JP7134081B2 - ハードディスク用基板用洗浄剤組成物 - Google Patents

Description

本開示は、ハードディスク用基板用洗浄剤組成物、これを用いた基板の洗浄方法、及びハードディスク用基板の製造方法に関する。

近年、パーソナルコンピュータや各種電子デバイスにおいては動画や音声等の大きなデータが扱われるようになり、大容量の情報記録装置が必要となっている。その結果、情報記録媒体に対する高記録密度化の要求が年々高まっている。これに対応するべく、ハードディスクでは、垂直磁気記録方式の採用、量産化が進められている。垂直磁気記録方式において、情報記録媒体用基板（以下、「ハードディスク用基板」ともいう）には、現在の基板と比較して基板の耐熱性及び表面の平滑性がより高いレベルで求められている。さらに、ハードディスク用基板表面に要求される清浄度も高くなってきている。

このような要求に対応すべく、例えば、特許文献１では、無機粒子、特定の構成単位を有するジアリルアミン重合体、酸及び水を含有し、基板表面の残留無機粒子及びスクラッチを低減可能な磁気ディスク基板用研磨液組成物が提案されている。
特許文献２では、コロイダルシリカスラリーと、特定のカチオン性アミノ基含有ポリマーを含む研磨液組成物を用いることで、基板の表面粗さを低減可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法が提案されている。
特許文献３では、アルカリ剤と、キレート剤と、アンモニウム基及びアミノ基の少なくとも１つを含む構成単位及び陰イオン性基を含む構成単位を含む両性高分子化合物と、水とを含有し、洗浄性の高いハードディスク用ガラス基板用のアルカリ洗浄剤組成物が提案されている。

特開２０１２－１４２０６４号公報 特開２０１７－４１２９４号公報 特開２０１２－１４０５２３号公報

近年、ハードディスクの記録密度を高くする上で、基板表面の平滑性の要求及び研磨後の研磨くずや砥粒等の残留による汚染度の低レベル化といった基板表面の清浄度の要求は一段と高くなっている。しかし、従来の洗浄剤組成物の洗浄性では、洗浄後の基板の清浄度及び平滑性が不十分であることが判明した。

そこで、本開示は、一態様において、洗浄性に優れ、洗浄後の基板表面の平滑性を向上できるハードディスク用基板用洗浄剤組成物、該洗浄剤組成物を用いた基板の洗浄方法及びハードディスク用基板の製造方法を提供する。

本開示は、一態様において、下記式（Ｉ）で表される構成単位及び下記式（ＩＩ）で表される構成単位の少なくとも一方を含む重合体又はその塩（成分Ａ）と、少なくとも１つのアミノ基を含有し、窒素原子数が１個以上１０個以下である成分Ａ以外のアミノ基含有化合物（成分Ｂ）と、を含有する、ハードディスク用基板用洗浄剤組成物に関する。

上記式（Ｉ）及び式（ＩＩ）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３のアルキル基である。Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３のアルキル基である。Ｘは、炭素数１～１２のアルキレン基、－ＣＯＯＲ⁶－、－ＣＯＮＨＲ⁶－、－ＯＣＯＲ⁶－及び－Ｒ⁷－ＯＣＯ－Ｒ⁶－から選ばれる少なくとも１種の基である。ここでＲ⁶、Ｒ⁷はそれぞれ独立して、炭素数１～５のアルキレン基である。ｐは、１以上３以下の数である。ｍ、ｎはそれぞれ独立して０又は１であり、ｍ＋ｎ＝１である。＊は、結合手を示す。

本開示は、その他の態様において、本開示の洗浄剤組成物を用いて被洗浄基板を洗浄する洗浄工程を含み、前記被洗浄基板は、研磨液組成物で研磨された基板、又は、パーティクルが付着した基板である、基板の洗浄方法に関する。

本開示は、その他の態様において、本開示の洗浄剤組成物を用いて被洗浄基板を洗浄する洗浄工程を含み、前記被洗浄基板は、研磨液組成物で研磨された基板、又は、パーティクルが付着した基板である、ハードディスク用基板の製造方法に関する。

本開示によれば、一態様において、洗浄性に優れ、洗浄後の基板表面の平滑性を向上できるハードディスク用基板用洗浄剤組成物を提供できる。

本開示は、特定の重合体（成分Ａ）と特定のアミノ基含有化合物（成分Ｂ）とを組み合わせて用いることで、洗浄後の基板の清浄度及び平滑性を向上できるという知見に基づく。

すなわち、本開示は、一態様において、上記式（Ｉ）で表される構成単位及び上記（ＩＩ）で表される構成単位の少なくとも一方を含む重合体又はその塩（成分Ａ）と、少なくとも１つのアミノ基を含有し、窒素原子数が１個以上１０個以下である成分Ａ以外のアミノ基含有化合物（成分Ｂ）と、を含有する、ハードディスク用基板用洗浄剤組成物（以下、「本開示の洗浄剤組成物」ともいう）に関する。本開示の洗浄剤組成物によれば、洗浄性に優れ、洗浄後の基板表面の平滑性を向上できる。そして、本開示の洗浄剤組成物を用いた洗浄方法及び製造方法によれば、清浄度に優れるハードディスク用基板が得られうる。さらに、本開示の洗浄剤組成物を用いて洗浄したハードディスク用基板を使用することで、高記録密度のハードディスク記録装置を実現できる。

本開示の効果が発現するメカニズムの詳細は明らかではないが以下のように推定される。
一般的に、研磨後の基板表面に、研磨くずや研磨砥粒等由来のパーティクルが付着又は残留していると、表面欠陥発生の原因となる。また、洗浄剤組成物に含まれる成分により基板表面が腐食して微小なピット欠陥を発生してしまうことがある。
本開示では、特定の重合体（成分Ａ）と特定のアミノ基含有化合物（成分Ｂ）とを併用して用いることで、成分Ｂが基板表面に付着又は残留しているパーティクルを効果的に除去しつつ、成分Ａが成分Ｂによる基板表面の腐食を抑制できると考えられる。
但し、本開示は、これらのメカニズムに限定して解釈されなくてよい。

