WO2014087995A1 - ガラス基板の洗浄方法 - Google Patents

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WO2014087995A1
WO2014087995A1 PCT/JP2013/082468 JP2013082468W WO2014087995A1 WO 2014087995 A1 WO2014087995 A1 WO 2014087995A1 JP 2013082468 W JP2013082468 W JP 2013082468W WO 2014087995 A1 WO2014087995 A1 WO 2014087995A1
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glass substrate
cleaning composition
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青野信幸
長沼純
宮本定治
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花王株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a glass substrate cleaning method and a glass hard disk substrate manufacturing method.
  • an information recording medium substrate (hereinafter also referred to as a “hard disk substrate”) is required to have a higher level of heat resistance and surface smoothness than the current substrate. . It also has a low specific gravity to reduce the burden on the spindle motor, a high mechanical strength to prevent disk crashes, and a high fracture toughness that can withstand the impact with the head when dropped. More important.
  • Materials used for information recording medium substrates include aluminum alloys and glass. Glass is superior to aluminum alloys in that it has higher Vickers hardness and higher surface smoothness, and is currently widely used in applications where dynamic use is assumed.
  • crystallized glass As the substrate for information recording media, crystallized glass has excellent heat resistance, high impact resistance and excellent drop strength, high rigidity, and high resistance to scratches and head crashes. It has excellent characteristics such as that the substrate is difficult to bend during rotation. Because of these characteristics, the crystallized glass substrate is a promising material as an information recording medium with a high recording density.
  • JP 2010-257510 A discloses a cleaning composition for a hard disk substrate having a Ni-P layer.
  • the cleaning composition contains an amine and an alkali.
  • Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2012-107226 discloses a method for manufacturing a glass hard disk substrate.
  • the production method comprises a step of polishing a glass substrate to be polished with a polishing liquid composition having a pH of 1.0 to 4.2 containing a polyvalent amine compound having 2 to 10 nitrogen atoms in the molecule, and a pH of 8.0. Rinsing with a 13.0 detergent composition. It is disclosed that the manufacturing method suppresses the deterioration of the surface roughness in the alkali cleaning step.
  • 2009-206481 discloses a cleaning agent for electronic materials (for glass).
  • the cleaning agent contains an anionic surfactant, an organic solvent, and an alkali component.
  • an alkali component include aliphatic amines having 1 to 36 carbon atoms, inorganic alkalis, alkanolamines having 1 to 23 carbon atoms, and amidine compounds having 4 to 10 carbon atoms.
  • the glass substrate is preferably cleaned under alkaline conditions from the viewpoint of cleaning particles such as abrasive particles.
  • cleaning particles such as abrasive particles.
  • crystallized glass particularly crystallized glass for a hard disk substrate, has an amorphous part in addition to the crystal part, and is not a uniform material.
  • crystallization part and an amorphous part differs in the case of board
  • the present disclosure provides a crystallized glass that suppresses deterioration of the surface roughness of the crystallized glass substrate in alkali cleaning, particularly cleaning of particles of abrasive particles such as residual silica particles, and can further improve the cleanability.
  • a method for cleaning a substrate is provided.
  • the present invention relates to a glass substrate cleaning method including bringing a cleaning composition into contact with a glass substrate to be cleaned (hereinafter, also referred to as “glass substrate cleaning method according to the present disclosure”).
  • the cleaning composition is a cleaning composition containing an amine containing 1 to 10 nitrogen atoms and an inorganic alkali (hereinafter referred to as “the cleaning composition according to the present disclosure”).
  • the cleaning composition according to the present disclosure is a crystallized glass substrate.
  • the pH of the cleaning composition at the time of cleaning is 9.00 or more and 11.50 or less.
  • the present invention relates to a method for manufacturing a glass hard disk substrate, comprising the following steps (1) and (2).
  • the cleaning composition contains an amine containing 1 to 10 nitrogen atoms and an inorganic alkali. Content of the said amine is 5.00 mass% or more and 70.00 mass% or less with respect to the total mass of components other than water of the said cleaning composition.
  • the glass substrate to be cleaned is a crystallized glass substrate. Further, the pH of the cleaning composition at the time of cleaning is 9.00 or more and 11.50 or less.
  • crystallized glass that suppresses deterioration of the surface roughness of the crystallized glass substrate in alkali cleaning, particularly cleaning of particles of abrasive particles such as residual silica particles, and can further improve cleaning properties.
  • a method for cleaning a substrate can be provided.
  • the present disclosure includes a predetermined amine and a predetermined amount of inorganic alkali, and when the crystallized glass substrate is cleaned using a cleaning composition having a predetermined pH, the surface roughness of the crystallized glass substrate is deteriorated by the alkali cleaning. It is based on the knowledge that it can be suppressed and the cleaning performance can be improved.
  • a crystallized glass substrate has a crystal part and an amorphous part in the substrate.
  • the crystal portion tends to be less likely to be etched than the amorphous portion, and only the amorphous portion is dissolved only by ordinary alkali cleaning, and the crystal portion protrudes as a convex portion, and the surface roughness is considered to deteriorate.
  • the use at a particular pH the detergent composition containing the given amine, although the nitrogen atom of the amine is easily attached SiO 2 is an amorphous part of the main component, It is thought that it is difficult to adsorb on a crystal part mainly composed of spinel and / or garnite.
  • An amine with low etching power etches the amorphous part, and an inorganic alkali with relatively high etching power etches the crystal part with a small amount of amine adsorption, so that both the crystal part and the amorphous part are etched equally.
  • the glass substrate to be cleaned and / or the glass substrate to be polished that is the object of polishing is a crystallized glass substrate.
  • the “crystallized glass substrate” refers to a glass containing a crystal phase in glass, and in one or more embodiments that are not limited, a spinel compound and / or garnite is used as a main component of the crystal phase. This is the substrate that is being used.
  • the crystallized glass substrate is different from the amorphous glass substrate, and can be distinguished from the presence or absence of a peak derived from a crystal part by, for example, X-ray diffraction analysis.
  • Crystallized glass can be produced by, for example, heat-treating amorphous glass having a specific composition to promote crystallization, but is not limited thereto.
  • the crystallized glass substrate to be cleaned in the present disclosure is a crystallized glass substrate that has been polished, preferably a crystallized glass substrate that has been polished using silica particles. In one or some embodiment, it is a crystallized glass substrate after the grinding
  • the crystallized glass substrate to be cleaned according to the present disclosure has a crystallized glass surface in one or a plurality of embodiments, and the crystallized glass surface is polished using a polishing composition on the crystallized glass surface. It is a glass substrate.
  • the surface roughness Ra before cleaning of the crystallized glass substrate to be cleaned in the present disclosure is preferably 1.70 mm or more from the viewpoint of easy polishing operation. From the viewpoint of suppressing deterioration, it is preferably 2.50 kg or less, and more preferably 2.20 kg or less.
  • the surface roughness Ra can be measured by the method of Examples described later.
  • the cleaning composition according to the present disclosure contains an amine containing 1 to 10 nitrogen atoms and an inorganic alkali.
  • the cleaning composition according to the present disclosure is used in contact with a crystallized glass substrate to be cleaned in a method for cleaning a crystallized glass substrate, and in another aspect, polishing in a method for manufacturing a crystallized glass hard disk substrate. Used for cleaning the crystallized glass substrate after the process.
  • the pH of the cleaning composition according to the present disclosure is 9.00 or more and 11.50 or less at the time of cleaning. From the viewpoint of suppressing deterioration of the surface roughness after washing, it is preferably 11.00 or less, more preferably 10.70 or less.
  • the pH of the cleaning composition according to the present disclosure is preferably 9.50 or more, more preferably 10.00 or more, more preferably 10.50 or more, and still more preferably from the viewpoint of improving the cleaning property. It is 10.90 or more, more preferably 11.00 or more, and also 11.50 or less.
  • “at the time of cleaning” refers to a time when a cleaning process is performed in one or a plurality of embodiments.
  • a cleaning composition is manufactured as a concentrate from a viewpoint of storage and transportation, and this is often diluted at the time of use. Therefore, in the present disclosure, “during cleaning” refers to a diluted state in one or more embodiments.
  • the above pH is the pH when the cleaning composition is used at 25 ° C. and can be measured using a pH meter (Toa Denpa Kogyo Co., Ltd., HM-30G), and the electrode is immersed in the cleaning composition. It is the value after 3 minutes.
  • the amine contained in the cleaning composition according to the present disclosure contains 1 to 10 nitrogen atoms.
  • aminocarboxylic acids such as ethylenediaminetetraacetic acid are used as chelating agents and are not included in amines containing 1 to 10 nitrogen atoms.
  • the number of nitrogen atoms contained in the amine is 10 or less, preferably 8 or less, more preferably 6 or less, still more preferably 3 or less, and even more preferably 2 or less, from the viewpoint of improving detergency. It is.
  • the number of nitrogen atoms contained in the amine is 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 5 or more, and preferably 6 or less from the viewpoint of suppressing deterioration of the surface roughness after washing.
  • the number of nitrogen atoms in the amine is 1 or more and 10 or less, 2 or more and 8 or less, or both from the viewpoint of achieving both improvement of cleaning properties and suppression of deterioration of surface roughness, or 2 or more and 3 or less.
  • the molecular weight or weight average molecular weight of the amine contained in the cleaning composition according to the present disclosure is preferably 500 or less, more preferably 400 or less, still more preferably 300 or less, and even more preferably 150 or less. And preferably 50 or more, more preferably 100 or more. Further, from the viewpoint of suppressing deterioration of the surface roughness after washing, 40 or more is preferable, more preferably 50 or more, still more preferably 80 or more, still more preferably 150 or more, still more preferably 200 or more, and , Preferably 300 or less, more preferably 250 or less.
  • the amine contained in the cleaning composition may be one type or two or more types.
  • the amine may be in the form of a salt, and examples thereof include salts with inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid, organic acids, and salts with anionic surfactants.
  • the molecular weight of an amine having no molecular weight distribution may be calculated from the molecular formula.
  • a weight average molecular weight can be measured by a gel permeation chromatography (GPC) method.
  • the structure of the amine contained in the cleaning composition according to the present disclosure is a linear, branched, or cyclic structure, and the viewpoint of suppressing the deterioration of the surface roughness after cleaning and the cleaning properties From the viewpoint of improving the linearity, a linear or cyclic structure is preferable, and a linear structure is more preferable. Further, from the same viewpoint, the amine may contain a hydroxyl group.
  • amine examples include, but are not limited to, polyethylene polyamines such as ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetraamine, tetraethylenepentamine, pentaethylenehexamine; monoethanolamine, 2-[(2-aminoethyl) Amino] ethanol, 2- [methyl [2- (dimethylamino) ethyl] amino] ethanol, 2,2 '-(ethylenebisimino) bisethanol, N- (2-hydroxyethyl) -N'-(2-amino Ethyl) ethylenediamine, 2,2 ′-(2-aminoethylimino) diethanol, N1, N4-bis (hydroxyethyl) diethylenetriamine, N1, N7-bis (hydroxyethyl) diethylenetriamine, 1,3-diamino-2-propanol, etc.
  • polyethylene polyamines such as ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetraamine, tetraethylenepentamine
  • the polyethylene polyamine is preferably a compound of the following general formula (I). [In Formula (I), x, y, and z each represent an integer of 0 or more and 4 or less, and satisfy 1 ⁇ x + y + z ⁇ 4. ]
  • Examples of one or more embodiments of the general formula (I) that are not limited include ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetraamine, and tetraethylenepentamine.
  • the amine is one or more amines selected from a compound of the general formula (I), an alkanolamine, and a compound having a piperazine ring from the viewpoint of suppressing deterioration of the surface roughness after washing and improving the washability. And more preferably one or more amines selected from tetraethylenepentamine, pentaethylenehexamine, monoethanolamine, 2-[(2-aminoethyl) amino] ethanol and 1- (2-hydroxyethyl) piperazine. preferable.
  • the amine is more preferably one or more amines selected from tetraethylenepentamine, pentaethylenehexamine and 1- (2-hydroxyethyl) piperazine.
  • the amine is more preferably an amine which is at least one selected from monoethanolamine and 2-[(2-aminoethyl) amino] ethanol. 2-[(2-aminoethyl) amino Ethanol is even more preferred.
  • the content of the amine contained in the cleaning composition according to the present disclosure is 5.00% by mass or more and 70.00% by mass or less of the amine with respect to the total mass of the components other than water. From the viewpoint of suppressing the deterioration of the thickness, 8.00% by mass or more is preferable, 15.70% by mass or more is more preferable, 16.5% by mass or more is more preferable, and 50.00% by mass or less is preferable. 0.000 mass% or less is more preferable, and 20.00 mass% or less is further more preferable.
  • the content of the amine contained in the cleaning composition according to the present disclosure is preferably 8.00% by mass or more with respect to the total mass of components other than water, from the viewpoint of improving detergency, and is 15.00% by mass. The above is more preferable, and 15.70% by mass or less is preferable.
  • the said content shows the total content of all the amines, when there are multiple types of amines in a cleaning composition.
  • the inorganic alkali contained in the cleaning composition according to the present disclosure is not particularly limited, but is preferably an alkali metal hydroxide, more preferably sodium hydroxide and / or hydroxylation, from the viewpoint of improving detergency. Potassium.
  • the content of the inorganic alkali contained in the cleaning composition according to the present disclosure may be used so that the pH at the time of cleaning the crystallized glass hard disk substrate falls within the above range, but the deterioration of the surface roughness after cleaning is suppressed. Therefore, the amount of alkali metal ions contained in the cleaning composition according to the present disclosure is preferably 1.00% by mass or more. And 2.00 mass% or less is preferable, and 1.70 mass% or less is more preferable. Moreover, from a viewpoint of a washability improvement, 1.00 mass% or more is preferable, 1.50 mass% or more is more preferable, and 1.80 mass% or more is further more preferable.
  • the detergent composition according to the present disclosure may contain nonionic activators, solubilizers, anionic polymers, chelating agents, antioxidants, preservatives, and the like.
  • the cleaning composition according to the present disclosure preferably contains a nonionic active agent from the viewpoint of improving the cleaning properties of the cleaning composition.
  • a nonionic active agent contained in the cleaning composition of the present invention for example, a nonionic active agent represented by the following general formula (II) is preferable from the viewpoint of improving the cleaning properties of the cleaning composition.
  • RO- (EO) o (PO) pH (II) [In the formula (II), R is a linear or branched alkyl group having 6 to 16 carbon atoms, EO is an ethyleneoxy group, PO is a propyleneoxy group, o is EO, and p is an average of PO. The number of moles added, o is a number from 0 to 20, and p is a number from 0 to 5. ]
  • R preferably has 8 or more carbon atoms, more preferably 12 or more, and still more preferably 14 or less.
  • R is a linear or branched alkyl group, preferably a straight chain.
  • o and p are the average added moles of EO and PO, respectively. From the viewpoint of improving detergency, o is preferably a number of 5 or more, more preferably a number of 8 or more, a number of 20 or less, and more preferably 15 or less. From the viewpoint of improving detergency, p is a number of 0 or more, preferably 1 or more, more preferably 4 or less, and even more preferably 3 or less.
  • Specific examples of the compound represented by the general formula (II) include alcohols such as decanol, isodecyl alcohol, tridecyl alcohol, lauryl alcohol, and myristyl alcohol, ethyleneoxy group and / or propyleneoxy Examples include a compound having a group added, and a compound in which an ethyleneoxy group and / or a propyleneoxy group is added to lauryl alcohol and / or myristyl alcohol is preferable from the viewpoint of improving detergency.
  • the compounds represented by the general formula (II) may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the nonionic activator in the cleaning composition according to the present disclosure is 1.00% by mass or more with respect to the total mass of components other than water from the viewpoint of suppressing deterioration of the surface roughness after cleaning.
  • 3.95% by mass or more is more preferable
  • 4.20% by mass or more is more preferable
  • 5.00% by mass or less is preferable
  • 4.35% by mass or less is more preferable.
  • the content of the nonionic activator is preferably 1.00% by mass or more, more preferably 1.50% by mass or more, further preferably 3.00% by mass or more, from the viewpoint of improving detergency.
  • 0.000 mass% or less is preferable and 3.95 mass% or less is more preferable.
  • the cleaning composition according to the present disclosure includes organic sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid and dimethylbenzenesulfonic acid, 2-ethylhexanoic acid, and salts thereof from the viewpoint of improving the storage stability of the cleaning composition. It is preferable to include one or more solubilizers selected from the group consisting of: From the viewpoint of improving the storage stability of the cleaning composition, it is more preferable to include sodium p-toluenesulfonate.
  • the content of the solubilizer in the cleaning composition according to the present disclosure is 20.00% with respect to the total mass of components other than water, from the viewpoint of improving storage stability and suppressing deterioration in surface roughness after cleaning.
  • % By mass or more is preferable, 55.00% by mass or more is more preferable, 62.00% by mass or less is preferable, and 60.70% by mass or less is more preferable.
  • it is preferably 20.00% by mass or more, more preferably 50.00% by mass or more, and 62.00% by mass relative to the total mass of components other than water.
  • the following is preferable, 58.00 mass% or less is more preferable, and 55.00 mass% or less is further preferable.
  • the cleaning composition according to the present disclosure preferably contains an anionic polymer from the viewpoint of improving the cleaning property.
  • the anionic polymer include carboxylic acid polymers.
  • the carboxylic acid polymer include acrylic acid polymer, methacrylic acid polymer, maleic acid polymer, acrylic acid / methacrylic acid copolymer, acrylic acid / maleic acid copolymer, methacrylic acid / methyl acrylate.
  • An anionic polymer containing methacrylic acid or acrylic acid as a structural unit such as a copolymer of an ester, may be mentioned, but a copolymer of acrylic acid (AA) and 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid (AMPS) is preferable, A copolymer having a molar ratio of AA to AMPS of 91/9 to 95/5 is more preferable.
  • AA acrylic acid
  • AMPS 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid
  • a copolymer having a molar ratio of AA to AMPS of 91/9 to 95/5 is more preferable.
  • a part or all of the anionic moieties in the polymer may form a salt with an alkali metal. From the viewpoint of solubility in water, the anionic polymer is preferably a sodium salt.
  • the content of the anionic polymer in the cleaning composition according to the present disclosure is preferably 2.50% by mass or more with respect to the total mass of components other than water, from the viewpoint of suppressing deterioration of the surface roughness after cleaning, 6.30 mass% or more is more preferable, 6.80 weight% or more is further more preferable, 7.50 mass% or less is preferable, and 6.95 mass% or less is more preferable. Further, from the viewpoint of improving detergency, 2.50% by mass or more is preferable with respect to the total mass of components other than water, 6.00% by mass or more is more preferable, and 7.50% by mass or less is preferable. 6.60 mass% or less is more preferable, and 6.30 mass% or less is further more preferable.
