料ステージ5、およびこれらを制御する制御系によって構成される。荷電粒子顕微鏡の使用時には荷電粒子光学鏡筒2と筐体7の内部は真空ポンプ4により真空排気される。真空ポンプ4の起動・停止動作も制御系により制御される。図中、真空ポンプ4は一つのみ示されているが、二つ以上あってもよい。荷電粒子光学鏡筒2及び筺体7は図示しない柱によって支えられているとする。
 荷電粒子光学鏡筒2は、荷電粒子線を発生する荷電粒子源8、発生した荷電粒子線を集束して鏡筒下部へ導き、一次荷電粒子線として試料6を走査する光学レンズ1などの要素により構成される。荷電粒子源の寿命等の問題から、一般に荷電粒子源周辺の雰囲気は10-1Pa以下の気圧(以下、高真空とする)となっている。荷電粒子光学鏡筒2は筐体7内部に突き出すように設置されており、真空封止部材123を介して筐体7に固定されている。荷電粒子光学鏡筒2の端部には、上記一次荷電粒子線の照射により得られる二次的荷電粒子(二次電子または反射電子)を検出する検出器3が配置される。検出器3で得られた信号に基づいて試料の画像を取得する。検出器3は荷電粒子光学鏡筒2の外部にあっても内部にあってもよい。荷電粒子光学鏡筒には、これ以外に他のレンズや電極、検出器を含んでもよいし、一部が上記と異なっていてもよく、荷電粒子光学鏡筒に含まれる荷電粒子光学系の構成はこれに限られない。
 本実施例の荷電粒子顕微鏡は、制御系として、装置使用者が使用するコンピュータ35、コンピュータ35と接続され通信を行う上位制御部36、上位制御部36から送信される命令に従って真空排気系や荷電粒子光学系などの制御を行う下位制御部37を備える。コンピュータ35は、装置の操作画面(GUI)が表示されるモニタと、キーボードやマウスなどの操作画面への入力手段を備える。上位制御部36、下位制御部37およびコンピュータ35は、各々通信線43、44により接続される。
 下位制御部37は真空ポンプ4、荷電粒子源8や光学レンズ1などを制御するための制御信号を送受信する部位であり、さらには検出器3の出力信号をディジタル画像信号に変換して上位制御部36へ送信する。図では検出器3からの出力信号をプリアンプなどの増幅器154を経由して下位制御部37に接続している。もし、増幅器が不要であればなくてもよい。
 上位制御部36と下位制御部37ではアナログ回路やディジタル回路などが混在していてもよく、また上位制御部36と下位制御部37が一つに統一されていてもよい。荷電粒子顕微鏡には、このほかにも各部分の動作を制御する制御部が含まれていてもよい。上位制御部36や下位制御部37は、専用の回路基板によってハードウェアとして構成されていてもよいし、コンピュータ35で実行されるソフトウェアによって構成されてもよい。ハードウェアにより構成する場合には、処理を実行する複数の演算器を配線基板上、または半導体チップまたはパッケージ内に集積することにより実現できる。ソフトウェアにより構成する場合には、コンピュータに高速な汎用CPUを搭載して、所望の演算処理を実行するプログラムを実行することで実現できる。
 筐体7には、一端が真空ポンプ4に接続された真空配管16が接続され、内部を真空状態に維持できる。同時に、筐体内部を大気開放するためのリークバルブ14を備え、メンテナンス時などに、筐体7の内部を大気開放することができる。リークバルブ14は、なくてもよいし、二つ以上あってもよい。また、筐体7におけるリークバルブ14の配置箇所は、図1に示された場所に限られず、筐体7上の別の位置に配置されていてもよい。
 なお、図1に示す制御系の構成は一例に過ぎず、制御ユニットやバルブ、真空ポンプまたは通信用の配線などの変形例は、本実施例で意図する機能を満たす限り、本実施例のSEMないし荷電粒子線装置の範疇に属する。
 筐体下面には上記荷電粒子光学鏡筒2の直下になる位置に隔膜10を備える。この隔膜10は、荷電粒子光学鏡筒2の下端から放出される一次荷電粒子線を透過または通過させることが可能であり、一次荷電粒子線は、隔膜10を通って最終的に試料台506に搭載された試料6に到達する。隔膜10によって試料載置空間から隔離されて構成される閉空間(すなわち、荷電粒子光学鏡筒2および筐体7の内部)は真空排気可能である。本実施例では、隔膜10によって真空排気される空間の気密状態が維持されるので、荷電粒子光学鏡筒2を真空状態に維持できかつ試料6周囲の雰囲気を大気圧に維持して観察することができる。また、荷電粒子線が照射されている状態でも試料が設置された空間が大気雰囲気であるまたは大気雰囲気の空間と連通しているため、観察中、試料6を自由に交換できる。
 隔膜10は隔膜保持部材9上に成膜または蒸着されている。隔膜10はカーボン材、有機材、金属材、シリコンナイトライド、シリコンカーバイド、酸化シリコンなどである。隔膜保持部材159は例えばシリコンや金属部材のような部材である。隔膜10部は複数配置された多窓であってもよい。一次荷電粒子線を透過または通過させることが可能な隔膜の厚みは数nm~数μm程度である。隔膜は大気圧と真空を分離するための差圧下で破損しないことが必要である。そのため、隔膜10の面積は数十μmから大きくとも数mm程度の大きさである。