本開示において「パーティクル」とは、基板表面に残留又は付着する異物をいう。本開示における「パーティクル」は、酸化ニッケル、酸化珪素等の研磨くず由来の異物；酸化珪素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化セリウム（セリア）等の研磨砥粒由来の異物；等を含む。

以下、本開示の洗浄剤組成物に含まれる各成分について説明する。

［成分Ａ：重合体］
本開示の洗浄剤組成物に含まれる成分Ａは、下記式（Ｉ）で表される構成単位及び下記式（ＩＩ）で表される構成単位の少なくとも一方を含む重合体である。成分Ａは、１種でもよいし、２種以上の組合せでもよい。

上記式（Ｉ）及び式（ＩＩ）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３のアルキル基であり、洗浄性及び平滑性の観点から、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は水素原子が好ましい。Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３のアルキル基であり、洗浄性及び平滑性の観点から、水素原子又はメチル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
Ｘは、炭素数１～１２のアルキレン基、－ＣＯＯＲ⁶－、－ＣＯＮＨＲ⁶－、－ＯＣＯＲ⁶－及び－Ｒ⁷－ＯＣＯ－Ｒ⁶－から選ばれる少なくとも１種の基である。ここで、Ｒ⁶、Ｒ⁷はそれぞれ独立して、炭素数１～５のアルキレン基である。これらの中でも、Ｘは、洗浄性及び平滑性の観点から、炭素数１～１２のアルキレン基が好ましく、メチレン基がより好ましい。
ｐは、１以上３以下の数であり、洗浄性及び平滑性の観点から、ｐは、１以上２以下が好ましく、１がより好ましい。ｍ、ｎはそれぞれ独立して０又は１であり、ｍ＋ｎ＝１である。＊は、結合手を示す。

成分Ａは、一又は複数の実施形態において、上記式（Ｉ）で表される構成単位及び上記式（ＩＩ）で表される構成単位の少なくとも一方を含む重合体の塩であってもよい。すなわち、式（Ｉ）で表される構成単位及び式（ＩＩ）で表される構成単位の少なくとも一方は、塩の形態であってもよく、洗浄性及び平滑性の観点から、酸付加塩の形態であることが好ましい。酸付加塩としては、例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、酢酸塩、硫酸塩、硝酸塩、亜硫酸塩、リン酸塩、アミド硫酸塩、炭素数１～１０のアルキルスルホン酸塩等が挙げられる。これらの中でも、洗浄性及び平滑性の観点から、塩酸塩又は酢酸塩が好ましい。

成分Ａとしては、一又は複数の実施形態において、洗浄性及び平滑性の観点から、式（Ｉ）で表される構成単位を含む重合体又はその塩、及び、式（Ｉ）で表される構成単位と式（ＩＩ）で表される構成単位を含む共重合体又はその塩から選ばれる少なくとも１種が好ましく、アリルアミン重合体又はその塩、及びアリルアミン／ジアリルアミン共重合体又はその塩から選ばれる少なくとも１種がより好ましい。

成分Ａの具体例としては、一又は複数の実施形態において、アリルアミン重合体、ジアリルアミン重合体、アリルアミン塩酸塩／ジアリルアミン塩酸塩共重合体、アリルアミン／ジメチルアリルアミン共重合体、アリルアミン塩酸塩重合体から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。

成分Ａが式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表される構成単位を含む場合、成分Ａの全構成単位中における式（Ｉ）で表される構成単位と式（ＩＩ）で表される構成単位とのモル比（Ｉ／ＩＩ）は、洗浄性及び平滑性の観点から、２５／７５～１００／０が好ましく５０／５０～１００／０がより好ましく、７５／２５～１００／０が更に好ましい。

成分Ａの全構成単位中における式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表される構成単位の合計含有量は、洗浄性及び平滑性の観点から、３０～１００モル％が好ましく、４０～１００モル％がより好ましく、５０～１００モル％が更に好ましく、１００モル％が更に好ましい。

成分Ａは、一又は複数の実施形態において、式（Ｉ）で表される構成単位及び式（ＩＩ）で表される構成単位以外のその他の構成単位をさらに含有することができる。その他の構成単位としては、例えば、下記式（ＩＩＩ）で表される構成単位、アクリルアミド、マレイン酸等が挙げられる。

成分Ａがその他の構成単位をさらに有する場合、成分Ａの具体例としては、ジアリルアミン酢酸塩・二酸化硫黄共重合体等が挙げられる。

成分Ａが式（ＩＩＩ）で表される構成単位を有する場合、成分Ａ（重合体）の全構成単位中における上記式（ＩＩＩ）で表される構成単位の含有量は、洗浄性及び平滑性の観点から、１０～６０モル％が好ましく、２０～６０モル％がより好ましく、３０～６０モル％が更に好ましく、４０～６０モル％より更に好ましい。

式（Ｉ）で表される構成単位を形成するモノマーとしては、アリルアミン等が挙げられる。
式（ＩＩ）で表される構成単位を形成するモノマーとしては、ジアリルアミンが挙げられる。
式（ＩＩＩ）で表される構成単位を形成するモノマーとしては、二酸化硫黄が挙げられる。

本開示における成分Ａは、一又は複数の実施形態において、極性溶媒中において、ラジカル開始剤の存在下、アリルアミン、ジアリルアミン又はこれらの酸付加塩と、必要に応じて二酸化硫黄及びその他の構成単位を導入するための化合物とを重合させることにより製造することができる。
極性溶媒としては、一又は複数の実施形態において、水、無機酸（例えば、塩酸、硫酸、リン酸、ポリリン酸など）又はその水溶液、無機酸の金属塩（例えば、塩化亜鉛、塩化カルシウム、塩化マグネシウムなど）の水溶液、有機酸（例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、乳酸など）又はその水溶液、あるいは極性有機溶媒（例えば、アルコール、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドなど）を挙げることができ、これらの混合物でもよい。
ラジカル開始剤としては、例えば、分子中にアゾ基を有するラジカル開始剤や過硫酸塩系ラジカル開始剤、有機過酸化物等が挙げられる。