  • the cleaning composition according to the present disclosure preferably contains a chelating agent from the viewpoint of improving the cleaning properties.
  • chelating agents include aldonic acids such as gluconic acid and glucoheptonic acid; aminocarboxylic acids such as ethylenediaminetetraacetic acid; hydroxycarboxylic acids such as citric acid and malic acid; phosphonic acids such as 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid And at least one selected from the group consisting of these alkali metal salts.
  • sodium gluconate, sodium glucoheptonate, sodium ethylenediaminetetraacetate, sodium citrate, or 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid is preferable, and 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid is more preferable.
  • These chelating agents may be used alone or in admixture of two or more.
  • the content of the chelating agent in the cleaning composition according to the present disclosure is preferably 3.80% by mass or more with respect to the total mass of components other than water, from the viewpoint of suppressing deterioration of the surface roughness after cleaning, 9.50 mass% or more is more preferable, 10.20 mass% or more is further more preferable, 10.60 mass% or less is preferable, and 10.45 mass% or less is more preferable. Further, from the viewpoint of improving detergency, the amount is preferably 3.80% by mass or more, more preferably 9.20% by mass or more, and preferably 10.60% by mass or less, based on the total mass of components other than water. 10.00 mass% or less is more preferable, and 9.40 mass% or less is further more preferable.
  • the cleaning composition according to the present disclosure includes water.
  • the water is not particularly limited as long as it can serve as a solvent, and examples thereof include ultrapure water, pure water, ion-exchanged water, or distilled water. Pure water or ion exchange water is preferable, and ultrapure water is more preferable. Pure water and ultrapure water can be obtained, for example, by passing tap water through activated carbon, subjecting it to ion exchange treatment, and further distilling it, irradiating it with a predetermined ultraviolet germicidal lamp or passing it through a filter as necessary. Can do.
  • the cleaning composition may further contain an aqueous solvent (for example, alcohol such as ethanol) in addition to the above water as a solvent, but the solvent contained in the cleaning composition is preferably composed only of water. .
  • the water content of the cleaning composition is preferably 98.50% by mass or less, more preferably 99.70% by mass or less, and 98.80 from the same point of view, from the viewpoint of suppressing deterioration of the surface roughness.
  • the mass% or more is preferable, and 99.00 mass% or more is more preferable.
  • Mass ratio of amine / alkali metal ion In the present disclosure, deterioration of surface roughness can be suppressed by using an amine and an inorganic alkali, but in addition to an alkali metal derived from an inorganic alkali to be blended, it is derived from a counter ion such as a chelating agent or an anionic polymer salt. Alkali metal ions are contained and are considered to act in the same manner as inorganic alkalis. For this reason, it is preferable to specify not the ratio of amine and inorganic alkali but the amount ratio of amine and alkali metal ion for the suppression of deterioration of surface roughness and the improvement of detergency.
  • the mass ratio (amine content) / (alkali metal ion content) of amine and alkali metal ions contained in the cleaning composition according to the present disclosure is 0 from the viewpoint of suppressing deterioration of surface roughness after cleaning. .50 or more is preferable, 1.18 or more is more preferable, 1.80 or more is more preferable, 12.00 or less is preferable, 4.00 or less is more preferable, and 2.00 or less is more preferable. Further, the mass ratio of amine to alkali metal ions is preferably 0.60 or more, more preferably 0.80 or more, and preferably 12.00 or less, more preferably 1.15 or less, from the viewpoint of improving detergency.
  • the mass ratio of amine / alkali metal ion can be obtained by measuring the total amount of inorganic alkali in the cleaning composition by atomic absorption method and calculating the result.
  • the cleaning composition according to the present disclosure can be prepared by mixing each component.
  • the cleaning composition is usually produced as a concentrated liquid from the viewpoint of storage and transportation, and it is often diluted at the time of use.
  • the cleaning composition may be used as it is, or a concentrated solution of the cleaning composition may be prepared and diluted.
  • the dilution factor is not particularly limited, and can be appropriately determined according to the concentration of each component in the concentrate, the cleaning conditions, and the like.
  • the concentrate of the cleaning composition is preferably diluted to 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less.
  • the concentrated concentrate of the cleaning composition is preferably diluted to 0.005% by mass or more, more preferably diluted to 0.3% by mass or more, and diluted to 1% by mass or more. More preferably.
  • the concentrate of the cleaning composition according to the present disclosure can be prepared by mixing each component.
  • the content of each component other than water is the same as that of the cleaning composition.
  • the content of water in the concentrate of the cleaning composition is preferably 95.00% by mass or less, more preferably 90.00% by mass or less from the viewpoint of storage and transportation, and 60.00% by mass from the same viewpoint. % Or more is preferable, and 70.00 mass% or more is more preferable. Therefore, the glass substrate cleaning method according to the present disclosure includes diluting a concentrated solution of the cleaning composition in one or a plurality of embodiments.
  • the pH of the concentrate of the cleaning composition according to the present disclosure is preferably 8.80 or more, more preferably 9.00 or more, and even more preferably 10.00 or more, from the viewpoint of improving the washability after dilution. And from a viewpoint of suppressing the deterioration of the surface roughness after washing
  • the pH of the concentrate of the cleaning composition can be measured by the same method as the pH of the cleaning composition.
  • a glass substrate cleaning method is a method of polishing a crystallized glass substrate to be polished, which is crystallized glass, using the cleaning composition according to the present disclosure, and in one or a plurality of embodiments, A step of contacting the crystallized glass substrate with the cleaning composition according to the present disclosure.
  • this step (a) a method of immersing a crystallized glass substrate to be cleaned, which is crystallized glass, in the cleaning composition, and / or (b) injecting the cleaning composition And a method of supplying a cleaning composition onto the surface of a crystallized glass substrate to be cleaned which is crystallized glass.
  • the immersion condition of the crystallized glass substrate to be cleaned in the cleaning composition is not particularly limited.
  • the temperature of the cleaning composition is 20 from the viewpoint of workability and operability.
  • the immersion time is preferably 5 seconds or more, more preferably 10 seconds or more, and even more preferably 100 seconds or more, from the viewpoint of improving the cleanability by the cleaning composition. From the viewpoint of improving the production efficiency of the washed crystallized glass substrate, it is preferably 30 minutes or less, more preferably 10 minutes or less, and even more preferably 5 minutes or less.
  • ultrasonic vibration is given to the cleaning composition from the viewpoint of improving the removability of the residue and the dispersibility of the residue.
  • the ultrasonic frequency is preferably 20 to 2000 kHz, more preferably 40 to 2000 kHz, and further preferably 40 to 1500 kHz.
  • a cleaning composition to which ultrasonic vibration is applied is injected to be crystallized glass substrate to be cleaned.
  • the cleaning composition is brought into contact with the surface of the substrate to clean the surface, or the cleaning composition is supplied onto the surface of the crystallized glass substrate to be cleaned by injection, and the cleaning composition is supplied to the surface. It is preferable to clean the surface by rubbing with a cleaning brush.
  • the cleaning composition to which ultrasonic vibration is applied is supplied to the surface to be cleaned by injection, and the surface to which the cleaning composition is supplied is cleaned by rubbing with a cleaning brush. Is preferred.
  • means for supplying the cleaning composition onto the surface of the substrate to be cleaned means such as a spray nozzle can be used.
  • cleaning For example, a nylon brush, a PVA (polyvinyl alcohol) sponge brush, etc. can be used.
  • the ultrasonic frequency is the same as the value preferably employed in the method (a).
  • there is one cleaning step such as rocking cleaning, cleaning using rotation of a spinner, paddle cleaning, and the like. The above may be included.
  • the crystallized glass substrates to be cleaned may be cleaned one by one, or a plurality of crystallized glass substrates to be cleaned may be cleaned at once.
  • the number of cleaning tanks used for cleaning may be one or more.
  • a glass hard disk substrate is obtained from a process of obtaining a crystallized glass substrate by a mold glass press or a method of cutting from a sheet glass, a shape processing step, an end surface polishing step, a rough grinding step, a fine grinding step, a rough polishing step, Manufactured through a final polishing process and a chemical strengthening process.
  • the chemical strengthening step may be performed before the finish polishing step.
  • a cleaning process may be included between the processes.
  • the glass hard disk substrate becomes a magnetic hard disk through a recording portion forming process after the final cleaning process.
  • a glass hard disk substrate of crystallized glass is an object.
  • the recording part forming step is performed by forming a magnetic layer having a magnetic recording region and including a metal thin film on a glass hard disk substrate by a method such as sputtering.
  • the metal material constituting the metal thin film include a cobalt alloy that is an alloy of chromium, tantalum, platinum, or the like and cobalt, an alloy of iron and platinum, or the like.
  • the magnetic layer may be formed on both main surfaces of the glass hard disk substrate, or may be formed only on one main surface.
  • the rough polishing step and the finish polishing step are performed in this order.
  • the inorganic fine particles contained in the abrasive composition used in the rough polishing step are preferably cerium oxide particles because high-speed polishing is possible.
  • Silica particles are preferable because the inorganic fine particles contained in the abrasive composition used in the final polishing step improve surface flatness (low roughness).
  • a cleaning process using the cleaning composition (first cleaning process), a rinsing process (first rinsing process), a drying process (first drying process), a final polishing process, and a cleaning composition are used.
  • the cleaning step (second cleaning step), the rinsing step (second rinsing step), and the drying step (second drying step) can be performed in this order.
  • the glass substrate cleaning method according to the present disclosure can be applied to the first cleaning step and / or the second cleaning step. In one or more embodiments that are not limited, the glass substrate cleaning method according to the present disclosure is preferably used in the second cleaning step from the viewpoint of cleanability.
  • this indication is related with the manufacturing method of a glass hard disk board in the following (1) and (2) in one mode.
  • the substrate to be polished in the step (1) is generally a crystallized glass substrate after the fine grinding step, and is preferably a crystallized glass substrate after the rough polishing step.
  • the crystallized glass substrate is as described above.
  • the polishing liquid composition is supplied to the surface to be polished of the crystallized glass substrate, the polishing pad is brought into contact with the surface to be polished, and a predetermined pressure (load) is applied to the polishing pad or the substrate to be polished. This can be done by moving.
  • This step (1) is preferably a final polishing step using a polishing liquid composition containing silica particles from the viewpoint of improving the quality of the final substrate. In the final polishing step, it is preferable to repeatedly use the polishing composition.
  • the cleaning step (2) can be performed in the same manner as the glass substrate cleaning method according to the present disclosure described above.
  • the present disclosure relates to a method for cleaning a surface of a glass hard disk substrate.
  • a crystallized glass substrate to be cleaned that has a glass surface and has been polished on the glass surface with the abrasive composition is used with the detergent composition of the present invention.
  • a cleaning step for cleaning is included.
  • (a) a method of immersing a crystallized glass substrate to be cleaned in a cleaning composition, and / or (b) injecting the cleaning composition and crystallizing the cleaning target The method of supplying a cleaning composition on the surface of a glass substrate is mentioned. The methods (a) and (b) are as described above.
  • Cleaning-1 The cleaning tank (a) containing the cleaning composition of the present invention is set to a predetermined temperature, a non-cleaning substrate is immersed, and cleaning is performed while irradiating ultrasonic waves.
  • Rinsing-1 The rinsing tank (b) containing ultrapure water is set to a predetermined temperature, the non-cleaning substrate is transferred from the cleaning tank (a) to the rinsing tank (b) and immersed, and ultrasonic waves are applied. Rinse while irradiating.
  • Rinsing-3 The substrate to be cleaned is transferred to a rinsing tank (e) containing ultrapure water and rinsed.
  • Drying The substrate to be cleaned is transferred to a rinsing tank (f) containing warm pure water and immersed, and then the substrate to be cleaned is pulled up at a predetermined speed, and then the substrate surface is completely dried.
  • the glass substrates to be cleaned may be cleaned one by one, or a plurality of substrates to be cleaned may be cleaned at once.
  • the number of cleaning tanks used for cleaning may be one or more.
  • the present invention further relates to one or a plurality of embodiments below.
  • a method for cleaning a glass substrate Contacting the cleaning composition with a glass substrate to be cleaned,
  • the cleaning composition contains an amine containing 1 to 10 nitrogen atoms and an inorganic alkali, The content of the amine is 5.00% by mass or more and 70.00% by mass or less based on the total mass of components other than water of the cleaning composition,
  • the glass substrate to be cleaned is a crystallized glass substrate;
  • a method for cleaning a glass substrate, wherein the pH of the cleaning composition during cleaning is 9.00 or more and 11.50 or less.
  • the method for cleaning a glass substrate according to ⁇ 1>, wherein the crystallized glass substrate to be cleaned is preferably a substrate subjected to polishing using silica particles.
  • the surface roughness Ra before cleaning of the crystallized glass substrate to be cleaned is preferably 1.70 mm or more, and / or 2.50 mm or less, more preferably 2.20 mm or less, ⁇ 1> or ⁇ 1. 2> The method for cleaning a glass substrate according to item 2.
  • the pH of the cleaning composition is 9.00 or more and 11.50 or less at the time of cleaning, or preferably 11.50 or less, 11.00 or less, more preferably 10.70 or less, and / or Or 9.00 or more, 9.50 or more, preferably 10.00 or more, more preferably 10.50 or more, still more preferably 10.90 or more, and even more preferably 11.00 or more, ⁇ 1
  • ⁇ 5> The method for cleaning a glass substrate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the amine preferably does not contain an aminocarboxylic acid such as ethylenediaminetetraacetic acid.
  • the number of nitrogen atoms contained in the amine is 10 or less, preferably 8 or less, more preferably 6 or less, still more preferably 3 or less, still more preferably 2 or less, and / or Or 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 5 or more, and preferably 6 or less, and / or 2 or more, 8 or less, or 2 or more, 3 or less,
  • the molecular weight or weight average molecular weight of the amine is preferably 500 or less, more preferably 400 or less, still more preferably 300 or less, still more preferably 150 or less, and / or 50 or more, more preferably 100 or more.
  • / or 40 or more is preferable, 50 or more is more preferable, 80 or more is more preferable, 150 or more is more preferable, 200 or more is more preferable, and / or 300 or less is preferable, and 250 or less is more
  • ⁇ 8> The glass substrate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the amine is one or more selected from the group consisting of a compound of general formula (I), an alkanolamine, and a compound having a piperazine ring. Cleaning method.
  • x, y, and z each represent an integer of 0 or more and 4 or less, and satisfy 1 ⁇ x + y + z ⁇ 4.
  • the amine is selected from the group consisting of tetraethylenepentamine, pentaethylenehexamine, monoethanolamine, 2-[(2-aminoethyl) amino] ethanol and 1- (2-hydroxyethyl) piperazine.
  • the glass substrate cleaning method according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>, which is preferably a seed or more.
  • the content of the amine is 5.00% by mass or more and 70.00% by mass or less, and / or preferably 8.00% by mass or more based on the total mass of components other than water.
  • 70 mass% or more is more preferable, 16.5 mass% or more is more preferable, and / or 50.00 mass% or less is preferable, 45.00 mass% or less is more preferable, and 20.00 mass% or less is further
  • a method for cleaning a glass substrate is 5.00% by mass or more and 70.00% by mass or less, and / or preferably 8.00% by mass or more based on the total mass of components other than water.
  • 70 mass% or more is more preferable, 16.5 mass% or more is more preferable, and / or 50.00 mass% or less is preferable, 45.00 mass% or less is
  • the content of the inorganic alkali is preferably 1.00% by mass or more, and / or preferably 2.00% by mass or less, more preferably 1.70% by mass or less, as the amount of alkali metal ions. / Or 1.00 mass% or more is preferable, 1.50 mass% or more is more preferable, 1.80 mass% or more is further more preferable,
  • the cleaning composition preferably further contains a nonionic active agent, and the nonionic active agent is more preferably a nonionic active agent represented by the following general formula (II), from ⁇ 1> to ⁇
  • RO- (EO) o (PO) pH (II) [In the formula (II), R is a linear or branched alkyl group having 6 to 16 carbon atoms, o is EO, p is the average number of moles of PO added, and o is a number from 0 to 20 inclusive. , P is a number from 0 to 5. ] ⁇ 13>
  • the content of the nonionic activator is preferably 1.00% by mass or more, more preferably 3.95% by mass or more, and further more preferably 4.20% by mass or more based on the total mass of components other than water. 2.
  • the detergent composition further comprises at least one solubilization selected from the group consisting of organic sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid and dimethylbenzenesulfonic acid, 2-ethylhexanoic acid, and salts thereof.
  • the glass substrate cleaning method according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 13>, preferably including an agent.
  • the content of the solubilizer is preferably 20.00% by mass or more, preferably 55.00% by mass or more, and / or 62.00% by mass with respect to the total mass of components other than water.
  • the following is preferable, 60.70 mass% or less is more preferable, and / or 20.00 mass% or more is preferable, 50.00 mass% or more is more preferable, and / or 62.00 mass% or less is preferable,
  • the cleaning composition further comprises an anionic polymer, preferably a carboxylic acid polymer, more preferably an acrylic acid polymer, a methacrylic acid polymer, a maleic acid polymer, an acrylic acid / methacrylic acid copolymer.
  • an anionic polymer preferably a carboxylic acid polymer, more preferably an acrylic acid polymer, a methacrylic acid polymer, a maleic acid polymer, an acrylic acid / methacrylic acid copolymer.
  • Any one of ⁇ 1> to ⁇ 15>, preferably comprising a (co) polymer selected from the group consisting of a copolymer of acrylic acid / maleic acid and a copolymer of methacrylic acid / acrylic acid methyl ester A method for cleaning a glass substrate according to 1.
  • the content of the anionic polymer is preferably 2.50% by mass or more, more preferably 6.30% by mass or more, and still more preferably 6.80% by mass or more based on the total mass of components other than water. And / or 7.50% by mass or less is preferable, 6.95% by mass or less is more preferable, and / or 2.50% by mass or more is preferable, 6.00% by mass or more is more preferable, and / or. 7.
  • the glass substrate cleaning method according to ⁇ 16> preferably 7.50% by mass or less, more preferably 6.6% by mass or less, and further preferably 6.30% by mass or less.