 隔膜10を支持する固定部材155は隔膜保持部材159上に具備されている。図示しないが、固定部材155と隔膜保持部材159は後術する固定部材155等に真空シールが可能なOリングやパッキンや接着剤や両面テープなどによって接着されているものとする。隔膜保持部材159は、筐体7の下面側に真空封止部材124を介して脱着可能に固定される。隔膜10は、荷電粒子線が透過する要請上、厚さ数nm~数μm程度以下と非常に薄いため、経時劣化または観察準備の際に破損する可能性がある。また、隔膜10及びそれを支持する土台9は小さいので、直接ハンドリングすることが非常に困難である。そのため、本実施例のように、隔膜10および固定部材155を隔膜保持部材159と一体化し、固定部材155を直接ではなく隔膜保持部材159を介してハンドリングできるようにすることで、隔膜10及び固定部材155の取扱い(特に交換)が非常に容易となる。つまり、隔膜10が破損した場合には、固定部材155全体を交換すればよい。仮に隔膜10を直接交換しなければならない場合でも、固定部材155全体を装置外部に取り出し、隔膜10と一体化された固定部材155から隔膜10を取り外すことで、隔膜10の取り外し作業を装置外部で交換することができる。
 本荷電粒子顕微鏡の試料は試料ステージ5上に配置される。試料ステージ5は少なくともZ軸駆動機構を有する。Z軸方向とは荷電粒子線光軸の方向54を指す。このZ軸駆動機構は試料6と隔膜10との距離を任意に調整するために使用する機構である。また、荷電粒子顕微鏡の試料ステージ5はXY平面駆動機構を有していてもよい。XY平面とは前述のZ軸に垂直な平面を指す。このXY平面移動機構は、試料ステージ上の任意の部位を観察するために使用する機構である。これにより、試料上で任意の観察対象部位を探して視野中心に移動することができる。
 大気圧下において観察可能な荷電粒子顕微鏡においては、荷電粒子線の散乱を極力抑え、なおかつ隔膜を試料との接触により破損させないために、隔膜10と試料6の観察対象部位の距離を数百μmから数十μmまたは数μm程度に調整する必要がある。この操作は非常に繊細であり、隔膜と試料とを近接させる作業を利便性良くすることは大気圧下で観察を行う荷電粒子顕微鏡の利便性向上に大きく寄与する。
 また、図示しないが、試料6の直下または近傍に試料が観察可能な光学顕微鏡を配置してもよい。この場合は、隔膜10が試料上側にあり、光学顕微鏡は試料下側から観察することになる。そのため、この場合は、試料台52は光学顕微鏡の光に対して透明である必要がある。透明な部材としては、透明ガラス、透明プラスチック、透明の結晶体などである。より一般的な試料台としてスライドグラス(又はプレパラート)やディッシュ(又はシャーレ)などの透明試料台などがある。
 また、温度ヒータや試料中に電界を発生可能な電圧印加部を備えてもよい。この場合、試料が加熱または冷却していく様子や、試料に電界が印加されている様子を観察することが可能となる。
 また、図1では検出器3は真空空間11内にあるが、透過信号を検出することが可能な透過検出器が試料直下または近傍にあってもよい。
 隔膜は2つ以上配置してもよい。例えば、荷電粒子光学鏡筒2の内部に隔膜があってもよい。あるいは、真空と大気とを分離する第一の隔膜の下側に、第二の隔膜を備え第二の隔膜と試料ステージとの間に試料が内包されていてもよい。
 本発明では隔膜の数や種類は問わず、本実施例で意図する機能を満たす限り、本実施例のSEMないし荷電粒子線装置の範疇に属する。
 (カバーの説明)
 図1の装置を用いると、試料が大気中に配置することが可能であるために、水分を含んだ状態の試料の荷電粒子顕微鏡観察することが可能であった。しかしながら、多量の水分を含んだ試料を観察することはこれまでに困難であった。この理由について図2を用いて説明する。試料6に多くの水分が含まれている場合、試料表面上にも液滴がつくことがよくある。この状態で、隔膜10に試料6を接近させると、試料表面上の液滴500が観察される。荷電粒子線の物質内部への侵入深さ(または平均自由行程)は短いために、観察したい試料部位に液滴がついていると、試料6表面まで荷電粒子線が到達することができない。このため、水滴が残っている試料表面の観察が困難といった問題が発生する。
 このような場合、液滴が付着していない試料部位6aを観察することが可能であるように思えるが、実際は液滴500が試料部位6a上に付着していない場合でも観察が困難な場合が多い。例えば、観察したい試料部位6aに液滴がなく、隔膜10の窓長Dmの範囲以外に液滴500が存在している場合を考える。このような状況下で試料6を隔膜10に接近した時に、隔膜を保持する土台159に液滴500が接触する(接触部位508)。荷電粒子顕微鏡から放出される荷電粒子線は隔膜10の窓長Dmの範囲しか観察できないため、接触部位508を観察することができないため、装置操作者は、土台159に液滴500が接触したことが認識できない。その結果、装置操作者は隔膜保持部材159に液滴500が接触したことを知らない状態で、さらに、隔膜10に試料6を接近させる。その後、液滴500が広がっていき、隔膜10に到達する。液滴が存在している部位(図中A部)は荷電粒子線が試料6まで到達しないために、A部の試料表面は観察できないことになる。このように、観察したい試料部位6aに液滴がなくても、隔膜10の窓長Dmの範囲以外に液滴500が存在している場合には観察が困難となる。
 これを解決する方法としては、隔膜保持部材159の幅Dwの範囲内に液滴が試料6上にない必要があるが、一般的には隔膜保持部材159の幅Dwは数mm~数十mm角といった大きさなので(図3(a)に隔膜形状を図示)、多量な水分を多く含んだ含水試料でこのような状況をつくることは大変困難である。
 この問題を解決するために、図3(b)で示したような部材を観察支援ユニット(以下、カバー)として用いる。例えば、図3(b)で示されるカバー501は外径Doで内径Diの穴が開いた厚みtのリング形状の部品である。カバーの本体部501b直下の試料は観察できないが、穴部501a経由で試料が観察可能となっている。カバー501は試料上に直接載置される。カバー501が試料上に載置されたとき、カバー501の穴部501aは試料を観察するための観察領域を形成し、カバー本体部501bは試料を蓋う部分となる。このカバーによって、試料と隔膜とは非接触の状態に保たれる。