本開示における成分Ａの重量平均分子量は、洗浄性及び平滑性の観点から、１，０００以上が好ましく、２，０００以上がより好ましく、３，０００以上が更に好ましく、そして、２００，０００以下が好ましく、１５０，０００以下がより好ましく、５０，０００以下が更に好ましい。より具体的には、成分Ａの重量平均分子量は、１，０００以上２００，０００以下が好ましく、２，０００以上１５０，０００以下がより好ましく、３，０００以上５０，０００以下が更に好ましい。本開示において、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ポリエチレングリコール換算）によるものであり、具体的には、実施例に記載の方法により測定できる。

本開示の洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ａの含有量は、洗浄性及び平滑性の観点から、０．００１質量％以上が好ましく、０．００５質量％以上がより好ましく、０．０１質量％以上が更に好ましく、そして、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましく、２質量％以下が更に好ましく、１質量％以下がより更に好ましく、０．５質量％以下がより更に好ましく、０．２質量％以下がより更に好ましい。より具体的には、洗浄剤組成物中の洗浄時における成分Ａの含有量は、０．００１質量％以上１０質量％以下が好ましく、０．００５質量％以上５質量％以下がより好ましく、０．０１質量％以上２質量％以下が更に好ましく、０．０１質量％以上１質量％以下がより更に好ましく、０．０１質量％以上０．５質量％以下がより更に好ましく、０．０１質量％以上０．２質量％以下がより更に好ましい。成分Ａが２種以上の組合せの場合、成分Ａの含有量はそれらの合計含有量をいう。

本開示の洗浄剤組成物は、後述するように、濃縮物として製造され、洗浄する際に希釈して使用してもよいことから、本開示において「洗浄剤組成物の洗浄時における各成分の含有量」とは、一又は複数の実施形態において、洗浄工程に使用される洗浄剤組成物の各成分の含有量、すなわち、洗浄剤組成物の洗浄への使用を開始する時点での各成分の含有量をいう。よって、本開示において洗浄時の洗浄剤組成物、つまり、洗浄工程に使用される洗浄剤組成物とは、一又は複数の実施形態において、希釈された状態での洗浄剤組成物をいう。

［成分Ｂ：アミン］
本開示の洗浄剤組成物に含まれる成分Ｂは、少なくとも１つのアミノ基を含有し、窒素原子数が１個以上１０個以下である成分Ａ以外のアミノ基含有化合物である。成分Ｂは１種でもよいし、２種以上の組合せでもよい。

成分Ｂに含まれるアミノ基の数は、洗浄性及び平滑性の観点から、１以上が好ましく、２以上がより好ましく、そして、１０以下が好ましく、５以下がより好ましく、４以下が更に好ましい。成分Ｂの窒素原子数は、洗浄性及び平滑性の観点から、１以上１０以下であって、１以上５以下が好ましく、１以上４以下がより好ましく、２以上４以下が更に好ましい。

成分Ｂとしては、一又は複数の実施形態において、グリシン、窒素原子数が１以上１０以下のアミン化合物等が挙げられる。窒素原子数が１以上１０以下のアミン化合物としては、例えば、アルカノールアミン、第１アミン、第２級アミン、第３級アミン等が挙げられ、具体例としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、モノプロパノールアミン、ジプロパノールアミン、トリプロパノールアミン、メチルプロパノールアミン、メチルジプロパノールアミン、及びアミノエチルエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ペンタエチレンヘキサミン、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、ニトリロ三酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、１，３－プロパンジアミン四酢酸、エチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸等が挙げられる。洗浄性及び平滑性の観点から、成分Ｂは、グリシン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、エチレンジアミン四酢酸、及びジエチレントリアミン五酢酸から選ばれる少なくとも１種が好ましい。

本開示の洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｂの含有量は、洗浄性及び平滑性の観点から、０．００１質量％以上が好ましく、０．０１質量％以上がより好ましく、０．０２質量％以上が更に好ましく、そして、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましく、０．５質量％以下が更に好ましい。より具体的には、洗浄時における成分Ｂの含有量は、０．００１質量％以上１０質量％以下が好ましく、０．０１質量％以上１質量％以下がより好ましく、０．０２質量％以上０．５質量％以下が更に好ましい。成分Ｂが２種以上の組合せの場合、成分Ｂの含有量は、それらの合計含有量をいう。

本開示の洗浄剤組成物における成分Ａと成分Ｂとの質量比Ａ／Ｂは、洗浄性及び平滑性の観点から、０．００１以上が好ましく、０．０１以上がより好ましく、０．０３以上が更に好ましく、そして、１００以下が好ましく、５０以下がより好ましく、２０以下が更に好ましい。より具体的には、質量比Ａ／Ｂは、０．００１以上１００以下が好ましく、０．０１以上５０以下がより好ましく、０．０３以上２０以下が更に好ましい。

［成分Ｃ：アルカリ剤］
本開示の洗浄剤組成物は、一又は複数の実施形態において、成分Ｂ以外のアルカリ剤（成分Ｃ）をさらに含有してもよい。成分Ｃは、１種でもよいし、２種以上の組合せであってもよい。

成分Ｃとしては、一又は複数の実施形態において、無機アルカリ剤及び有機アルカリ剤等が挙げられる。無機アルカリ剤としては、例えば、アンモニア；水酸化カリウム及び水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物；等が挙げられる。有機アルカリ剤としては、例えば、第四級アンモニウム塩等が挙げられる。第四級アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、及びコリン等が挙げられる。一又は複数の実施形態において、成分Ｃは、洗浄性及び平滑性の観点から、アルカリ金属水酸化物及び第四級アンモニウム塩の少なくとも一方が好ましく、排水処理負荷低減の観点から、アルカリ金属水酸化物がより好ましく、水酸化カリウム及び水酸化ナトリウムの少なくとも１種がさらに好ましい。

本開示の洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｃの含有量は、洗浄性及び平滑性の観点から、０．０００００５質量％以上（０．０５ｐｐｍ以上）が好ましく、０．００００５質量％以上がより好ましく、０．０００１質量％以上が更に好ましく、０．００１質量％以上が更により好ましく、そして、同様の観点から、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましく、１質量％以下が更に好ましく、０．５質量％以下がより更に好ましく、０．１質量％以下がより更に好ましい。より具体的には、洗浄時における成分Ｃの含有量は、０．０００００５質量％以上１０質量％以下が好ましく、０．００００５質量％以上１０質量％以下がより好ましく、０．０００１質量％以上５質量％以下が更に好ましく、０．０００１質量％以上１質量％以下がより更に好ましく、０．０００１質量％以上０．５質量％以下がより更に好ましく、０．００１質量％以上０．１質量％以下がより更に好ましい。成分Ｃを２種以上の組合せの場合、成分Ｃの含有量はそれらの合計含有量をいう。