  • the cleaning composition further comprises a chelating agent, preferably an aldonic acid such as gluconic acid or glucoheptonic acid; an aminocarboxylic acid such as ethylenediaminetetraacetic acid; a hydroxycarboxylic acid such as citric acid or malic acid; 1-hydroxy
  • a chelating agent preferably an aldonic acid such as gluconic acid or glucoheptonic acid; an aminocarboxylic acid such as ethylenediaminetetraacetic acid; a hydroxycarboxylic acid such as citric acid or malic acid; 1-hydroxy
  • the glass substrate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 17>, preferably including at least one selected from the group consisting of phosphonic acids such as ethylidene-1,1-diphosphonic acid; and alkali metal salts thereof. Cleaning method.
  • the content of the chelating agent is preferably 3.80% by mass or more, more preferably 9.50% by mass or more, and still more preferably 10.20% by mass or more based on the total mass of components other than water. And / or 10.60% by mass or less is preferable, 10.45% by mass or less is more preferable, and / or 3.80% by mass or more is preferable, 9.20% by mass or more is more preferable, and / or.
  • the method for cleaning a glass substrate according to ⁇ 18> preferably 10.60% by mass or less, more preferably 10.00% by mass or less, and further preferably 9.40% by mass or less.
  • the water content of the cleaning composition is preferably 98.50% by mass or less, more preferably 99.70% by mass or less, and / or 98.80% by mass or more, and 99.00.
  • the mass ratio (amine content) / (alkali metal ion content) of the amine and alkali metal ions in the cleaning composition is preferably 0.50 or more and 12.00 or less, and / or 0.50 or more, preferably 1.18 or more, more preferably 1.80 or more, and / or 12.00 or less, more preferably 4.00 or less, and even more preferably 2.00 or less.
  • the glass substrate cleaning method according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 22>, wherein the glass substrate to be cleaned is preferably a glass substrate for a glass hard disk substrate.
  • the cleaning composition contains an amine containing 1 to 10 nitrogen atoms and an inorganic alkali, The content of the amine is 5.00% by mass or more and 70.00% by mass or less with respect to the total mass of components other than water of the cleaning composition,
  • the glass substrate to be polished is a crystallized glass substrate,
  • the pH of the cleaning composition at the time of cleaning is 9.00 or more and 11.50 or less, Manufacturing method of glass hard disk substrate.
  • the present invention further relates to one or more of the following embodiments.
  • ⁇ A1> The following steps (1) and (2); (1) A step of polishing a glass substrate to be polished using the polishing composition, and (2) cleaning the substrate obtained in step (1) with a cleaning composition,
  • the cleaning composition contains an amine containing 1 to 10 nitrogen atoms and an inorganic alkali, The content of the amine is 5.0% by mass or more and 70.0% by mass or less based on the total mass of components other than water of the cleaning composition,
  • the glass substrate to be polished is a crystallized glass substrate, The washing is performed at a pH of 9.0 to 11.5. Manufacturing method of glass hard disk substrate.
  • ⁇ A2> The method for producing a glass substrate according to ⁇ A1>, wherein the polishing liquid composition is a polishing liquid composition containing silica particles.
  • the cleaning composition contains an alkali metal derived from an inorganic alkali, ⁇ A1> or ⁇ A2> in which the mass ratio of amine to alkali metal ion (amine content) / (alkali metal ion content) in the cleaning composition is 0.5 or more and 12.0 or less.
  • ⁇ A4> The glass hard disk according to any one of ⁇ A1> to ⁇ A3>, wherein the amine is one or more selected from the group consisting of a compound of general formula (I), an alkanolamine, and a compound having a piperazine ring.
  • a method for manufacturing a substrate [In Formula (I), x, y, and z each represent an integer of 0 or more and 4 or less, and satisfy 1 ⁇ x + y + z ⁇ 4.
  • the amine is selected from the group consisting of tetraethylenepentamine, pentaethylenehexamine, monoethanolamine, 2-[(2-aminoethyl) amino] ethanol and 1- (2-hydroxyethyl) piperazine.
  • ⁇ A6> The method for producing a glass hard disk substrate according to any one of ⁇ A1> to ⁇ A5>, wherein the cleaning composition further contains a nonionic activator represented by the following general formula (II).
  • RO- (EO) o (PO) pH (II) [In the formula (II), R is a linear or branched alkyl group having 6 to 16 carbon atoms, o is EO, p is the average number of moles of PO added, and o is a number from 0 to 20 inclusive. , P is a number from 0 to 5. ]
  • ⁇ A7> The method for producing a glass hard disk substrate according to ⁇ A6>, wherein the content of the nonionic activator is 1.0% by mass or more and 5.0% by mass or less with respect to the total mass of components other than water.
  • the detergent composition further comprises at least one solubilization selected from the group consisting of organic sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid and dimethylbenzenesulfonic acid, 2-ethylhexanoic acid, and salts thereof.
  • organic sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid and dimethylbenzenesulfonic acid, 2-ethylhexanoic acid, and salts thereof.
  • ⁇ A9> The method for producing a glass hard disk substrate according to ⁇ A8>, wherein the content of the solubilizer is 20.0 mass% or more and 62.0 mass% or less with respect to the total mass of components other than water.
  • ⁇ A10> The method for producing a glass hard disk substrate according to any one of ⁇ A1> to ⁇ A9>, wherein the cleaning composition further contains an anionic polymer.
  • ⁇ A11> The method for producing a glass hard disk substrate according to ⁇ A10>, wherein the content of the anionic polymer is 2.5% by mass to 7.5% by mass with respect to the total mass of components other than water.
  • ⁇ A12> The method for producing a glass hard disk substrate according to any one of ⁇ A1> to ⁇ A11>, wherein the cleaning composition further contains a chelating agent.
  • ⁇ A13> The method for producing a glass hard disk substrate according to ⁇ A12>, wherein the content of the chelating agent is 3.8% by mass or more and 10.6% by mass or less based on the total mass of components other than water.
  • ⁇ A14> The method according to any one of ⁇ A1> to ⁇ A13>, comprising diluting a concentrated solution of the cleaning composition having a water content of 60.0% by mass or more and 95.0% by mass or less.
  • ⁇ A15> The following steps (1) and (2); (1) A step of polishing a glass substrate to be polished using the polishing composition, and (2) cleaning the substrate obtained in step (1) with a cleaning composition,
  • the cleaning composition contains an amine containing 1 to 10 nitrogen atoms and an inorganic alkali, The content of the amine is 5.0% by mass or more and 70.0% by mass or less based on the total mass of components other than water of the cleaning composition,
  • the glass substrate to be polished is a crystallized glass substrate, The pH of the cleaning composition at the time of cleaning is 9.0 or more and 11.5 or less, Manufacturing method of glass hard disk substrate.
  • a glass substrate cleaning method comprising: Contacting the cleaning composition with a glass substrate to be cleaned,
  • the cleaning composition contains an amine containing 1 to 10 nitrogen atoms and an inorganic alkali,
  • the content of the amine is 5.0% by mass or more and 70.0% by mass or less based on the total mass of components other than water of the cleaning composition,
  • the glass substrate to be cleaned is a crystallized glass substrate;
  • the pH of the cleaning composition at the time of cleaning is 9.0 or more and 11.5 or less,
  • ⁇ A17> The method for cleaning a glass substrate according to ⁇ A16>, wherein the crystallized glass substrate to be cleaned is a substrate subjected to polishing using silica particles.
  • the cleaning composition contains an alkali metal derived from an inorganic alkali, ⁇ A16> or ⁇ A17> in which the mass ratio (amine content) / (alkali metal ion content) of the amine and alkali metal ions in the cleaning composition is 0.5 or more and 12.0 or less.
  • ⁇ A19> The glass substrate according to any one of ⁇ A16> to ⁇ A18>, wherein the amine is one or more selected from the group consisting of a compound of general formula (I), an alkanolamine, and a compound having a piperazine ring. Cleaning method.
  • x, y, and z each represent an integer of 0 or more and 4 or less, and satisfy 1 ⁇ x + y + z ⁇ 4.
  • ⁇ A20> The method according to any one of ⁇ A16> to ⁇ A19>, comprising diluting a concentrated solution of the cleaning composition having a water content of 60.0% by mass or more and 95.0% by mass or less.
  • ⁇ A21> The glass substrate cleaning method according to any one of ⁇ A16> to ⁇ A20>, wherein the glass substrate to be cleaned is a glass substrate for a glass hard disk substrate.
  • the present invention further relates to one or more of the following embodiments.
  • ⁇ B1> Use of a cleaning composition in a method for cleaning a glass substrate including bringing a cleaning composition into contact with a glass substrate to be cleaned,
  • the cleaning composition contains an amine containing 1 to 10 nitrogen atoms and an inorganic alkali,
  • the content of the amine is 5.0% by mass or more and 70.0% by mass or less based on the total mass of components other than water of the cleaning composition
  • the glass substrate to be cleaned is a crystallized glass substrate;
  • Use of a cleaning composition wherein the pH of the cleaning composition during cleaning is 9.0 or more and 11.5 or less.
  • ⁇ B2> Use of the cleaning composition according to ⁇ B1>, wherein the crystallized glass substrate to be cleaned is a substrate subjected to polishing using silica particles.
  • the cleaning composition contains an alkali metal derived from an inorganic alkali, ⁇ B1> or ⁇ B2> in which the mass ratio (amine content) / (alkali metal ion content) of the amine and alkali metal ions in the cleaning composition is 0.5 or more and 12.0 or less. Use of the described cleaning composition.
  • ⁇ B4> The cleaning agent according to any one of ⁇ B1> to ⁇ B2>, wherein the amine is one or more selected from the group consisting of a compound of general formula (I), an alkanolamine, and a compound having a piperazine ring.
  • the composition [In Formula (I), x, y, and z each represent an integer of 0 or more and 4 or less, and satisfy 1 ⁇ x + y + z ⁇ 4. ]
  • ⁇ B5> Any one of ⁇ B1> to ⁇ B4>, wherein the glass substrate cleaning method includes diluting a concentrated solution of the cleaning composition having a water content of 60% by mass to 95% by mass. Use of the cleaning composition described in 1.
  • ⁇ B6> Use of the cleaning composition according to any one of ⁇ B1> to ⁇ B5>, further comprising a nonionic activator represented by the following general formula (II).
  • a nonionic activator represented by the following general formula (II).
  • RO- (EO) o (PO) pH (II) [In the formula (II), R is a linear or branched alkyl group having 6 to 16 carbon atoms, o is EO, p is the average number of moles of PO added, and o is a number from 0 to 20 inclusive. , P is a number from 0 to 5.
  • ⁇ B7> Use of the detergent composition according to ⁇ B6>, wherein the content of the nonionic activator is 1.0% by mass or more and 5.0% by mass or less with respect to the total mass of components other than water.
  • ⁇ B8> Furthermore, it contains at least one solubilizer selected from the group consisting of organic sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid and dimethylbenzenesulfonic acid, 2-ethylhexanoic acid, and salts thereof, ⁇ B1> To ⁇ B7>.
  • ⁇ B9> Use of the detergent composition according to ⁇ B8>, wherein the content of the solubilizer is 20.0 mass% or more and 62.0 mass% or less with respect to the total mass of components other than water.
  • ⁇ B10> Use of the cleaning composition according to any one of ⁇ B1> to ⁇ B9>, further comprising an anionic polymer.
  • ⁇ B11> Use of the detergent composition according to ⁇ B10>, wherein the content of the anionic polymer is 2.5% by mass to 7.5% by mass with respect to the total mass of components other than water.
  • ⁇ B12> Use of the cleaning composition according to any one of ⁇ B1> to ⁇ B11>, further comprising a chelating agent.
  • ⁇ B13> Use of the detergent composition according to ⁇ B12>, wherein the content of the chelating agent is 3.8% by mass or more and 10.6% by mass or less based on the total mass of components other than water.
  • ⁇ B14> Use of the cleaning composition according to any one of ⁇ B1> to ⁇ B13> in a method for producing a glass hard disk substrate including the following steps (1) and (2). (1) A step of polishing a glass substrate to be polished using the polishing composition, and (2) The process of wash
  • the present invention further relates to one or more of the following embodiments.
  • ⁇ C1> A method for cleaning a glass substrate, Contacting the cleaning composition with a glass substrate to be cleaned,
  • the cleaning composition contains an amine containing 1 to 10 nitrogen atoms and an inorganic alkali,
  • the content of the amine is 5.0% by mass or more and 70.0% by mass or less based on the total mass of components other than water of the cleaning composition,
  • the glass substrate to be cleaned is a crystallized glass substrate;
  • a method for cleaning a glass substrate, wherein the pH of the cleaning composition at the time of cleaning is from 9.0 to 11.5.
  • ⁇ C2> The method for cleaning a glass substrate according to ⁇ C1>, wherein the crystallized glass substrate to be cleaned is preferably a substrate subjected to polishing using silica particles.
  • the surface roughness Ra before cleaning of the crystallized glass substrate to be cleaned is preferably 1.7 mm or more, and / or 2.5 mm or less, more preferably 2.2 mm or less, ⁇ C1> or ⁇ C A method for cleaning a glass substrate according to C2>.
  • ⁇ C4> The pH of the cleaning composition is 9.0 or more and 11.5 or less at the time of cleaning, or 11.5 or less, preferably 11.0 or less, more preferably 10.7 or less, and / or Or, 9.0 or more, 9.5 or more are preferable, 10.0 or more are more preferable, 10.5 or more are more preferable, 10.9 or more are further more preferable, 11.0 or more are more preferable, ⁇ C1 > To ⁇ C3>.
  • ⁇ C5> The method for cleaning a glass substrate according to any one of ⁇ C1> to ⁇ C4>, wherein the amine preferably contains no aminocarboxylic acids such as ethylenediaminetetraacetic acid.
  • the number of nitrogen atoms contained in the amine is 10 or less, preferably 8 or less, more preferably 6 or less, still more preferably 3 or less, still more preferably 2 or less, and / or Or 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 5 or more, and preferably 6 or less, and / or 2 or more, 8 or less, or 2 or more, 3 or less,
  • the glass substrate cleaning method according to any one of ⁇ C1> to ⁇ C5>.
  • the molecular weight or weight average molecular weight of the amine is preferably 500 or less, more preferably 400 or less, still more preferably 300 or less, still more preferably 150 or less, and / or 50 or more, more preferably 100 or more.
  • ⁇ C1> to ⁇ C6> Preferably, and / or 40 or more is preferable, 50 or more is more preferable, 80 or more is more preferable, 150 or more is more preferable, 200 or more is more preferable, and / or 300 or less is preferable, and 250 or less is more
  • ⁇ C8> The glass substrate according to any one of ⁇ C1> to ⁇ C7>, wherein the amine is one or more selected from the group consisting of a compound having the general formula (I), an alkanolamine, and a compound having a piperazine ring. Cleaning method.
  • x, y, and z each represent an integer of 0 or more and 4 or less, and satisfy 1 ⁇ x + y + z ⁇ 4.
  • the amine is selected from the group consisting of tetraethylenepentamine, pentaethylenehexamine, monoethanolamine, 2-[(2-aminoethyl) amino] ethanol and 1- (2-hydroxyethyl) piperazine.
  • the glass substrate cleaning method according to any one of ⁇ C1> to ⁇ C8>, which is preferably a seed or more.
  • the content of the amine is 5.0% by mass or more and 70.0% by mass or less with respect to the total mass of components other than water, and / or 8.0% by mass or more is preferable, and 15 0.7% by mass or more is more preferable, 16.5% by mass or more is more preferable, and / or 50.0% by mass or less is preferable, 45.0% by mass or less is more preferable, and 20.0% by mass or less is further more preferable.
  • the content of the inorganic alkali is preferably 1.0% by mass or more, and / or preferably 2.0% by mass or less, and more preferably 1.7% by mass or less, as the amount of alkali metal ions. / Or 1.0 mass% or more is preferable, 1.5 mass% or more is more preferable, 1.8 mass% or more is further more preferable,
  • the cleaning method of the glass substrate in any one of ⁇ C1> to ⁇ C10> is further more preferable.
  • the cleaning composition preferably further contains a nonionic active agent, and the nonionic active agent is more preferably a nonionic active agent represented by the following general formula (II), from ⁇ C1> to ⁇ C1>
  • RO- (EO) o (PO) pH (II) [In the formula (II), R is a linear or branched alkyl group having 6 to 16 carbon atoms, o is EO, p is the average number of moles of PO added, and o is a number from 0 to 20 inclusive. , P is a number from 0 to 5.
  • the content of the nonionic activator is preferably 1.0% by mass or more, more preferably 3.95% by mass or more, and further more preferably 4.2% by mass or more based on the total mass of components other than water.
  • the detergent composition further comprises at least one solubilization selected from the group consisting of organic sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid and dimethylbenzenesulfonic acid, 2-ethylhexanoic acid, and salts thereof.
  • the glass substrate cleaning method according to any one of ⁇ C1> to ⁇ C13>, preferably including an agent.
  • the content of the solubilizer is preferably 20.0% by mass or more, preferably 55.0% by mass or more, and / or 62.0% by mass with respect to the total mass of components other than water.
  • the cleaning composition further comprises an anionic polymer, preferably a carboxylic acid polymer, more preferably an acrylic acid polymer, a methacrylic acid polymer, a maleic acid polymer, an acrylic acid / methacrylic acid copolymer.
  • any one of ⁇ C1> to ⁇ C15> preferably comprising a (co) polymer selected from the group consisting of a copolymer of acrylic acid / maleic acid and a copolymer of methacrylic acid / acrylic acid methyl ester A method for cleaning a glass substrate according to 1.
  • the content of the anionic polymer is preferably 2.5% by mass or more, more preferably 6.3% by mass or more, further preferably 6.8% by weight or more based on the total mass of components other than water.
  • / or 7.5 mass% or less is preferable, 6.95 mass% or less is more preferable, and / or 2.5 mass% or more is preferable, 6.0 mass% or more is more preferable, and / or 7.5% by mass or less is preferable, 6.6% by mass or less is more preferable, and 6.3% by mass or less is more preferable, and the method for cleaning a glass substrate according to ⁇ C16>.
  • the cleaning composition further comprises a chelating agent, preferably an aldonic acid such as gluconic acid or glucoheptonic acid; an aminocarboxylic acid such as ethylenediaminetetraacetic acid; a hydroxycarboxylic acid such as citric acid or malic acid; 1-hydroxy
  • a chelating agent preferably an aldonic acid such as gluconic acid or glucoheptonic acid; an aminocarboxylic acid such as ethylenediaminetetraacetic acid; a hydroxycarboxylic acid such as citric acid or malic acid; 1-hydroxy
  • the glass substrate according to any one of ⁇ C1> to ⁇ C17>, preferably including at least one selected from the group consisting of phosphonic acids such as ethylidene-1,1-diphosphonic acid; and alkali metal salts thereof. Cleaning method.