 図4を用いて、カバー501の使い方を説明する。カバー501の本体部501bをピンセット等で持って、カバー501の穴501aの直下に観察したい試料部位6aを持ってくる(図4(a))。次に、試料6上にカバー501を搭載する。試料6上に液滴500があった場合、液滴500はカバーの穴501aの内部に広がる液滴500bと、カバーの本体部501bと試料6との間に広がる液滴500aとに分かれる(図4(b))。次に、液滴500bは荷電粒子顕微鏡観察の妨げとなるため、液滴500bを濾紙502等で除去する。または、空気圧をかけて液滴500bを吹きとばしてもよい。こうすると、カバーの穴501aで開口された部分の試料表面だけに液滴が存在しない状態を作ることができる(図4(c))。一般的に含水試料は全ての水分を除去しようとすると試料が乾燥してしまうため観察に適さない。例えば、濾紙等で含水試料の表面の液滴を除去すると含水試料は乾燥しすぎてしまう。一方で、このようにカバー501を用いると、カバー501下には水分が残った状態で、観察したい領域だけの液滴を除去することが可能となり、乾燥を防止された状態で試料の荷電粒子顕微鏡観察が可能である。
 以上をまとめると、カバーの穴501aが観察領域となり、カバー501の本体部501bが非観察領域となる。ここで観察領域とは、試料を観察する際に観察窓として使用される領域のことをいい、非観察領域とは、試料を蓋う部分であって観察目的対象物である試料が観察できない領域のことをいう。
 図3(b)では穴部が一か所であるリング形状を例にしたが、本実施例の変形例として、例えばカバーの穴部501aは一か所でなくてもよく、メッシュ形状のように穴部が複数あってもかまわない。また、シートの外形は円形でなくてもよく、シート状のカバーを2枚以上並べることによって、その隙間を観察領域501aとしてもよい。この場合には複数のシートを組み合わせて一つのカバーを形成しているということもできる。このように複数の部材を組み合わせてカバーを形成する場合も含め、観察支援ユニットと称する。
(光学顕微鏡の説明)
 後述するように、荷電粒子顕微鏡にて観察したい領域は小さいので、カバーの穴501aは隔膜の窓面積と同等か若干大きいぐらいの大きさであることが望ましい。そのため、観察したい試料部位6aに正確にカバーの穴501aをあわせるために、カバー501を試料6上へ搭載する作業は光学顕微鏡下で行うことが望ましい。
 図5に光学顕微鏡にてカバー501を配置する様子を示す。図5(a)が試料を光学顕微鏡に設置した直後の様子で、図5(b)がカバー501を搭載して余分な液滴501bを除去した後の様子である。光学顕微鏡402は、光を集光可能な対物レンズ412と、光学顕微鏡の位置を駆動することが可能な位置駆動機構部406と土台407を有する。土台407は試料台506が搭載可能な試料配置部401を備える。試料配置部401に試料台506を設置した後で試料を試料台に搭載する。その後、光学顕微鏡で観察しながら、観察したい試料6aにカバーの穴501aが位置するようにカバー501を配置する。
(接近の説明)
 図6に荷電粒子顕微鏡装置の中にカバー501が搭載された試料6を設置した様子を図示する。最初は図6(a)のように観察したい試料部位6aは隔膜10の直下にないことがある。そのため、図中白矢印方向に試料を動かす必要がある。その際は、隔膜10と試料6とが接触しないで十分離れている位置(距離h1)で試料を図中横方向(荷電粒子線の光軸に垂直な平面内)に動かす。観察したい試料部位6aが隔膜10の直下に来た様子を図6(b)に示す。その後、隔膜10に試料6を接近させることによって、荷電粒子線が試料6に照射され、試料6から放出される二次電子や反射電子などの荷電粒子線やX線や発光などの放射線を検出することで顕微鏡画像を取得可能となる。
 カバー501の厚みtが既知であるので、カバー501は隔膜10と試料6との距離を制限するために距離制限部材としての機能を持つ。荷電粒子線は物質内部の侵入深さ(または平均自由行程)が短い。一般的な荷電粒子線顕微鏡装置の荷電粒子線の加速電圧の場合には数μmから1mm以下程度である。例えば、加速電圧15kVの電子線が大気圧中に照射された場合の平均自由行程(Mean Free Pass:MFP)は数十μm程度である。そこで、カバーの厚みを前記値(観察条件での荷電粒子線の平均自由工程)と同等かそれ以下にしておく。
        MFP ≧t          ・・・式1
 式1を満たすような厚さのカバーであれば、カバー501の下にある試料と隔膜10が接触するよりも前に、荷電粒子線が試料表面に到達するようになる。つまり、カバー501と隔膜保持部材159に接触した状態では平均自由工程以下に隔膜10に試料を接近させることができる。そのため、本発明におけるカバー501は安全に試料6と隔膜10を接近させるといった目的でも使用することができる。なお、ここで、カバーの厚みとは、カバーの穴部周囲(少なくとも隔膜保持部材に対向する部分)の厚みのことであり、カバー全体の厚みである必要はない。
 また、もし試料が簡単に変形するような材質の場合、隔膜保持部材159とカバー501を接触した後に、さらに試料6と隔膜10を近づけようと試料ステージ15を動かすと、カバー501と試料ホルダの間に挟まれて試料6が変形することもある。そのような場合、隔膜10と試料6接触する可能性もある。この時、カバーの穴部501から観察される観察したい試料部位6aの位置が横方向に動くか、形状がつぶれるような動きを観察される。そのため、試料6を観察しているときに形状がつぶれるまたは広がるような動きが観察されたら、試料ステージを駆動するのを停止するなどすることで、隔膜10と試料6とが接触することを防止することができる。