本開示の洗浄剤組成物における成分Ａと成分Ｃとの質量比Ａ／Ｃは、洗浄性及び平滑性の観点から、０．０１以上が好ましく、０．０５以上がより好ましく、０．１以上が更に好ましく、そして、５０以下が好ましく、２０以下がより好ましく、１０以下が更に好ましい。より具体的には、質量比Ａ／Ｃは、０．０１以上５０以下が好ましく、０．０５以上２０以下がより好ましく、０．１以上１０以下が更に好ましい。

［成分Ｄ：水］
本開示の洗浄剤組成物は、一又は複数の実施形態において、水（成分Ｄ）をさらに含有してもよい。成分Ｄとしては、溶媒としての役割を果たすことができるものであれば特に制限はなく、例えば、超純水、純水、イオン交換水、又は蒸留水等を挙げることができるが、超純水、純水、又はイオン交換水が好ましく、超純水がより好ましい。純水及び超純水は、例えば、水道水を活性炭に通し、イオン交換処理し、さらに蒸留したものを、必要に応じて所定の紫外線殺菌灯を照射、又はフィルターに通すことにより得ることができる。

本開示の洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｄの含有量は、洗浄性向上及び洗浄剤組成物の安定化の観点から、９０質量％以上が好ましく、９５質量％以上がより好ましく、９９質量％以上が更に好ましく、そして、同様の観点から、９９．９９質量％以下が好ましく、９９．９８質量％以下がより好ましく、９９．９７質量％以下が更に好ましい。

［その他の成分］
本開示の洗浄剤組成物は、上記成分Ａ～Ｄ以外にその他の成分をさらに含有してもよい。その他の成分としては、一又は複数の実施形態において、酸性化合物、キレート剤、アニオンポリマー、ノニオン性界面活性剤、可溶化剤、酸化防止剤、防腐剤、消泡剤、及び抗菌剤等から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。その他の成分は、本開示の効果を損なわない範囲で洗浄剤組成物中に含有されることが好ましく、本開示の洗浄剤組成物の洗浄時におけるその他の成分の含有量は、０質量％以上２質量％以下が好ましく、０質量％以上１．５質量％以下がより好ましく、０質量％以上１．３質量％以下が更に好ましく、０質量％以上１質量％以下がより更に好ましい。

本開示の洗浄剤組成物は、溶媒として上記水に加えて水系溶媒（例えば、エタノール等のアルコール）をさらに含有してもよいが、本開示の洗浄剤組成物に含まれる溶媒は水のみからなることが好ましい。

［洗浄剤組成物のｐＨ］
本開示の洗浄剤組成物の洗浄時のｐＨは、８以上であって、洗浄性及び平滑性の観点から、９以上が好ましく、９．５以上がより好ましく、１０以上がさらに好ましく、１０．５以上がよりさらに好ましく、そして、１４以下が好ましく、１３以下がより好ましく、１２．５以下がさらに好ましく、１２以下がよりさらに好ましく、１１．５以下がよりさらに好ましい。より具体的には、本開示の洗浄剤組成物の洗浄時のｐＨは、８以上１４以下が好ましく、９以上１３以下がより好ましく、９．５以上１２．５以下がさらに好ましく、１０以上１２以下がさらに好ましく、１０．５以上１１．５以下がさらに好ましい。本開示の洗浄剤組成物のｐＨ調整は、例えば、洗浄性向上の観点から、酸や成分Ｂのアルカリ剤を用いて行うことができる。酸としては、例えば、硝酸、硫酸、塩酸等の無機酸；オキシカルボン酸、アミノ酸等の有機酸；等が挙げられる。本開示において「洗浄時のｐＨ」とは、２５℃における洗浄剤組成物の使用時（希釈後）のｐＨであり、ｐＨメータを用いて測定でき、好ましくはｐＨメータの電極を洗浄剤組成物に浸漬して３分後の数値である。

［洗浄剤組成物の製造方法］
本開示の洗浄剤組成物は、成分Ａ、成分Ｂ、必要に応じて成分Ｃ、成分Ｄ及びその他の成分を公知の方法で配合することにより製造できる。例えば、本開示の洗浄剤組成物は、少なくとも成分Ａ及び成分Ｂを配合してなるものとすることができる。したがって、本開示は、少なくとも成分Ａ及び成分Ｂを配合する工程を含む、洗浄剤組成物の製造方法（以下、「本開示の洗浄剤組成物の製造方法」ともいう）に関する。本開示において「配合」とは、成分Ａ、成分Ｂ，必要に応じて成分Ｃ、成分Ｄ及びその他の成分を同時又は任意の順に混合することを含む。本開示の洗浄剤組成物の製造方法において、各成分の配合量は、上述した本開示の洗浄剤組成物の各成分の含有量と同じとすることができる。

本開示の洗浄剤組成物は、貯蔵及び輸送の観点から、濃縮物として製造され、使用時に希釈されてもよい。洗浄剤組成物の濃縮物は、貯蔵及び輸送の観点から、希釈倍率３倍以上の濃縮物とすることが好ましく、保管安定性の観点から、希釈倍率２００倍以下の濃縮物とすることが好ましい。洗浄剤組成物の濃縮物は、使用時に各成分の含有量が、上述した含有量（すなわち、洗浄時の含有量）となるように水で希釈して使用することができる。さらに洗浄剤組成物の濃縮物は、使用時に各成分を別々に添加して使用することもできる。本開示において洗浄剤組成物の濃縮物の「使用時」又は「洗浄時」とは、洗浄剤組成物の濃縮物が希釈された状態をいう。