  • the content of the chelating agent is preferably 3.8% by mass or more, more preferably 9.5% by mass or more, and still more preferably 10.2% by mass or more based on the total mass of components other than water. And / or 10.6% by mass or less is preferable, 10.45% by mass or less is more preferable, and / or 3.8% by mass or more is preferable, 9.2% by mass or more is more preferable, and / or.
  • the method for cleaning a glass substrate according to ⁇ C18> preferably 10.6% by mass or less, more preferably 10.0% by mass or less, and further preferably 9.4% by mass or less.
  • the content of water in the cleaning composition is preferably 98.5% by mass or less, more preferably 99.7% by mass or less, and / or 98.8% by mass or more, preferably 99.0%.
  • the mass ratio (amine content) / (alkali metal ion content) of the amine and alkali metal ions in the cleaning composition is preferably 0.5 or more and 12.0 or less, and / or.
  • the method includes diluting the concentrate of the cleaning composition, and the water content of the concentrate is preferably 95.0% by mass or less, more preferably 90.0% by mass or less, and / or 60.0 mass% or more is preferable, and 70.0 mass% or more is more preferable,
  • ⁇ C23> The glass substrate cleaning method according to any one of ⁇ C1> to ⁇ C22>, wherein the glass substrate to be cleaned is preferably a glass substrate for a glass hard disk substrate.
  • ⁇ C24> The following steps (1) and (2); (1) A step of polishing a glass substrate to be polished using the polishing composition, and (2) cleaning the substrate obtained in step (1) with a cleaning composition,
  • the cleaning composition contains an amine containing 1 to 10 nitrogen atoms and an inorganic alkali, The content of the amine is 5.0% by mass or more and 70.0% by mass or less based on the total mass of components other than water of the cleaning composition,
  • the glass substrate to be polished is a crystallized glass substrate, The pH of the cleaning composition at the time of cleaning is 9.0 or more and 11.5 or less, Manufacturing method of glass hard disk substrate.
  • ⁇ C25> The method for producing a glass hard disk substrate according to ⁇ C24>, wherein the cleaning in the step (2) is performed by the glass substrate cleaning method according to any one of ⁇ C1> to ⁇ C23>.
  • [Preparation of detergent composition concentrate] Concentration of the cleaning composition of Example 1-12, Comparative Example 1-7, and Reference Example 1-2 by blending and mixing each component in mass% so as to have the composition described in Table 1 below. A liquid was obtained.
  • Table 1 shows the mass% with respect to the whole mass including water, and the lower stage shows the mass% with respect to the whole mass of components other than water.
  • the pH is the pH of the cleaning composition at 25 ° C. and can be measured using a pH meter (HM-30G, manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd.) 3 minutes after immersion of the electrode in the cleaning composition It is a numerical value.
  • pH indicates the pH of the concentrate of the detergent composition prepared in the upper part
  • the lower part indicates the pH at the time of cleaning (a detergent composition diluted 3% of the concentrate in the upper part).
  • the amount of alkali metal ions in the detergent composition was determined by determining the total amount of sodium ions and potassium ions by atomic absorption method, and setting the amount of alkali metal ions.
  • the measurement conditions are shown below.
  • [Pretreatment and measurement of sample] A sample 0.1 g is precisely weighed in a quartz crucible, dry ashing is performed, and hydrochloric acid is dissolved to make up to 50 ml. A 25-fold diluted sample was used as a measurement sample and measured with an atomic absorption device (VARIAN SpectrAA 220 Atomic Absorption Spectrometer).
  • [Anionic polymer] Aqueous solution of sodium salt of copolymer of acrylic acid / 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid (92/8 (molar ratio)) (weight average molecular weight 12,000) (solid content 40% by weight)
  • [Chelating agent] 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid (manufactured by Solusia, solid content 60% by weight)
  • Solubilizer Aqueous solution of sodium p-toluenesulfonate (manufactured by Meitomo Sangyo Co., Ltd., solid content 90% by weight)
  • polishing test method for glass substrates for hard disks By performing polishing using a polishing slurry (abrasive composition) having the following composition, a substrate to be cleaned contaminated with abrasive particles derived from the polishing slurry and polishing scraps derived from the substrate material was prepared. The cleaning property of the cleaning composition was evaluated using the substrate to be cleaned.
  • a polishing slurry abrasive composition having the following composition
  • Example 1-12 and Comparative Example 1-7 As an evaluation substrate of Example 1-12 and Comparative Example 1-7, a crystallized glass substrate (outer diameter: 65 mm ⁇ , inner diameter: 20 mm ⁇ , thickness: 0.635 mm) was prepared. On the other hand, an amorphous glass substrate (outer diameter: 65 mm ⁇ , inner diameter: 20 mm ⁇ , thickness: 0.635 mm) was prepared as an evaluation substrate of Reference Example 1-2.
  • Polishing machine Double-sided 9B polishing machine (manufactured by Hamai Sangyo Co., Ltd.)
  • Polishing pad Suede pad polishing agent for finish polishing manufactured by FILWEL Co., Ltd .: Colloidal silica slurry (number average particle size of colloidal silica particles 24 nm, concentration of colloidal silica particles: 8 wt%, medium: water, manufactured by Kao Corporation)
  • Pre-polishing load 40 g / cm 2 , time 60 seconds, polishing liquid flow rate 100 mL / min
  • Main polishing load 100 g / cm 2 , time 1200 seconds, polishing liquid flow rate 100 mL / min
  • Water rinse load 40 g / cm 2 , time 60 seconds , Rinse water flow rate about 2L / min
  • Cleaning-1 A cleaning composition was prepared by diluting 450 g of the concentrated concentrate of the cleaning composition with ultrapure water to 15000 g (3% by mass dilution). This cleaning composition was placed in the cleaning tank (a). The liquid temperature in the washing tank (a) was set to 40 ° C. The substrate to be cleaned was immersed in the cleaning tank (a) and cleaned for 120 seconds while being irradiated with ultrasonic waves (40 kHz).
  • Rinsing-1 The rinsing tank (b) containing ultrapure water is set to 40 ° C., the substrate to be cleaned is transferred from the cleaning tank (a) to the rinsing tank (b), and immersed in ultrasonic waves (40 kHz ) And rinsed for 120 seconds.
  • Cleaning-2 The substrate to be cleaned is transferred from the rinsing tank to the scrub cleaning unit (A) on which the cleaning brush is set, and the cleaning composition at 25 ° C.
  • Rinse-2 Move the substrate to be cleaned to the scrub cleaning unit (B), inject ultra-pure water at 25 ° C., and push the cleaning brush on both sides of the substrate while rotating at 400 rpm as in (4). Rinsing was carried out at 25 ° C. for 5 seconds.
  • (6) Using the scrub cleaning unit (C) prepared under the same conditions as the scrub cleaning unit (A) and the scrub cleaning unit (D) prepared under the same conditions as the scrub cleaning unit (B), again (4) And (5) were repeated.
  • Rinsing-3 The substrate to be cleaned was transferred to a rinsing tank (e) containing ultrapure water and rinsed at 25 ° C. for 600 seconds.
  • Drying The substrate to be cleaned is transferred to a rinsing tank (f) containing warm pure water, immersed for 60 seconds, and then the substrate to be cleaned is pulled up at a speed of 90 mm / min when the substrate is pulled out of water into the air. Thereafter, the substrate surface was completely dried.
  • Ultrapure water was produced using a continuous pure water production apparatus (Pure Conti PC-2000VR-L type) and a subsystem (Mac Ace KC-05H type) manufactured by Kurita Kogyo Co., Ltd.
  • the Si emission intensity was measured using an ICP emission analyzer (manufactured by Perkin Elmer, Optima 5300), and the Si concentration in the test solution was quantified.
  • Examples 1 to 12 showed excellent cleaning properties while suppressing the deterioration of the surface roughness after cleaning as compared with Comparative Examples 1 to 7.
  • Comparative Examples 1 to 7 it can be seen that the amorphous glass substrate does not exhibit the effect of suppressing the deterioration of the surface roughness even when the same amine as in Example 1 is blended.

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Abstract

　アルカリ洗浄におけるガラス基板の表面粗さの悪化を抑制し、さらに洗浄性を向上できるガラス基板の洗浄方法の提供。一又は複数の実施形態において、被洗浄ガラス基板に洗浄剤組成物を接触させることを含み、前記洗浄剤組成物が、窒素原子を１個以上１０個以下含むアミンと、無機アルカリとを含有し、前記アミンの含有量が、前記洗浄剤組成物の水以外の成分の合計質量に対して５．００質量％以上７０．００質量％以下であり、前記被洗浄ガラス基板が結晶化ガラス基板であり、洗浄時の洗浄剤組成物のｐＨが９．００以上１１．５０以下である、ガラス基板の洗浄方法に関する。

Description

ガラス基板の洗浄方法
　本発明は、ガラス基板の洗浄方法、及び、ガラスハードディスク基板の製造方法に関する。
　近年、パーソナルコンピュータや各種電子デバイスにおいては動画や音声等の大きなデータが扱われるようになり、大容量の情報記録装置が必要となっている。その結果、情報気記録媒体は年々高記録密度化の要求が高まっている。これに対応するべく、ハードディスクでは、垂直磁気記録方式の採用、量産化が進められている。この垂直磁気記録方式においては、情報記録媒体用基板（以下、「ハードディスク基板」ともいう）は、現在の基板と比較して基板の耐熱性、表面の平滑性がより高いレベルで求められている。また、スピンドルモーターへの負担を軽減するための低比重化と、ディスクのクラッシュを防止するための高い機械的強度、落下時のヘッドとの衝撃に耐えうる高い破壊靱性を有することが現在にもまして重要になっている。
　情報記録媒体用基板に用いられる材料としてはアルミ合金、ガラスなどがある。ガラスはアルミ合金よりもビッカース硬度が高い、表面平滑性が高い等の点で優位であり、動的な使用が想定される用途において現在多く使用されている。
　そして、情報記録媒体用基板としてのガラスの中で結晶化ガラスは、耐熱性に優れる点、耐衝撃特性が高く落下強度に優れる点、高剛性により傷が付きにくくヘッドクラッシュがおきにくい点、高回転時に基板がたわみにくい点などの優れた特性がある。このような特性のため、結晶化ガラス基板は、高記録密度化の情報気記録媒体として有望な材料である。
　特開２００７－２２３８８４号公報には、研磨後の表面粗度をＲａ１、研磨加工後の酸洗浄及び／又はアルカリ洗浄による表面粗度をＲａ２としたとき、表面粗度変化率（｜Ｒａ２－Ｒａ１｜／Ｒａ１）の値が０．６２未満である無機組成物が開示されている。そして、無機組成物は結晶化ガラスであり、磁気ディスク製造用の基板として用いることが開示されている。実施例では、フッ酸による洗浄が示されている。