 なお、上記の理由からカバーの厚みtは荷電粒子線の平均自由行程の長さと同等かそれ以下にする必要があるので非常に薄いため、カバー501はピンセットなどで操作する必要がある。この薄いカバーをピンセットにより正確に操作するためにも、図5で示したように光学顕微鏡下で実施することがより望ましい。
(材料に関して)
 また、本実施例におけるカバー501は試料6とは異種材料であることが望ましい。図6(a)を用いてカバー501と観察したい試料6との材料が異なる場合の効果について説明する。隔膜10直下にカバーの穴501aがない場合、操作者は荷電粒子顕微鏡内で隔膜直下にカバーの穴501aが位置するように試料ステージを用いて調整する必要がある。ここで、カバー501と試料6とが異種材料の場合はカバー501と試料6とが異なるコントラストの顕微鏡画像となる。つまりカバー501の本体部は試料の主成分と異なる材料からなることが好ましい。より具体的には、カバー501と試料6とが異種材料の場合、一次荷電粒子線PE1がカバーの穴501aを経由して試料6に照射して発生した二次的荷電粒子線506と、一次荷電粒子線PE2がカバー501に照射して発生した二次的荷電粒子線507では信号量が異なる。例えば、試料6が生体試料などの有機材料で、カバー501が金属材料の場合は、二次的荷電粒子線506よりも二次的荷電粒子線507のほうが多いため、荷電粒子顕微鏡画像はカバー501部のほうが明るく観察される。つまり、明るさの違いがわかる程度の距離(h1)まで隔膜10と試料6と接近させて、試料ステージ5を用いてXY平面方向に動かすことで暗く観察される試料部分(つまりカバーの穴部501a)を探しやすくなる。ここでカバー501の本体部全体が試料と異種の材料からなる必要はなく、例えばカバーの穴部周辺部分だけが試料と異なる材料からできていてもよい。なお、カバーの穴部方向がわかるように、カバーの穴部方向を指示するための、異種材料でできたマーキングがあってもよい。あるいは、カバーの穴部方向を指示する加工などがカバーにされていてもよい。こうすることで、穴部が観察されない位置にある場合に、穴部を探すことが容易となる。
 例えば、動物の生体組織や植物組織材料、動植物を原料とした食品などの加工材料、水分を含むことが可能な有機材料またはソフトマテリアル、試料内に液体成分を含むまたは試料表面に液体成分が付着した状態の無機材料、ペースト、ゾル、ゲルなどの粘性が高い有機または無機材料などの場合には、カバー501は金属材料がよい。この場合、カバーの材料としては特に、アルミ、モリブデン、タングステン、白金、銅、鉄、SUSなどの金属がよい。反対に、試料が金属や半導体などの場合は、カバー部材501はプラスチックなどの有機材料とするのがよい。したがって、異なる材料からなる複数のカバーを用意し、観察対象とする試料によってカバーを使い分けるのがよい。なお、前述の通りカバー501の厚みtは非常に薄いので、簡単に破損することなく柔軟性のある材料であることが好ましい。
(各ステップの説明)
 図7を用いて、本実施例の観察支援ユニットを用いて観察する手順について説明する。初めに、試料台506に試料6を搭載する。次のステップでは、試料台506が搭載可能で光学顕微鏡402に具備される台401に試料台506を搭載する。前記二つのステップの順番は反対でも構わない。次のステップでは、光学顕微鏡に具備される高さ調整機構406を用いて光学顕微鏡402の対物レンズ412の焦点位置408を試料6に合わせて観察を開始する。この状態は図5(a)に示されている。次のステップでは、光学顕微鏡にて観察したい試料部位6aを見つける。この時に、光学顕微鏡に具備される図示しない試料ステージを用いてもよいし、ピンセット等で試料を動かしてもよいし、試料台506に具備される試料位置を変更することが可能な駆動機構を用いてもよい。なお、試料を試料台に搭載するステップを光学顕微鏡下で実施してもよい。最初から観察したい試料部位6aが光学顕微鏡下で観察できるようにするために、試料台506上に図示しないマークが予めマーキングされていてもよい。次のステップでは、カバー501を観察したい試料6a上に配置する。このときに、カバー501の本体部501bをピンセット等で持って、カバー501の穴501aの直下に観察したい試料部位6aを配置するようにする。ここまでの一連の作業は光学顕微鏡をもちいておこなわれることが好ましい。次に、カバー穴501a部から露出している試料表面にある余分な液滴500を濾紙等で除去する。この状態を図5(b)に示す。
 この後に、試料台506ごと荷電粒子顕微鏡装置に配置して観察を開始する。次に、カバー部(カバー本体部)とカバー穴部から露出した試料部の荷電粒子顕微鏡画像におけるコントラスト(明るさ)の違いを使って穴部501aを識別し、試料ステージを移動することで隔膜直下に穴部501aを配置する。次に、カバーが搭載された状態の試料を、カバーの形状またはカバーの穴部501a部の位置が確認できる程度の距離(h1)まで隔膜10に近づけることによって、試料部位6aを観察することができる。隔膜10と試料6との距離を近づけるステップにおいて、カバー501と隔膜保持部材159を接触させてもよい。つまり、カバー500と隔膜保持部材159との距離h2をゼロにしてもよい。カバー500の厚みをtとすると、カバーの穴501aよりも突出した試料部位の高さが厚みtよりも小さければ隔膜10に試料が接触することはない。
(接触認識手段)