本開示の洗浄剤組成物の濃縮物のｐＨは、希釈後の洗浄性向上の観点から、９以上が好ましく、１０以上がより好ましく、１２以上がさらに好ましく、１３以上がよりさらに好ましく、そして、同様の観点から、１４以下が好ましく、１３．９以下がより好ましく、１３．８以下がさらに好ましい。より具体的には、本開示の洗浄剤組成物の濃縮物のｐＨは、９以上１４以下が好ましく、１０以上１３．９以下がより好ましく、１２以上１３．９以下がさらに好ましく、１３以上１３．８以下がよりさらに好ましい。本開示の洗浄剤組成物の濃縮物のｐＨは、前記本開示の洗浄剤組成物のｐＨと同様の方法で測定することができる。

［被洗浄基板］
本開示の洗浄剤組成物を用いて洗浄される被洗浄基板は、一又は複数の実施形態において、研磨液組成物で研磨された基板、又は、パーティクルが残留又は付着している基板が挙げられる。基板としては、例えば、Ｎｉ－Ｐメッキされたアルミニウム合金基板、ガラス基板等が挙げられる。ガラス基板としては、結晶化ガラス基板でもよいし、非結晶化ガラス基板でもよい。

被洗浄基板に残留又は付着するパーティクルとしては、一又は複数の実施形態において、酸化ニッケル、シリカ等の研磨くず由来のパーティクル；シリカ、アルミナ、セリア等の研磨砥粒由来のパーティクル；等が挙げられる。

本開示の洗浄剤組成物は、一又は複数の実施形態において、研磨液組成物で研磨された基板、又は、パーティクルが残留又は付着している基板の洗浄に使用されうる。本開示の洗浄剤組成物は、一又は複数の実施形態において、洗浄効果の点から、酸化ニッケル、シリカ等の研磨くず由来のパーティクル、好ましくは酸化ニッケルの研磨くず由来のパーティクルが付着した基板の洗浄に好適に用いられうる。さらに、本開示の洗浄剤組成物は、一又は複数の実施形態において、洗浄効果の点から、Ｎｉ－Ｐメッキされたアルミニウム合金基板、好ましくは研磨液組成物で研磨された後のＮｉ－Ｐメッキされたアルミニウム合金基板の洗浄、より好ましくはシリカ砥粒を含有する研磨液組成物で研磨された後のＮｉ－Ｐメッキされたアルミニウム合金基板の洗浄に好適に用いられうる。

［基板の洗浄方法］
本開示は、一態様において、本開示の洗浄剤組成物を用いて、被洗浄基板を洗浄する洗浄工程を含み、前記被洗浄基板が、研磨液組成物で研磨された基板である、基板の洗浄方法（以下、「本開示の洗浄方法」ともいう）に関する。本開示の洗浄方法は、前記本開示の洗浄剤組成物の濃縮液を希釈する希釈工程をさらに含むことができる。被洗浄基板としては、上述した基板を用いることができる。前記洗浄工程は、一又は複数の実施形態において、被洗浄基板に本開示の洗浄剤組成物を接触させる工程を含むことができる。前記洗浄工程は、一又は複数の実施形態において、浸漬洗浄及び／又はスクラブ洗浄を行うことを含むことができる。本開示の洗浄方法であれば、基板表面に付着したパーティクル、好ましくは酸化ニッケル、酸化珪素等の研磨くず由来のパーティクル、より好ましくは酸化ニッケルの研磨くず由来のパーティクルを効率よく除去できる。

（浸漬洗浄）
被洗浄基板の洗浄剤組成物への浸漬条件としては、特に制限はない。例えば、洗浄剤組成物の温度は、作業性及び操業性の観点から、２０～１００℃が好ましい。例えば、浸漬時間は、洗浄剤組成物による洗浄性の向上の観点から、５秒以上が好ましく、１０秒以上がより好ましく、１００秒以上がさらに好ましく、そして、洗浄された基板の生産効率の向上の観点から、３０分以下が好ましく、１０分以下がより好ましく、５分以下がさらに好ましい。残留物の除去性及び残留物の分散性を高める観点から、洗浄剤組成物には超音波振動が付与されていると好ましい。超音波の周波数としては、例えば、２０～２０００ｋＨｚが好ましく、４０～２０００ｋＨｚがより好ましく、４０～１５００ｋＨｚがさらに好ましい。

（スクラブ洗浄）
スクラブ洗浄の方法としては、研磨粒子等の残留物の除去性や油分の溶解性を促進させる観点から、超音波振動が与えられている洗浄剤組成物を射出して、被洗浄基板の表面に洗浄剤組成物を接触させて当該表面を洗浄すること、又は、洗浄剤組成物を被洗浄基板の表面上に射出により供給し、洗浄剤組成物が供給された当該表面を洗浄用ブラシでこすることにより洗浄することが好ましい。さらに、スクラブ洗浄の方法は、同様の観点から、超音波振動が与えられている洗浄剤組成物を射出により洗浄対象の表面に供給し、かつ、洗浄剤組成物が供給された当該表面を洗浄用ブラシでこすることにより洗浄することが好ましい。

洗浄剤組成物を被洗浄基板の表面上に供給する手段としては、例えば、スプレーノズル等の手段を用いることができる。洗浄用ブラシとしては、特に制限はなく、例えばナイロンブラシやポリビニルアルコール（ＰＶＡ）スポンジブラシ等を使用することができる。超音波の周波数としては、例えば、上述の浸漬洗浄で好ましく採用される値と同様とすることができる。

本開示の洗浄方法は、前記浸漬洗浄及び／又は前記スクラブ洗浄に加えて、揺動洗浄、スピンナー等の回転を利用した洗浄、パドル洗浄等の公知の洗浄を用いる工程を１つ以上含んでもよい。

本開示の洗浄方法では、被洗浄基板を一枚ずつ洗浄してもよいが、複数枚の洗浄すべき被洗浄基板を一度にまとめて洗浄してもよい。洗浄の際に用いる洗浄槽の数は１つでも複数でもよい。

［ハードディスク用基板の製造方法］
本開示は、一態様において、本開示の洗浄剤組成物を用いて、被洗浄基板を洗浄する工程を含む、ハードディスク用基板の製造方法（以下、「本開示の製造方法」ともいう）に関する。被洗浄基板としては上述した基板を用いることができる。

一般に、ハードディスク用基板の基となる基材が、形状加工工程、粗研削工程、精研削工程、粗研磨工程、仕上げ研磨工程等を経ることにより、ハードディスク用基板が製造されうる。そして、前記各工程の間には洗浄工程が含まれることがある。ハードディスク用基板は、例えば、最終の洗浄工程の後に記録部形成工程を経ることで磁気ハードディスクとなりうる。