　また、特開２０１０－２５７５１０号公報には、Ｎｉ－Ｐ層を有するハードディスク基板用の洗浄剤組成物が開示される。該洗浄剤組成物は、アミンとアルカリを含有する。特開２０１２－１０７２２６号公報には、ガラスハードディスク基板の製造方法が開示される。該製造方法は、分子内に窒素原子を２～１０個有する多価アミン化合物を含有するｐＨ１．０～４．２の研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程とｐＨ８．０～１３．０の洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程を含む。該製造方法ではアルカリ洗浄工程での表面粗さの悪化が抑制されることが開示される。特開２００９－２０６４８１号公報には、電子材料用（ガラス用）洗浄剤が開示される。該洗浄剤は、アニオン性界面活性剤と、有機溶剤と、アルカリ成分とを含有する。該洗浄剤によれば、表面の平坦性を損ねることなく、優れたパーティクル除去性を実現できることが開示される。該アルカリ成分として、炭素数１～３６の脂肪族アミン、無機アルカリ、炭素数１～２３のアルカノールアミン及び炭素数４～１０のアミジン化合物が挙げられている。
　ガラス基板の洗浄は、研磨粒子等のパーティクルの洗浄の観点から、アルカリ条件で洗浄をすることが望ましい。しかしながら、アルカリ条件でガラス基板を洗浄すると、ガラス基板の表面がエッチングされ表面の平滑性が低下するという問題点がある。さらに、結晶化ガラス、とりわけ、ハードディスク基板用の結晶化ガラスは、結晶部分以外にもアモルファス部分が存在し、均一な素材ではない。このため、基板洗浄の際、結晶部分とアモルファス部分のアルカリで洗浄される際のエッチング性（溶解性）が異なるため、表面粗さを悪化させずに洗浄することがいっそう難しい。
　そこで、本開示は、一態様において、アルカリ洗浄、特に残存するシリカ粒子等の研磨粒子のパーティクルの洗浄における結晶化ガラス基板の表面粗さの悪化を抑制し、さらに洗浄性を向上できる結晶化ガラス基板の洗浄方法を提供する。
　本発明は、一態様において、被洗浄ガラス基板に洗浄剤組成物を接触させることを含む、ガラス基板の洗浄方法に関する（以下、「本開示にかかるガラス基板の洗浄方法」ともいう）。該態様において、前記洗浄剤組成物は、窒素原子を１個以上１０個以下含むアミンと、無機アルカリとを含有する洗浄剤組成物である（以下、「本開示にかかる洗浄剤組成物」ともいう）。前記アミンの含有量は、前記洗浄剤組成物の水以外の成分の合計質量に対して５．００質量％以上７０．００質量％以下である。前記被洗浄ガラス基板は、結晶化ガラス基板である。また、洗浄時の洗浄剤組成物のｐＨは、９．００以上１１．５０以下である。
　本発明は、その他の態様において、以下の工程（１）及び（２）をガラスハードディスク基板の製造方法に関する。
（１）研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程。
（２）工程（１）で得られた基板を洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程。
該態様において、前記洗浄剤組成物は、窒素原子を１個以上１０個以下含むアミンと、無機アルカリとを含有する。前記アミンの含有量は、前記洗浄剤組成物の水以外の成分の合計質量に対して５．００質量％以上７０．００質量％以下である。前記被洗浄ガラス基板は、結晶化ガラス基板である。また、洗浄時の洗浄剤組成物のｐＨは、９．００以上１１．５０以下である。
　本開示によれば、一態様において、アルカリ洗浄、特に残存するシリカ粒子等の研磨粒子のパーティクルの洗浄における結晶化ガラス基板の表面粗さの悪化を抑制し、さらに洗浄性を向上できる結晶化ガラス基板の洗浄方法を提供できる。
　本開示は、所定のアミンと所定量の無機アルカリを含み、所定のｐＨの洗浄剤組成物を使用して結晶化ガラス基板を洗浄すると、アルカリ洗浄による結晶化ガラス基板の表面粗さの悪化を抑制し、さらに洗浄性を向上できるという知見に基づく。
　本開示にかかるガラス基板の洗浄方法がアルカリ洗浄による結晶化ガラス基板の表面粗さの悪化を抑制しさらに洗浄性を向上できる理由の詳細は明らかではないが以下のように推定される。結晶化ガラス基板は基板中に結晶部分とアモルファス部分が存在している。アルカリ洗浄において、結晶部分は、アモルファス部分よりもエッチングされ難い傾向を示し、通常のアルカリ洗浄のみではアモルファス部分のみ溶解され、結晶部分が凸部として突出し、表面粗さが悪化すると考えられる。一方、本開示にかかるガラス基板の洗浄方法では、所定のアミンを含む洗浄剤組成物を特定のｐＨで用いることにより、アミンの窒素原子がＳｉＯ2が主成分のアモルファス部に結合しやすいが、スピネル及び／又はガーナイト等が主成分である結晶部には吸着しにくいと考えられる。そして、エッチング力の低いアミンがアモルファス部分をエッチングし、相対的にエッチング力の高い無機アルカリがアミンの吸着量の少ない結晶部分をエッチングすることにより、結晶部分とアモルファス部分の両方が同等にエッチングされるために表面粗さの悪化を抑制できるとともに洗浄性を向上できると推測される。窒素原子が多すぎるアミンはアモルファス部分へのエッチング力はさらに弱くなり、表面粗さの悪化を抑制する効果が劣ると考えられる。但し、本発明は、これらのメカニズムに限定して解釈されない。
　［結晶化ガラス基板］
　本開示において洗浄の対象である被洗浄ガラス基板、及び/又は、研磨の対象である被研磨ガラス基板は、結晶化ガラス基板である。本開示において「結晶化ガラス基板」とは、ガラス中に結晶相を含んだガラスのことで、限定されない一又は複数の実施形態において、結晶相の主成分としてスピネル系化合物及び／又はガーナイトが用いられている基板をいう。結晶化ガラス基板は、アモルファスガラス基板とは異なるものであり、例えば、Ｘ線回析分析による、結晶部由来のピークの有無から区別できる。結晶化ガラスは、例えば、特定組成のアモルファスガラスを熱処理して結晶化を促進して製造することができるが、これらに限定されない。
　本開示における被洗浄結晶化ガラス基板は、一又は複数の実施形態において、研磨が施された結晶化ガラス基板、好ましくはシリカ粒子を用いた研磨が施された結晶化ガラス基板であり、その他の一又は複数の実施形態において、ガラスハードディスク基板（ハードディスク用ガラス基板）の製造方法における研磨工程後の結晶化ガラス基板である。また、本開示における被洗浄結晶化ガラス基板は、一又は複数の実施形態において、結晶化ガラス表面を有し当該結晶化ガラス表面に対して研磨組成物を用いた研磨が施された被洗浄結晶化ガラス基板である。
　本開示における被洗浄結晶化ガラス基板の洗浄前の表面粗さＲａは、一又は複数の実施形態において、研磨操作の容易性の観点から、１．７０Å以上が好ましく、洗浄後の表面粗さの悪化を抑制する観点から、２．５０Å以下が好ましく、２．２０Å以下がより好ましい。表面粗さＲａは後述の実施例の方法により測定できる。
　［洗浄剤組成物］
　本開示にかかる洗浄剤組成物は、一態様において、窒素原子を１個以上１０個以下含むアミンと、無機アルカリとを含有する。本開示にかかる洗浄剤組成物は、一態様において、結晶化ガラス基板の洗浄方法において被洗浄結晶化ガラス基板に接触させて使用され、その他の態様において、結晶化ガラスハードディスク基板の製造方法における研磨工程後の結晶化ガラス基板の洗浄に使用される。
　［洗浄剤組成物のｐＨ］
　本開示にかかる洗浄剤組成物のｐＨは、洗浄時において、９．００以上で１１．５０以下である。洗浄後の表面粗さの悪化を抑制する観点から、好ましくは１１．００以下、より好ましくは１０．７０以下である。本開示にかかる洗浄剤組成物のｐＨは、洗浄性を向上する観点から、洗浄時において好ましくは９．５０以上、より好ましくは１０．００以上、さらに好ましくは１０．５０以上、よりさらに好ましくは１０．９０以上、よりさらに好ましくは１１．００以上であり、そしてまた、１１．５０以下である。本開示において「洗浄時」とは、一又は複数の実施形態において、洗浄工程を行うときをいう。また、洗浄剤組成物は、貯蔵及び輸送の観点から、濃縮液として製造され、これを使用時に希釈する場合が多い。よって、本開示において「洗浄時」とは一又は複数の実施形態において、希釈された状態をいう。なお、上記のｐＨは、２５℃における洗浄剤組成物の使用時のｐＨであり、ｐＨメータ（東亜電波工業株式会社、ＨＭ－３０Ｇ）を用いて測定でき、電極の洗浄剤組成物への浸漬後３分後の数値である。
　［アミン］
　本開示にかかる洗浄剤組成物に含まれるアミンは、一態様において、窒素原子を１個以上１０個以下含む。ただし、エチレンジアミン四酢酸などのアミノカルボン酸類はキレート剤とし、窒素原子１個以上１０個以下を含むアミンには含まないとする。アミンに含まれる窒素原子の数は、洗浄性向上の観点から、１０個以下であり、好ましくは８個以下、より好ましくは６個以下、さらに好ましくは３個以下、よりさらに好ましくは２個以下である。アミンに含まれる窒素原子の数は、洗浄後の表面粗さの悪化を抑制する観点から、１個以上であり、好ましくは２個以上、より好ましくは５個以上、そして、好ましくは６個以下である。また、アミンの窒素原子の数は、一又は複数の実施形態において、洗浄性向上と表面粗さの悪化の抑制を両立する観点から、１個以上１０個以下、２個以上８個以下、又は２個以上３個以下である。
　本開示にかかる洗浄剤組成物に含まれるアミンの分子量又は重量平均分子量は、洗浄性向上の観点から、５００以下が好ましく、より好ましくは４００以下、さらに好ましくは３００以下、よりさらに好ましくは１５０以下であり、そして、好ましくは５０以上、より好ましくは１００以上である。また、洗浄後の表面粗さの悪化を抑制する観点から、４０以上が好ましく、より好ましくは５０以上、さらに好ましくは８０以上、よりさらに好ましくは１５０以上、よりさらに好ましくは２００以上であり、そして、好ましくは３００以下、より好ましくは２５０以下である。洗浄剤組成物に含有されるアミンは、一種類でもよく、二種類以上でもよい。また、前記アミンは、塩の形態であってもよく、例えば、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸、有機酸等との塩、アニオン性界面活性剤との塩が挙げられる。
　本開示におけるアミンは、分子量分布を持たないアミンは分子式より分子量を計算すればよい。また、分子量分布を持つアミンについては、重量平均分子量をゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定することができる。
　本開示にかかる洗浄剤組成物に含まれるアミンの構造は、一又は複数の実施形態において、直鎖、分岐、環状の構造であり、洗浄後の表面粗さの悪化を抑制する観点及び洗浄性を向上する観点から、直鎖又は環状の構造が好ましく、直鎖構造がより好ましい。さらに、同様の観点から前記アミンには水酸基が含まれてもよい。
　前記アミンの具体例としては、これらに限定されないが、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、テトラエチレンペンタアミン、ペンタエチレンヘキサアミンなどのポリエチレンポリアミン；　モノエタノールアミン、２‐［（２‐アミノエチル）アミノ］エタノール、２‐［メチル［２‐（ジメチルアミノ）エチル］アミノ］エタノール、２，２′‐（エチレンビスイミノ）ビスエタノール、Ｎ‐（２‐ヒドロキシエチル）‐Ｎ′‐（２‐アミノエチル）エチレンジアミン、２，２′‐（２‐アミノエチルイミノ）ジエタノール、Ｎ１，Ｎ４‐ビス（ヒドロキシエチル）ジエチレントリアミン、Ｎ１，Ｎ７‐ビス（ヒドロキシエチル）ジエチレントリアミン、１，３‐ジアミノ‐２‐プロパノールなどのアルカノールアミン；及び、　ピペラジン、１‐メチルピペラジン、３‐（１‐ピペラジニル）‐１‐プロパンアミン、１‐（２‐アミノエチル）ピペラジン、４‐メチルピペラジン‐１‐アミン、１‐ピペラジンメタンアミン、４‐エチル‐１‐ピペラジンアミン、１‐メチル‐４‐（２‐アミノエチル）ピペラジン、１‐（２‐ヒドロキシエチル）ピペラジンなどのピペラジン環を有する化合物等が挙げられる。ポリエチレンポリアミンは、下記一般式（Ｉ）の化合物が好ましい。
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 ［式（Ｉ）において、ｘ、ｙ及びｚはそれぞれ０以上４以下の整数を示し、１≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦４を満たす。］
　一般式（Ｉ）の限定されない一又は複数の実施形態として、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、テトラエチレンペンタアミンが挙げられる。
　前記アミンは、洗浄後の表面粗さの悪化を抑制する観点及び洗浄性を向上する観点から、一般式（Ｉ）の化合物、アルカノールアミン及びピペラジン環を有する化合物から選ばれる１種以上であるアミンが好ましく、テトラエチレンペンタアミン、ペンタエチレンヘキサアミン、モノエタノールアミン、２‐［（２‐アミノエチル）アミノ］エタノール及び１－（２－ヒドロキシエチル）ピペラジンから選ばれる１種以上であるアミンがより好ましい。また、洗浄後の表面粗さの悪化を抑制する観点から、アミンはテトラエチレンペンタアミン、ペンタエチレンヘキサアミン及び１－（２－ヒドロキシエチル）ピペラジンから選ばれる１種以上であるアミンがさらに好ましい。洗浄性を向上する観点から、アミンは、モノエタノールアミン及び２‐［（２‐アミノエチル）アミノ］エタノールから選ばれる１種以上であるアミンがさらに好ましく、２‐［（２‐アミノエチル）アミノ］エタノールがよりさらに好ましい。
　本開示にかかる洗浄剤組成物に含まれるアミンの含有量は、水以外の成分の合計質量に対して、アミンが５．００質量％以上７０．００質量％以下であり、洗浄後の表面粗さの悪化を抑制する観点から、８．００質量％以上が好ましく、１５．７０質量％以上がより好ましく、１６．５質量％以上がさらに好ましく、そして、５０．００質量％以下が好ましく、４５．００質量％以下がより好ましく、２０．００質量％以下がさらに好ましい。また、本開示にかかる洗浄剤組成物に含まれるアミンの含有量は、洗浄性向上の観点から、水以外の成分の合計質量に対して８．００質量％以上が好ましく、１５．００質量％以上がより好ましく、そして、１５．７０質量％以下が好ましい。なお、前記含有量は、洗浄剤組成物中のアミンが複数種類の場合、全アミンの合計含有量を示す。
　［無機アルカリ］
　本開示にかかる洗浄剤組成物に含まれる無機アルカリは、一態様において、特に制限されないが、洗浄性向上の観点から、アルカリ金属水酸化物が好ましく、より好ましくは水酸化ナトリウム及び/又は水酸化カリウムである。
　本開示にかかる洗浄剤組成物に含まれる無機アルカリの含有量は、結晶化ガラスハードディスク基板の洗浄時のｐＨが前記範囲になるように用いればよいが、洗浄後の表面粗さの悪化を抑制する観点から、本開示にかかる洗浄剤組成物に含まれるアルカリ金属イオン量として、１．００質量％以上が好ましい。そして、２．００質量％以下が好ましく、１．７０質量％以下がより好ましい。また、洗浄性向上の観点から、１．００質量％以上が好ましく、１．５０質量％以上がより好ましく、１．８０質量％以上がよりさらに好ましい。
　［任意成分］
　本開示にかかる洗浄剤組成物には、アミンと無機アルカリ以外に、ノニオン活性剤、可溶化剤、アニオンポリマー、キレート剤、酸化防止剤、防腐剤等が含まれてもよい。
　［ノニオン活性剤］
　本開示にかかる洗浄剤組成物には、洗浄剤組成物の洗浄性の向上の観点から、ノニオン活性剤を含むことが好ましい。本発明の洗浄剤組成物に含まれる、ノニオン活性剤としては、例えば、下記の一般式（ＩＩ）で表されるノニオン活性剤が、洗浄剤組成物の洗浄性の向上の観点から好ましい。
R-O-(EO)o(PO)p-H　　　　　　　　　　　　　　（ＩＩ）
[式（ＩＩ）において、Ｒは炭素数６以上１６以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、ＥＯはエチレンオキシ基であり、ＰＯはプロピレンオキシ基であり、ｏはＥＯ、ｐはＰＯの平均付加モル数であり、ｏは０以上２０以下の数であり、ｐは０以上５以下の数である。]
　前記一般式（ＩＩ）中、Ｒは、炭素数８個以上が好ましく、１２個以上がより好ましく、１４個以下がさらに好ましい。またＲは、直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、直鎖が好ましい。ｏ及びｐは、それぞれＥＯ及びＰＯの平均付加モル数である。洗浄性向上の観点からｏは５以上の数が好ましく、８以上の数がより好ましく、そして２０以下の数が好ましく、１５以下がより好ましい。洗浄性向上の観点からｐは０以上の数であり、１以上の数が好ましく、そして４以下の数が好ましく、３以下の数がより好ましい。
　一般式（ＩＩ）で示される化合物としては、具体的には、デカノール、イソデシルアルコール、トリデシルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール等のアルコール類、これらのアルコール類にエチレンオキシ基及び／又はプロピレンオキシ基が付加した化合物等が挙げられ、洗浄性向上の観点からラウリルアルコール及び／又はミリスチルアルコールにエチレンオキシ基及び／又はプロピレンオキシ基が付加した化合物が好ましい。一般式（ＩＩ）で示される化合物は、単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いても良い。
　本開示にかかる洗浄剤組成物における前記ノニオン活性剤の含有量は、洗浄後の表面粗さの悪化を抑制する観点から、水以外の成分の合計質量に対して、１．００質量％以上が好ましく、３．９５質量％以上がより好ましく、４．２０質量％以上がさらに好ましく、そして、５．００質量％以下が好ましく、４．３５質量％以下がより好ましい。また、前記ノニオン活性剤の含有量は、洗浄性向上の観点から、１．００質量％以上が好ましく、１．５０質量％以上がより好ましく、３．００質量％以上がさらに好ましく、そして、５．００質量％以下が好ましく、３．９５質量％以下がより好ましい。
　［可溶化剤］
　本開示にかかる洗浄剤組成物には、洗浄剤組成物の保存安定性向上の観点から、p-トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸などの有機スルホン酸、２-エチルヘキサン酸、及びこれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の可溶化剤を含むことが好ましい。洗浄剤組成物の保存安定性向上の観点から、p-トルエンスルホン酸ナトリウムを含むことがより好ましい。
　本開示にかかる洗浄剤組成物における可溶化剤の含有量は、保存安定性向上と洗浄後の表面粗さの悪化を抑制する観点から、水以外の成分の合計質量に対して、２０．００質量％以上が好ましく、５５．００質量％以上がより好ましく、そして、６２．００質量％以下が好ましく、６０．７０質量％以下がより好ましい。また、保存安定性向上と洗浄性向上の観点から、水以外の成分の合計質量に対して、２０．００質量％以上が好ましく、５０．００質量％以上がより好ましく、そして６２．００質量％以下が好ましく、５８．００質量％以下がより好ましく、５５．００質量％以下がさらに好ましい。
　[アニオンポリマー]
　本開示にかかる洗浄剤組成物は、洗浄性向上の観点から、アニオンポリマーを含むことが好ましい。アニオンポリマーとしては例えば、カルボン酸系重合体が挙げられる。前記カルボン酸系重合体としては、アクリル酸重合体、メタクリル酸重合体、マレイン酸重合体、アクリル酸／メタクリル酸の共重合体、アクリル酸／マレイン酸の共重合体、メタクリル酸／アクリル酸メチルエステルの共重合体などのメタクリル酸又はアクリル酸を構成単位に含むアニオンポリマーが挙げられるが、アクリル酸（ＡＡ）と２―アクリルアミド―２―メチルプロパンスルホン酸（ＡＭＰＳ）の共重合体が好ましく、ＡＡとＡＭＰＳのモル比が９１／９～９５／５である共重合体がより好ましい。アニオンポリマーは、ポリマー中の一部又は全部のアニオン部分が、アルカリ金属と塩を形成しても良い。水への溶解性の観点からアニオンポリマーはナトリウム塩が好ましい。
　本開示にかかる洗浄剤組成物におけるアニオンポリマーの含有量は、洗浄後の表面粗さの悪化を抑制する観点から、水以外の成分の合計質量に対して、２．５０質量％以上が好ましく、６．３０質量％以上がより好ましく、６．８０重量％以上がさらに好ましく、そして、７．５０質量％以下が好ましく、６．９５質量％以下がより好ましい。また、洗浄性向上の観点から、水以外の成分の合計質量に対して、２．５０質量％以上が好ましく、６．００質量％以上がより好ましく、そして、７．５０質量％以下が好ましく、６．６０質量％以下がより好ましく、６．３０質量％以下がさらに好ましい。
　[キレート剤]
　本開示にかかる洗浄剤組成物は、洗浄性の向上の観点から、キレート剤を含むことが好ましい。キレート剤としては、グルコン酸、グルコヘプトン酸などのアルドン酸類；エチレンジアミン四酢酸などのアミノカルボン酸類；クエン酸、リンゴ酸などのヒドロキシカルボン酸類；１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸などのホスホン酸類；及びこれらのアルカリ金属塩からなる群から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。これらの中でも、グルコン酸ナトリウム、グルコヘプトン酸ナトリウム、エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、クエン酸ナトリウム、又は１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸が好ましく、１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸がより好ましい。これらのキレート剤は、単独で又は２種以上を混合して用いてもよい。
　本開示にかかる洗浄剤組成物におけるキレート剤の含有量は、洗浄後の表面粗さの悪化を抑制する観点から、水以外の成分の合計質量に対して、３．８０質量％以上が好ましく、９．５０質量％以上がより好ましく、１０．２０質量％以上がさらに好ましく、そして、１０．６０質量％以下が好ましく、１０．４５質量％以下がより好ましい。また、洗浄性向上の観点から、水以外の成分の合計質量に対して、３．８０質量％以上が好ましく、９．２０質量％以上がより好ましく、そして、１０．６０質量％以下が好ましく、１０．００質量％以下がより好ましく、９．４０質量％以下がさらに好ましい。
　［水］