 隔膜10と試料6との距離を近づけてカバー501と隔膜保持部材159が接触することを認識する手段として、前述の通り試料が簡単に変形するような材質の場合は、画像を見ながら試料と隔膜を近づけることで、カバー501と隔膜保持部材159が接触したときに試料が横方向に動くまたは形状が変化する様子が観察される。これによって、カバー501と隔膜保持部材159が接触したことを認識できる。コンピュータにより自動的に認識する場合には、取得される画像をリアルタイムにモニタリングし画像中の試料形状の変化を検知した場合にアラートをディスプレイに表示することも可能である。
 もし、試料が簡単に変形しない材質であれば、カバー501と隔膜保持部材159を接触させたあとは試料ステージ5にてZ軸方向に動かすことができなくなることで接触を認識できる。または、カバー501が隔膜保持部材159を押すことによって隔膜10が隔膜保持部材159ごと上下左右のいずれかに動くので、その様子を観察することでカバー501と隔膜保持部材159とが接触したことが認識できる。この場合にも上記の通り画像をモニタリングすることで、コンピュータにより自動的に認識することが可能である。
(各サイズに関して)
 以下では、各サイズに関しては、各部材が円形と仮定して説明しているが、円形でない場合にはそれぞれ対角線の長さまたは外接円の直径など、各部材の形状の大きさを代表する数値に読み替えればよい。例えば、以下の式や説明では直径や窓長と記載しているが、面積と読み替えることも可能である。
 まず、隔膜10の窓長Dm(荷電粒子線が透過する部分を「窓」と称する)よりカバーの穴部500aの直径Diが小さいと視野が狭くなってしまうので、Di≧Dmが好ましい。ただし、隔膜10の窓長Dmよりもカバーの穴部500aの直径Diが大きすぎると除去しなければならない液滴500が多くなるので、カバーの穴部500aの直径Diは隔膜10の窓長Dmより若干大きいぐらいがよい。少なくとも隔膜保持部材の長さDwより小さいことが好ましい。
 また、カバー501の外径Do(すなわちカバー本体部の直径)が隔膜保持部材159の長さDwよりも小さいと、液滴500がカバー501の外径より外側から隔膜保持部材159に接触する可能性があるので、カバー501の外径Doは隔膜保持部材159の長さDwより大きいことが望ましい。
 その結果、おおざっぱには以下式が成り立つのが望ましい。この様子を図8に示す。
 Do>Dw>Di≧Dm ・・・式2
 また、ピンセットでのカバー500の操作をより簡単にするために、カバー501の外径Doは例えば数mm以上の大きさであることが望ましい。
 また、ピンセットでの操作性も考えて、カバー501にカバー501の本体部501bよりも硬いまたは厚い材料であるカバー保持用部材508がカバー501の外周に具備されていると、操作性向上のため好ましい。このカバー保持用部材508の厚みは隔膜10へのカバー501の接近の際に邪魔になるようなサイズであってはならない。例えば、隔膜保持部材159を支持する固定部材155と隔膜10との距離t2よりも、カバー保持用部材508の厚みt1は薄いほうがのぞましい。
 t1>t2 ・・・(式3)
 なお、カバー保持用部材508はカバー本体部と別個に設けられた部品でなくてもよい。例えばカバー本体部の外周部がカバー本体部のカバー穴部周囲より厚いまたは硬い材料でできていてもよい。
 また、観察領域である穴部501aの近傍の非観察領域501b(カバー本体部)の厚みは少なくとも厚みtで一定である必要がある。こうすることで、隔膜10と観察試料6との距離を一定に保ちながら観察を実施することが可能となる。
 実施例1で述べたとおり、観察試料として含水試料を観察するため、観察したい部位6a上に液滴が存在することも多い。このような場合で、濾紙等で観察したい試料部位6a上の水滴を除去することが難しい場合は、見たい部位の表面だけの水滴を蒸発させて観察することが望ましい。そこで、本実施例では観察したい試料部位6aの水滴を乾燥させることが可能な装置及び方法について説明する。図9に、本実施例に用いられる荷電粒子顕微鏡を示す。
 図9に、本実施例の荷電粒子顕微鏡の全体構成図を示す。本実施例の荷電粒子顕微鏡では、荷電粒子光学鏡筒2、該荷電粒子光学鏡筒を装置設置面に対して支持する第1筐体(真空室)7、第1筐体7に挿入して使用される第2筐体(アタッチメント)121、制御系などによって構成される。
 本実施例の荷電粒子顕微鏡の場合、第2の空間の少なくとも一つの側面(第2筐体121の開放面)を蓋部材122で蓋うことができるようになっており、種々の機能が実現できる。以下ではそれについて説明する。
 本実施例の荷電粒子顕微鏡においては、試料が配置される空間12を真空ポンプ103を用いて大気圧(約10Pa)ないし約10Paに設定された圧力よりも若干真空の減圧条件下にすることができる。荷電粒子光学鏡筒2の下端から放出された荷電粒子線は、高真空に維持された第1の空間11を通って、図9に示す隔膜10を通過し、更に、大気圧または所望の圧力状態やガス状態に維持された第2の空間12に侵入する。第2の空間の雰囲気は大気圧または大気圧と同程度の圧力である。荷電粒子線は気体分子によって散乱されるため、平均自由行程は短くなる。つまり、隔膜10と試料6の距離が大きいと荷電粒子線が試料まで届かなくなる。以上の理由から、本実施例の荷電粒子顕微鏡では、蓋部材122に真空配管100の取り付け部を設けている。真空配管100は連結部102により真空ポンプ103と連結されており、これにより第2の空間12内を減圧することが可能となる。真空配管100の途中には、ガス制御用バルブ101が配置されており、管内を排気するガス流量を制御できる。このため、ガス制御用バルブ101から下位制御部37に信号線が伸びており、装置ユーザは、コンピュータ35のモニタ上に表示される操作画面で、排気量を制御できる。また、ガス制御用バルブ101は手動にて操作して開閉してもよい。なお、図示した真空ポンプ103は、荷電粒子顕微鏡に備え付けられる場合もあれば、装置ユーザが事後的に取り付ける場合もある。