記録部形成工程は、例えば、スパッタ等の方法により、磁気記録領域を有し金属薄膜を含む磁性層をハードディスク用基板上に形成することにより行うことができる。前記金属薄膜を構成する金属材料としては、例えば、クロム、タンタル、白金等とコバルトとの合金、鉄と白金等との合金等が挙げられる。磁性層は、ハードディスク用基板の両主面側に形成されてもよいし、一方の主面側にのみ形成されてもよい。

前記粗研磨工程と前記仕上げ研磨工程は、例えば、この順で行われる。粗研磨工程の際に用いられる研磨剤組成物に含まれる無機微粒子としては、例えば、高速研磨が可能であるという理由から、酸化セリウム粒子又はアルミナ粒子が好ましい。仕上げ研磨工程の際に用いられる研磨剤組成物に含まれる無機微粒子は、表面の平滑性（表面粗さ）を向上させるという理由から、シリカ粒子が好ましい。

一又は複数の実施形態において、粗研磨工程の後、洗浄剤組成物を用いた洗浄工程（第１洗浄工程）、すすぎ工程（第１すすぎ工程）、乾燥工程（第１乾燥工程）、仕上げ研磨工程、洗浄剤組成物を用いた洗浄工程（第２洗浄工程）、すすぎ工程（第２すすぎ工程）、及び乾燥工程（第２乾燥工程）をこの順で行うことができる。本開示の洗浄方法は、前記第１洗浄工程及び/又は前記第２洗浄工程に適用することができる。本開示の洗浄方法は、洗浄性の向上の観点から、第２洗浄工程に用いることが好ましい。

したがって、本開示は、一態様において、以下の工程（１）及び工程（２）を含むハードディスク用基板の製造方法に関する。
（１）研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨する研磨工程。
（２）工程（１）で得られた基板（被洗浄基板）を、本開示の洗浄剤組成物を用いて洗浄する洗浄工程。

前記工程（１）における被研磨基板は、一般に精研削工程を経た後の基板であり、粗研磨工程を経た後の基板であることが好ましい。被研磨基板については、上述の被洗浄基板と同様の基板を用いることができる。工程（１）は、被研磨基板の研磨対象面に研磨液組成物を供給し、前記研磨対象面に研磨パッドを接触させ、所定の圧力（荷重）をかけながら、研磨パッドや被研磨基板を動かすこと等によって行うことができる。工程（１）は、最終の基板の品質を向上させる観点から、シリカ粒子を含む研磨液組成物を用いた仕上げ研磨工程であることが好ましい。仕上げ研磨工程においては、研磨液組成物を繰り返し使用することが好ましい。
前記工程（２）の洗浄工程は、上述した本開示の洗浄方法と同様に行うことができる。

［キット］
本開示は、その他の態様において、洗浄剤組成物を製造するためのキット（以下、「本開示のキット」ともいう）に関する。
本開示のキットの一実施形態としては、成分Ａを含む溶液（第１液）と、成分Ｂを含む溶液（第２液）とを相互に混合されない状態で含み、これらが使用時に混合されるキット（２液型洗浄剤組成物）が挙げられる。第１液及び第２液の各々には、必要に応じて上述した成分Ｃ、成分Ｄ及びその他の成分が混合されていてもよい。

［ハードディスク記録装置］
本開示は、一態様において、本開示の洗浄剤組成物を用いて洗浄したハードディスク用基板を使用したハードディスク記録装置（以下、「本開示のハードディスク記録装置」ともいう）に関する。本開示の洗浄剤組成物を用いて洗浄したハードディスク用基板を使用することで、高記録密度のハードディスク記録装置を提供できる。

以下に、実施例により本開示を具体的に説明するが、本開示はこれらの実施例によってなんら限定されるものではない。

１．重合体（成分Ａ及び非成分Ａ）の調製
表１に示す重合体Ａ１～Ａ１５は以下のものを使用した。表１に示す重合体の重量平均分子量はカタログ値である。
Ａ１：アリルアミン重合体［商品名「ＰＡＡ－１５」、ニットーボーメディカル株式会社製、重量平均分子量１５，０００］
Ａ２：ジアリルアミン重合体［商品名「ＰＡＳ－２１」、ニットーボーメディカル株式会社製、重量平均分子量５，０００］
Ａ３：ジアリルアミン酢酸塩／二酸化硫黄共重合体（モル比５０／５０）［商品名「ＰＡＳ－９２Ａ」、ニットーボーメディカル株式会社製、重量平均分子量５，０００］
Ａ４：アリルアミン塩酸塩／ジアリルアミン塩酸塩共重合体（モル比６０／４０）［商品名「ＰＡＡ－Ｄ４１－ＨＣＬ」、ニットーボーメディカル株式会社製、重量平均分子量２０，０００］
Ａ５：アリルアミン塩酸塩／ジアリルアミン塩酸塩共重合体（モル比５０／５０）［商品名「ＰＡＡ－Ｄ１９－ＨＣＬ」、ニットーボーメディカル株式会社製、重量平均分子量４０，０００］
Ａ６：アリルアミン塩酸塩／ジアリルアミン塩酸塩共重合体（モル比６０／４０）［商品名「ＰＡＡ－Ｄ１１－ＨＣＬ」、ニットーボーメディカル株式会社製、重量平均分子量１００，０００］
Ａ７：アリルアミン／ジメチルアリルアミン共重合体（モル比３０／７０）［商品名「ＰＡＡ－１１１２ＣＬ」、ニットーボーメディカル株式会社製、重量平均分子量１，０００］
Ａ８：アリルアミン重合体［商品名「ＰＡＡ－０１」、ニットーボーメディカル株式会社製、重量平均分子量１，６００］
Ａ９：アリルアミン重合体［商品名「ＰＡＡ－０５」、ニットーボーメディカル株式会社製、重量平均分子量５，０００］
Ａ１０：アリルアミン重合体［商品名「ＰＡＡ－２５」、ニットーボーメディカル株式会社製、重量平均分子量２５，０００］
Ａ１１：アリルアミン塩酸塩重合体［商品名「ＰＡＡ－ＨＣＬ－１０Ｌ」、ニットーボーメディカル株式会社製、重量平均分子量１５０，０００］
Ａ１２：メチルジアリルアミン酢酸塩重合体［商品名「ＰＡＳ－Ｍ－１－Ａ」、ニットーボーメディカル株式会社製、重量平均分子量２０，０００］
Ａ１３：ジアリルメチルエチルアンモニウムエチルサルフェイト重合体［商品名「ＰＡＳ－２４」、ニットーボーメディカル株式会社製、重量平均分子量３７，０００］
Ａ１４：ジアリルメチルエチルアンモニウムエチルサルフェイト／マレイン酸共重合体（モル比７０／３０）［商品名「ＰＡＳ－２４５１」、ニットーボーメディカル株式会社製、重量平均分子量３０，０００］
Ａ１５：ジアリルジメチルアンモニウムクロリド／二酸化硫黄／マレイン酸共重合体（モル比５０／２５／２５）［商品名「ＰＡＳ－８４」、ニットーボーメディカル株式会社製、重量平均分子量２０，０００］