　本開示にかかる洗浄剤組成物は、水を含む。前記水は、溶媒としての役割を果たすことができるものであれば特に制限はなく、例えば、超純水、純水、イオン交換水、又は蒸留水等を挙げることができるが、超純水、純水、又はイオン交換水が好ましく、超純水がより好ましい。尚、純水及び超純水は、例えば、水道水を活性炭に通し、イオン交換処理し、さらに蒸留したものを、必要に応じて所定の紫外線殺菌灯を照射、又はフィルターに通すことにより得ることができる。尚、洗浄剤組成物は、溶媒として上記水に加えて水系溶媒（例えば、エタノール等のアルコール）をさらに含んでいてもよいが、洗浄剤組成物に含まれる溶媒は水のみからなることが好ましい。
　洗浄剤組成物の水の含有量は、表面粗さの悪化を抑制する観点から、９８．５０質量％以下が好ましく、９９．７０質量％以下がより好ましく、そして、同様の観点から９８．８０質量％以上が好ましく、９９．００質量％以上がより好ましい。
　［アミン／アルカリ金属イオンの質量比］
　本開示ではアミンと無機アルカリを用いることで表面粗さの悪化を抑制することができるが、配合する無機アルカリに由来するアルカリ金属以外に、キレート剤やアニオンポリマーの塩等の対イオンに由来するアルカリ金属イオンが含まれ、無機アルカリと同様に作用すると考えられる。このため、表面粗さの悪化の抑制と洗浄性の向上に対しては、アミンと無機アルカリの比率ではなく、アミンとアルカリ金属イオンの量比を特定することが好ましい。本開示にかかる洗浄剤組成物に含まれるアミンとアルカリ金属イオンの質量比（アミンの含有量）／（アルカリ金属イオンの含有量）は、洗浄後の表面粗さの悪化を抑制する観点から０．５０以上が好ましく、１．１８以上がより好ましく、１．８０以上がさらに好ましい、そして、１２．００以下が好ましく、４．００以下がより好ましく、２．００以下がさらに好ましい。また、アミンとアルカリ金属イオンの質量比は、洗浄性向上の観点から０．６０以上が好ましく、０．８０以上がより好ましい、そして、１２．００以下が好ましく、１．１５以下がより好ましい。アミン／アルカリ金属イオンの質量比は、洗浄剤組成物中の無機アルカリ総量を原子吸光法で測定し、その結果から算出して得ることができる。
　［洗浄剤組成物の調製方法］
　本開示にかかる洗浄剤組成物は、各成分を混合することにより、調製することができる。洗浄剤組成物は、貯蔵及び輸送の観点から、通常、濃縮液として製造され、これを使用時に希釈する場合が多い。洗浄剤組成物は、そのまま使用してもよいし、洗浄剤組成物の濃縮液を調整し希釈して使用してもよい。洗浄剤組成物の濃縮液を希釈する場合、その希釈倍率は、特に制限されず、前記濃縮液における各成分の濃度や洗浄条件等に応じて適宜決定できる。洗浄後の表面粗さの悪化を抑制する観点から、洗浄剤組成物の濃縮液を１０質量％以下に希釈することが好ましく、５質量％以下に希釈することがより好ましい。また、洗浄性の観点から、洗浄剤組成物の濃縮液を０．００５質量％以上に希釈することが好ましく、０．３質量％以上に希釈することがより好ましく、１質量％以上に希釈することがさらに好ましい。
　［洗浄剤組成物の濃縮液］
　本開示にかかる洗浄剤組成物の濃縮液は、各成分を混合することにより調製することができる。水以外の各成分の含有量は洗浄剤組成物と同様である。洗浄剤組成物の濃縮液の水の含有量は、貯蔵及び輸送の観点から、９５．００質量％以下が好ましく、９０．００質量％以下がより好ましく、そして、同様の観点から６０．００質量％以上が好ましく、７０．００質量％以上がより好ましい。したがって、本開示にかかるガラス基板の洗浄方法は、一又は複数の実施形態において、前記洗浄剤組成物の濃縮液を希釈することを含む。
　本開示にかかる洗浄剤組成物の濃縮液のｐＨは、希釈後の洗浄性の向上の観点から８．８０以上が好ましく、９．００以上がより好ましく、１０．００以上がさらに好ましい。そして、洗浄後の表面粗さの悪化を抑制する観点から１２．５０以下が好ましく、１２．００以下がより好ましく、１１．００以下がさらに好ましい。洗浄剤組成物の濃縮液のｐＨは、洗浄剤組成物のｐＨと同様の方法で測定することができる。
　［ガラス基板の洗浄方法］
　本開示にかかるガラス基板の洗浄方法は、本開示にかかる洗浄剤組成物を用いて結晶化ガラスである被研磨結晶化ガラス基板を研磨する方法であり、一又複数の実施形態において、被洗浄結晶化ガラス基板に本開示にかかる洗浄剤組成物を接触させる工程を含む。この工程の一又複数の実施形態として、（ａ）結晶化ガラスである被洗浄結晶化ガラス基板を洗浄剤組成物に浸漬する方法、及び／又は、（ｂ）洗浄剤組成物を射出して、結晶化ガラスである被洗浄結晶化ガラス基板の表面上に洗浄剤組成物を供給する方法が挙げられる。
　前記方法（ａ）において、被洗浄結晶化ガラス基板の洗浄剤組成物への浸漬条件としては、特に制限はないが、例えば、洗浄剤組成物の温度は、作業性及び操業性の観点から２０～１００℃が好ましく、浸漬時間は、洗浄剤組成物による洗浄性の向上の観点から５秒以上が好ましく、１０秒以上がより好ましく、１００秒以上がさらに好ましい。洗浄された結晶化ガラス基板の生産効率の向上の観点から３０分以下が好ましく、１０分以下がより好ましく、５分以下がさらに好ましい。また、残留物の除去性及び残留物の分散性を高める観点から、洗浄剤組成物には超音波振動が付与されていると好ましい。超音波の周波数としては、２０～２０００ｋＨｚが好ましく、４０～２０００ｋＨｚがより好ましく、４０～１５００ｋＨｚがさらに好ましい。
　前記方法（ｂ）では、研磨粒子等の残留物の洗浄性や油分の溶解性を促進させる観点から、超音波振動が与えられている洗浄剤組成物を射出して、被洗浄結晶化ガラス基板の表面に洗浄剤組成物を接触させて当該表面を洗浄するか、又は、洗浄剤組成物を被洗浄結晶化ガラス基板の表面上に射出により供給し、洗浄剤組成物が供給された当該表面を洗浄用ブラシでこすることにより洗浄することが好ましい。さらには、超音波振動が与えられている洗浄剤組成物を射出により洗浄対象の表面に供給し、かつ、洗浄剤組成物が供給された当該表面を洗浄用ブラシでこすることにより洗浄することが好ましい。
　洗浄剤組成物を被洗浄基板の表面上に供給する手段としては、スプレーノズル等の手段を用いることができる。また、洗浄用ブラシとしては、特に制限はなく、例えばナイロンブラシやＰＶＡ（ポリビニルアルコール）スポンジブラシ等を使用することができる。超音波の周波数としては、前記方法（ａ）で好ましく採用される値と同様である。
　さらにその他の一又は複数の実施形態において、前記方法（ａ）及び／又は前記方法（ｂ）に加えて、揺動洗浄、スピンナー等の回転を利用した洗浄、パドル洗浄等の洗浄工程を１つ以上含んでもよい。
　本開示にかかるガラス基板の洗浄方法では、被洗浄結晶化ガラス基板を一枚ずつ洗浄してもよいが、複数枚の洗浄すべき被洗浄結晶化ガラス基板を一度にまとめて洗浄してもよい。また、洗浄の際に用いる洗浄槽の数は１つでも複数でも良い。
　[ガラスハードディスク基板の製造方法]
　一般に、ガラスハードディスク基板は、溶融ガラスの型枠プレス又はシートガラスから切り出す方法によって結晶化ガラス基材を得る工程から、形状加工工程、端面研磨工程、粗研削工程、精研削工程、粗研磨工程、仕上げ研磨工程、化学強化工程を経て製造される。化学強化工程は仕上げ研磨工程の前に施しても良い。また各工程の間には洗浄工程が含まれることがある。ガラスハードディスク基板は、最終の洗浄工程の後に記録部形成工程を経ることで磁気ハードディスクとなる。本発明では結晶化ガラスのガラスハードディスク基板が対象となる。
　記録部形成工程は、一又は複数の実施形態において、ガラスハードディスク基板上にスパッタ等の方法により磁気記録領域を有し金属薄膜を含む磁性層が形成することにより行われる。前記金属薄膜を構成する金属材料としては、例えば、クロム、タンタル、又は白金等とコバルトとの合金である、コバルト合金や、鉄と白金などとの合金等が挙げられる。尚、磁性層は、ガラスハードディスク基板の両主面側に形成されてもよいし、一方の主面側にのみ形成されてもよい。
　前記粗研磨工程と前記仕上げ研磨工程は、この順で行われる。前記粗研磨工程の際に用いられる研磨剤組成物に含まれる無機微粒子は、高速研磨が可能であるという理由から、酸化セリウム粒子が好ましい。前記仕上げ研磨工程の際に用いられる研磨剤組成物に含まれる無機微粒子は、表面の平坦性（低粗さ）を向上させるという理由から、シリカ粒子が好ましい。
　粗研磨工程の後、洗浄剤組成物を用いた洗浄工程（第１洗浄工程）、すすぎ工程（第１すすぎ工程）、乾燥工程（第１乾燥工程）、仕上げ研磨工程、洗浄剤組成物を用いた洗浄工程（第２洗浄工程）、すすぎ工程（第２すすぎ工程）、及び乾燥工程（第２乾燥工程）がこの順で行うことができる。本開示にかかるガラス基板の洗浄方法は、前記第１洗浄工程及び/又は前記第２洗浄工程に適用することができる。限定されない一又は複数の実施形態において、本開示にかかるガラス基板の洗浄方法は、洗浄性の観点から第２洗浄工程に用いることが好ましい。
　したがって、本開示は、一態様において、以下の（１）及び（２）をガラスハードディスク基板の製造方法に関する。
（１）研磨液組成物を用いて被研磨結晶化ガラス基板を研磨する工程。
（２）工程（１）で得られた基板を、本開示にかかる洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程。
　前記工程（１）における被研磨基板は、一般に前記精研削工程を経た後の結晶化ガラス基板であり、粗研磨工程を経た後の結晶化ガラス基板であることが好ましい。結晶化ガラス基板については、上述のとおりである。工程（１）は、結晶化ガラス基板の研磨対象面に研磨液組成物を供給し、前記研磨対象面に研磨パッドを接触させ、所定の圧力（荷重）をかけながら、研磨パッドや被研磨基板を動かすこと等によって行うことができる。この工程（１）は、最終の基板の品質を向上させる観点から、シリカ粒子を含む研磨液組成物を用いた仕上げ研磨工程であることが好ましい。また、仕上げ研磨工程においては、研磨液組成物を繰り返し使用することが好ましい。
　前記工程（２）の洗浄工程は、上述した本開示にかかるガラス基板の洗浄方法と同様に行うことができる。
　[ガラスハードディスク基板表面の洗浄方法]
　本開示は、その他の一態様において、ガラスハードディスク基板表面の洗浄方法に関する。その一又は複数の実施形態において、ガラス表面を有し当該ガラス表面に対して研磨剤組成物を用いた研磨が施された被洗浄結晶化ガラス基板を、本発明の洗浄剤組成物を用いて洗浄する洗浄工程を含む。この工程の一又複数の実施形態として、（ａ）被洗浄結晶化ガラス基板を洗浄剤組成物に浸漬する方法、及び／又は、（ｂ）洗浄剤組成物を射出して、被洗浄結晶化ガラス基板の表面上に洗浄剤組成物を供給する方法が挙げられる。方法（ａ）及び（ｂ）については、上述のとおりである。
　以下に、ガラスハードディスク基板表面の洗浄方法の工程の限定されない一又は複数の実施形態を示す。
（１）洗浄-1：本発明の洗浄剤組成物を入れた洗浄槽(ａ)を所定の温度に設定し、非洗浄基板を浸漬し、超音波を照射しながら洗浄する。
（２）すすぎ-1：超純水を入れたすすぎ槽(ｂ）を所定の温度に設定し、非洗浄基板を洗浄槽(ａ)からすすぎ槽(ｂ）に移して浸漬し、超音波を照射しながらすすぎをする。
（３）本開示にかかる洗浄剤組成物を入れた洗浄槽（ｃ）、超純水を入れたすすぎ槽(ｄ）を使用して再度（１）と（２）を繰り返す。
（４）洗浄－２：すすぎ槽内から被洗浄基板を、洗浄ブラシがセットされたスクラブ洗浄ユニット（Ａ）に移し、洗浄ブラシに本発明の洗浄剤組成物を射出し、該洗浄剤組成物の存在下で洗浄ブラシを該基板の両面に回転させながら押し当てることにより、洗浄する。
（５）すすぎ－２：スクラブ洗浄ユニット（Ｂ）に被洗浄基板を移し、超純水を射出し、洗浄ブラシを該基板の両面に（４）と同様に回転させながら押し当てることにより、すすぎをする。
（６）スクラブ洗浄ユニット（Ａ）と同様の条件で準備したスクラブ洗浄ユニット（Ｃ）、スクラブ洗浄ユニット（Ｂ）と同様の条件で準備したスクラブ洗浄ユニット（Ｄ）を使用して再度（４）と（５）を繰り返す。
（７）すすぎ－３: 被洗浄基板を、超純水を入れたすすぎ槽(ｅ)に移し、すすぎをする。
（８）乾燥：被洗浄基板を、温純水を入れたすすぎ槽（ｆ）に移し、浸漬した後、所定の速度で被洗浄基板を引き上げた後、完全に基板表面を乾燥させる。
　本開示にかかる被洗浄ガラス基板表面の洗浄方法では、被洗浄ガラス基板を一枚ずつ洗浄してもよいが、複数枚の洗浄すべき被洗浄基板を一度にまとめて洗浄してもよい。また、洗浄の際に用いる洗浄槽の数は１つでも複数でも良い。
　本発明はさらに以下の一又は複数の実施形態に関する。
＜１＞　ガラス基板の洗浄方法であって、
被洗浄ガラス基板に洗浄剤組成物を接触させることを含み、
前記洗浄剤組成物が、窒素原子を１個以上１０個以下含むアミンと、無機アルカリとを含有し、
前記アミンの含有量が、前記洗浄剤組成物の水以外の成分の合計質量に対して５．００質量％以上７０．００質量％以下であり、
前記被洗浄ガラス基板が結晶化ガラス基板であり、
洗浄時の洗浄剤組成物のｐＨが９．００以上１１．５０以下である、ガラス基板の洗浄方法。
＜２＞　前記被洗浄結晶化ガラス基板が、シリカ粒子を用いた研磨が施された基板が好ましい、＜１＞記載のガラス基板の洗浄方法。
＜３＞　被洗浄結晶化ガラス基板の洗浄前の表面粗さＲａが、１．７０Å以上が好ましく、及び／又は、２．５０Å以下が好ましく、２．２０Å以下がより好ましい、＜１＞又は＜２＞記載のガラス基板の洗浄方法。
＜４＞　前記洗浄剤組成物のｐＨが、洗浄時において９．００以上１１．５０以下であり、或いは、１１．５０以下、１１．００以下が好ましく、１０．７０以下がより好ましく、及び／又は、９．００以上、９．５０以上が好ましく、１０．００以上がより好ましく、１０．５０以上がさらに好ましく、１０．９０以上がよりさらに好ましく、１１．００以上がよりさらに好ましい、＜１＞から＜３＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜５＞　前記アミンには、エチレンジアミン四酢酸などのアミノカルボン酸類が含まれないことが好ましい、＜１＞から＜４＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜６＞　前記アミンに含まれる窒素原子の数が、１０個以下、好ましくは８個以下、より好ましくは６個以下、さらに好ましくは３個以下、よりさらに好ましくは２個以下であり、及び／又は、１個以上、好ましくは２個以上、より好ましくは５個以上、そして、好ましくは６個以下であり、及び／又は、２個以上８個以下、又は２個以上３個以下である、＜１＞から＜５＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜７＞　前記アミンの分子量又は重量平均分子量が、５００以下が好ましく、４００以下がより好ましく、３００以下がさらに好ましく、１５０以下がよりさらに好ましく、及び／又は、５０以上が好ましく、１００以上がより好ましく、及び／又は、４０以上が好ましく、５０以上がより好ましく、８０以上がさらに好ましく、１５０以上がよりさらに好ましく、２００以上がよりさらに好ましく、及び／又は、３００以下が好ましく、２５０以下がより好ましい、＜１＞から＜６＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜８＞　前記アミンが、一般式（Ｉ）の化合物、アルカノールアミン及びピペラジン環を有する化合物からなる群から選ばれる１種以上である、＜１＞から＜７＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 ［式（Ｉ）において、ｘ、ｙ及びｚはそれぞれ０以上４以下の整数を示し、１≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦４を満たす。］
＜９＞　前記アミンが、テトラエチレンペンタアミン、ペンタエチレンヘキサアミン、モノエタノールアミン、２‐［（２‐アミノエチル）アミノ］エタノール及び１－（２－ヒドロキシエチル）ピペラジンからなる群から選ばれる１種以上であることが好ましい、＜１＞から＜８＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜１０＞　前記アミンの含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、５．００質量％以上７０．００質量％以下であり、及び／又は、８．００質量％以上が好ましく、１５．７０質量％以上がより好ましく、１６．５質量％以上がさらに好ましく、及び／又は、５０．００質量％以下が好ましく、４５．００質量％以下がより好ましく、２０．００質量％以下がさらに好ましく、及び／又は、８．００質量％以上が好ましく、１５．００質量％以上がより好ましく、及び／又は１５．７０質量％以下が好ましい、＜１＞から＜９＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜１１＞　前記無機アルカリの含有量が、アルカリ金属イオン量として、１．００質量％以上が好ましく、及び／又は、２．００質量％以下が好ましく、１．７０質量％以下がより好ましく、及び／又は、１．００質量％以上が好ましく、１．５０質量％以上がより好ましく、１．８０質量％以上がさらに好ましい、＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜１２＞　前記洗浄剤組成物が、さらに、ノニオン活性剤を含むことが好ましく、前記ノニオン活性剤は、下記の一般式（ＩＩ）で表されるノニオン活性剤がより好ましい、＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
　　R-O-(EO)o(PO)p-H　　　　　　　　　　　　　　（ＩＩ）
[式（ＩＩ）において、Ｒは炭素数６以上１６以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、oはＥＯ、ｐはＰＯの平均付加モル数であり、oは０以上２０以下の数であり、ｐは０以上５以下の数である。]
＜１３＞　前記ノニオン活性剤の含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、１．００質量％以上が好ましく、３．９５質量％以上がより好ましく、４．２０質量％以上がさらに好ましく、及び／又は、５．００質量％以下が好ましく、４．３５質量％以下がより好ましく、及び／又は、１．００質量％以上が好ましく、１．５０質量％以上がより好ましく、３．００質量％以上がさらに好ましく、及び／又は、５．００質量％以下が好ましく、３．９５質量％以下がより好ましい、＜１２＞記載のガラス基板の洗浄方法。
＜１４＞　前記洗浄剤組成物が、さらに、p-トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸などの有機スルホン酸、２-エチルヘキサン酸、及びこれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の可溶化剤を含むことが好ましい、＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜１５＞　前記可溶化剤の含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、２０．００質量％以上が好ましく、５５．００質量％以上が好ましく、及び／又は、６２．００質量％以下が好ましく、６０．７０質量％以下がより好ましく、及び／又は、２０．００質量％以上が好ましく、５０．００質量％以上がより好ましく、及び／又は、６２．００質量％以下が好ましく、５８．００質量％以下がより好ましく、５５．００質量％以下がさらに好ましい、＜１４＞記載のガラス基板の洗浄方法。
＜１６＞　前記洗浄剤組成物が、さらに、アニオンポリマー、好ましくはカルボン酸系重合体、より好ましくはアクリル酸重合体、メタクリル酸重合体、マレイン酸重合体、アクリル酸／メタクリル酸の共重合体、アクリル酸／マレイン酸の共重合体及びメタクリル酸／アクリル酸メチルエステルの共重合体からなる群から選択される（共）重合体を含むことが好ましい、＜１＞から＜１５＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜１７＞　前記アニオンポリマーの含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、２．５０質量％以上が好ましく、６．３０質量％以上がより好ましく、６．８０重量％以上がさらに好ましく、及び／又は、７．５０質量％以下が好ましく、６．９５質量％以下がより好ましく、及び／又は、２．５０質量％以上が好ましく、６．００質量％以上がより好ましく、及び／又は、７．５０質量％以下が好ましく、６．６質量％以下がより好ましく、６．３０質量％以下がさらに好ましい、＜１６＞記載のガラス基板の洗浄方法。
＜１８＞　前記洗浄剤組成物が、さらに、キレート剤、好ましくはグルコン酸、グルコヘプトン酸などのアルドン酸類；エチレンジアミン四酢酸などのアミノカルボン酸類；クエン酸、リンゴ酸などのヒドロキシカルボン酸類；１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸などのホスホン酸類；及びこれらのアルカリ金属塩からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい、＜１＞から＜１７＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜１９＞前記キレート剤の含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、３．８０質量％以上が好ましく、９．５０質量％以上がより好ましく、１０．２０質量％以上がさらに好ましく、及び／又は、１０．６０質量％以下が好ましく、１０．４５質量％以下がより好ましく、及び／又は、３．８０質量％以上が好ましく、９．２０質量％以上がより好ましく、及び／又は、１０．６０質量％以下が好ましく、１０．００質量％以下がより好ましく、９．４０質量％以下がさらに好ましい、＜１８＞記載のガラス基板の洗浄方法。