 このように本実施例では、試料が載置された空間を大気圧(約10Pa)から約10Paまでの任意の真空度に制御することができる。従来のいわゆる低真空走査電子顕微鏡では、電子線カラムと試料室が連通しているので、試料室の真空度を下げて大気圧に近い圧力とすると電子線カラムの中の圧力も連動して変化してしまい、大気圧(約10Pa)~約10Paの圧力に試料室を制御することは困難であった。本実施例によれば、第2の空間と第1の空間を薄膜により隔離しているので、第2の筐体121および蓋部材122に囲まれた第2の空間の中の雰囲気の圧力およびガス種は自由に制御することができる。したがって、これまで制御することが難しかった大気圧(約10Pa)~約10Paの圧力に試料室を制御することができる。さらに、大気圧(約10Pa)での観察だけでなく、その近傍の圧力に連続的に変化させて試料の状態を観察することが可能となる。
 次に、試料6の位置調整方法について説明する。本実施例の荷電粒子顕微鏡は、観察視野の移動手段として試料ステージ5を備えている。試料ステージ5には、面内方向へのXY駆動機構および高さ方向へのZ軸駆動機構を備えている。蓋部材122には試料ステージ5を支持する底板となる支持板107が取り付けられており、試料ステージ5は支持板107に固定されている。支持板107は、蓋部材122の第2筐体121への対向面に向けて第2筐体121の内部に向かって延伸するよう取り付けられている。Z軸駆動機構およびXY駆動機構からはそれぞれ支軸が伸びており、各々操作つまみ108および操作つまみ109と繋がっている。装置ユーザは、これらの操作つまみ108および109を操作することにより、試料6の第2筐体121内での位置を調整する。
 次に、試料6の交換のための機構について説明する。本実施例の荷電粒子顕微鏡は、第1筐体7の底面および蓋部材122の下面に、蓋部材用支持部材19、底板20をそれぞれ備える。蓋部材122は第2筐体121に真空封止部材125を介して取り外し可能に固定される。一方、蓋部材用支持部材19も底板20に対して取り外し可能に固定されており、図9に示すように、蓋部材122および蓋部材用支持部材19を丸ごと第2筐体121から取り外すことが可能である。なお、本図では電気配線などは省略している。
 底板20には、取り外しの際にガイドとして使用される図示しない支柱18を備える。通常の観察時の状態では、支柱18は底板20に設けられた格納部に格納されており、取り外しの際に蓋部材122の引出し方向に延伸するように構成される。同時に、支柱18は蓋部材用支持部材19に固定されており、蓋部材122を第2筐体121から取り外した際に、蓋部材122と荷電粒子顕微鏡本体とが完全には分離しないようになっている。これにより、試料ステージ5または試料6の落下を防止することができる。
 第2筐体121内に試料を搬入する場合には、まず試料ステージ5のZ軸操作つまみを回して試料6を隔膜10から遠ざける。その後、第2筐体内部が減圧状態または極端な与圧状態になっていないことを確認後、蓋部材122を装置本体とは反対側に引き出す。これにより試料6を交換可能な状態となる。試料交換後は、蓋部材122を第2筐体121内に押し込み、図示しない締結部材にて蓋部材122を合わせ部132に固定後、必要に応じて置換ガスを導入する。以上の操作は、電子光学鏡筒2内部の光学レンズ2に高電圧を印加している状態や荷電粒子線源8から電子線が放出している状態の時にも実行することができる。そのため、本実施例の荷電粒子顕微鏡は、試料交換後、迅速に観察を開始することができる。
 以上説明したように、本実施例では、試料ステージ5およびその操作つまみ108、109、真空配管100、圧力調整弁104が全て蓋部材122に集約して取り付けられている。従って装置ユーザは、上記操作つまみ108、109の操作、試料の交換作業、または真空配管100、圧力調整弁104の脱着作業を第1筐体の同じ面に対して行うことができる。よって、上記構成物が試料室の他の面にバラバラに取り付けられている構成の荷電粒子顕微鏡に比べて、大気圧下での観察用の状態と高真空下での観察用の状態とを切替える際の操作性が非常に向上している。
 ここで図10(a)で示したように観察したい部位6aに水滴500bが付いている状態を考える。この場合は、実施例1で説明したようにカバー501では水滴を除去できないため、濾紙502を観察部位6aに接触させて水滴を除去することが考えられる。しかし、濾紙を試料に観察したい部位6aに接触させたくない場合もある。その場合、水滴を除去するために、図9の装置を用いるとよい。つまり、試料6を隔膜10の近傍にある状態で第二の空間12を真空ポンプ103で真空引きする。ここで真空引きとは1気圧より若干減圧の状態のことをいう。
 図11に、実際に水滴が蒸発する圧力と時間の関係を取得した実験例を示す。アルミ台上に水を一滴(10μL)をのせて、それがどの程度の時間で蒸発するかを室温条件で実験した結果である。1気圧(100kPa)で10μLの水滴が蒸発するのに要した時間は約120分であるが、0.3気圧(30kPa)では10μLの水滴が蒸発するのに要した時間は約20minである。このように、大気圧(1気圧)よりも減圧のほうが、水滴が蒸発する時間は短い。また、0.1気圧(10kPa)以下では水滴が急激に蒸発するか、水滴が蒸発する気化熱により凍結するなどの現象がみられる。これは室温では飽和上気圧が0.03気圧(3000Pa)程度であるため非常に早いスピードで蒸発がすすんだためである。このため、0.1気圧(10kPa)以上で水滴を蒸発させるのが望ましい。上記のように1.0気圧以下の状態にすることが可能な図9の装置を用いてカバーが搭載された状態の試料が載置された空間を真空引きすると、試料に直接接触せずに、カバー穴部に露出している試料6a表面の液滴を図10(b)で示したように除去することが可能である。