２．洗浄剤組成物の調製（実施例１～２０及び比較例１～６）
表３に示す各成分を配合し混合することにより実施例１～２０及び比較例１～６の洗浄剤組成物を調製した。各洗浄剤組成物における各成分の含有量（質量％、有効分）は、表３に示すとおりである。ｐＨは、２５℃における洗浄剤組成物のｐＨであり、ｐＨメータ（東亜電波工業株式会社、ＨＭ－３０Ｇ）の電極を洗浄剤組成物に浸漬して３分後の数値を測定した。

各洗浄剤組成物の調製に用いた成分Ｂには、表２に示すものを用いた。

各洗浄剤組成物の調製に用いた成分Ｃ、その他の成分及び成分Ｄには、以下に示すものを用いた。
＜成分Ｃ：アルカリ剤＞
水酸化カリウム（ＫＯＨ）［関東化学株式会社製、鹿特級、固形分４８質量％］
水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）［ＡＧＣ株式会社製、固形分４８質量％］
＜その他の成分＞
塩酸［富士フイルム和光純薬株式会社製、試薬特級、純度３５．０質量％］
＜成分Ｄ：水＞
水：栗田工業株式会社製の連続純水製造装置（ピュアコンティ ＰＣ-２０００ＶＲＬ型）とサブシステム（マクエース ＫＣ-０５Ｈ型）を用いて製造した超純水

３．評価方法
[洗浄性試験方法]
Ｎｉ－Ｐメッキされたアルミニウム合金基板（外径：９５ｍｍφ、内径：２５ｍｍφ、厚さ：０．８０ｍｍ）を、研磨くずに相当する酸化ニッケル粒子（平均粒径５０ｎｍ未満）を含有する分散液（濃度：０．００２５質量％）に２分間浸漬することにより、汚染された被洗浄基板、すなわち、パーティクルが付着した被洗浄基板を用意した。そして、各洗浄剤組成物を用いて前記被洗浄基板の洗浄を行い、各洗浄剤組成物の洗浄性を評価した。洗浄は以下のようにして行った。

（洗浄）
被洗浄基板５枚を、洗浄装置を用いて以下の条件で洗浄した。すすぎ槽は２セット用意した。
（１）洗浄－１：洗浄に使用する洗浄剤組成物を４０００ｇ調製した。調製した洗浄剤組成物を洗浄槽（ａ）に入れ、洗浄槽（ａ）内の液温が２５℃になるように設定した。そして、洗浄槽（ａ）内の洗浄剤組成物に被洗浄基板を浸漬し、超音波（２００ｋＨｚ）を照射しながら１２０秒間洗浄した。
（２）すすぎ－１：超純水をすすぎ槽（ｂ）に入れ、すすぎ槽（ｂ）内の液温が２５℃になるように設定した。そして、洗浄槽（ａ）内の被洗浄基板をすすぎ槽（ｂ）に移してすすぎ槽（ｂ）内の超純水に浸漬し、超音波（６００ｋＨｚ）を照射しながら１２０秒間すすいだ。
（３）すすぎ槽（ｂ）と同様の条件で準備した超純水を入れたすすぎ槽（ｃ）を使用して、再度（２）を繰り返した。
（４）洗浄－２：すすぎ槽（ｃ）内の被洗浄基板を、洗浄ブラシがセットされたスクラブ洗浄ユニット（Ａ）に移した。そして、洗浄ブラシに２５℃の洗浄剤組成物を射出し、該洗浄剤組成物の存在下で洗浄ブラシを被洗浄基板の両面に４００ｒｐｍで回転させながら押し当てることにより、洗浄を２５℃で５秒間行った。洗浄剤組成物には、「（１）洗浄－１」で用いた洗浄剤組成物と同組成のものを用いた。
（５）すすぎ－２：スクラブ洗浄ユニット（Ａ）と同様の条件で準備したスクラブ洗浄ユニット（Ｂ）に被洗浄基板を移し、２５℃の超純水を射出し、洗浄ブラシを被洗浄基板の両面に（４）と同様に４００ｒｐｍで回転させながら押し当てることにより、すすぎを２５℃で５秒間行った。
（６）スクラブ洗浄ユニット（Ａ）と同様の条件で準備したスクラブ洗浄ユニット（Ｃ）、スクラブ洗浄ユニット（Ｂ）と同様の条件で準備したスクラブ洗浄ユニット（Ｄ）を使用して再度（４）と（５）を繰り返した。
（７）すすぎ－３：超純水をすすぎ槽（ｅ）に入れ、すすぎ槽（ｅ）内の液温が２５℃になるように設定した。そして、被洗浄基板をすすぎ槽（ｅ）に移してすすぎ槽（ｅ）内の超純水に浸漬し、超音波（１７０ｋＨｚ）を照射しながら６００秒間すすいだ。
（８）乾燥：被洗浄基板をスピンドライヤーに移し、回転数７００ｒｐｍで６０秒間かけて完全に基板表面を乾燥させた。