＜２０＞　前記洗浄剤組成物の水の含有量が、９８．５０質量％以下が好ましく、９９．７０質量％以下がより好ましく、及び／又は、９８．８０質量％以上が好ましく、９９．００質量％以上がより好ましい、＜１＞から＜１９＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜２１＞　前記洗浄剤組成物中の前記アミンとアルカリ金属イオンの質量比（アミンの含有量）/（アルカリ金属イオンの含有量）が、０．５０以上１２．００以下が好ましく、及び／又は、０．５０以上が好ましく、１．１８以上がより好ましく、１．８０以上がさらに好ましく、及び／又は、１２．００以下が好ましく、４．００以下がより好ましく、２．００以下がさらに好ましく、及び／又は、０．６０以上が好ましく、０．８０以上がより好ましく、及び／又は、１２．００以下が好ましく、１．１５以下がより好ましい、＜１＞から＜２０＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜２２＞　前記洗浄剤組成物の濃縮液を希釈することを含み、前記濃縮液の水の含有量は、９５．００質量％以下が好ましく、９０．００質量％以下がより好ましく、及び／又は、６０．００質量％以上が好ましく、７０．００質量％以上がより好ましい、＜１＞から＜２１＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜２３＞　前記被洗浄ガラス基板が、ガラスハードディスク基板用のガラス基板であることが好ましい、＜１＞から＜２２＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜２４＞　以下の工程（１）及び（２）；
（１）研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程、及び、
（２）工程（１）で得られた基板を洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程、を含み、
前記洗浄剤組成物は、窒素原子を１個以上１０個以下を含むアミンと、無機アルカリとを含有し、
前記アミンの含有量は、前記洗浄剤組成物の水以外の成分の合計質量に対して５．００質量％以上７０．００質量％以下であり、
前記被研磨ガラス基板は、結晶化ガラス基板であり、
洗浄時の洗浄剤組成物のｐＨが９．００以上１１．５０以下である、
ガラスハードディスク基板の製造方法。
＜２５＞　前記工程（２）の洗浄が、＜１＞から＜２３＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法によって行われる、＜２４＞記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
　本発明はさらに以下の一又は複数の実施形態に関する。
＜Ａ１＞　以下の工程（１）及び（２）；
（１）研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程、及び、
（２）工程（１）で得られた基板を洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程、を含み、
前記洗浄剤組成物は、窒素原子を１個以上１０個以下を含むアミンと、無機アルカリとを含有し、
　前記アミンの含有量は、前記洗浄剤組成物の水以外の成分の合計質量に対して５．０質量％以上７０．０質量％以下であり、
　前記被研磨ガラス基板は、結晶化ガラス基板であり、
　前記洗浄がｐＨ９．０以上１１．５以下で行われる、
　ガラスハードディスク基板の製造方法。
＜Ａ２＞　前記研磨液組成物が、シリカ粒子を含む研磨液組成物である、＜Ａ１＞記載のガラス基板の製造方法。
＜Ａ３＞　前記洗浄剤組成物が無機アルカリ由来のアルカリ金属を含有し、
　洗浄剤組成物中の前記アミンとアルカリ金属イオンの質量比（アミンの含有量）/（アルカリ金属イオンの含有量）が、０．５以上１２．０以下である、＜Ａ１＞又は＜Ａ２＞に記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
＜Ａ４＞　前記アミンが、一般式（Ｉ）の化合物、アルカノールアミン及びピペラジン環を有する化合物からなる群から選ばれる１種以上である、＜Ａ１＞から＜Ａ３＞のいずれかに記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 　［式（Ｉ）において、ｘ、ｙ及びｚはそれぞれ０以上４以下の整数を示し、１≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦４を満たす。］
＜Ａ５＞　前記アミンが、テトラエチレンペンタアミン、ペンタエチレンヘキサアミン、モノエタノールアミン、２‐［（２‐アミノエチル）アミノ］エタノール及び１－（２－ヒドロキシエチル）ピペラジンからなる群から選ばれる１種以上である、＜Ａ１＞から＜Ａ４＞のいずれかに記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
＜Ａ６＞　前記洗浄剤組成物が、さらに、下記の一般式（ＩＩ）で表されるノニオン活性剤を含有する、＜Ａ１＞から＜Ａ５＞のいずれかに記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
　　R-O-(EO)o(PO)p-H　　　　　　　　　　　　　　（ＩＩ）
　[式（ＩＩ）において、Ｒは炭素数６以上１６以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、oはＥＯ、ｐはＰＯの平均付加モル数であり、oは０以上２０以下の数であり、ｐは０以上５以下の数である。]
＜Ａ７＞　前記ノニオン活性剤の含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、１．０質量％以上５．０質量％以下である、＜Ａ６＞記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
＜Ａ８＞　前記洗浄剤組成物が、さらに、p-トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸などの有機スルホン酸、２-エチルヘキサン酸、及びこれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の可溶化剤を含む、＜Ａ１＞から＜Ａ７＞のいずれかに記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
＜Ａ９＞　前記可溶化剤の含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、２０．０質量％以上６２．０質量％以下である、＜Ａ８＞記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
＜Ａ１０＞　前記洗浄剤組成物が、さらに、アニオンポリマーを含有する、＜Ａ１＞から＜Ａ９＞のいずれかに記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
＜Ａ１１＞　前記アニオンポリマーの含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、２．５質量％以上７．５質量％以下である、＜Ａ１０＞記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
＜Ａ１２＞　前記洗浄剤組成物が、さらに、キレート剤を含む、＜Ａ１＞から＜Ａ１１＞のいずれかに記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
＜Ａ１３＞　前記キレート剤の含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、３．８質量％以上１０．６質量％以下である、＜Ａ１２＞記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
＜Ａ１４＞　水の含有量が６０．０質量％以上９５．０質量％以下である前記洗浄剤組成物の濃縮液を希釈することを含む、＜Ａ１＞から＜Ａ１３＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ａ１５＞　以下の工程（１）及び（２）；
（１）研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程、及び、
（２）工程（１）で得られた基板を洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程、を含み、
　前記洗浄剤組成物は、窒素原子を１個以上１０個以下を含むアミンと、無機アルカリとを含有し、
　前記アミンの含有量は、前記洗浄剤組成物の水以外の成分の合計質量に対して５．０質量％以上７０．０質量％以下であり、
　前記被研磨ガラス基板は、結晶化ガラス基板であり、
　洗浄時の洗浄剤組成物のｐＨが９．０以上１１．５以下である、
　ガラスハードディスク基板の製造方法。
＜Ａ１６＞
　ガラス基板の洗浄方法であって、
　被洗浄ガラス基板に洗浄剤組成物を接触させることを含み、
　前記洗浄剤組成物が、窒素原子を１個以上１０個以下含むアミンと、無機アルカリとを含有し、
　前記アミンの含有量が、前記洗浄剤組成物の水以外の成分の合計質量に対して５．０質量％以上７０．０質量％以下であり、
　前記被洗浄ガラス基板が結晶化ガラス基板であり、
　洗浄時の洗浄剤組成物のｐＨが９．０以上１１．５以下である、
　ガラス基板の洗浄方法。
＜Ａ１７＞　前記被洗浄結晶化ガラス基板が、シリカ粒子を用いた研磨が施された基板である、＜Ａ１６＞記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ａ１８＞　前記洗浄剤組成物が無機アルカリ由来のアルカリ金属を含有し、
　洗浄剤組成物中の前記アミンとアルカリ金属イオンの質量比（アミンの含有量）/（アルカリ金属イオンの含有量）が、０．５以上１２．０以下である、＜Ａ１６＞又は＜Ａ１７＞記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ａ１９＞　前記アミンが、一般式（Ｉ）の化合物、アルカノールアミン及びピペラジン環を有する化合物からなる群から選ばれる１種以上である、＜Ａ１６＞から＜Ａ１８＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 ［式（Ｉ）において、ｘ、ｙ及びｚはそれぞれ０以上４以下の整数を示し、１≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦４を満たす。］
＜Ａ２０＞　水の含有量が６０．０質量％以上９５．０質量％以下である前記洗浄剤組成物の濃縮液を希釈することを含む、＜Ａ１６＞から＜Ａ１９＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ａ２１＞　前記被洗浄ガラス基板が、ガラスハードディスク基板用のガラス基板である、＜Ａ１６＞から＜Ａ２０＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
　本発明はさらに以下の一又は複数の実施形態に関する。
＜Ｂ１＞　被洗浄ガラス基板に洗浄剤組成物を接触させることを含むガラス基板の洗浄方法における洗浄剤組成物の使用であって、
　前記洗浄剤組成物が、窒素原子を１個以上１０個以下含むアミンと、無機アルカリとを含有し、
　前記アミンの含有量が、前記洗浄剤組成物の水以外の成分の合計質量に対して５．０質量％以上７０．０質量％以下であり、
　前記被洗浄ガラス基板が結晶化ガラス基板であり、
　洗浄時の洗浄剤組成物のｐＨが９．０以上１１．５以下である、洗浄剤組成物の使用。
＜Ｂ２＞　前記被洗浄結晶化ガラス基板が、シリカ粒子を用いた研磨が施された基板である、＜Ｂ１＞記載の洗浄剤組成物の使用。
＜Ｂ３＞　前記洗浄剤組成物が無機アルカリ由来のアルカリ金属を含有し、
　洗浄剤組成物中の前記アミンとアルカリ金属イオンの質量比（アミンの含有量）/（アルカリ金属イオンの含有量）が、０．５以上１２．０以下である、＜Ｂ１＞又は＜Ｂ２＞記載の洗浄剤組成物の使用。
＜Ｂ４＞　前記アミンが、一般式（Ｉ）の化合物、アルカノールアミン及びピペラジン環を有する化合物からなる群から選ばれる１種以上である、＜Ｂ１＞から＜Ｂ２＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物の使用。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 ［式（Ｉ）において、ｘ、ｙ及びｚはそれぞれ０以上４以下の整数を示し、１≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦４を満たす。］
＜Ｂ５＞　ガラス基板の洗浄方法が、水の含有量が６０質量％以上９５質量％以下である前記洗浄剤組成物の濃縮液を希釈することを含む、＜Ｂ１＞から＜Ｂ４＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物の使用。
＜Ｂ６＞　さらに、下記の一般式（ＩＩ）で表されるノニオン活性剤を含有する、＜Ｂ１＞から＜Ｂ５＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物の使用。
　　R-O-(EO)o(PO)p-H　　　　　　　　　　　　　　（ＩＩ）
　[式（ＩＩ）において、Ｒは炭素数６以上１６以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、oはＥＯ、ｐはＰＯの平均付加モル数であり、oは０以上２０以下の数であり、ｐは０以上５以下の数である。]
＜Ｂ７＞　前記ノニオン活性剤の含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、１．０質量％以上５．０質量％以下である、＜Ｂ６＞記載の洗浄剤組成物の使用。
＜Ｂ８＞　さらに、p-トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸などの有機スルホン酸、２-エチルヘキサン酸、及びこれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の可溶化剤を含む、＜Ｂ１＞から＜Ｂ７＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物の使用。
＜Ｂ９＞　前記可溶化剤の含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、２０．０質量％以上６２．０質量％以下である、＜Ｂ８＞記載の洗浄剤組成物の使用。
＜Ｂ１０＞　さらに、アニオンポリマーを含有する、＜Ｂ１＞から＜Ｂ９＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物の使用。
＜Ｂ１１＞　前記アニオンポリマーの含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、２．５質量％以上７．５質量％以下である、＜Ｂ１０＞記載の洗浄剤組成物の使用。
＜Ｂ１２＞　さらに、キレート剤を含む、＜Ｂ１＞から＜Ｂ１１＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物の使用。
＜Ｂ１３＞　前記キレート剤の含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、３．８質量％以上１０．６質量％以下である、＜Ｂ１２＞記載の洗浄剤組成物の使用。
＜Ｂ１４＞　以下の工程（１）及び（２）を含むガラスハードディスク基板の製造方法における、＜Ｂ１＞から＜Ｂ１３＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物の使用。
（１）研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程、及び、
（２）工程（１）で得られた基板を洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程。
　本発明はさらに以下の一又は複数の実施形態に関する。
＜Ｃ１＞　ガラス基板の洗浄方法であって、
被洗浄ガラス基板に洗浄剤組成物を接触させることを含み、
前記洗浄剤組成物が、窒素原子を１個以上１０個以下含むアミンと、無機アルカリとを含有し、
前記アミンの含有量が、前記洗浄剤組成物の水以外の成分の合計質量に対して５．０質量％以上７０．０質量％以下であり、
前記被洗浄ガラス基板が結晶化ガラス基板であり、
洗浄時の洗浄剤組成物のｐＨが９．０以上１１．５以下である、ガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ２＞　前記被洗浄結晶化ガラス基板が、シリカ粒子を用いた研磨が施された基板が好ましい、＜Ｃ１＞記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ３＞　被洗浄結晶化ガラス基板の洗浄前の表面粗さＲａが、１．７Å以上が好ましく、及び／又は、２．５Å以下が好ましく、２．２Å以下がより好ましい、＜Ｃ１＞又は＜Ｃ２＞記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ４＞　前記洗浄剤組成物のｐＨが、洗浄時において９．０以上１１．５以下であり、或いは、１１．５以下、１１．０以下が好ましく、１０．７以下がより好ましく、及び／又は、９．０以上、９．５以上が好ましく、１０．０以上がより好ましく、１０．５以上がさらに好ましく、１０．９以上がよりさらに好ましく、１１．０以上がよりさらに好ましい、＜Ｃ１＞から＜Ｃ３＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ５＞　前記アミンには、エチレンジアミン四酢酸などのアミノカルボン酸類が含まれないことが好ましい、＜Ｃ１＞から＜Ｃ４＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ６＞　前記アミンに含まれる窒素原子の数が、１０個以下、好ましくは８個以下、より好ましくは６個以下、さらに好ましくは３個以下、よりさらに好ましくは２個以下であり、及び／又は、１個以上、好ましくは２個以上、より好ましくは５個以上、そして、好ましくは６個以下であり、及び／又は、２個以上８個以下、又は２個以上３個以下である、＜Ｃ１＞から＜Ｃ５＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ７＞　前記アミンの分子量又は重量平均分子量が、５００以下が好ましく、４００以下がより好ましく、３００以下がさらに好ましく、１５０以下がよりさらに好ましく、及び／又は、５０以上が好ましく、１００以上がより好ましく、及び／又は、４０以上が好ましく、５０以上がより好ましく、８０以上がさらに好ましく、１５０以上がよりさらに好ましく、２００以上がよりさらに好ましく、及び／又は、３００以下が好ましく、２５０以下がより好ましい、＜Ｃ１＞から＜Ｃ６＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ８＞　前記アミンが、一般式（Ｉ）の化合物、アルカノールアミン及びピペラジン環を有する化合物からなる群から選ばれる１種以上である、＜Ｃ１＞から＜Ｃ７＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 ［式（Ｉ）において、ｘ、ｙ及びｚはそれぞれ０以上４以下の整数を示し、１≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦４を満たす。］
＜Ｃ９＞　前記アミンが、テトラエチレンペンタアミン、ペンタエチレンヘキサアミン、モノエタノールアミン、２‐［（２‐アミノエチル）アミノ］エタノール及び１－（２－ヒドロキシエチル）ピペラジンからなる群から選ばれる１種以上であることが好ましい、＜Ｃ１＞から＜Ｃ８＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ１０＞　前記アミンの含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、５．０質量％以上７０．０質量％以下であり、及び／又は、８．０質量％以上が好ましく、１５．７質量％以上がより好ましく、１６．５質量％以上がさらに好ましく、及び／又は、５０．０質量％以下が好ましく、４５．０質量％以下がより好ましく、２０．０質量％以下がさらに好ましく、及び／又は、８．０質量％以上が好ましく、１５．０質量％以上がより好ましく、及び／又は１５．７質量％以下が好ましい、＜Ｃ１＞から＜Ｃ９＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ１１＞　前記無機アルカリの含有量が、アルカリ金属イオン量として、１．０質量％以上が好ましく、及び／又は、２．０質量％以下が好ましく、１．７質量％以下がより好ましく、及び／又は、１．０質量％以上が好ましく、１．５質量％以上がより好ましく、１．８質量％以上がさらに好ましい、＜Ｃ１＞から＜Ｃ１０＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ１２＞　前記洗浄剤組成物が、さらに、ノニオン活性剤を含むことが好ましく、前記ノニオン活性剤は、下記の一般式（ＩＩ）で表されるノニオン活性剤がより好ましい、＜Ｃ１＞から＜Ｃ１１＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
　　R-O-(EO)o(PO)p-H　　　　　　　　　　　　　　（ＩＩ）
[式（ＩＩ）において、Ｒは炭素数６以上１６以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、oはＥＯ、ｐはＰＯの平均付加モル数であり、oは０以上２０以下の数であり、ｐは０以上５以下の数である。]