 一方で、1気圧以下の減圧下の状態では水分の蒸発スピードが速いため、試料のサイズや種類によっては試料内部の水分やカバー501下の液滴500aも無くなってしまうこともある。この状態を図10(c)に示す。この問題を解決するために、図12(a)のようにカバー501に試料6からの水分蒸発を制限させる封止部材503を設ける。封止部材503を設けると、カバー501下面にある液滴500aの蒸発が制限され、カバー501の穴部からのみ蒸発が進むため、試料6aに付着している水滴が最初に蒸発する(図12(b))。一方で、空間13は封止部材503によって空間12と直接的にはつながっていないため、蒸発速度は遅い。その結果、観察したい試料部位6aの表面に水滴がついていない状態で且つ試料6全体が乾燥や収縮しない状態で観察したい部位を観察することができる。
 この封止部材503はカバー501と試料台506とに接触または密着して、カバー本体部と試料台との間の空間を封止する。これにより試料とその周辺の水滴を内部に格納する。封止部材503は両面テープのようにカバー501と試料台506と封止部材503とが密着させることが可能な接着性の材料であってもよい。または、図13(a)に示すように、例えば接着剤のように固形化する部材を使ってもよい。または、図示されないねじやクランプなどで試料台とカバー501を固定する部位を有してもよい。図12及び図13(a)では図中試料台506の上面と封止部材503が接触しているが、図13(b)のように試料台506の側面または下面と接触させてもよい。こうすると、より空間13と空間12の隔離が可能となる。
 なお、空間12と空間13の隔離をしすぎて、空間12と空間13に圧力差が生じると、カバー501の穴部からのみ水分が蒸発することになる。その結果、観察したい部位6aの水分500bが常に残るといった問題が起こる。この空間12と空間13に圧力差が発生することを防ぐために、封止部材503には、図13(b)のように通気口507を設けてもよい。通気口507はカバー501の穴部501aよりも面積またはコンダクタンスが小さい。通気口507は複数あってもよいし、カバー501と封止部材503と試料台506との間に通気口507を設けてもよい。すなわち通気口507はカバー501と試料台506と封止部材503で囲まれた空間から、外部に連通するカバーの穴部以外の孔であればよい。
 図14のように封止部材504はカバー501よりも上側にあってもよい。ただし、この場合は、カバー501よりも上側に出ている部分が隔膜10と試料6とを接近させる時に隔膜保持部材159や土台155に接触しないことが必要である。例えば、図で示したように隔膜10を保持している隔膜保持部材159が土台155に具備されている場合、カバー501より上側に出ている部分の厚みt1は隔膜保持部材159の厚みt0よりも薄いことが必要である。
 t0≧t1  ・・・式4
 なお、カバー501は電子線の平均自由工程よりも短い厚みでできているため、カバー501が図15のように試料台506側にたわんでいてもよい(図中507部)。この場合カバー501上面が封止部504の上面と同等か上側に配置することができるので、この場合、式4を必ずしも満たす必要はない。
 図16を用いて本実施例における封止部503または504を用いる方法について説明する。初めに、試料台506に試料6を搭載する。次のステップでは、試料台506が搭載可能で光学顕微鏡402に具備される台401に試料台506を搭載する。前記二つのステップの順番は反対でも構わない。次のステップでは、光学顕微鏡に具備される高さ調整機構406を用いて光学顕微鏡402の対物レンズ412の焦点位置408を試料6の表面に合わせて観察を開始する。次のステップでは、光学顕微鏡にて観察したい試料部位6aを見つける。次のステップでは、カバー501を観察したい試料6a上に配置する。ここで必要に応じて、カバー穴501a部にある余分な液滴501bを濾紙等で除去する。次のステップでは、封止部材503または504を取り付ける。なお、封止部材503または504は最初から試料台やカバー501に取り付けられていてもかまわない。この後のステップは図7と同様である。
 なお、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。また、上記の各構成、機能、処理部、処理手段等は、それらの一部又は全部を、例えば集積回路で設計する等によりハードウェアで実現してもよい。また、上記の各構成、機能等は、プロセッサがそれぞれの機能を実現するプログラムを解釈し、実行することによりソフトウェアで実現してもよい。
 各機能を実現するプログラム、テーブル、ファイル等の情報は、メモリや、ハードディスク、SSD(Solid State Drive)等の記録装置、または、ICカード、SDカード、光ディスク等の記録媒体に置くことができる。
 また、制御線や情報線は説明上必要と考えられるものを示しており、製品上必ずしも全ての制御線や情報線を示しているとは限らない。実際には殆ど全ての構成が相互に接続されていると考えてもよい。