［表面欠陥数（洗浄性）の評価］
１０，０００ｒｐｍで回転している洗浄された基板に、光学式微細欠陥検査装置（Ｃａｎｄｅｌａ７１００、ＫＬＡ－Ｔｅｎｃｏｒ社製）のＭＯＤＥ Ｑ－Ｓｃａｔｔｅｒでレーザーを照射して、欠陥数（基板上の異物数）の測定を実施した。各洗浄剤組成物について５枚ずつの基板の表裏合計１０点について前記測定を行い、平均値を算出した。比較例１の値を１００として相対値を表２に示す。値が小さいほど、欠陥数が少なく、パーティクルの除去性に優れる、すなわち、洗浄性に優れると評価できる。

［ＮｉＯ／ＮｉＰ溶解量比（平滑性）の評価］
＜ＮｉＯ溶解量＞
（１）各洗浄剤組成物２０ｇを１００ｍｌポリエチレン容器に加え、恒温槽中で２５℃に保持した。
（２）これに酸化（ＩＩ）ニッケル粉末（Ｎｉｃｋｅｌ(ＩＩ) ｏｘｉｄｅ、純度９９．９％以上、Ｓｔｅｒｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．製）０．１ｇを上記洗浄剤組成物に添加し、マグネチックスターラーを用いて６００ｒｐｍの回転速度で１５分間攪拌した。
（３）懸濁液４ｍｌをシリンジで採取し、フィルターユニット（ＤＩＳＭＩＣ ２５ＨＰ０２０ＡＮ、孔径：０．２μｍ、直径：２５ｍｍ、フィルター材質：親水性ＰＴＦＥ、ＡＤＶＡＮＴＥＣ製）を取り付けて濾過した。
（４）上記濾液を超純水で２０倍に希釈し、ＩＣＰ発光分光分析装置（Ａｇｉｌｅｎｔ ５１１０ ＩＣＰ－ＯＥＳ、アジレント・テクノロジー株式会社製）にてＮｉの発光強度を測定した。
（５）ＮｉＯ溶解量は、ニッケル標準液（富士フイルム和光純薬株式会社製）を超純水で希釈した濃度既知のＮｉ溶液のＮｉ発光強度を用いて作成した検量線から求めた。
＜ＮｉＰエッチング量＞
（１）各洗浄剤組成物７０ｇを１Ｌのポリエチレン容器に加え、恒温槽中で２５℃に保持した。
（２）次に、Ｎｉ－Ｐメッキされたアルミニウム合金基板を０．１重量％ＨＦ水溶液に室温下で１０秒浸漬した後に水で濯ぎ、窒素を吹き付けて乾燥させた。
（３）上記基板を（１）の各洗浄剤組成物に６０分間浸漬した。
（４）基板を浸漬させた各洗浄剤組成物を超純水で１０倍に希釈し、ＩＣＰ発光分光分析装置（Ａｇｉｌｅｎｔ ５１１０ ＩＣＰ－ＯＥＳ、アジレント・テクノロジー株式会社製）にてＮｉの発光強度を測定した。
（５）ＮｉＰエッチング量は、ニッケル標準液（富士フイルム和光純薬株式会社製）を超純水で希釈した濃度既知のＮｉ溶液のＮｉ発光強度を用いて作成した検量線から求めた。
＜ＮｉＯ／ＮｉＰ溶解量比＞
上記ＮｉＯ溶解量をＮｉＰエッチング量で除することにより、ＮｉＯ／ＮｉＰ溶解量比を算出した。

表３に示すとおり、実施例１～２０の洗浄剤組成物は、比較例１～６の洗浄剤組成物に比べて、洗浄性及び平滑性に優れていた。

本開示によれば、例えば、高記録密度化に適した磁気ディスク基板を提供できる。

Claims (9)

1. ハードディスク用基板であるＮｉ－Ｐメッキされたアルミニウム合金基板の洗浄に使用するための洗浄剤組成物であって、
   下記式（Ｉ）で表される構成単位及び下記式（ＩＩ）で表される構成単位の少なくとも一方を含む重合体又はその塩（成分Ａ）と、
   少なくとも１つのアミノ基を含有し、窒素原子数が１個以上１０個以下である成分Ａ以外のアミノ基含有化合物（成分Ｂ）と、を含有する、ハードディスク用基板用洗浄剤組成物。
   

   

   上記式（Ｉ）及び式（ＩＩ）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３のアルキル基である。Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３のアルキル基である。Ｘは、炭素数１～１２のアルキレン基、－ＣＯＯＲ⁶－、－ＣＯＮＨＲ⁶－、－ＯＣＯＲ⁶－及び－Ｒ⁷－ＯＣＯ－Ｒ⁶－から選ばれる少なくとも１種の基である。ここでＲ⁶、Ｒ⁷はそれぞれ独立して、炭素数１～５のアルキレン基である。ｐは、１以上３以下の数である。ｍ、ｎはそれぞれ独立して０又は１であり、ｍ＋ｎ＝１である。＊は、結合手を示す。
2. ｐＨが８以上である、請求項１に記載の洗浄剤組成物。
3. 成分Ａの重量平均分子量が、１,０００以上２００，０００以下である、請求項１又は２に記載の洗浄剤組成物。
4. 洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ａの含有量は、０．００１質量％以上１０質量％以下である、請求項１から３のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
5. 成分Ｂ以外のアルカリ剤（成分Ｃ）をさらに含有する、請求項１から４のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
6. 成分Ｃが、アルカリ金属水酸化物及び第四級アンモニウム塩の少なくとも一方である、請求項５に記載の洗浄剤組成物。
7. 請求項１から６のいずれかに記載の洗浄剤組成物を用いて被洗浄基板を洗浄する洗浄工程を含み、
   前記被洗浄基板は、研磨液組成物で研磨された基板、又は、パーティクルが付着した基板であって、Ｎｉ－Ｐメッキされたアルミニウム合金基板である、基板の洗浄方法。
8. 前記研磨液組成物が、シリカ砥粒を含有する研磨液組成物である、請求項７に記載の洗浄方法。
9. 請求項１から６のいずれかに記載の洗浄剤組成物を用いて被洗浄基板を洗浄する洗浄工程を含み、
   前記被洗浄基板は、研磨液組成物で研磨された基板、又は、パーティクルが付着した基板であって、Ｎｉ－Ｐメッキされたアルミニウム合金基板である、ハードディスク用基板の製造方法。