＜Ｃ１３＞　前記ノニオン活性剤の含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、１．０質量％以上が好ましく、３．９５質量％以上がより好ましく、４．２質量％以上がさらに好ましく、及び／又は、５．０質量％以下が好ましく、４．３５質量％以下がより好ましく、及び／又は、１．０質量％以上が好ましく、１．５質量％以上がより好ましく、３．０質量％以上がさらに好ましく、及び／又は、５．０質量％以下が好ましく、３．９５質量％以下がより好ましい、＜Ｃ１２＞記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ１４＞　前記洗浄剤組成物が、さらに、p-トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸などの有機スルホン酸、２-エチルヘキサン酸、及びこれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の可溶化剤を含むことが好ましい、＜Ｃ１＞から＜Ｃ１３＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ１５＞　前記可溶化剤の含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、２０．０質量％以上が好ましく、５５．０質量％以上が好ましく、及び／又は、６２．０質量％以下が好ましく、６０．７質量％以下がより好ましく、及び／又は、２０．０質量％以上が好ましく、５０．０質量％以上がより好ましく、及び／又は、６２．０質量％以下が好ましく、５８．０質量％以下がより好ましく、５５．０質量％以下がさらに好ましい、＜Ｃ１４＞記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ１６＞　前記洗浄剤組成物が、さらに、アニオンポリマー、好ましくはカルボン酸系重合体、より好ましくはアクリル酸重合体、メタクリル酸重合体、マレイン酸重合体、アクリル酸／メタクリル酸の共重合体、アクリル酸／マレイン酸の共重合体及びメタクリル酸／アクリル酸メチルエステルの共重合体からなる群から選択される（共）重合体を含むことが好ましい、＜Ｃ１＞から＜Ｃ１５＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ１７＞　前記アニオンポリマーの含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、２．５質量％以上が好ましく、６．３質量％以上がより好ましく、６．８重量％以上がさらに好ましく、及び／又は、７．５質量％以下が好ましく、６．９５質量％以下がより好ましく、及び／又は、２．５質量％以上が好ましく、６．０質量％以上がより好ましく、及び／又は、７．５質量％以下が好ましく、６．６質量％以下がより好ましく、６．３質量％以下がさらに好ましい、＜Ｃ１６＞記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ１８＞　前記洗浄剤組成物が、さらに、キレート剤、好ましくはグルコン酸、グルコヘプトン酸などのアルドン酸類；エチレンジアミン四酢酸などのアミノカルボン酸類；クエン酸、リンゴ酸などのヒドロキシカルボン酸類；１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸などのホスホン酸類；及びこれらのアルカリ金属塩からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい、＜Ｃ１＞から＜Ｃ１７＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ１９＞前記キレート剤の含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、３．８質量％以上が好ましく、９．５質量％以上がより好ましく、１０．２質量％以上がさらに好ましく、及び／又は、１０．６質量％以下が好ましく、１０．４５質量％以下がより好ましく、及び／又は、３．８質量％以上が好ましく、９．２質量％以上がより好ましく、及び／又は、１０．６質量％以下が好ましく、１０．０質量％以下がより好ましく、９．４質量％以下がさらに好ましい、＜Ｃ１８＞記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ２０＞　前記洗浄剤組成物の水の含有量が、９８．５質量％以下が好ましく、９９．７質量％以下がより好ましく、及び／又は、９８．８質量％以上が好ましく、９９．０質量％以上がより好ましい、＜Ｃ１＞から＜Ｃ１９＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ２１＞　前記洗浄剤組成物中の前記アミンとアルカリ金属イオンの質量比（アミンの含有量）/（アルカリ金属イオンの含有量）が、０．５以上１２．０以下が好ましく、及び／又は、０．５以上が好ましく、１．１８以上がより好ましく、１．８以上がさらに好ましく、及び／又は、１２．０以下が好ましく、４．０以下がより好ましく、２．０以下がさらに好ましく、及び／又は、０．６以上が好ましく、０．８以上がより好ましく、及び／又は、１２．０以下が好ましく、１．１５以下がより好ましい、＜Ｃ１＞から＜Ｃ２０＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ２２＞　前記洗浄剤組成物の濃縮液を希釈することを含み、前記濃縮液の水の含有量は、９５．０質量％以下が好ましく、９０．０質量％以下がより好ましく、及び／又は、６０．０質量％以上が好ましく、７０．０質量％以上がより好ましい、＜Ｃ１＞から＜Ｃ２１＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ２３＞　前記被洗浄ガラス基板が、ガラスハードディスク基板用のガラス基板であることが好ましい、＜Ｃ１＞から＜Ｃ２２＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
＜Ｃ２４＞　以下の工程（１）及び（２）；
（１）研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程、及び、
（２）工程（１）で得られた基板を洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程、を含み、
前記洗浄剤組成物は、窒素原子を１個以上１０個以下を含むアミンと、無機アルカリとを含有し、
前記アミンの含有量は、前記洗浄剤組成物の水以外の成分の合計質量に対して５．０質量％以上７０．０質量％以下であり、
前記被研磨ガラス基板は、結晶化ガラス基板であり、
洗浄時の洗浄剤組成物のｐＨが９．０以上１１．５以下である、
ガラスハードディスク基板の製造方法。
＜Ｃ２５＞　前記工程（２）の洗浄が、＜Ｃ１＞から＜Ｃ２３＞のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法によって行われる、＜Ｃ２４＞記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
　[洗浄剤組成物の濃縮液の調製]
　下記表１の記載の組成となるように各成分を質量％で配合し、混合することにより、実施例１－１２、比較例１－７、及び参考例１－２の洗浄剤組成物の濃縮液を得た。表１において、含有量は、上段が水を含めた全体質量に対する質量％を示し、下段が水以外の成分の全体質量に対する質量％を示す。また、ｐＨは、２５℃における洗浄剤組成物のｐＨであり、ｐＨメータ（東亜電波工業株式会社製、ＨＭ－３０Ｇ）を用いて測定でき、電極の洗浄剤組成物への浸漬後３分後の数値である。表１において、ｐＨは、上段が調製した洗浄剤組成物の濃縮液のｐＨを示し、下段が洗浄時（上段の濃縮液の３％希釈の洗浄剤組成物）のｐＨを示す。
　また、洗浄剤組成物中のアルカリ金属イオン量は、原子吸光法によりナトリウムイオンとカリウムイオンの合計量を求め、アルカリ金属イオン量とした。
測定条件を以下に示す。
〔試料の前処理と測定〕
　試料０．１ｇを石英るつぼに精秤し、乾式灰化をおこない、塩酸溶解して５０ｍｌにメスアップする。これを２５倍希釈したものを測定試料とし、原子吸光装置（VARIAN　SpectrAA 220　Atomic Absorption Spectrometer）で測定した。
　洗浄剤組成物の成分として下記のものを使用した。
〔アミン〕
２－［（２－アミノエチル）アミノ］エタノール　（日本乳化剤社製）
ジエチレントリアミン　（東ソー社製、一般式（Ｉ）において、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１）
テトラエチレンペンタミン　（東ソー社製、一般式（Ｉ）において、ｘ＋ｙ＋ｚ＝３）
ペンタエチレンヘキサミン　（東ソー社製、一般式（Ｉ）において、ｘ＋ｙ＋ｚ＝４）
１－（２－ヒドロキシエチル）ピペラジン　（日本乳化剤社製）
メチルジエタノールアミン　（日本乳化剤社製）
ポリアミン　（日本乳化剤社製、商品名ＳＰ－００６、分子量６００）
水酸化カリウム　（関東化学社製、鹿特級、固形分４８重量％）
〔ノニオン活性剤〕
前記一般式（ＩＩ）において、Ｒが炭素数１２の直鎖のアルキル基、ｏ＝１０、ｐ＝１．５の化合物と、Ｒが炭素数１４の直鎖のアルキル基、ｏ＝１０、ｐ＝１．５の化合物の混合物。
〔アニオンポリマー〕
アクリル酸／２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸（９２／８（モル比））の共重合化合物（重量平均分子量１２，０００）のナトリウム塩の水溶液（固形分４０重量％）
〔キレート剤〕
１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸（ソルーシア社製、固形分６０重量％）
〔可溶化剤〕
ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウムの水溶液（明友産業社製、固形分９０重量％）
　[ハードディスク用ガラス基板の洗浄性試験方法]
　下記組成の研磨液スラリー（研磨剤組成物）を用いた研磨を施すことにより、研磨液スラリー由来の砥粒及び基板材料由来の研磨屑等によって汚染された被洗浄基板を用意した。前記被洗浄基板を用いて洗浄剤組成物の洗浄性を評価した。
　（評価用基板）
　実施例１－１２及び比較例１－７の評価用基板として、結晶化ガラス基板（外径：６５ｍｍφ、内径：２０ｍｍφ、厚さ：０．６３５ｍｍ）を用意した。一方、参考例１－２の評価用基板として、アモルファスガラス基板（外径：６５ｍｍφ、内径：２０ｍｍφ、厚さ：０．６３５ｍｍ）を用意した。
　（研磨条件）
研磨機：両面９Ｂ研磨機（浜井産業社製）
研磨パッド：ＦＩＬＷＥＬ社製仕上げ研磨用スウェードパッド
研磨剤組成物：コロイダルシリカスラリ－（コロイダルシリカ粒子の個数平均粒径２４ｎｍ、コロイダルシリカ粒子の濃度：８重量％、媒体：水、花王社製）
予備研磨：荷重４０ｇ／ｃｍ2、時間６０秒、研磨液流量１００ｍＬ／分
本研磨：荷重１００ｇ／ｃｍ2、時間１２００秒、研磨液流量１００ｍＬ／分
水リンス：荷重４０ｇ／ｃｍ2、時間６０秒、リンス水流量約２Ｌ／分
　（洗浄）
　汚染された被洗浄基板（５枚）を、洗浄装置にて以下の条件で洗浄した。洗浄槽、すすぎ槽は２セットずつ用意した。
（１）洗浄－１：洗浄剤組成物の濃縮液４５０ｇを超純水で１５０００ｇとなるように希釈し洗浄剤組成物を調整した（３質量％希釈）。この洗浄剤組成物を洗浄槽（ａ）に入れた。洗浄槽（ａ）内の液温を４０℃になるように設定した。洗浄槽（ａ）に被洗浄基板を浸漬し、超音波（４０ｋＨｚ）を照射しながら１２０秒間洗浄した。
（２）すすぎ－１：超純水を入れたすすぎ槽（ｂ）を４０℃に設定し、洗浄槽（ａ）からすすぎ槽（ｂ）に被洗浄基板を移して浸漬し、超音波（４０ｋＨｚ）を照射しながら１２０秒間すすいだ。
（３）洗浄槽（ａ）と同様の条件で準備した洗浄剤組成物を入れた洗浄槽（ｃ）、すすぎ槽（ｂ）と同様の条件で準備した超純水を入れたすすぎ槽（ｄ）を使用して再度（１）と（２）を繰り返した。
（４）洗浄－２：すすぎ槽内から被洗浄基板を、洗浄ブラシがセットされたスクラブ洗浄ユニット（Ａ）に移し、洗浄ブラシに２５℃の洗浄剤組成物を射出し、該洗浄剤組成物の存在下で洗浄ブラシを該基板の両面に４００ｒｐｍで回転させながら押し当てることにより、洗浄を２５℃で５秒間行った。洗浄剤組成物には、「（１）洗浄－１」で用いた洗浄剤組成物と同組成のものを用いた。
（５）すすぎ－２：スクラブ洗浄ユニット（Ｂ）に被洗浄基板を移し、２５℃の超純水を射出し、洗浄ブラシを該基板の両面に（４）と同様に４００ｒｐｍで回転させながら押し当てることにより、すすぎを２５℃で５秒間行った。
（６）スクラブ洗浄ユニット（Ａ）と同様の条件で準備したスクラブ洗浄ユニット（Ｃ）、スクラブ洗浄ユニット（Ｂ）と同様の条件で準備したスクラブ洗浄ユニット（Ｄ）を使用して再度（４）と（５）を繰り返した。
（７）すすぎ－３：　被洗浄基板を、超純水を入れたすすぎ槽（ｅ）に移し、６００秒間２５℃ですすぎを行った。
（８）乾燥：被洗浄基板を、温純水を入れたすすぎ槽（ｆ）に移し、６０秒間浸漬した後、水中から空気中に基板を引き上げる時の速度を９０ｍｍ／分で被洗浄基板を引き上げた後、完全に基板表面を乾燥させた。
なお、超純水は、栗田工業株式会社製の連続純水製造装置（ピュアコンティ　PC-2000VR-L型）とサブシステム（マクエース　KC-05H型）を用いて製造した。
　〔表面粗さの測定方法〕
前述の研磨方法により得られた同じ研磨処理を施した基板５枚のうち、無作為に２枚を選択し、本発明の洗浄剤組成物を用いた洗浄を行い、それぞれの表面粗さを測定した。表面粗さは、各々の基板の両面を、以下に示す条件にて、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡、Ａｔｏｍｉｃ　Ｆｏｒｃｅ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ ＮａｎｏＳｃｏｐｅ ＩＩＩａ Ｍｕｌｔｉ Ｍｏｄｅ ＡＦＭ）を用いて測定し、平均値から表面粗さＲａを算出した。これらの結果を下記表１に示す。
（ＡＦＭの測定条件）
Ｍｏｄｅ： Ｔａｐｐｉｎｇ ｍｏｄｅ
Ａｒｅａ： １×１μｍ
Ｓｃａｎ ｒａｔｅ： １．０Ｈｚ
Ｃａｎｔｉｌｅｖｅｒ： ＮＣＨ－１０Ｖ
Ｌｉｎｅ： ５１２×５１２
　〔洗浄性の測定方法〕
　洗浄性は、シリカ粒子のエッチング量で判断した。値が大きい方がシリカ粒子の洗浄性に優れ、例えば研磨剤として用いたシリカ粒子の洗浄性に優れるといえる。エッチング量を下記条件で測定した。比較例１のエッチング量は１９．９ｐｐｍであった。その結果を下記表１に示す。なお、表１に示したエッチング量は、比較例１を１００とした場合の相対値である。
（シリカ粒子のエッチング量の測定方法）
　１００ｍｌポリプロピレン製の容器内で、前記洗浄剤組成物の濃縮液（実施例、比較例記載）を超純水で３質量％に希釈して得た洗浄剤組成物２０ｇに、シリカ粉末（日本アエロジル社製、アエロジル５０）を０．１ｇ添加した。次いで、これらをマグネティックスターラー（回転子：４０ｍｍ、外周部周速：１．５ｍ／ｓ）で１５分間撹拌し、上澄み液をフィルター（アドバンテック社製、ＤＩＳＭＩＣ－２５ＨＰ０２０ＡＮ、孔径０．２μｍ）でろ過し、当該上澄み液を試験液とした。前記試験液について、ＩＣＰ発光分析装置（パーキンエルマー社製、Ｏｐｔｉｍａ５３００）用いてＳｉの発光強度を測定して、試験液中のＳｉ濃度を定量した。試験液中のＳｉ濃度が高ければ高いほど、希釈液について、被洗浄基板表面に付着したシリカ微粒子（研磨材）を溶解により除去する能力が高いことを意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
　上記表１に示すとおり、結晶化ガラスの洗浄において、実施例１～１２は、比較例１～７に比べて洗浄後の表面粗さの悪化が抑制されつつ優れた洗浄性を示した。一方、参考例１と２を比べると、アモルファスガラス基板では、実施例１と同様のアミンを配合しても表面粗さの悪化の抑制効果は発揮されないことが分かる。

Claims (20)

  1. 　以下の工程（１）及び（２）；
    　（１）研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程、及び、
    　（２）工程（１）で得られた基板を洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程、を含み、
    　前記洗浄剤組成物は、窒素原子を１個以上１０個以下を含むアミンと、無機アルカリとを含有し、
    　前記アミンの含有量は、前記洗浄剤組成物の水以外の成分の合計質量に対して５．００質量％以上７０．００質量％以下であり、
    　前記被研磨ガラス基板は、結晶化ガラス基板であり、
    　洗浄時の洗浄剤組成物のｐＨが９．００以上１１．５０以下である、
    　ガラスハードディスク基板の製造方法。
  2. 　前記研磨液組成物が、シリカ粒子を含む研磨液組成物である、請求項１記載のガラス基板の製造方法。
  3. 　前記洗浄剤組成物が無機アルカリ由来のアルカリ金属を含有し、
    　洗浄剤組成物中の前記アミンとアルカリ金属イオンの質量比（アミンの含有量）/（アルカリ金属イオンの含有量）が、０．５０以上１２．００以下である、請求項１又は２に記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
  4. 　前記アミンが、一般式（Ｉ）の化合物、アルカノールアミン及びピペラジン環を有する化合物からなる群から選ばれる１種以上である、請求項１から３のいずれかに記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     　［式（Ｉ）において、ｘ、ｙ及びｚはそれぞれ０以上４以下の整数を示し、１≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦４を満たす。］
  5. 　前記アミンが、テトラエチレンペンタアミン、ペンタエチレンヘキサアミン、モノエタノールアミン、２‐［（２‐アミノエチル）アミノ］エタノール及び１－（２－ヒドロキシエチル）ピペラジンからなる群から選ばれる１種以上である、請求項１から４のいずれかに記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
  6. 　前記洗浄剤組成物が、さらに、下記の一般式（ＩＩ）で表されるノニオン活性剤を含有する、請求項１から５のいずれかに記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
    　　R-O-(EO)o(PO)p-H　　　　　　　　　　　　　　（ＩＩ）
    　[式（ＩＩ）において、Ｒは炭素数６以上１６以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、oはＥＯ、ｐはＰＯの平均付加モル数であり、oは０以上２０以下の数であり、ｐは０以上５以下の数である。]
  7. 　前記ノニオン活性剤の含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、１．００質量％以上５．００質量％以下である、請求項６記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
  8. 　前記洗浄剤組成物が、さらに、p-トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸などの有機スルホン酸、２-エチルヘキサン酸、及びこれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の可溶化剤を含む、請求項１から７のいずれかに記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
  9. 　前記可溶化剤の含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、２０．００質量％以上６２．００質量％以下である、請求項８記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
  10. 　前記洗浄剤組成物が、さらに、アニオンポリマーを含有する、請求項１から９のいずれかに記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
  11. 　前記アニオンポリマーの含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、２．５０質量％以上７．５０質量％以下である、請求項１０記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
  12. 　前記洗浄剤組成物が、さらに、キレート剤を含む、請求項１から１１のいずれかに記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
  13. 　前記キレート剤の含有量が、水以外の成分の合計質量に対して、３．８０質量％以上１０．６０質量％以下である、請求項１２記載のガラスハードディスク基板の製造方法。
  14. 　水の含有量が６０．００質量％以上９５．００質量％以下である前記洗浄剤組成物の濃縮液を希釈することを含む、請求項１から１３のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
  15. 　ガラス基板の洗浄方法であって、
    　被洗浄ガラス基板に洗浄剤組成物を接触させることを含み、
    　前記洗浄剤組成物が、窒素原子を１個以上１０個以下含むアミンと、無機アルカリとを含有し、
    　前記アミンの含有量が、前記洗浄剤組成物の水以外の成分の合計質量に対して５．００質量％以上７０．００質量％以下であり、
    　前記被洗浄ガラス基板が結晶化ガラス基板であり、
    　洗浄時の洗浄剤組成物のｐＨが９．００以上１１．５０以下である、
    　ガラス基板の洗浄方法。
  16. 　前記被洗浄結晶化ガラス基板が、シリカ粒子を用いた研磨が施された基板である、請求項１５記載のガラス基板の洗浄方法。
  17. 　前記洗浄剤組成物が無機アルカリ由来のアルカリ金属を含有し、
    　洗浄剤組成物中の前記アミンとアルカリ金属イオンの質量比（アミンの含有量）/（アルカリ金属イオンの含有量）が、０．５０以上１２．００以下である、請求項１６又は１７記載のガラス基板の洗浄方法。
  18. 　前記アミンが、一般式（Ｉ）の化合物、アルカノールアミン及びピペラジン環を有する化合物からなる群から選ばれる１種以上である、請求項１５から１７のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     ［式（Ｉ）において、ｘ、ｙ及びｚはそれぞれ０以上４以下の整数を示し、１≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦４を満たす。］
  19. 　水の含有量が６０質量％以上９５質量％以下である前記洗浄剤組成物の濃縮液を希釈することを含む、請求項１５から１８のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
  20. 　前記被洗浄ガラス基板が、ガラスハードディスク基板用のガラス基板である、請求項１５から１９のいずれかに記載のガラス基板の洗浄方法。
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