1:光学レンズ、2:荷電粒子光学鏡筒、3:検出器、4:真空ポンプ、5:試料ステージ、6:試料、7:筐体、8:荷電粒子源、9:土台、10:隔膜、11:第1の空間、12:第2の空間、13:空間、14:リークバルブ、15:開放面、16:真空配管、35:コンピュータ、36:上位制御部、37:下位制御部、43,44:通信線、52:試料台、53:荷電粒子線顕微鏡、54:荷電粒子線の光軸、56:接触防止部材、60:導入ポート、61:ニードルバルブ、62:オリフィス、63:ニードルバルブ、64:バルブ、100:真空配管、101:ガス制御用バルブ、102:連結部、103:真空ポンプ、104:圧力調整弁、107:支持板、108,109:操作つまみ、121:第2筐体、122:蓋部材、123,124,126:真空封止部材、131:本体部、132:合わせ部、154:信号増幅器、155固定部材、159:隔膜保持部材、
401:位置決め構造、402:光学顕微鏡、406:光学顕微鏡位置駆動機構、407:土台、408:焦点位置、412:対物レンズ、
500:液滴、500a:カバー下の液体、501:カバー、501a:カバー穴部、501b:カバー本体部、502:濾紙、503:封止部材、504:封止部材、505:カバーと試料の接触部、506:試料台、507:たわんでいる部位、508:カバー保持用部材

Claims (18)

  1.  荷電粒子線を発生する荷電粒子光学鏡筒の内部空間から隔膜によって隔離された非真空空間に配置された試料に対して荷電粒子線を照射して観察するための観察支援ユニットであって、
     前記試料が観察される観察領域を形成する穴部と前記試料を蓋う本体部とを備え、
     当該観察支援ユニットは前記試料と前記隔膜の間であって、前記試料上に直接載置されることを特徴とする観察支援ユニット。
  2.  請求項1に記載の観察支援ユニットにおいて、
     当該観察支援ユニットは、前記隔膜と前記試料とを非接触の状態に保つことを特徴とする観察支援ユニット。
  3.  請求項1に記載の観察支援ユニットにおいて、
     前記穴部の大きさは、前記隔膜の荷電粒子線が透過する部分である窓部の大きさ以上であることを特徴とする観察支援ユニット。
  4.  請求項1に記載の観察支援ユニットにおいて、
     前記本体部の大きさは、前記隔膜を保持する隔膜保持部材の大きさより大きいことを特徴とする観察支援ユニット。
  5.  請求項1に記載の観察支援ユニットにおいて、
     前記穴部は前記隔膜を保持する隔膜保持部材の大きさより小さいことを特徴とする観察支援ユニット。
  6.  請求項1に記載の観察支援ユニットにおいて、
     前記本体部の前記穴部周囲の厚みが一定であることを特徴とする観察支援ユニット。
  7.  請求項1に記載の観察支援ユニットにおいて、
     前記本体部の前記穴部周囲の厚みが、前記荷電粒子線による観察条件における当該荷電粒子線の平均自由工程よりも小さいことを特徴とする観察支援ユニット。
  8.  請求項1に記載の観察支援ユニットにおいて、
     当該観察支援ユニットの外周部が、前記本体部の前記穴部周囲より厚いまたは硬いことを特徴とする観察支援ユニット。
  9.  請求項1に記載の観察支援ユニットにおいて、
     前記本体部と前記試料が載置される試料台との間の空間を封止する封止部材を備えることを特徴とする観察支援ユニット。
  10.  請求項9に記載の観察支援ユニットにおいて、
     前記封止部材によって封止された前記本体部と前記試料が載置される試料台との間の空間は、前記穴部より面積が小さい孔によって当該空間の外部と連通されていることを特徴とする観察支援ユニット。
  11.  請求項1に記載の観察支援ユニットにおいて、
     前記本体部の少なくとも一部は前記試料の主成分とは異なる材料からなることを特徴とする観察支援ユニット。
  12.  荷電粒子線を発生する荷電粒子光学鏡筒の内部空間から隔膜によって隔離された非真空空間に配置された試料に対して荷電粒子線を照射して観察する試料観察方法であって、
     前記試料上に、前記試料が観察される観察領域を形成する穴部と前記試料を蓋う本体部とを備えた観察支援ユニットを直接搭載するステップと、
     前記観察支援ユニットが搭載された状態の試料を前記隔膜に接近させるステップと、を有することを特徴とする試料観察方法。
  13.  請求項12に記載の試料観察方法において、
     前記隔膜と前記試料とは非接触の状態に保たれることを特徴とする試料観察方法。
  14.  請求項12に記載の試料観察方法において、
     光学顕微鏡を用いて、前記観察支援ユニットの穴部を前記試料上の観察したい部位に位置合わせするステップを有することを特徴とする試料観察方法。
  15.  請求項12に記載の試料観察方法において、
     前記穴部から露出した試料部と前記本体部の荷電粒子顕微鏡画像における明るさの違いを識別して前記試料が載置された試料ステージを移動させることによって、前記穴部を前記隔膜の直下に配置するステップを有することを特徴とする試料観察方法。
  16.  請求項12に記載の試料観察方法において、
     前記本体部と前記試料が載置される試料台との間の空間を封止することを特徴とする試料観察方法。
  17.  請求12に記載の試料観察方法において、
     前記観察支援ユニットが搭載された状態において前記穴部に露出している前記試料の表面に存在する液滴を除去することを特徴とする試料観察方法。
  18.  請求項17に記載の試料観察方法において、
     前記観察支援ユニットが搭載された状態の試料が載置された空間を真空引きすることにより、前記穴部に露出している前記試料の表面に存在する液滴を除去することを特徴とする試料観察方法。
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